JPH04318344A - 光磁気記録媒体およびそのドライブ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光磁気記録媒体とその
ドライブ装置とに係り、特に、光磁気記録媒体とドライ
ブ装置に備えられた磁界発生装置との摺動によって発生
する摩擦熱の影響を除くための手段に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばコンピュータの外部記憶装置とし
て実用化されている光磁気ディスク等の光磁気記録媒体
は、透明基板上に少なくとも磁性層（例えば、希土類−
遷移金属系の非晶質垂直磁化膜）を含む薄膜を形成して
なり、透明基板を通じて磁性層にレーザビームを照射し
、磁性層を局所的にキュリー温度近傍あるいはそれ以上
の温度まで昇温しつつ磁界発生装置より磁性層にバイア
ス磁界を印加し、磁性層の磁化の向きを可逆的に反転さ
せて情報の記録と消去とを行う。

【０００３】磁性層にバイアス磁界を印加する磁界発生
装置には、媒体駆動時、光磁気記録媒体上を摺動する接
触式と、光磁気記録媒体より離隔した位置に保持される
非接触式とがあるが、接触式の磁界発生装置は、磁界発
生部を磁性層により近接して配置することができ、かつ
媒体の面振れ等に関係なく常に磁界発生部から磁性層ま
での距離をほぼ一定に保つことができるので、小さな磁
界で安定な記録および消去を行うことができるという点
で非接触式よりも優れる。その反面、接触式の磁界発生
装置は、光磁気記録媒体の薄膜を摩耗や衝撃により損傷
しやすいという欠点を有している。

【０００４】かかる欠点を解決するため、従来より、例
えば特開昭６４−４２０３９号公報に記載されているよ
うに薄膜上に潤滑層を形成したものや、例えば特開昭６
４−４３８３４号公報および特開平１−２２７２４１号
公報に記載されているように薄膜上に高分子シートある
いは非磁性金属の薄板を形成したものが提案されている
。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】接触式の磁界発生装置
の使用を可能にするためには、前記従来技術のように光
磁気記録媒体の耐摩耗性および耐衝撃性を改善するだけ
では足りず、光磁気記録媒体と磁界発生装置との摺動に
よって発生する摩擦熱の影響を除去するための何らかの
手段を必要とする。すなわち、摩擦熱によって磁性層が
昇温されると、レーザビーム照射による磁性層の温度制
御が困難になり、情報の誤記録や誤消去を起しやすくな
るからである。

【０００６】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたものであって、摩擦熱によって磁性層が昇温され
ない構造の光磁気記録媒体、および摩擦熱を記録トラッ
クに作用させない構造の磁界発生装置を備えたドライブ
装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、前記の課題を
解決するため、光磁気記録媒体に関しては、透明基板上
に少なくとも磁性層を含む薄膜を形成してなり、前記透
明基板を通じて前記磁性層にレーザ光を照射しつつ前記
磁性層にバイアス磁界を印加して情報の記録と消去とを
行う光磁気記録媒体において、前記薄膜上に断熱層を介
して高熱伝導層を設け、さらにこの高熱伝導層の表面に
潤滑層を設けた。

【０００８】また、ドライブ装置に関しては、光磁気記
録媒体を介して、磁性層にレーザビームスポットを照射
する光学ヘッドと、該磁性層にバイアス磁界を印加する
磁界発生装置とを相対向に配設してなる光磁気記録媒体
のドライブ装置において、前記磁界発生装置に前記光磁
気記録媒体と非接触の磁界発生部と媒体摺動面とを形成
し、前記磁界発生部を前記レーザビームスポットの照射
位置と対向に配設すると共に、前記媒体摺動面を記録ト
ラック外に配設した。

【０００９】

【作用】前記第１の手段によると、光磁気記録媒体と磁
界発生装置との摺動によって発生した熱が高熱伝導層を
通じて膜面方向に拡散されると共に、断熱層によって磁
性層側への伝播が防止されるので、摩擦熱によって磁性
層がほとんど昇温されることがない。よって、レーザビ
ーム照射による磁性層の温度制御が容易になり、情報の
誤記録や誤消去が防止される。また、磁界発生装置が摺
動される面に潤滑層を形成したので光磁気記録媒体の耐
摩耗性が改善される。さらには、磁性層上に断熱層と高
熱伝導層と潤滑層とを積層したので、磁性層の耐衝撃性
と耐食性とが合わせて改善される。

【００１０】また前記第２の手段によると、レーザビー
ムスポットがアクセスされ、情報の記録、再生、消去が
行われている記録トラック上を磁界発生装置が摺動しな
いので、光磁気記録媒体と磁界発生装置との摺動によっ
て発生した摩擦熱が直接当該記録トラックに作用せず、
記録トラック上を磁界発生装置が摺動する場合に比べて
摩擦熱の影響を緩和することができる。よって、前記と
同様にレーザビーム照射による磁性層の温度制御が容易
になり、情報の誤記録や誤消去が防止される。

【００１１】

【実施例】図１は本発明に係る光磁気記録媒体の一例を
示す要部断面図であり、図２は平面図である。図１に示
すように、本発明の光磁気記録媒体は、片面にレーザビ
ームスポットを案内するための案内溝や記録領域のアド
レスを表示するプリピットなどのプリフォーマットパタ
ーン１が形成された透明基板２と、透明基板２のプリフ
ォーマットパターン形成面に担持された第１エンハンス
層３と、第１エンハンス層３上に積層された磁性層４と
、磁性層４上に積層された第２エンハンス層５と、第２
エンハンス層５上に積層された反射層６と、反射層６上
に積層された断熱層７と、断熱層７上に積層された高熱
伝導層８と、高熱伝導層８上に積層された潤滑層９とか
ら構成されている。

【００１２】透明基板２は、図２に示すように、例えば
ガラスなどの透明セラミック材料や、ポリカーボネート
、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルペンテン、エ
ポキシなどの硬質透明樹脂材料をもって、中心部にセン
ター孔２ａを有する所望直径の円板状に形成される。 プリフォーマットパターン１は、図２に示すように、セ
ンター孔２ａと同心の渦巻状もしくは同心円状に形成さ
れる。なお、プリフォーマットパターン１の形成方法に
ついては、公知に属する事項でありかつ本発明の要旨と
は直接関係がないので、説明を省略する。

【００１３】第１エンハンス層３は、透明基板２と磁性
層４との間で信号再生用ビームを多重反射させ、見かけ
上のカー回転角を大きくすることによって再生感度を向
上させるものであって、透明基板１よりも光の屈折率が
大きな、例えば窒化珪素などの誘電体によって形成され
る。

【００１４】磁性層４は、公知に属する任意の組成の光
磁気記録用の磁性層を用いることができるが、特に、希
土類元素−遷移金属系の垂直磁化膜が好適である。希土
類元素−遷移金属系の垂直磁化膜としては、スパッタリ
ング法によって成膜されるテルビウム−鉄−コバルト系
の合金が特に好適であり、これに白金やニオブを添加し
たものも良好な結果を得られる。

【００１５】第２エンハンス層５は、磁性層４の熱が反
射層６に拡散するのを防止し、かつ磁性層４を衝撃や腐
食などから保護し、さらには磁性層４と反射層６との間
で磁性層４を透過したレーザビームを多重反射させ、見
かけ上のカー回転角を大きくすることによって再生感度
を向上させるものであって、前記第１エンハンス層３と
同様の誘電体によって形成される。

【００１６】反射層６は、磁性層４への透湿を防止する
と共に、磁性層４を透過したレーザビームを入射側に戻
すためのものであって、例えば金やアルミニウムなどの
金属材料、あるいはこれら金属材料を主成分とする合金
材料、それにいわゆる銀鏡などの高反射率材料によって
形成される。

【００１７】断熱層７は、例えばポリテトラフルオロエ
チレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化
ビニリデン、ポリフィニレンオキシド、ポリスルホン、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、
ポリベンズイミダゾールなどの耐熱性高分子材料の蒸着
膜をもって形成することもできるし、高熱伝導層８が箔
体にて形成される場合には、前記反射層６と高熱伝導層
８とを接着する接着剤もしくは粘着剤をもって形成する
こともできる。

【００１８】高熱伝導層８は、アルミニウム、銅、錫、
シリコン、セリウム、ランタン、インジウム、ゲルマニ
ウム、鉛、ビスマス、テルル、タンタル、スカンジウム
、イットリウム、チタン、ジルコニウム、カドミウム、
亜鉛、セレン、アンチモン、ガリウム、マグネシウム、
ホウ素、炭素などの金属材料または非金属材料、もしく
はＣｅＯ２，Ｌａ２Ｏ３，ＳｉＯ，ＳｉＯ２，Ｉｎ２Ｏ
３，Ａｌ２Ｏ３，ＧｅＯ，ＧｅＯ２，ＰｂＯ，ＳｎＯ，
ＳｎＯ２，Ｂｉ２Ｏ３，ＴｅＯ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｓｃ２
Ｏ３，Ｙ２Ｏ３，ＴｉＯ２，ＺｒＯ２，Ｖ２Ｏ５，Ｎｂ
２Ｏ５，Ｃｒ２Ｏ３，ＷＯ２，ＷＯ３，ＣｄＳ，ＺｎＳ
，ＣｄＳｅ，ＺｎＳｅ，Ｉｎ２Ｓ３，Ｉｎ２Ｓｅ３，Ｓ
ｂ２Ｓ３，Ｓｂ２Ｓｅ３，Ｇａ２Ｓ３，Ｇａ２Ｓｅ３，
ＧｅＳ，ＧｅＳｅ，ＧｅＳｅ２，ＳｎＳ，ＳｎＳ２，Ｓ
ｎＳｅ，ＳｎＳｅ２，ＰｂＳ，ＰｂＳｅ，Ｂｉ２Ｓｅ３
，Ｂｉ２Ｓ３，ＭｇＦ２，ＣｅＦ２，ＣａＦ２，ＴａＮ
，Ｓｉ３Ｎ４，ＡｌＮ，ＢＮ，ＴｉＢ２，Ｂ４Ｃ，Ｓｉ
Ｃなどの合金または無機化合物の蒸着膜をもって形成す
ることもできるし、上記より選択された物質の箔体をも
って形成することもできる。また、上記より選択された
物質の粉状体または粒状体を分散させた高分子材料をも
って高熱伝導層８を形成することもできる。

【００１９】潤滑層９は、ヘキサデカン、ブチルステア
レート、オレイン酸、エチルステアレート、ステアリン
酸、オクタデシルアミン、固形ステアリン酸などの潤滑
剤をもって形成される。潤滑層９の形成手段としては、
潤滑剤の溶剤溶液を高熱伝導層８の表面にコーティング
する方法、潤滑剤を含浸させた高分子シートを高熱伝導
層８の表面に貼着する方法、前記高熱伝導層８の表面を
ポリッシングし、形成された微細な凹部内に潤滑剤を含
浸させる方法などを採ることができる。

【００２０】前記実施例の光磁気記録媒体は、反射層６
の表面に断熱層７を介して高熱伝導層８を形成し、さら
にこの高熱伝導層８上に潤滑層９を形成したので、これ
らの各層７〜９が反射層６以下の層の保護膜として機能
し、磁界発生装置を摺動させたときの耐摩耗性および耐
衝撃性、それに磁性層の耐食性が改善される。また、光
磁気記録媒体と磁界発生装置との摺動によって発生した
摩擦熱が高熱伝導層８を通じて膜面方向に拡散されると
共に、断熱層７によって磁性層４側への伝播が防止され
るので、摩擦熱によって磁性層４がほとんど昇温される
ことがない。よって、レーザビーム照射による磁性層の
温度制御が容易になり、情報の誤記録や誤消去が防止さ
れる。

【００２１】なお、前記実施例においては、ディスク状
光磁気記録媒体を例にとって説明したが、カード状光磁
気記録媒体など他の形状の光磁気記録媒体にも応用でき
ることは勿論である。

【００２２】また、前記実施例においては、断熱層７の
下地が第１エンハンス層３と磁性層４と第２エンハンス
層５と反射層６とからなる４層構造になっている光磁気
記録媒体を例にとって説明したが、本発明の要旨がこれ
に限定されるものではなく、少なくとも磁性層を有する
全ての膜構造を有する光磁気記録媒体に応用することが
できる。

【００２３】次に、本発明に係る光磁気記録媒体ドライ
ブ装置の一例を、図３によって説明する。図３において
、１１は光磁気記録媒体、１２は光磁気記録媒体１１の
磁性層４にレーザビームスポットを照射する光学ヘッド
、１３は磁性層４にバイアス磁界を印加する磁界発生装
置を示し、その他図１と対応する部分にはそれと同一の
符号が表示されている。

【００２４】この図に示すように、本例のドライブ装置
には、磁性発生装置１３として、強磁性材料によって形
成されたヨーク１４と、該ヨーク１４の一部に巻回され
たコイル１５とからなる電磁石が備えられている。ヨー
ク１４は、媒体駆動時に光磁気記録媒体１１の潤滑層９
に接触する外側ヨーク１４ａ，１４ｂと、光磁気記録媒
体１１とは非接触のセンターヨーク１４ｃとから構成さ
れており、外側ヨーク１４ａ，１４ｂの先端部が媒体摺
動面に、センターヨーク１４ｃの先端部が記録磁界また
は消去磁界Ｈの発生部になっている。外側ヨーク１４ａ
，１４ｂの先端部からセンターヨーク１４ｃの先端部ま
での段差ｓは、センターヨーク１４ｃの先端部が光磁気
記録媒体１１に接触しないだけの大きさがあれば足りる
。一方、この段差ｓが大きくなるにしたがって磁性層４
に印加される磁界が低下するため、これらを考慮して段
差ｓの大きさは、１〜５０μｍ程度とすることが好まし
い。前記磁性発生装置１３は、図３に示すように、セン
ターヨーク１４ｃの先端部を光学ヘッド１２の光軸Ａ−
Ａと同軸に位置付け、外側ヨーク１４ａ，１４ｂをレー
ザビーム１６がアクセスされている記録トラック外に当
接するようにして配設される。

【００２５】前記実施例のドライブ装置は、磁界発生部
であるセンターヨーク１４ｃを光磁気記録媒体１１と非
接触に構成し、媒体摺動面である外側ヨーク１４ａ，１
４ｂを記録トラック外に当接するようにしたので、図３
に示すように、光磁気記録媒体１１と磁界発生装置１３
との摺動によって発生した摩擦熱Ｊが情報の記録、再生
、消去が行われている記録トラックに直接作用せず、記
録トラック上を磁界発生装置１３が摺動する場合に比べ
て摩擦熱の影響を緩和することができる。よって、レー
ザビーム照射による磁性層の温度制御が容易になり、情
報の誤記録や誤消去が防止される。

【００２６】なお、前記実施例においては、磁界発生装
置１３として、センターヨーク１４ｃの両側に外側ヨー
ク１４ａ，１４ｂが設けられたいわゆる両ヨーク形の電
磁石を用いた場合を例にとって説明したが、図４に示す
ように、センターヨーク（磁界発生部）１４ｃの片側に
のみ外側ヨーク１４ａが設けられたいわゆる片ヨーク形
の電磁石を用いることもできる。

【００２７】また、前記実施例においては、磁界発生装
置１３として電磁石を用いた場合を例にとって説明した
が、磁気ヘッドや永久磁石など、他種の磁界発生装置を
用いた場合にも、同様に構成される。

【００２８】以下に本発明の実験例を示し、本発明の効
果を明らかにする。 〈実験例１〉射出成形法にて形成された円板状のポリカ
ーボネート基板のプリフォーマットパターン転写面に、
ＳｉＮよりなる第１エンハンス層と、テルビウム−鉄−
コバルト系の非晶質垂直磁化膜よりなる磁性層と、Ｓｉ
Ｎよりなる第２エンハンス層と、ＡｌＴｉよりなる反射
層をスパッタリング法により順次積層し、多数の同一構
成の光磁気ディスクを作製した。しかる後に、それぞれ
別個の光磁気ディスクの反射層上に、厚さが異なる各種
のアルミニウム箔を接着剤にて接着し、断熱層および高
熱伝導層を有する各種の光磁気ディスクを作製した。最
後に、各光磁気記録媒体のアルミニウム箔上にステアリ
ン酸のベンゼン溶液をスピンコートし、乾燥して潤滑層
付きの光磁気ディスクを作製した。また、比較例として
、アルミニウム箔が接着されておらず、かつ潤滑層が形
成されていない点を除いて、前記実験例１と同じに形成
された光磁気ディスクを作製した。この実験例１に係る
光磁気ディスクを図３の磁界発生装置を備えたドライブ
装置に装着して情報の記録、再生、消去を１０６　回繰
り返した後のエラーレートと、比較例に係る光磁気ディ
スクを従来の接触式の磁界発生装置を備えたドライブ装
置に装着して情報の記録、再生、消去を１０６　回繰り
返した後のエラーレートとを測定し、アルミニウム箔の
厚さとエラーレートとの関係を調べた。その結果を図５
に示す。図５から明らかなように、実験例１の光磁気デ
ィスクは、厚さが約５４μｍ以上のアルミニウム箔が接
着されたものを除き、いずれも比較例の光磁気ディスク
よりもエラーレートが減少している。ただし、アルミニ
ウム箔の厚さには最適値があり、約１４〜４２μｍの厚
さのアルミニウム箔が接着された光磁気ディスクは、情
報の記録、再生、消去を１０６　回繰り返した後におい
ても１×１０７　以下のエラーレートを保持することが
できるが、これよりも薄いアルミニウム箔が接着された
光磁気ディスクおよびこれよりも厚いアルミニウム箔が
接着された光磁気ディスクは、共にエラーレートが上昇
する。 これは、ある程度厚いアルミニウム箔を接着しないと充
分な摩擦熱の放熱効果を得ることができず、反対にアル
ミニウム箔の厚さが大きくなるほど磁界発生装置の磁界
が透過しにくくなるためである。

【００２９】〈実験例２〉実験例１と同様にして作製さ
れた光磁気ディスクの反射層上に、２０μｍの厚さのア
ルミニウム箔を接着剤にて接着し、次いでこのアルミニ
ウム箔上にステアリン酸のベンゼン溶液をスピンコート
し、乾燥して潤滑層付きの光磁気ディスクを作製した。 この実験例２に係る光磁気ディスクを、図３の磁界発生
装置を備えたドライブ装置であって磁界発生装置の段差
ｓの大きさが異なる種々のドライブ装置に装着して情報
の記録、再生、消去を行い、エラーレートを測定した。 図６に、段差ｓの大きさとエラーレートとの関係を示す
。図６から明らかなように、磁界発生装置にわずかでも
段差ｓを設けると（例えば、０．１μｍ程度）エラーレ
ートの改善に効果があるが、段差ｓを４０μｍ以上にす
るとエラーレートが上昇に転じ、段差ｓを約５２μｍ以
上にするとエラーレートが段差ｓを有しない磁界発生装
置を用いた場合よりも悪くなる。これは、段差ｓが過大
になると、磁界発生装置の磁界が磁性層に達しなくなる
ためである。

【００３０】〈実験例３〉実験例１に係る光磁気ディス
ク、および実験例１の欄で説明した比較例に係る光磁気
ディスクを温度８０℃、相対湿度９０％の環境下に１０
００時間した後、アルミニウム箔の厚さと欠陥の総数と
の関係を調べた。その結果を図７に示す。図７から明ら
かなように、反射層上にアルミニウム箔を接着すると欠
陥の減少に顕著な効果がある。特に、厚さが１μｍ以上
のアルミニウム箔を接着すると、欠陥を最低レベルにす
ることができる。実験例１および３より、反射層上に接
着されるアルミニウム箔の厚さは、１〜５０μｍとする
ことが好ましいことがわかる。

【００３１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光磁気記
録媒体は、記録層の表面に断熱層と高熱伝導層と潤滑層
とを順次積層したので、耐摩耗性、耐衝撃性、耐食性と
共に耐摩擦熱性が改善される。よって、接触式の磁界発
生装置を備えたドライブ装置を用いて信頼性の高い情報
の記録、再生、消去動作を行うことができる。

【００３２】また、本発明のドライブ装置は、磁界発生
部を光磁気記録媒体と非接触に構成し、媒体摺動面を記
録トラック外に当接するようにしたので、光磁気記録媒
体と磁界発生装置との摺動によって発生した摩擦熱が情
報の記録、再生、消去が行われている記録トラックに直
接作用せず、記録トラック上を磁界発生装置が摺動する
場合に比べて摩擦熱の影響を緩和することができる。よ
って、レーザビーム照射による磁性層の温度制御が容易
になり、情報の誤記録や誤消去が防止される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光磁気記録媒体の一例を示す要部
断面図である。

【図２】本発明に係る光磁気記録媒体の一例を示す平面
図である。

【図３】本発明に係るドライブ装置の一例を示す説明図
である。

【図４】磁界発生装置の他の例を示す説明図である。

【図５】アルミニウム箔の厚さとエラーレートとの関係
を示すグラフ図である。

【図６】磁界発生装置の段差とエラーレートとの関係を
示すグラフ図である。

【図７】アルミニウム箔の厚さと欠陥の総数との関係を
示すグラフ図である。

【符号の説明】

１　　プリフォーマットパターン ２　　透明基板 ３　　第１エンハンス層 ４　　磁性層 ５　　第２エンハンス層 ６　　反射層 ７　　断熱層 ８　　高熱伝導層 ９　　潤滑層 １１　　光磁気記録媒体 １２　　光学ヘッド １３　　磁界発生装置 ｓ　　段差

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　透明基板上に少なくとも磁性層を含む
   薄膜を形成してなり、前記透明基板を通じて前記磁性層
   にレーザビームを照射しつつ前記磁性層にバイアス磁界
   を印加して情報の記録と消去とを行う光磁気記録媒体に
   おいて、前記薄膜上に断熱層を介して高熱伝導層を設け
   、この高熱伝導層の表面に潤滑層を設けたことを特徴と
   する光磁気記録媒体。
2. 【請求項２】　　請求項１記載において、前記薄膜が、
   前記透明基板上に形成された第１エンハンス層と、この
   第１エンハンス層上に積層された磁性層と、この磁性層
   上に積層された第２エンハンス層と、この第２エンハン
   ス層上に積層された反射層とから構成されていることを
   特徴とする光磁気記録媒体。
3. 【請求項３】　　請求項１記載において、前記高熱伝導
   層が高熱伝導物質の箔体にて構成されており、前記断熱
   層が前記薄膜と前記高熱伝導層とを接着する接着剤もし
   くは粘着剤にて構成されていることを特徴とする光磁気
   記録媒体。
4. 【請求項４】　　請求項１記載において、前記高熱伝導
   層が高熱伝導物質の蒸着膜にて構成されており、前記断
   熱層が高分子材料の蒸着膜にて構成されていることを特
   徴とする光磁気記録媒体。
5. 【請求項５】　　請求項１記載において、前記高熱伝導
   層の厚さが、１〜５０μｍの範囲に調整されていること
   を特徴とする光磁気記録媒体。
6. 【請求項６】　　請求項３または４記載において、前記
   高熱伝導物質が、アルミニウム、銅、錫、シリコン、ま
   たはこれらの合金、もしくはこれらの物質の粉状体また
   は粒状体を分散させた高分子材料であることを特徴とす
   る光磁気記録媒体。
7. 【請求項７】　　光磁気記録媒体を介して、磁性層にレ
   ーザビームスポットを照射する光学ヘッドと、磁性層に
   バイアス磁界を印加する磁界発生装置とが相対向に配設
   され、かつ前記磁界発生装置が前記光磁気記録媒体上を
   摺動するように構成された光磁気記録媒体のドライブ装
   置において、前記磁界発生装置に前記光磁気記録媒体と
   非接触の磁界発生面と媒体摺動面とを形成し、前記磁界
   発生面を前記レーザビームスポットの照射位置と対向に
   配設すると共に、前記媒体摺動面を記録トラック外に配
   設したことを特徴とする光磁気記録媒体のドライブ装置
   。
8. 【請求項８】　　請求項６記載において、前記磁界発生
   装置の媒体摺動面と磁界発生面との段差を、５０μｍ以
   下としたことを特徴とする光磁気記録媒体のドライブ装
   置。
9. 【請求項９】　　請求項６記載において、前記磁界発生
   装置が、電磁石、磁気ヘッド、もしくは永久磁石のいず
   れかであることを特徴とする光磁気記録媒体のドライブ
   装置。