JPH04323849A - ウェーハ用真空チャック - Google Patents
ウェーハ用真空チャックInfo
- Publication number
- JPH04323849A JPH04323849A JP3119207A JP11920791A JPH04323849A JP H04323849 A JPH04323849 A JP H04323849A JP 3119207 A JP3119207 A JP 3119207A JP 11920791 A JP11920791 A JP 11920791A JP H04323849 A JPH04323849 A JP H04323849A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- vacuum chuck
- support
- area
- wafers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 abstract 2
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- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005094 computer simulation Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、シリコンをはじめ、ア
ルミナ、石英その他のウェーハの測定、運搬、加工等に
用いるウェーハ用真空チャックに関する。
ルミナ、石英その他のウェーハの測定、運搬、加工等に
用いるウェーハ用真空チャックに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のウェーハ用真空チャック
としては、図5,図6に示すものが知られている。
としては、図5,図6に示すものが知られている。
【0003】前者のウェーハ用真空チャックは、ウェー
ハが載置される周壁11で囲まれた凹部12の底部に、
周壁11と同じ高さでウェーハを支持する中央部の円板
状の支持突起13及びこれと同心状をなすリング状の支
持突起14を設け、かつ凹部12内の空気を排気する排
気口(図示せず)を設けており、又、後者のウェーハ用
真空チャックは、ウェーハが載置される周壁21で囲ま
れた凹部22の底部に、周壁21と同じ高さでウェーハ
を支持する円板状の多数の支持突起23を、隣り合う4
個が正方形をなす格子状に配設し、かつ凹部22内の空
気を排気する排気口24を設けている。
ハが載置される周壁11で囲まれた凹部12の底部に、
周壁11と同じ高さでウェーハを支持する中央部の円板
状の支持突起13及びこれと同心状をなすリング状の支
持突起14を設け、かつ凹部12内の空気を排気する排
気口(図示せず)を設けており、又、後者のウェーハ用
真空チャックは、ウェーハが載置される周壁21で囲ま
れた凹部22の底部に、周壁21と同じ高さでウェーハ
を支持する円板状の多数の支持突起23を、隣り合う4
個が正方形をなす格子状に配設し、かつ凹部22内の空
気を排気する排気口24を設けている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ここで、ウェーハ用真
空チャックは、次の条件を満たすことが望ましいとされ
ている。
空チャックは、次の条件を満たすことが望ましいとされ
ている。
【0005】1)ウェーハの平坦度を保ったまま、ある
いはウェーハのひずみ量を最小としてチャッキングでき
る。
いはウェーハのひずみ量を最小としてチャッキングでき
る。
【0006】2)チャック材によるウェーハ汚染を抑え
るため、ウェーハとの接触面積が少ないこと。
るため、ウェーハとの接触面積が少ないこと。
【0007】しかしながら、前述した従来のウェーハ用
真空チャックはいずれも、上記1),2)の条件を同時
に満たす最適なものとはいえない。
真空チャックはいずれも、上記1),2)の条件を同時
に満たす最適なものとはいえない。
【0008】そこで、本発明は、チャッキング時のウェ
ーハのひずみ量を一定とした場合、ウェーハとの接触面
積を最小とし得るウェーハ用真空チャックの提供を目的
とする。
ーハのひずみ量を一定とした場合、ウェーハとの接触面
積を最小とし得るウェーハ用真空チャックの提供を目的
とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
、本発明のウェーハ用真空チャックは、ウェーハが載置
される周壁で囲まれた凹部の底部に、周壁と同じ高さで
ウェーハを支持する多数の支持突起及び凹部内の空気を
排気する排気口を設けたウェーハ用真空チャックにおい
て、前記多数の支持突起の配列を、隣り合う3個が正三
角形をなす千鳥状としたものである。
、本発明のウェーハ用真空チャックは、ウェーハが載置
される周壁で囲まれた凹部の底部に、周壁と同じ高さで
ウェーハを支持する多数の支持突起及び凹部内の空気を
排気する排気口を設けたウェーハ用真空チャックにおい
て、前記多数の支持突起の配列を、隣り合う3個が正三
角形をなす千鳥状としたものである。
【0010】
【作用】上記手段においては、チャッキング時のウェー
ハのひずみを一定とした場合、1個の支持突起の支持領
域が最大となる。
ハのひずみを一定とした場合、1個の支持突起の支持領
域が最大となる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。
する。
【0012】図1は本発明の一実施例のウェーハ用真空
チャックの平面図である。
チャックの平面図である。
【0013】図中1は円板状のチャック本体2の上面の
周辺部に立設した周壁で、ウェーハ(図示せず)が載置
されるものである。周壁1によって囲まれた凹部3の底
部には、周壁1と同じ高さでウェーハを支持する円板状
若しくは円柱状の多数の支持突起4が、その隣り合う3
個によって正三角形をなす千鳥状に配列されている。 又、凹部3の底部には、ウェーハの載置によって閉塞さ
れる凹部3内の空気を排気する排気口5が設けられてい
る。
周辺部に立設した周壁で、ウェーハ(図示せず)が載置
されるものである。周壁1によって囲まれた凹部3の底
部には、周壁1と同じ高さでウェーハを支持する円板状
若しくは円柱状の多数の支持突起4が、その隣り合う3
個によって正三角形をなす千鳥状に配列されている。 又、凹部3の底部には、ウェーハの載置によって閉塞さ
れる凹部3内の空気を排気する排気口5が設けられてい
る。
【0014】しかして、上記構成のウェーハ用真空チャ
ックを用い、ウェーハをチャッキングした場合、ウェー
ハには等分布荷重が加わり、模式的に示す図2の真空チ
ャックのように、周壁6及び支持突起7に載置されたウ
ェーハWは、排気口8による凹部9内の空気の排気によ
り、支持突起7間の間隔を2aとすると、明らかに支持
突起7間の中間C(支持突起から最も離れたところ)が
大きくひずみ、最大のひずみ量τとなる。
ックを用い、ウェーハをチャッキングした場合、ウェー
ハには等分布荷重が加わり、模式的に示す図2の真空チ
ャックのように、周壁6及び支持突起7に載置されたウ
ェーハWは、排気口8による凹部9内の空気の排気によ
り、支持突起7間の間隔を2aとすると、明らかに支持
突起7間の中間C(支持突起から最も離れたところ)が
大きくひずみ、最大のひずみ量τとなる。
【0015】次に、本発明と図6の従来の真空チャック
による支持突起4,231個が支持するウェーハの面積
について考える。
による支持突起4,231個が支持するウェーハの面積
について考える。
【0016】ここで、両真空チャックによるチャッキン
グ時のウェーハのひずみ量を等しくするため、両者の支
持突起から最も離れたところ(ひずみ量の最大位置)か
ら支持突起の中心までの距離aを等しくし、かつ支持突
起の面積を等しくする。
グ時のウェーハのひずみ量を等しくするため、両者の支
持突起から最も離れたところ(ひずみ量の最大位置)か
ら支持突起の中心までの距離aを等しくし、かつ支持突
起の面積を等しくする。
【0017】まず、本発明の真空チャックにおいては、
図3に示すように、1個の支持突起4につき1個の正六
角形の支持領域ET が割り当てられ、その面積ST
は、次式で表わされる。
図3に示すように、1個の支持突起4につき1個の正六
角形の支持領域ET が割り当てられ、その面積ST
は、次式で表わされる。
【0018】
【数1】
一方、図6の従来の真空チャックにおいては、図4に示
すように、1個の支持突起23につき1個の正方形の支
持領域ES が割り当てられ、その面積SS は、次式
で表わされる。
すように、1個の支持突起23につき1個の正方形の支
持領域ES が割り当てられ、その面積SS は、次式
で表わされる。
【0019】SS =2a2
したがって、ST >SS より本発明の真空チャック
の方が、1個の支持突起当りの支持領域を広いものとし
得ることがわかる。よって、同じチャッキング面積を持
ち、かつ同程度の平坦度が得られる(ウェーハのひずみ
が等しい場合)真空チャックであれば、支持突起数を従
来のものの77%(2/2.598)に減らすことが可
能となり、その分ウェーハと接触する支持突起の総接触
面積が減少する。
の方が、1個の支持突起当りの支持領域を広いものとし
得ることがわかる。よって、同じチャッキング面積を持
ち、かつ同程度の平坦度が得られる(ウェーハのひずみ
が等しい場合)真空チャックであれば、支持突起数を従
来のものの77%(2/2.598)に減らすことが可
能となり、その分ウェーハと接触する支持突起の総接触
面積が減少する。
【0020】なお、有限要素法を用いたコンピュータシ
ミュレーションにより、ウェーハのひずみ量を計算した
結果、支持突起数が同じ場合、本発明の真空チャックの
方が有利であることがわかった。
ミュレーションにより、ウェーハのひずみ量を計算した
結果、支持突起数が同じ場合、本発明の真空チャックの
方が有利であることがわかった。
【0021】又、上述した実施例においては、支持突起
を円板状若しくは円柱状とする場合について説明したが
、これに限定されるものではなく、角板状、角柱状その
他の形状であってもよい。
を円板状若しくは円柱状とする場合について説明したが
、これに限定されるものではなく、角板状、角柱状その
他の形状であってもよい。
【0022】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、チャッキ
ング時のウェーハのひずみを一定とした場合、1個の支
持突起の支持領域が最大となるので、従来のものに比し
てウェーハとの接触面積を最小にできる。
ング時のウェーハのひずみを一定とした場合、1個の支
持突起の支持領域が最大となるので、従来のものに比し
てウェーハとの接触面積を最小にできる。
【図1】本発明の一実施例のウェーハ用真空チャックの
平面図である。
平面図である。
【図2】真空チャックにチャッキングされたウェーハの
状態を示す断面の模式図である。
状態を示す断面の模式図である。
【図3】本発明に係る真空チャックの1個の支持突起に
よる支持領域の説明図である。
よる支持領域の説明図である。
【図4】従来の真空チャックの1個の支持突起による支
持領域の説明図である。
持領域の説明図である。
【図5】従来の真空チャックの斜視図である。
【図6】従来の他の真空チャックの斜視図である。
1 周壁
3 凹部
4 支持突起
5 排気口
Claims (1)
- 【請求項1】 ウェーハが載置される周壁で囲まれた
凹部の底部に、周壁と同じ高さでウェーハを支持する多
数の支持突起及び凹部内の空気を排気する排気口を設け
たウェーハ用真空チャックにおいて、前記多数の支持突
起の配列を、隣り合う3個が正三角形をなす千鳥状とし
たことを特徴とするウェーハ用真空チャック。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3119207A JPH04323849A (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | ウェーハ用真空チャック |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3119207A JPH04323849A (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | ウェーハ用真空チャック |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04323849A true JPH04323849A (ja) | 1992-11-13 |
Family
ID=14755587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3119207A Pending JPH04323849A (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | ウェーハ用真空チャック |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04323849A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004343106A (ja) * | 2003-05-06 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびそれにより製造したデバイス |
| JP2006054379A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Komatsu Electronic Metals Co Ltd | 吸着治具および研磨装置 |
| JP2012009720A (ja) * | 2010-06-28 | 2012-01-12 | Nikon Corp | ウェハホルダおよび露光装置 |
| WO2021138974A1 (zh) * | 2020-01-09 | 2021-07-15 | 诚瑞光学(常州)股份有限公司 | 玻璃晶圆的吸附装置 |
-
1991
- 1991-04-23 JP JP3119207A patent/JPH04323849A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004343106A (ja) * | 2003-05-06 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびそれにより製造したデバイス |
| JP2006054379A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Komatsu Electronic Metals Co Ltd | 吸着治具および研磨装置 |
| JP2012009720A (ja) * | 2010-06-28 | 2012-01-12 | Nikon Corp | ウェハホルダおよび露光装置 |
| WO2021138974A1 (zh) * | 2020-01-09 | 2021-07-15 | 诚瑞光学(常州)股份有限公司 | 玻璃晶圆的吸附装置 |
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