JPH0282032U - - Google Patents

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JPH0282032U
JPH0282032U JP16288688U JP16288688U JPH0282032U JP H0282032 U JPH0282032 U JP H0282032U JP 16288688 U JP16288688 U JP 16288688U JP 16288688 U JP16288688 U JP 16288688U JP H0282032 U JPH0282032 U JP H0282032U
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案装置の一実施例の構成を示す簡
略平面図、第２図はその簡略正断面図である。 １ａ，１ｂ，１ｃ……ロードロツク室、２……
ウエーハ移載機、３……カセツト、４ａ，４ｂ，
４ｃ……ゲートバルブ、１０ａ，１０ｂ，１０ｃ
……ゲートバルブ、１１……（石英）ボート、１
２……ウエーハ、１５……排気装置（真空ポンプ
）、１６ａ，１６ｂ，１６ｃ……反応炉、１７…
…移動手段、１８……ロードロツク予備室。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 多数枚のウエーハ１２に一度に各炉毎に異なる
    膜を生成する複数台の反応炉１６ａ，１６ｂ…と
    、これらの反応炉１６ａ，１６ｂ…にそれぞれ多
    数枚のウエーハ１２をセツトしたボート１１を搬
    入出する移動手段１７を備えた複数のロードロツ
    ク室１ａ，１ｂ…と、多数のウエーハ１２を収納
    するカセツト３及びこのカセツト３からボート１
    １へこのボート１１から他のボート１１へ自由に
    ウエーハ１２を移載するウエーハ移載機２を収容
    した１つのロードロツク予備室１８と、上記各反
    応炉１６ａ，１６ｂ…とロードロツク室１ａ，１
    ｂ…との間及び各ロードロツク室１ａ，１ｂ…と
    ロードロツク予備室１８との間にそれぞれ設けら
    れたゲートバルブ１０ａ，１０ｂ…及び４ａ，４
    ｂ…と、上記各ロードロツク室１ａ，１ｂ…及び
    １つのロードロツク予備室１８にそれぞれ備えた
    排気装置１５とよりなるバツチ形マルチロードロ
    ツク式半導体製造装置。
JP16288688U 1988-12-14 1988-12-14 Expired - Lifetime JPH0517879Y2 (ja)

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JPH0517879Y2 JPH0517879Y2 (ja) 1993-05-13

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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