JPH0433043U - - Google Patents

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JPH0433043U
JPH0433043U JP7456490U JP7456490U JPH0433043U JP H0433043 U JPH0433043 U JP H0433043U JP 7456490 U JP7456490 U JP 7456490U JP 7456490 U JP7456490 U JP 7456490U JP H0433043 U JPH0433043 U JP H0433043U
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film
forming layer
layer
photomask
forming
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JP7456490U
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図ａは本考案のフオトマクスクブランクの
一実施例の平面図、第１図ｂは第１図ａの本考案
のフオトマスクブランクの側面図、第２図ａは本
考案のフオトマスクブランクの他の実施例の平面
図、第２図ｂは本考案のフオトマスクの一実施例
の平面図、第３図は本考案フオトマスクブランク
の他の実施例の平面図、第４図ａは従来のフオト
マスクブランクの平面図、第４図ｂは第４図ａの
側面図、第５図は従来のフオトマスクの製造工程
の説明図、第６図は従来のフオトマスクブランク
のガラス基板端縁部に発生する剥離、欠落を説明
する側面図である。 １……ガラス基板、２……遮光性成膜層、３…
…エツチングレジスト、４……剥離部、５……欠
落部、６……非成膜領域、７……成膜層、８……
透光性パターン、Ａ……フオトマスクブランク、
Ｂ……フオトマスク。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ ガラス基板全面に、遮光性の成膜層を形成し
    たフオトマスクブランクの前記ガラス基板面の端
    縁部に沿つて僅少幅の非成膜領域を設けたことを
    特徴とするフオトマスクブランク。 ２ 前記成膜層がエマルジヨン成膜層である特許
    請求の範囲第１項記載のフオトマスクブランク。 ３ 前記成膜層がＣｒ、Ｍｎ、Ｔａなどの金属膜
    により形成され、且つ前記非成膜層領域の一部に
    、前記成膜層に導通する遮光性の金属成膜層を設
    けたことを特徴とする前記第１項記載のフオトマ
    スクブランク。 ４ ガラス基板表面に所望のマスクパターンの遮
    光性の成膜層を形成したフオトマスクであつて、
    該基板端縁部に沿つて、所望幅の非成膜領域が形
    成されていることを特徴とするフオトマスク。 ５ 前記成膜層がエマルジヨン成膜層である特許
    請求の範囲第４項記載のフオトマスク。 ６ 前記成膜層がＣｒ、Ｍｎ、Ｔａなどの金属膜
    により形成され、且つ前記非成膜領域の一部に、
    前記成膜層に導通する遮光性の金属成膜層を設け
    られていることを特徴とする前記第４項記載のフ
    オトマスク。
JP7456490U 1990-07-13 1990-07-13 Pending JPH0433043U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001002908A1 (en) * 1999-06-30 2001-01-11 Hitachi, Ltd. Method for manufacturing semiconductor integrated circuit device, optical mask used therefor, method for manufacturing the same, and mask blanks used therefor

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60120521A (ja) * 1983-12-03 1985-06-28 Oki Electric Ind Co Ltd マスク欠陥修正方法
JPH01173717A (ja) * 1987-12-28 1989-07-10 Dainippon Printing Co Ltd ブランク板
JPH01173718A (ja) * 1987-12-28 1989-07-10 Dainippon Printing Co Ltd フォトマスクおよびその製造方法
JPH02161433A (ja) * 1988-12-14 1990-06-21 Fujitsu Ltd フォトマスク基板

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