JPH04331141A - 徐放性機能を有する多層膜 - Google Patents
徐放性機能を有する多層膜Info
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- JPH04331141A JPH04331141A JP2037191A JP2037191A JPH04331141A JP H04331141 A JPH04331141 A JP H04331141A JP 2037191 A JP2037191 A JP 2037191A JP 2037191 A JP2037191 A JP 2037191A JP H04331141 A JPH04331141 A JP H04331141A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、徐放性機能を発現する
多層膜に関する。
多層膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来公知の徐放性材料は、放出し得る活
性物質をポリマーマトリックス中に含有させ、マトリッ
クスと活性物質との物理的或いは化学的相互作用を利用
して活性物質の放出を制御しており、実質的に有効量の
活性物質の放出を相互作用のない系より長期化すること
が出来る。又、活性物質の量を増加させることによって
も有効量の活性物質の放出を長期化することが出来るが
、ある一定量以上含有させてもそれ以上の効果がないこ
とがわかっている。
性物質をポリマーマトリックス中に含有させ、マトリッ
クスと活性物質との物理的或いは化学的相互作用を利用
して活性物質の放出を制御しており、実質的に有効量の
活性物質の放出を相互作用のない系より長期化すること
が出来る。又、活性物質の量を増加させることによって
も有効量の活性物質の放出を長期化することが出来るが
、ある一定量以上含有させてもそれ以上の効果がないこ
とがわかっている。
【０００３】
【発明が解決しようとしている課題】前述した従来技術
の場合、ポリマーマトリックス中に含有している活性物
質の多くは外部からの刺激に対して一般的に初期の短時
間のうちに大量に放出されてしまうという欠点がある。 更に活性物質とポリマーマトリックスとの相互作用を利
用して放出制御を行っている為、活性物質の残量が減少
してくると有効量の活性物質が放出出来なくなってしま
い、実質的に有効に利用出来る活性物質は初期の含有量
に比べ、かなり少量となってしまうという問題点がある
。従って本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決
し、活性物質の放出を制御し、放出量を長期間一定に保
持することが出来る徐放性機能を有する多層膜を提供す
ることである。
の場合、ポリマーマトリックス中に含有している活性物
質の多くは外部からの刺激に対して一般的に初期の短時
間のうちに大量に放出されてしまうという欠点がある。 更に活性物質とポリマーマトリックスとの相互作用を利
用して放出制御を行っている為、活性物質の残量が減少
してくると有効量の活性物質が放出出来なくなってしま
い、実質的に有効に利用出来る活性物質は初期の含有量
に比べ、かなり少量となってしまうという問題点がある
。従って本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決
し、活性物質の放出を制御し、放出量を長期間一定に保
持することが出来る徐放性機能を有する多層膜を提供す
ることである。
【０００４】
【問題点を解決する為の手段】上記目的は以下の本発明
によって達成される。即ち、本発明は、活性物質を含有
する貯蔵層とその活性物質の放出速度を制御する放出制
御層とからなることを特徴とする徐放性機能を有する多
層膜である。
によって達成される。即ち、本発明は、活性物質を含有
する貯蔵層とその活性物質の放出速度を制御する放出制
御層とからなることを特徴とする徐放性機能を有する多
層膜である。
【０００５】
【作用】活性物質を含有する層（貯蔵層）と、その活性
物質の放出速度を制御する層（放出制御層）とからなる
多層構造の膜とすることによって、活性物質の放出を制
御し、放出量を長期間一定に保持することが出来る。
物質の放出速度を制御する層（放出制御層）とからなる
多層構造の膜とすることによって、活性物質の放出を制
御し、放出量を長期間一定に保持することが出来る。
【０００６】
【好ましい実施態様】次に好ましい実施態様を挙げて本
発明を更に詳しく説明する。先ず、本発明における１例
の多層膜は図１に示す様に、基材シート１上に活性物質
を含有する貯蔵層２とその活性物質の放出速度を制御す
る放出制御層３とからなる。尚、本発明の多層膜は図１
の構造に限定されず、基材シートを使用せずに、貯蔵層
の両面に放出制御層を積層した構造でもよい。
発明を更に詳しく説明する。先ず、本発明における１例
の多層膜は図１に示す様に、基材シート１上に活性物質
を含有する貯蔵層２とその活性物質の放出速度を制御す
る放出制御層３とからなる。尚、本発明の多層膜は図１
の構造に限定されず、基材シートを使用せずに、貯蔵層
の両面に放出制御層を積層した構造でもよい。
【０００７】上記本発明の多層膜に使用する基材シート
１は、活性物質の透過を防ぐフイルム又はシートであれ
ば従来公知のいずれの基材フイルム又はシートでもよく
、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
テレフタレート／イソフタレート共重合体、ポリブチレ
ンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフイン
、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エチレン／ビ
ニルアルコール共重合体、ポリカーボネート、ポリアミ
ド等のプラスチックからなるフイルム又はシートが挙げ
られる。特に好ましいものはその表面を予め接着剤で処
理した厚さ１０〜５００μｍ程度の易接着ポリエチレン
テレフタレートフイルム又はシートである。
１は、活性物質の透過を防ぐフイルム又はシートであれ
ば従来公知のいずれの基材フイルム又はシートでもよく
、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
テレフタレート／イソフタレート共重合体、ポリブチレ
ンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフイン
、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エチレン／ビ
ニルアルコール共重合体、ポリカーボネート、ポリアミ
ド等のプラスチックからなるフイルム又はシートが挙げ
られる。特に好ましいものはその表面を予め接着剤で処
理した厚さ１０〜５００μｍ程度の易接着ポリエチレン
テレフタレートフイルム又はシートである。
【０００８】貯蔵層２は活性物質を保持するポリマーか
らなり、基本的に活性物質と相互作用を有していないか
、或いは放出制御層よりも活性物質との相互作用が小さ
いポリマーから形成する。この様なポリマーとしては、
例えば、水酸基等の水素結合可能な基又は構造が比較的
少ないアクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂
、ポリエステル、ポリアミド、セルロース系樹脂等が挙
げられるが、特に好ましい樹脂は水素結合可能な構造の
含有量が比較的少ない電離放射線硬化型樹脂である。こ
のようなポリマーからなる貯蔵層内では、水素結合可能
な化学構造を有する活性物質は貯蔵層中を自由に拡散に
より移動可能であり、又、十分に拡散速度が速い場合は
貯蔵層中の活性物質の濃度の片寄りは生じにくい。
らなり、基本的に活性物質と相互作用を有していないか
、或いは放出制御層よりも活性物質との相互作用が小さ
いポリマーから形成する。この様なポリマーとしては、
例えば、水酸基等の水素結合可能な基又は構造が比較的
少ないアクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂
、ポリエステル、ポリアミド、セルロース系樹脂等が挙
げられるが、特に好ましい樹脂は水素結合可能な構造の
含有量が比較的少ない電離放射線硬化型樹脂である。こ
のようなポリマーからなる貯蔵層内では、水素結合可能
な化学構造を有する活性物質は貯蔵層中を自由に拡散に
より移動可能であり、又、十分に拡散速度が速い場合は
貯蔵層中の活性物質の濃度の片寄りは生じにくい。
【０００９】貯蔵層２は、上記の如きポリマーからイン
キを調製し、基材シート１上に塗工及び乾燥して形成し
、ポリマーとして電離放射線硬化型樹脂を使用する場合
には塗工後電離放射線によって架橋硬化させて形成する
。この貯蔵層を作製するにあたって、貯蔵層中に活性物
質を含有させるには、貯蔵層作製の前後のいずれでもよ
い。貯蔵層作製前では貯蔵層形成用インキ中に必要量の
活性物質を添加し、その後乾燥、熱架橋或いは電離放射
線硬化させる。貯蔵層作製後では貯蔵層を活性物質を含
む溶液中に含浸させて活性物質を層中に吸収させる。
キを調製し、基材シート１上に塗工及び乾燥して形成し
、ポリマーとして電離放射線硬化型樹脂を使用する場合
には塗工後電離放射線によって架橋硬化させて形成する
。この貯蔵層を作製するにあたって、貯蔵層中に活性物
質を含有させるには、貯蔵層作製の前後のいずれでもよ
い。貯蔵層作製前では貯蔵層形成用インキ中に必要量の
活性物質を添加し、その後乾燥、熱架橋或いは電離放射
線硬化させる。貯蔵層作製後では貯蔵層を活性物質を含
む溶液中に含浸させて活性物質を層中に吸収させる。
【００１０】貯蔵層２に添加する活性物質は水素結合可
能な化学構造からなるものであれば何でもよく、例えば
、香料、脱臭剤、薬物、殺菌剤、殺虫剤、帯電防止剤、
防曇剤、界面活性剤等が挙げられる。これらの活性物質
の貯蔵層中への添加量は貯蔵層形成ポリマーと活性物質
との組み合わせによって変化するが、一般的にはポリマ
ー１００重量部に対し約５〜５０重量部の範囲であり、
貯蔵層全体の厚みは１０〜５００μｍ程度が好ましい範
囲である。
能な化学構造からなるものであれば何でもよく、例えば
、香料、脱臭剤、薬物、殺菌剤、殺虫剤、帯電防止剤、
防曇剤、界面活性剤等が挙げられる。これらの活性物質
の貯蔵層中への添加量は貯蔵層形成ポリマーと活性物質
との組み合わせによって変化するが、一般的にはポリマ
ー１００重量部に対し約５〜５０重量部の範囲であり、
貯蔵層全体の厚みは１０〜５００μｍ程度が好ましい範
囲である。
【００１１】上記貯蔵層２上に形成する放出制御層３は
、活性物質の透過速度を制御するポリマー層であり、活
性物質と水素結合による相互作用を有しているポリマー
から形成する。これらのポリマーとしては、活性物質と
水素結合する構造を有する樹脂、例えば、水酸基、チオ
ール基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、エ
ポキシ基、アンモニウム基、エステル結合、アミド結合
、エーテル結合等の水素結合可能な構造を比較的多く含
有するアクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂
、ポリエステル、ポリアミド、セルロース系樹脂、ポリ
エーテル樹脂、ポリウレタン系樹脂等が挙げられるが、
特に好ましい樹脂は水素結合可能な構造の含有量が比較
的多い電離放射線硬化型樹脂である。形成する放出制御
層の厚みは一般的には１〜１００μｍ程度である。
、活性物質の透過速度を制御するポリマー層であり、活
性物質と水素結合による相互作用を有しているポリマー
から形成する。これらのポリマーとしては、活性物質と
水素結合する構造を有する樹脂、例えば、水酸基、チオ
ール基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、エ
ポキシ基、アンモニウム基、エステル結合、アミド結合
、エーテル結合等の水素結合可能な構造を比較的多く含
有するアクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂
、ポリエステル、ポリアミド、セルロース系樹脂、ポリ
エーテル樹脂、ポリウレタン系樹脂等が挙げられるが、
特に好ましい樹脂は水素結合可能な構造の含有量が比較
的多い電離放射線硬化型樹脂である。形成する放出制御
層の厚みは一般的には１〜１００μｍ程度である。
【００１２】特に好ましい電離放射線硬化型樹脂につい
て更に詳しく説明すると、該樹脂としては、特に電子線
硬化型樹脂及び紫外線硬化型樹脂が有用であり、電子線
硬化型樹脂と紫外線硬化型樹脂とは、後者が光重合開始
剤や増感剤を含有することを除いて成分的に同様なもの
であり、一般的には被膜形成性成分としてその構造中に
ラジカル重合性の二重結合又はエポキシ基を有するポリ
マー、オリゴマー、モノマー等を主成分とし、その他必
要に応じて非反応性のポリマー、有機溶剤、ワックス、
その他の添加剤を含有するものである。
て更に詳しく説明すると、該樹脂としては、特に電子線
硬化型樹脂及び紫外線硬化型樹脂が有用であり、電子線
硬化型樹脂と紫外線硬化型樹脂とは、後者が光重合開始
剤や増感剤を含有することを除いて成分的に同様なもの
であり、一般的には被膜形成性成分としてその構造中に
ラジカル重合性の二重結合又はエポキシ基を有するポリ
マー、オリゴマー、モノマー等を主成分とし、その他必
要に応じて非反応性のポリマー、有機溶剤、ワックス、
その他の添加剤を含有するものである。
【００１３】本発明の目的に特に好ましいものは、被膜
形成性成分がアクリレート系の官能基を有するもの、例
えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテ
ル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエ
ン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等
の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー
又はプレポリマー及び反応性希釈剤としてエチル（メタ
）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート
、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等
の単官能モノマー並びに多官能性モノマー、例えば、ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキ
サンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（
メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（
メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）ア
クリレート等を含有するものである。又、上記の硬化型
樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開
始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン、ミヒ
ラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステ
ル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサ
ントン類や光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用
いることが出来る。以上の如き電子線又は紫外線硬化型
樹脂等の電離放射線硬化型樹脂は種々のグレードのもの
が知られ、いずれも市場から容易に入手出来、本発明に
おいて使用することが出来る。
形成性成分がアクリレート系の官能基を有するもの、例
えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテ
ル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエ
ン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等
の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー
又はプレポリマー及び反応性希釈剤としてエチル（メタ
）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート
、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等
の単官能モノマー並びに多官能性モノマー、例えば、ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキ
サンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（
メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（
メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）ア
クリレート等を含有するものである。又、上記の硬化型
樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開
始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン、ミヒ
ラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステ
ル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサ
ントン類や光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用
いることが出来る。以上の如き電子線又は紫外線硬化型
樹脂等の電離放射線硬化型樹脂は種々のグレードのもの
が知られ、いずれも市場から容易に入手出来、本発明に
おいて使用することが出来る。
【００１４】電離放射線硬化型樹脂の硬化方法も従来技
術がそのまま使用出来、例えば、電子線硬化の場合には
コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型
、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周
波型等の各種電子線加速機から放出される５０〜１，０
００ＫｅＶ 、好ましくは１００〜３００ＫｅＶ のエ
ネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場
合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボ
ンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の
光源から発する紫外線等が利用される。
術がそのまま使用出来、例えば、電子線硬化の場合には
コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型
、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周
波型等の各種電子線加速機から放出される５０〜１，０
００ＫｅＶ 、好ましくは１００〜３００ＫｅＶ のエ
ネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場
合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボ
ンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の
光源から発する紫外線等が利用される。
【００１５】以上の電離放射線硬化型樹脂を貯蔵層及び
放出制御層の両方に使用する場合には、貯蔵層には水素
結合可能な構造が比較的少ない電離放射線硬化型樹脂か
ら形成し、一方、放出制御層には水素結合可能な構造を
比較的多量に含む電離放射線硬化型樹脂を使用すればよ
い。貯蔵層及び放出制御層の形成方法自体は従来公知の
各種塗工方法でよい。以上の如き本発明によれば、貯蔵
層内に含まれる活性物質は貯蔵層との相互作用が比較的
弱いので貯蔵層内で自由に移動可能であるが、その一方
の面は非透過性の基材シートによって被覆されており、
他方の面は活性物質と水素結合し易い放出制御層によっ
て被覆されているので、貯蔵層から放出制御層を経て放
出される活性物質の放出量は貯蔵層内の活性物質の濃度
に係らずほぼ一定の速度に制御される。これに対して放
出制御層が存在しない場合には、貯蔵層からの活性物質
の放出速度は貯蔵層の活性物質の濃度に依存し、即ち、
初期は放出量が大きいが、放出に従って活性物質の濃度
が低下し、放出量は激減する。
放出制御層の両方に使用する場合には、貯蔵層には水素
結合可能な構造が比較的少ない電離放射線硬化型樹脂か
ら形成し、一方、放出制御層には水素結合可能な構造を
比較的多量に含む電離放射線硬化型樹脂を使用すればよ
い。貯蔵層及び放出制御層の形成方法自体は従来公知の
各種塗工方法でよい。以上の如き本発明によれば、貯蔵
層内に含まれる活性物質は貯蔵層との相互作用が比較的
弱いので貯蔵層内で自由に移動可能であるが、その一方
の面は非透過性の基材シートによって被覆されており、
他方の面は活性物質と水素結合し易い放出制御層によっ
て被覆されているので、貯蔵層から放出制御層を経て放
出される活性物質の放出量は貯蔵層内の活性物質の濃度
に係らずほぼ一定の速度に制御される。これに対して放
出制御層が存在しない場合には、貯蔵層からの活性物質
の放出速度は貯蔵層の活性物質の濃度に依存し、即ち、
初期は放出量が大きいが、放出に従って活性物質の濃度
が低下し、放出量は激減する。
【００１６】
【実施例】次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に
具体的に説明する。 実施例１ 図１の多層膜のうち貯蔵層形成用インクとして下記のイ
ンキを調製した。 ウレタンアクリレート（ＰＲ−２０２、三菱化
成製） １００重量部 メタクリル酸
メチル（ライトエステルＭ、共栄油脂化学工業製）
１００重量部 エチレングリコール
ジメタクリレート（ライトエステルＥＧ、共栄油脂化
学工業製）
２０重量部上記インキに活性物質として界面活
性剤であるポリオキシエチレンラウリルエーテル（ノニ
オンＫ−２０４、日本油脂製）２０重量部加えた後、５
０μｍ厚の易接着ポリエステルフイルム（ＨＰ−７、帝
人製）上へロールコート法により３０μｍ厚に塗布した
後、エレクトロンカーテン型ＥＢ装置（ＥＳＩ社）を用
いて１７５ｋＶ、３Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化させ、
ポリエステルフイルム上に貯蔵層を形成した。次いで放
出制御層用インキとして下記のインキを調製した。 ウレタンアクリレート（ＰＲ−２０２）
１００重量部
アクリル酸（大阪有機製）
１００重量部
エチレングリコールジメタクリレート（ライトエス
テルＥＧ）
２０重量部このインキ
を上記貯蔵層上にロールコート法により５μｍ厚に塗布
した後、ＥＢ照射装置を用いて１７５ｋＶ、３Ｍｒａｄ
照射して塗膜を硬化させ放出制御層を形成し本発明の徐
放性機能を有する多層膜を得た。得られた多層膜を４０
℃の温水中に浸漬し、浸漬時間に対する放出量を求めた
結果、図２に示す様に界面活性剤は浸漬時間に対して徐
々に放出されており、その放出速度は図３に示す様にほ
ぼ一定に保たれている結果となった。
具体的に説明する。 実施例１ 図１の多層膜のうち貯蔵層形成用インクとして下記のイ
ンキを調製した。 ウレタンアクリレート（ＰＲ−２０２、三菱化
成製） １００重量部 メタクリル酸
メチル（ライトエステルＭ、共栄油脂化学工業製）
１００重量部 エチレングリコール
ジメタクリレート（ライトエステルＥＧ、共栄油脂化
学工業製）
２０重量部上記インキに活性物質として界面活
性剤であるポリオキシエチレンラウリルエーテル（ノニ
オンＫ−２０４、日本油脂製）２０重量部加えた後、５
０μｍ厚の易接着ポリエステルフイルム（ＨＰ−７、帝
人製）上へロールコート法により３０μｍ厚に塗布した
後、エレクトロンカーテン型ＥＢ装置（ＥＳＩ社）を用
いて１７５ｋＶ、３Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化させ、
ポリエステルフイルム上に貯蔵層を形成した。次いで放
出制御層用インキとして下記のインキを調製した。 ウレタンアクリレート（ＰＲ−２０２）
１００重量部
アクリル酸（大阪有機製）
１００重量部
エチレングリコールジメタクリレート（ライトエス
テルＥＧ）
２０重量部このインキ
を上記貯蔵層上にロールコート法により５μｍ厚に塗布
した後、ＥＢ照射装置を用いて１７５ｋＶ、３Ｍｒａｄ
照射して塗膜を硬化させ放出制御層を形成し本発明の徐
放性機能を有する多層膜を得た。得られた多層膜を４０
℃の温水中に浸漬し、浸漬時間に対する放出量を求めた
結果、図２に示す様に界面活性剤は浸漬時間に対して徐
々に放出されており、その放出速度は図３に示す様にほ
ぼ一定に保たれている結果となった。
【００１７】実施例２
貯蔵層用インキとして下記のインキを調製した。
塩化ビニル樹脂（デンカビニール＃１０００Ａ
、電気化学工業製）
１００重量部
メチルエチルケトン
１００
重量部 トルエン
１００重量部上記インキに、活性物質と
してノニオンＫ−２０４を１０重量部加えた後、５０μ
ｍ厚の易接着ポリエステルフイルム（ＨＰ−７）上へロ
ールコート法により塗布後、熱風乾燥により溶剤を除去
し、３０μｍ厚の貯蔵層を形成した。次いで、放出制御
層を実施例１と同様なインキを用い、同様な方法でコー
ティング及びＥＢ照射を行って形成し本発明の徐放性機
能を有する多層膜を得た。得られた多層膜を４０℃の温
水中に浸漬し、浸漬時間に対する放出量を求めた結果、
実施例１とほぼ同等な結果が得られた。
、電気化学工業製）
１００重量部
メチルエチルケトン
１００
重量部 トルエン
１００重量部上記インキに、活性物質と
してノニオンＫ−２０４を１０重量部加えた後、５０μ
ｍ厚の易接着ポリエステルフイルム（ＨＰ−７）上へロ
ールコート法により塗布後、熱風乾燥により溶剤を除去
し、３０μｍ厚の貯蔵層を形成した。次いで、放出制御
層を実施例１と同様なインキを用い、同様な方法でコー
ティング及びＥＢ照射を行って形成し本発明の徐放性機
能を有する多層膜を得た。得られた多層膜を４０℃の温
水中に浸漬し、浸漬時間に対する放出量を求めた結果、
実施例１とほぼ同等な結果が得られた。
【００１８】実施例３
実施例１と同様なインキと活性物質を用いて同様な方法
で５０μｍ厚の易接着ポリエステルフイルム（ＨＰ−７
、帝人製）上へ３０μｍ厚の貯蔵層を形成した。次いで
放出制御層用インキとして下記のインキを調製した。 ウレタンアクリレート（ＰＲ−２０２）
１００重量部
２−ヒドロキシエチルアクリレート（ライトエステルＨ
ＯＡ、共栄油脂化 学製）
１００重量部 エチ
レングリコールジメタクリレート
２０重量部上記インキを貯蔵
層上にロールコート法により５μｍ厚に塗布した後、Ｅ
Ｂ照射装置を用いて１７５ｋＶ、３Ｍｒａｄ照射し、塗
膜を硬化させ放出制御層を形成して本発明の多層膜を得
た。得られた多層膜を４０℃の温水中に浸漬し、浸漬時
間に対する放出量を求めた結果、図４に示す様に界面活
性剤は浸漬時間に対して徐々に放出された。
で５０μｍ厚の易接着ポリエステルフイルム（ＨＰ−７
、帝人製）上へ３０μｍ厚の貯蔵層を形成した。次いで
放出制御層用インキとして下記のインキを調製した。 ウレタンアクリレート（ＰＲ−２０２）
１００重量部
２−ヒドロキシエチルアクリレート（ライトエステルＨ
ＯＡ、共栄油脂化 学製）
１００重量部 エチ
レングリコールジメタクリレート
２０重量部上記インキを貯蔵
層上にロールコート法により５μｍ厚に塗布した後、Ｅ
Ｂ照射装置を用いて１７５ｋＶ、３Ｍｒａｄ照射し、塗
膜を硬化させ放出制御層を形成して本発明の多層膜を得
た。得られた多層膜を４０℃の温水中に浸漬し、浸漬時
間に対する放出量を求めた結果、図４に示す様に界面活
性剤は浸漬時間に対して徐々に放出された。
【００１９】比較例１
実施例１と同様なインキと活性物質を用いて同様な方法
で５０μｍ厚の易接着ポリエステルフイルム（ＨＰ−７
）上へ３０μｍ厚の貯蔵層を作製した後、放出制御層を
設けないで４０℃の温水中に浸漬し、浸漬時間に対する
放出量を求めた結果、図５に示す様に界面活性剤は初期
に大量に流出し、徐放性能を示さなかった。
で５０μｍ厚の易接着ポリエステルフイルム（ＨＰ−７
）上へ３０μｍ厚の貯蔵層を作製した後、放出制御層を
設けないで４０℃の温水中に浸漬し、浸漬時間に対する
放出量を求めた結果、図５に示す様に界面活性剤は初期
に大量に流出し、徐放性能を示さなかった。
【００２０】実施例４
貯蔵層用インキとして下記のインキを調製した。
アクリル樹脂（ＢＲ−７３、三菱レイヨン製）
１００重量部 メチル
エチルケトン
１００重量部
トルエン
５０重量部上記インキに活性物質として香料Ｍ
ＵＳＫ−Ｔ（高砂香料工業製）を１重量部加えた後、５
０μｍ厚の易接着ポリエステルフイルム（ＨＰ−７、帝
人製）上へロールコート法により塗布後、熱風乾燥によ
り溶剤を除去し、１０μｍ厚の貯蔵層を形成した。次い
で放出制御層として実施例１と同様なインキを用い、同
様な方法でコーティング及びＥＢ照射して放出制御層を
形成して本発明の多層膜を得た。得られた多層膜は、６
０℃の条件下で３ケ月間以上香りを維持した。
１００重量部 メチル
エチルケトン
１００重量部
トルエン
５０重量部上記インキに活性物質として香料Ｍ
ＵＳＫ−Ｔ（高砂香料工業製）を１重量部加えた後、５
０μｍ厚の易接着ポリエステルフイルム（ＨＰ−７、帝
人製）上へロールコート法により塗布後、熱風乾燥によ
り溶剤を除去し、１０μｍ厚の貯蔵層を形成した。次い
で放出制御層として実施例１と同様なインキを用い、同
様な方法でコーティング及びＥＢ照射して放出制御層を
形成して本発明の多層膜を得た。得られた多層膜は、６
０℃の条件下で３ケ月間以上香りを維持した。
【００２１】比較例２
実施例４における多層膜のうちの放出制御層を除いた貯
蔵層のみを形成した場合には、６０℃の条件下で約２週
間で殆ど香りがしなくなった。
蔵層のみを形成した場合には、６０℃の条件下で約２週
間で殆ど香りがしなくなった。
【００２２】
【発明の効果】上記の本発明によれば、貯蔵層と放出制
御層との多層構造にすることにより、活性物質の有効量
を長時間にわたり放出することが出来る。本発明におい
て上記の様な効果が奏される理由は、活性物質の放出速
度を放出制御層のポリマー中に存在する極性基と活性物
質との水素結合相互作用により制御出来る為と推定され
る。
御層との多層構造にすることにより、活性物質の有効量
を長時間にわたり放出することが出来る。本発明におい
て上記の様な効果が奏される理由は、活性物質の放出速
度を放出制御層のポリマー中に存在する極性基と活性物
質との水素結合相互作用により制御出来る為と推定され
る。
【００２３】
【図１】本発明の多層膜を説明する断面図。
【図２】浸漬時間と多層膜中に残存する界面活性剤量と
の関係を示す図。
の関係を示す図。
【図３】浸漬時間と界面活性剤量との関係を示す図。
【図４】浸漬時間と多層膜中に残存する界面活性剤量と
の関係を示す図。
の関係を示す図。
【図４】浸漬時間と多層膜中に残存する界面活性剤量と
の関係を示す図。
の関係を示す図。
１：基材シート
２：貯蔵層
３：放出制御層
Claims (5)
- 【請求項１】 活性物質を含有する貯蔵層とその活性
物質の放出速度を制御する放出制御層とからなることを
特徴とする徐放性機能を有する多層膜。 - 【請求項２】 活性物質が水素結合可能な構造を有す
る物質である請求項１に記載の多層膜。 - 【請求項３】 貯蔵層が活性物質を保持するポリマー
からなり、該ポリマーと活性物質との相互作用が、放出
制御層を形成するポリマーと活性物質との相互作用より
も小さい請求項１に記載の多層膜。 - 【請求項４】 放出制御層が活性物質の透過速度を制
御するポリマーからなり、該ポリマーと活性物質との相
互作用が、貯蔵層を形成するポリマーと活性物質との相
互作用よりも大きい請求項１に記載の多層膜。 - 【請求項５】 貯蔵層及び／又は放出制御層が電離放
射線硬化型樹脂からなる請求項１に記載の多層膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2037191A JPH04331141A (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | 徐放性機能を有する多層膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2037191A JPH04331141A (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | 徐放性機能を有する多層膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04331141A true JPH04331141A (ja) | 1992-11-19 |
Family
ID=12025214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2037191A Pending JPH04331141A (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | 徐放性機能を有する多層膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04331141A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7271204B2 (en) | 2004-10-18 | 2007-09-18 | Ashland Licensing And Intellectual Property Llc | Liquid oligomeric compositions containing acrylate unsaturation and polybutadiene segments |
| JP2011516622A (ja) * | 2008-02-26 | 2011-05-26 | エバレデイ バツテリ カンパニー インコーポレーテツド | 一体化層状ウレタン製品を作製するためのプロセス |
| JP2018114478A (ja) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 株式会社ナチュラルネットワーク | 徐放性フィルム及びその製造方法 |
| WO2019221268A1 (ja) * | 2018-05-18 | 2019-11-21 | 三井化学株式会社 | 防曇性積層体およびその製造方法 |
| WO2021025049A1 (ja) * | 2019-08-07 | 2021-02-11 | 三井化学株式会社 | 防曇性を有する反射防止性積層体およびその製造方法 |
-
1991
- 1991-01-22 JP JP2037191A patent/JPH04331141A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7271204B2 (en) | 2004-10-18 | 2007-09-18 | Ashland Licensing And Intellectual Property Llc | Liquid oligomeric compositions containing acrylate unsaturation and polybutadiene segments |
| JP2011516622A (ja) * | 2008-02-26 | 2011-05-26 | エバレデイ バツテリ カンパニー インコーポレーテツド | 一体化層状ウレタン製品を作製するためのプロセス |
| JP2018114478A (ja) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 株式会社ナチュラルネットワーク | 徐放性フィルム及びその製造方法 |
| WO2019221268A1 (ja) * | 2018-05-18 | 2019-11-21 | 三井化学株式会社 | 防曇性積層体およびその製造方法 |
| JPWO2019221268A1 (ja) * | 2018-05-18 | 2021-05-13 | 三井化学株式会社 | 防曇性積層体およびその製造方法 |
| WO2021025049A1 (ja) * | 2019-08-07 | 2021-02-11 | 三井化学株式会社 | 防曇性を有する反射防止性積層体およびその製造方法 |
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