JPH04334486A - 放電破壊記録体 - Google Patents
放電破壊記録体Info
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- JPH04334486A JPH04334486A JP13554391A JP13554391A JPH04334486A JP H04334486 A JPH04334486 A JP H04334486A JP 13554391 A JP13554391 A JP 13554391A JP 13554391 A JP13554391 A JP 13554391A JP H04334486 A JPH04334486 A JP H04334486A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、基体上に下地層を介
して設けられた金属の薄膜からなる記録層の一部を、放
電により破壊して孔空けすることにより印字する放電破
壊記録体に関し、さらに詳しくは、印字品質が高く、視
認性が良好で、信頼性に優れた放電破壊記録体に関する
。
して設けられた金属の薄膜からなる記録層の一部を、放
電により破壊して孔空けすることにより印字する放電破
壊記録体に関し、さらに詳しくは、印字品質が高く、視
認性が良好で、信頼性に優れた放電破壊記録体に関する
。
【０００２】
【従来の技術】金属薄膜を用いた印字記録方式としては
、従来から、低融点金属の薄膜からなる感熱記録層の一
部を加熱して溶融孔空けすることにより印字する感熱記
録方式や、金属の薄膜からなる記録層の一部を放電によ
り破壊して孔空けすることにより印字する放電破壊記録
方式などがあり、これらの記録方式に使用される記録体
としては、特開昭５９−１９９２８４号公報に示される
感熱記録体や、特公昭５８−３０１５７号公報に示され
る放電破壊記録体などが提案されている。
、従来から、低融点金属の薄膜からなる感熱記録層の一
部を加熱して溶融孔空けすることにより印字する感熱記
録方式や、金属の薄膜からなる記録層の一部を放電によ
り破壊して孔空けすることにより印字する放電破壊記録
方式などがあり、これらの記録方式に使用される記録体
としては、特開昭５９−１９９２８４号公報に示される
感熱記録体や、特公昭５８−３０１５７号公報に示され
る放電破壊記録体などが提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、感熱記録方
式は、書換えが不可能であり、耐久性および経時的安定
性に優れているため、金額、回数、日付などを印字して
表示する場合などに種々利用されているものの、印字方
式が原理的に熱ヘッド方式であり、ヘッドの冷却に時間
が必要なため、印字速度に限界があり、駅やス−パ−マ
−ケットなどの高速処理を必要とする分野では使用が著
しく制約される。また、放電破壊記録方式は、書替えが
不可能であり、感熱記録方式に比べて高速印字が行える
という優れた特徴をもっているが、原理的に金属の薄膜
からなる記録層に通電してこれを溶融飛散させることに
よって印字する方式であるため、電極針からの通電の状
態が記録層上に形成された保護層の微妙な膜厚の変化を
受けやすく、感熱方式に比べて印字濃度が薄くなったり
濃度ムラが生じやすいといった欠点がある。つまり、た
とえば、グラビア塗布などの通常の方法によって保護層
を形成した場合、一般に±２０％程度の膜厚の変動が生
じ、保護層が厚い部分では電気抵抗が高いため通電が困
難になり、印字濃度が低下するなどして印字濃度のばら
つきが生じる。そして、このような現象は保護層の厚さ
を薄くすれば防止できるが、耐久性の低下を招くため実
用に適さず、印字濃度が薄いかあるいはばらつきがあっ
たりすると視認性が悪くなり、印字外観の低下を招くと
ともに信頼性が低下する。
式は、書換えが不可能であり、耐久性および経時的安定
性に優れているため、金額、回数、日付などを印字して
表示する場合などに種々利用されているものの、印字方
式が原理的に熱ヘッド方式であり、ヘッドの冷却に時間
が必要なため、印字速度に限界があり、駅やス−パ−マ
−ケットなどの高速処理を必要とする分野では使用が著
しく制約される。また、放電破壊記録方式は、書替えが
不可能であり、感熱記録方式に比べて高速印字が行える
という優れた特徴をもっているが、原理的に金属の薄膜
からなる記録層に通電してこれを溶融飛散させることに
よって印字する方式であるため、電極針からの通電の状
態が記録層上に形成された保護層の微妙な膜厚の変化を
受けやすく、感熱方式に比べて印字濃度が薄くなったり
濃度ムラが生じやすいといった欠点がある。つまり、た
とえば、グラビア塗布などの通常の方法によって保護層
を形成した場合、一般に±２０％程度の膜厚の変動が生
じ、保護層が厚い部分では電気抵抗が高いため通電が困
難になり、印字濃度が低下するなどして印字濃度のばら
つきが生じる。そして、このような現象は保護層の厚さ
を薄くすれば防止できるが、耐久性の低下を招くため実
用に適さず、印字濃度が薄いかあるいはばらつきがあっ
たりすると視認性が悪くなり、印字外観の低下を招くと
ともに信頼性が低下する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は、かかる現状
に鑑み印字部を顕微鏡で詳細に観察して通電の機構を解
明したところ、ミクロ的には１ドット内に通電の起点と
なる電界集中部が存在してこの部分で選択的に放電破壊
が発生することがわかり、表面の粗度を意図的に粗くし
て微細な凸部を設ければ放電が起こりやすくなり、多少
の保護層の厚さのばらつきがあっても安定かつスム−ズ
に印字を行えることを見出した結果なされたもので、基
体上に下地層を介して金属の薄膜からなる記録層を形成
した放電破壊記録体の表面の粗度を、ベック平滑法によ
る測定で２５０秒以下の粗面にすることによって、高い
印字濃度が安定して得られるようにし、視認性を良好に
して、信頼性を向上させたものである。
に鑑み印字部を顕微鏡で詳細に観察して通電の機構を解
明したところ、ミクロ的には１ドット内に通電の起点と
なる電界集中部が存在してこの部分で選択的に放電破壊
が発生することがわかり、表面の粗度を意図的に粗くし
て微細な凸部を設ければ放電が起こりやすくなり、多少
の保護層の厚さのばらつきがあっても安定かつスム−ズ
に印字を行えることを見出した結果なされたもので、基
体上に下地層を介して金属の薄膜からなる記録層を形成
した放電破壊記録体の表面の粗度を、ベック平滑法によ
る測定で２５０秒以下の粗面にすることによって、高い
印字濃度が安定して得られるようにし、視認性を良好に
して、信頼性を向上させたものである。
【０００５】この発明において、基体上に下地層を介し
て金属の薄膜からなる記録層を形成した放電破壊記録体
の表面の粗度は、下地層上の記録層および記録層上に形
成される保護層の厚さが両者合わせて通常１μｍ以下程
度の薄膜で、下地層の凹凸の形状がほぼそのまま保たれ
るため、印字に影響する金属の薄膜からなる記録層の表
面粗度とほぼ等しい。そして、この粗度がベック平滑法
によるベック平滑試験機での測定で２５０秒以下である
と、放電破壊記録体の表面の粗度とほぼ等しい記録層表
面の微細な凸部で放電が起こりやすくなり、多少の保護
層の厚さのばらつきがあっても安定かつスム−ズに印字
が行えて、高い印字濃度が安定して得られる。
て金属の薄膜からなる記録層を形成した放電破壊記録体
の表面の粗度は、下地層上の記録層および記録層上に形
成される保護層の厚さが両者合わせて通常１μｍ以下程
度の薄膜で、下地層の凹凸の形状がほぼそのまま保たれ
るため、印字に影響する金属の薄膜からなる記録層の表
面粗度とほぼ等しい。そして、この粗度がベック平滑法
によるベック平滑試験機での測定で２５０秒以下である
と、放電破壊記録体の表面の粗度とほぼ等しい記録層表
面の微細な凸部で放電が起こりやすくなり、多少の保護
層の厚さのばらつきがあっても安定かつスム−ズに印字
が行えて、高い印字濃度が安定して得られる。
【０００６】しかして、下地層中に添加する顔料の粒径
を調整するなどの方法で、下地層の面粗度を調整して、
この下地層を介して金属の薄膜からなる記録層を形成し
た放電破壊記録体の表面の粗度を、ベック平滑法による
測定で２５０秒以下にすることが好ましく、この下地層
が着色層である場合は有色顔料を用いて印字のコントラ
ストを得る上での着色と粗面化を同時に行うことができ
る。
を調整するなどの方法で、下地層の面粗度を調整して、
この下地層を介して金属の薄膜からなる記録層を形成し
た放電破壊記録体の表面の粗度を、ベック平滑法による
測定で２５０秒以下にすることが好ましく、この下地層
が着色層である場合は有色顔料を用いて印字のコントラ
ストを得る上での着色と粗面化を同時に行うことができ
る。
【０００７】このような下地層は、アクリル系樹脂、ポ
リビニルブチラ−ル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系
共重合体、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリイミド系樹脂、
ポリウレタン系樹脂などの熱可塑性樹脂およびその他の
各種の樹脂を単独または混合して有機溶剤に溶解し、こ
の溶解によって得られる下地層用塗料を、基体上に塗布
し、乾燥して形成される。
リビニルブチラ−ル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系
共重合体、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリイミド系樹脂、
ポリウレタン系樹脂などの熱可塑性樹脂およびその他の
各種の樹脂を単独または混合して有機溶剤に溶解し、こ
の溶解によって得られる下地層用塗料を、基体上に塗布
し、乾燥して形成される。
【０００８】この際、コントラストの高い印字を得るた
めには、この下地層に有色顔料を含ませるか、あるいは
下地層を有色顔料を含む塗膜とその上に積層した透明な
樹脂層とからなる２層の下地層にすることが望ましい。
めには、この下地層に有色顔料を含ませるか、あるいは
下地層を有色顔料を含む塗膜とその上に積層した透明な
樹脂層とからなる２層の下地層にすることが望ましい。
【０００９】下地層に有色顔料を含ませるには、有色顔
料を、熱可塑性樹脂およびその他の各種樹脂とともに有
機溶剤中で混合分散して、有色顔料を含む下地層用塗料
を調製し、この下地層用塗料を基体上に塗布、乾燥して
下地層を形成することによって行われ、この有色顔料と
併用される結合剤樹脂としては、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル系共重合体、繊維素系樹脂、ポリビニルブチラ−ル系
樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アク
リル系樹脂、フェノ−ル系樹脂、イソシアネ−ト化合物
などが好適に使用され、特に、ポリウレタン系樹脂、塩
化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、およびアクリル水酸
基を有する塩化ビニル系樹脂などが好ましく使用される
。
料を、熱可塑性樹脂およびその他の各種樹脂とともに有
機溶剤中で混合分散して、有色顔料を含む下地層用塗料
を調製し、この下地層用塗料を基体上に塗布、乾燥して
下地層を形成することによって行われ、この有色顔料と
併用される結合剤樹脂としては、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル系共重合体、繊維素系樹脂、ポリビニルブチラ−ル系
樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アク
リル系樹脂、フェノ−ル系樹脂、イソシアネ−ト化合物
などが好適に使用され、特に、ポリウレタン系樹脂、塩
化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、およびアクリル水酸
基を有する塩化ビニル系樹脂などが好ましく使用される
。
【００１０】有色顔料としては、金属の薄膜からなる記
録層との間で視認できるような色彩である必要があり、
種々の色彩のものが使用されるが、コントラストの観点
からすれば黒色のものが好ましく使用され、カ−ボンブ
ラックなどが好適に使用される。また、この有色顔料と
して磁性粉末を使用し、下地層を磁気記録層で兼用して
もよく、磁気記録層で兼用すると着色の他、磁気記録が
同時に行える。さらに、この磁性粉末によって放電破壊
記録体の表面の粗面化を同時に行うこともでき、磁性粉
末の粒径を選ぶことにより任意の粗度の凹凸が得られる
。
録層との間で視認できるような色彩である必要があり、
種々の色彩のものが使用されるが、コントラストの観点
からすれば黒色のものが好ましく使用され、カ−ボンブ
ラックなどが好適に使用される。また、この有色顔料と
して磁性粉末を使用し、下地層を磁気記録層で兼用して
もよく、磁気記録層で兼用すると着色の他、磁気記録が
同時に行える。さらに、この磁性粉末によって放電破壊
記録体の表面の粗面化を同時に行うこともでき、磁性粉
末の粒径を選ぶことにより任意の粗度の凹凸が得られる
。
【００１１】このような下地層の厚さは、材料の種類や
形成法により異なるが、通常５μｍ以下にするのが好ま
しい。しかしながら、一般に ０．２μｍよりも薄くな
ると下地層としての機能が発揮されにくいため、 ０．
２μｍ以上にするのが好ましい。
形成法により異なるが、通常５μｍ以下にするのが好ま
しい。しかしながら、一般に ０．２μｍよりも薄くな
ると下地層としての機能が発揮されにくいため、 ０．
２μｍ以上にするのが好ましい。
【００１２】このような下地層上に形成される金属の薄
膜からなる記録層は、下地層上に、金属材料を真空蒸着
、メッキ、スパッタリングするなどの方法で形成され、
金属材料としては、通常、導電性が良く、薄膜の白色度
が高くて外観が良く、さらに薄膜形成が容易で量産性が
よいアルミニウムが用いられるが、銀、錫などの他の金
属やアルミニウム系の各種合金なども使用される。
膜からなる記録層は、下地層上に、金属材料を真空蒸着
、メッキ、スパッタリングするなどの方法で形成され、
金属材料としては、通常、導電性が良く、薄膜の白色度
が高くて外観が良く、さらに薄膜形成が容易で量産性が
よいアルミニウムが用いられるが、銀、錫などの他の金
属やアルミニウム系の各種合金なども使用される。
【００１３】さらに、金属の薄膜からなる記録層には、
通常、可視光を充分に透過する透明な保護層が形成され
、この保護層は、アクリルシリコンなどのシリコン系樹
脂、ＵＶ硬化型のアクリル変性樹脂、アクリル系樹脂、
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリビニルブチラ
−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノ−ル系樹脂、
エポキシ系樹脂ならびにその他の各種の樹脂を、単独で
または二種以上混合して有機溶剤に溶解し、この溶解に
よって得られる保護層用塗料を、記録層上に塗布、乾燥
して形成される。
通常、可視光を充分に透過する透明な保護層が形成され
、この保護層は、アクリルシリコンなどのシリコン系樹
脂、ＵＶ硬化型のアクリル変性樹脂、アクリル系樹脂、
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリビニルブチラ
−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノ−ル系樹脂、
エポキシ系樹脂ならびにその他の各種の樹脂を、単独で
または二種以上混合して有機溶剤に溶解し、この溶解に
よって得られる保護層用塗料を、記録層上に塗布、乾燥
して形成される。
【００１４】このような保護層の厚さは、この保護層を
通して保護層直下の記録層に良好に通電し、記録層を容
易に溶融飛散することができるようにするため０．５μ
ｍ以下にするのが好ましい。しかしながら、一般に ０
．１μｍよりも薄くなると保護層としての機能が発揮さ
れにくいため、 ０．１μｍ以上にするのが好ましい。
通して保護層直下の記録層に良好に通電し、記録層を容
易に溶融飛散することができるようにするため０．５μ
ｍ以下にするのが好ましい。しかしながら、一般に ０
．１μｍよりも薄くなると保護層としての機能が発揮さ
れにくいため、 ０．１μｍ以上にするのが好ましい。
【００１５】基体としては、従来から用いられているナ
イロン、セルロ−スジアセテ−ト、セルロ−ストリアセ
テ−ト、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリエステル、ポリイミド、ポリカ−ボネ−ト、ポリ
エチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−トな
どのプラスチック製基体が、好適なものとして使用され
る。
イロン、セルロ−スジアセテ−ト、セルロ−ストリアセ
テ−ト、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリエステル、ポリイミド、ポリカ−ボネ−ト、ポリ
エチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−トな
どのプラスチック製基体が、好適なものとして使用され
る。
【００１６】このようなこの発明の放電破壊記録体は、
図１に示すように、基体１上に、下地層２、金属の薄膜
からなる記録層３および保護層４を順次積層して形成さ
れ、保護層４上接触したア−ス電極５と印字電極６とを
備えた放電破壊プリンタを用い、記録層４の金属を溶融
飛散させて孔７を溶融孔空けし、通常の感熱記録方式の
場合の三倍程度の高速の印字が行われる。
図１に示すように、基体１上に、下地層２、金属の薄膜
からなる記録層３および保護層４を順次積層して形成さ
れ、保護層４上接触したア−ス電極５と印字電極６とを
備えた放電破壊プリンタを用い、記録層４の金属を溶融
飛散させて孔７を溶融孔空けし、通常の感熱記録方式の
場合の三倍程度の高速の印字が行われる。
【００１７】
【実施例】次に、この発明の実施例について説明する。
実施例１
バリウムフェライト磁性粉末（平均粒子径 １
．５μｍ） ８０重量部 ア
クリル水酸基含有塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
１０ 〃 （Ｕ．Ｃ．Ｃ
社製；ＶＡＧＨ） ポリウレタン樹脂（大日本
インキ化学工業社製；パンデ ７
〃 ックスＴ５２０１） 三官能性ポリイソシアネ−ト化合物（日本ポリ
ウレタン １ 〃 工
業社製；コロネ−トＬ） カ−ボンブラック
４ 〃
トルエン
２６０ 〃 シクロヘキサノン
２６０ 〃この組成物をボ−ル
ミルで１００時間混合分散して磁性塗料を調製し、この
磁性塗料を厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレ−
トシ−ト上に、グラビア法により塗布、乾燥して、厚さ
１５μｍの黒色の磁性層を形成した。
．５μｍ） ８０重量部 ア
クリル水酸基含有塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
１０ 〃 （Ｕ．Ｃ．Ｃ
社製；ＶＡＧＨ） ポリウレタン樹脂（大日本
インキ化学工業社製；パンデ ７
〃 ックスＴ５２０１） 三官能性ポリイソシアネ−ト化合物（日本ポリ
ウレタン １ 〃 工
業社製；コロネ−トＬ） カ−ボンブラック
４ 〃
トルエン
２６０ 〃 シクロヘキサノン
２６０ 〃この組成物をボ−ル
ミルで１００時間混合分散して磁性塗料を調製し、この
磁性塗料を厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレ−
トシ−ト上に、グラビア法により塗布、乾燥して、厚さ
１５μｍの黒色の磁性層を形成した。
【００１８】次いで、黒色の磁性層上に、アクリルシリ
コン樹脂をシクロヘキサノンとトルエンの混合溶媒に溶
解した下地層用塗料を、グラビア法によって ２．５μ
ｍの厚さで塗布、乾燥して下地層を形成した。
コン樹脂をシクロヘキサノンとトルエンの混合溶媒に溶
解した下地層用塗料を、グラビア法によって ２．５μ
ｍの厚さで塗布、乾燥して下地層を形成した。
【００１９】次ぎに、ＵＬＢＡＣ社製、ＥＢＸ−６型抵
抗加熱蒸着装置を用いて、下地層を加熱することなく、
真空度１×１０−５ト−ル、蒸着速度５０Å／ｓｅｃ
で、アルミニウムを真空蒸着し、下地層上にアルミニウ
ムの金属薄膜からなる厚さ５００Åの記録層を形成した
。
抗加熱蒸着装置を用いて、下地層を加熱することなく、
真空度１×１０−５ト−ル、蒸着速度５０Å／ｓｅｃ
で、アルミニウムを真空蒸着し、下地層上にアルミニウ
ムの金属薄膜からなる厚さ５００Åの記録層を形成した
。
【００２０】次いで、記録層上に、アクリル樹脂にシラ
ン化合物を共重合させたアクリルシリコン樹脂（チッソ
社製；サイコラ−ト）をキシレンに溶解した保護層用塗
料を塗布、乾燥して厚さ ０．４μｍのアクリルシリコ
ン樹脂からなる保護層を形成し、図２に示すようにポリ
エチレンテレフタレ−トシ−ト１上に、バリウムフェラ
イト磁性粉末等の顔料２１を含む磁性層２２、下地層２
３、記録層３、保護層４を順次積層形成した放電破壊記
録体をつくった。
ン化合物を共重合させたアクリルシリコン樹脂（チッソ
社製；サイコラ−ト）をキシレンに溶解した保護層用塗
料を塗布、乾燥して厚さ ０．４μｍのアクリルシリコ
ン樹脂からなる保護層を形成し、図２に示すようにポリ
エチレンテレフタレ−トシ−ト１上に、バリウムフェラ
イト磁性粉末等の顔料２１を含む磁性層２２、下地層２
３、記録層３、保護層４を順次積層形成した放電破壊記
録体をつくった。
【００２１】実施例２
実施例１における黒色の磁性層の形成において、平均粒
子径が １．５μｍのバリウムフェライト磁性粉末に代
えて、平均粒子径が１μｍのバリウムフェライト磁性粉
末を同量使用した以外は、実施例１と同様にして下地層
を形成し、放電破壊記録体をつくった。
子径が １．５μｍのバリウムフェライト磁性粉末に代
えて、平均粒子径が１μｍのバリウムフェライト磁性粉
末を同量使用した以外は、実施例１と同様にして下地層
を形成し、放電破壊記録体をつくった。
【００２２】比較例１
実施例１における黒色の磁性層の形成において、平均粒
子径が １．５μｍのバリウムフェライト磁性粉末に代
えて、平均粒子径が ０．７μｍのバリウムフェライト
磁性粉末を同量使用した以外は、実施例１と同様にして
下地層を形成し、放電破壊記録体をつくった。
子径が １．５μｍのバリウムフェライト磁性粉末に代
えて、平均粒子径が ０．７μｍのバリウムフェライト
磁性粉末を同量使用した以外は、実施例１と同様にして
下地層を形成し、放電破壊記録体をつくった。
【００２３】比較例２
実施例１における黒色の磁性層の形成において、平均粒
子径が １．５μｍのバリウムフェライト磁性粉末に代
えて、平均粒子径が ０．４μｍのバリウムフェライト
磁性粉末を同量使用した以外は、実施例１と同様にして
下地層を形成し、放電破壊記録体をつくった。
子径が １．５μｍのバリウムフェライト磁性粉末に代
えて、平均粒子径が ０．４μｍのバリウムフェライト
磁性粉末を同量使用した以外は、実施例１と同様にして
下地層を形成し、放電破壊記録体をつくった。
【００２４】各実施例および比較例で得られた放電破壊
記録体について、表面の粗度をベック平滑度試験機を用
いて測定した。また、ドット密度８本／ｍｍで１ドット
の寸法が１２０×１２０μｍの放電破壊プリンタヘッド
を使用し、電圧５０Ｖ、印字速度１５０ｍｍ／ｓｅｃ
で印字して印字濃度を調べた。印字濃度はいわゆる反射
濃度の測定によって行い、反射濃度はＭａｃｂｅｔｈ
ＲＤ９１５ 形濃度計を用いて５ｍｍ角の正方形印字部
で行い、各ドット間の未溶融部を含んだ平均的な濃度を
求めた。さらに、１００ｃｍ２の印字部中１０個所の測
定を行ってそのときの最大値と最小値との変動幅を調べ
て、印字濃度のばらつきを求めた。印字濃度は、印字部
の反射濃度が１以上のものを（○）、 ０．７〜１の範
囲内にあるものを（△）、 ０．７以下のものを（×）
として評価した。また、印字濃度のばらつきは、濃度の
変動幅が ０．２以下のものを（○）、 ０．３から
０．６の範囲のものを（△）、 ０．７以上のものを（
×）として評価した。
記録体について、表面の粗度をベック平滑度試験機を用
いて測定した。また、ドット密度８本／ｍｍで１ドット
の寸法が１２０×１２０μｍの放電破壊プリンタヘッド
を使用し、電圧５０Ｖ、印字速度１５０ｍｍ／ｓｅｃ
で印字して印字濃度を調べた。印字濃度はいわゆる反射
濃度の測定によって行い、反射濃度はＭａｃｂｅｔｈ
ＲＤ９１５ 形濃度計を用いて５ｍｍ角の正方形印字部
で行い、各ドット間の未溶融部を含んだ平均的な濃度を
求めた。さらに、１００ｃｍ２の印字部中１０個所の測
定を行ってそのときの最大値と最小値との変動幅を調べ
て、印字濃度のばらつきを求めた。印字濃度は、印字部
の反射濃度が１以上のものを（○）、 ０．７〜１の範
囲内にあるものを（△）、 ０．７以下のものを（×）
として評価した。また、印字濃度のばらつきは、濃度の
変動幅が ０．２以下のものを（○）、 ０．３から
０．６の範囲のものを（△）、 ０．７以上のものを（
×）として評価した。
【００２５】下記表１はその結果である。
【００２６】
【発明の効果】上記表１から明らかなように、この発明
で得られた放電破壊記録体は、いずれも印字濃度が高く
て、濃度のばらつきもほとんどなく、このことからこの
発明で得られる放電破壊記録体は、印字品質が高く、視
認性が良好で、信頼性に優れていることがわかる。
で得られた放電破壊記録体は、いずれも印字濃度が高く
て、濃度のばらつきもほとんどなく、このことからこの
発明で得られる放電破壊記録体は、印字品質が高く、視
認性が良好で、信頼性に優れていることがわかる。
【００２７】
【図１】放電破壊記録体に放電破壊プリンタで印字する
原理を説明する模式図である。
原理を説明する模式図である。
【図２】この発明で得られた放電破壊記録体の一実施例
を示す要部拡大断面図である。
を示す要部拡大断面図である。
１ 基体
２ 下地層
２１ 顔料
２２ 磁性層（着色下地層）
２３ 下地層（透明下地層）
３ 記録層
４ 保護層
７ 孔
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 基体上に下地層を介して金属の薄膜か
らなる記録層を設け、記録層の一部を放電により破壊し
て孔空けすることにより印字する放電破壊記録体におい
て、表面の粗度がベック平滑度測定法による測定で２５
０秒以下であることを特徴とする放電破壊記録体【請求
項２】 下地層が、有色顔料を含む塗膜で形成された
下地層である請求項１記載の放電破壊記録体【請求項３
】 下地層が、有色顔料を含む塗膜とその上に積層さ
れた透明な塗膜との２層の塗膜で構成された請求項１記
載の放電破壊記録体 【請求項４】 有色顔料が、磁性粉末である請求項２
および３記載の放電破壊記録体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13554391A JPH04334486A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 放電破壊記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13554391A JPH04334486A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 放電破壊記録体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04334486A true JPH04334486A (ja) | 1992-11-20 |
Family
ID=15154243
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13554391A Withdrawn JPH04334486A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 放電破壊記録体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04334486A (ja) |
-
1991
- 1991-05-09 JP JP13554391A patent/JPH04334486A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980806 |