JPH04357099A - 研磨性を有する磁気カード - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、研磨性を有する磁気カ
ードに関する。

【０００２】

【従来の技術】プリペイドカードは、使用される環境に
より、その表面が手垢、汚れ等で汚染される。このよう
なカードが端末機で使用された場合、端末機の磁気ヘッ
ドにその汚れが付着し、読み取り不良等の原因になる。 これを防止するためには、一定期間ごとに端末機磁気ヘ
ッドのメンテナンスを実施し、汚れを取り除く事が必要
である。しかしながら、広範囲に設置されたこれらの端
末機全てのメンテナンスを実施することは不可能であり
、何らかの方法で端末機磁気ヘッドのメンテナンスフリ
ーを可能とする必要がある。従来、このような端末機磁
気ヘッドの汚れを取り除く方法としては、磁気カード表
面に研磨層を設け、その研磨効果により汚れを取り除く
方法が知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のカードは、非常に硬度の高い研磨性顔料を含有した
層をカード表面に有するため、研磨力が高く、汚れを取
り除く作用は大きいが、端末機磁気ヘッドをも研磨して
しまい、磁気ヘッドの寿命を短くする。また、研磨性顔
料が一般的に微粒子であり、研磨性表面が平滑になる。 この為、一度取り除かれた汚れがカード表面に付着して
残り、このカードを再度使用したときに、この汚れが端
末機磁気ヘッドとの間でスペースロスとして働き、カー
ドの出力変動率を大きくし、書き込み或いは読み取りエ
ラーを起こす問題点があった。

【０００４】本発明が解決しようとする課題は、従来カ
ードのこのような欠点を解決し、端末機磁気ヘッドは傷
つけず、汚染物を取り除き、且つ、一度取り除いた汚れ
を表面の粗さの中に保持し、書き込み、読み取りエラー
を起こさない研磨層を有し、端末機磁気ヘッドのメンテ
ナンスフリーを可能とする磁気カードを提供するもので
ある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、磁気記録層上に（１）シリカ及び（２）ア
ルミナ、酸化チタン、酸化クロム及び酸化第２鉄から成
る群から選ばれる金属酸化物を含有する研磨層を有する
ことを特徴とする磁気カードを提供する。

【０００６】以下、本発明を図面に示した好ましい具体
例により説明する。本発明に係わる磁気カードＡは、例
えば （ａ）第１図に示したように、シート状あるいは板状の
基体１とこの上に設けられた磁気層２とこの磁気層２の
上に設けられた研磨層３から構成される磁気カード。

【０００７】（ｂ）第２図に示したように、シート状あ
るいは板状の基体１とこの上に設けられた磁気層２とこ
の磁気層２の上の一部に設けられた研磨層３から構成さ
れる磁気カード等が挙げられる。

【０００８】基体１は、シート状あるいは板状をしてお
り、この基体１の材料としては、例えば、ナイロン、セ
ルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポ
リスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエス
テル、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミドなどの
プラスチック類；銅、アルミニウムなどの金属；紙、含
浸紙等が挙げられ、これらの材料は単独あるいは組み合
わせて、複合体として用いることができる。強度、剛度
、隠蔽力、光不透過率などの基体として要求される物性
を考慮して、上記材料の中から好ましいものを適宜選択
すれば良い。尚、基体１の厚さは、０．００５〜５ｍｍ
の範囲が好ましい。

【０００９】磁気層２は、例えば、γ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｃ
ｏ被着　γ−　Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ２、Ｆ
ｅ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ
、ＭｎＡｌ、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライトなど公知
の磁性微粒子を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に
分散させてなる分散物をグラビア方式、リバース方式、
ナイフエッジ方式等の公知の塗布方法によって基体１上
に形成することができる。

【００１０】また、磁気層２は、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆ
ｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒなどの金属あるいは合金を用いて
、真空蒸着法、スパッタ法、メッキ法などによって基体
１上に形成することもできる。

【００１１】塗布方法によって磁気層２を形成する場合
には、その膜厚が１〜１００μｍの範囲が好ましく、５
〜２０μｍの範囲が最も好ましい。

【００１２】また、真空蒸着法、スパッタ法、メッキ法
などによって磁気層２を形成する場合には、その膜厚が
１００Ａ〜１μｍの範囲が好ましく、５００〜２０００
Ａの範囲が特に好ましい。

【００１３】γ−Ｆｅ２Ｏ３などの磁性微粒子が分散さ
れるバインダー樹脂あるいはインキビヒクルとしては例
えばブチラール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹
脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース系樹
脂、アクリル樹脂、スチレン−マレイン酸共重合樹脂な
どがあげられる。またこれらの樹脂に必要に応じて、ニ
トリルゴムなどのゴム系樹脂、ウレタンエラストマーな
どを添加することもできる。また磁性微粒子が上記樹脂
中に分散されてなる分散物中に必要に応じて界面活性剤
、シランカップリング剤、可塑剤、ワックス、シリコン
オイル、カーボン、その他の顔料を添加することもでき
る。

【００１４】磁性微粒子を含有する分散物中の磁性微粒
子の割合は、６５〜９０重量％の範囲が望ましい。

【００１５】研磨層３は、（１）シリカ及び（２）アル
ミナ、酸化チタン、酸化クロム、酸化第２鉄から成る群
から選ばれる金属酸化物を適当なバインダーあるいはイ
ンキビヒクル中に分散させてなる分散物をグラビア方式
、リバース方式、ナイフエッジ方式、シルクスクリーン
方式など従来公知の塗布方法で磁気層２上に設けること
ができる。

【００１６】本発明で使用するシリカとしては、例えば
、富士デビソン化学（株）製の「サイロイド６３」、「
サイロイド６５」、「サイロイド７２」、「サイロイド
７４」、「サイロイド１０５」、「サイロイド２４４」
、「サイロイド３０８」、「サイロホービック１００」
、日本アエロジル（株）製の「アエロジルＯＸ−５０」
、「アエロジル１１３０」、「アエロジル２００」、「
アエロジル３００」、「アエロジル３８０」などが挙げ
られる。

【００１７】本発明で使用するアルミナとしては、例え
ば、昭和軽金属（株）製の「ＵＡ−５０２５」、「ＵＡ
−５０５５」、「ＵＡ−５２０５」、村上工業（株）製
の「メカノックスＵＢ−１０」、住友化学工業（株）製
の「高純度アルミナＡＫＰ−１８」、「高純度アルミナ
ＡＫＰ−２０」等が挙げられる。

【００１８】本発明で使用する酸化チタンとしては、例
えば、石原産業（株）製の「タイペークＲ−８２０」、
「タイペークＲ−８３０」、「タイペークＣＲ−５０」
、「タイペークＣＲ−８０」、「タイペークＣＲ−８５
］、「タイペークイエローＴＹ−５０」、「タイペーク
イエローＴＹ−７０」、（株）テイカ製の「テイカＪＲ
−６０３」、「テイカＪＲ−６０２」、「テイカＪＲ−
７０１」、「テイカＪＲ−８０１」等が挙げられる。

【００１９】本発明で使用する酸化クロムとしては、例
えば、日本電工（株）の「酸化クロムＮＤ−８０１」、
「酸化クロムＮＤ−８０２」、「酸化クロムＮＤ−８０
３」、日本化学工業（株）製の「研磨用酸化クロム」等
が挙げられる。

【００２０】本発明で使用する酸化第２鉄としては、例
えば、戸田工業（株）製の「トダカラー１００ＥＤ」、
「トダカラー１３０ＥＤ」、「トダカラー１６０ＥＤ」
等が挙げられる。

【００２１】（１）シリカ及び（２）アルミナ、酸化第
ニ鉄、酸化クロム、酸化チタンから成る群から選ばれる
金属酸化物が分散される樹脂あるいはインキビヒクルと
しては、例えば、ブチラール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アク
リル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。また、これら
の樹脂に、必要に応じて、ウレタンエラストマー等を添
加することもできる。またこの分散物の中には、（１）
シリカ及び（２）アルミナ、酸化チタン、酸化クロム、
酸化第２鉄から成る群から選ばれる金属酸化物のほかに
必要に応じて、アルミニウム系顔料、雲母系顔料、着色
用有機顔料等を添加することもできる。さらに必要に応
じて界面活性剤、シランカップリング剤、ワックス等も
添加することもできる。

【００２２】研磨層３を塗布方法によって磁気層２上に
形成する場合、その膜厚は１〜９μｍの範囲が好ましく
、２〜７μｍの範囲が特に好ましい。膜厚が１μｍより
薄い場合、端末機磁気ヘッドから取り除いた汚れを保持
することができない傾向にあり、また、膜厚が９μｍよ
り厚い場合、磁気カードとしての磁気動特性、特に周波
数特性が低下し、読みとり不良を起こす等、磁気特性上
の問題点が発生する傾向にあるので、好ましくない。

【００２３】塗布方法によって磁気層２上に形成した研
磨層３の表面粗さ（Ｒａ）は、０．２〜１．６μｍが望
ましく、０．４〜１．３μｍの範囲が最も望ましい。表
面粗さが０．２μｍより小さい場合、端末機磁気ヘッド
から取り除いた汚れを保持することができない傾向にあ
り、また、表面粗さが１．６μｍより大きい場合、磁気
カードとしての磁気動特性、特に周波数特性が低下し、
読みとり不良を起こす等磁気特性上の問題点が発生する
傾向にあるので好ましくない。

【００２４】研磨層３中のシリカ及び酸化チタンの配合
割合は、３〜５０重量％の範囲が好ましく、５〜３０重
量％の範囲が特に好ましい。配合割合が３重量％より少
ない場合、端末機磁気ヘッドに付着した汚れを研磨する
作用が無くなる傾向にあり、また、配合割合が５０重量
％より多い場合、研磨層の耐久性が低下し、走行時端末
機磁気ヘッドにより研磨層が逆に削り取られ、磁気ヘッ
ドを汚染する傾向にあるので好ましくない。

【００２５】研磨層３中のシリカ及び酸化チタンの使用
割合は、重量比で５：１〜１：５の範囲が好ましく、４
：１〜１：４の範囲が特に好ましい。酸化チタンの使用
割合が１：５より多い場合、研磨性が高過ぎ、端末機の
磁気ヘッドの寿命を短くする傾向にあり、さらに端末機
磁気ヘッドから取り除いた汚れを保持することができな
くなる傾向にあるので、好ましくない。また、シリカの
使用割合が５：１より多い場合、端末機の磁気ヘッドに
付着した汚れを研磨する作用が小さくなる傾向にあるの
で好ましくない。

【００２６】

【実施例】以下に本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお
、実施例中の「％」及び「部」は、各々『重量％』及び
『重量部』を表わす。

【００２７】 （磁性塗料の調製） 　　「ＢＯＰ−９０」（日本弁柄工業社製バリュウムフ
ェライト磁性粉）　　　　　　　１００部　　「ＶＡＧ
Ｈ」（米国ＵＣＣ社製塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
）　　　　　　　２０部　　「クリスボン７２０９」（
大日本インキ化学工業（株）製ポリウレタン樹脂）４５
部　　オレイン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　３部　　メチルエチルケトン
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９７部　
　トルエン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　９７部　　シクロヘキサノン　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４９部
上記各組成をボールミルを用いて２０時間混練して、磁
性塗料を調製した。

【００２８】 （アルミナ塗料の調製） 　　「メカノックＵＢ−１０」（村上工業（株）製アル
ミナ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００
部　　「ＶＡＧＨ」　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　１００部　　レシチン　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　１．５部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　１８７部　　トルエン　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　１８７部上記各組成をボールミルを用いて２３
時間混練して、アルミナ塗料を調製した。

【００２９】 （研磨塗料Ａの組成） 　　「サイロイド７４」（富士デビソン化学（株）製シ
リカ）　　　　　　　　　　　　　　　　１．６部　　
「ＣＲ８０８ＣＭ」（旭化成メタルズ（株）製アルミペ
ースト、有効成分４９％以上）　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　３．３部　　上記アルミナ塗料　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　３．１部　　「Ｖ
ＡＧＨ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　５．６部　　「パンデックスＴ−５２６０
−３５ＭＴ」（大日本インキ化学工業（株）製ポリウレ
タン樹脂）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　１６．２部　　ジブ
チルチンジラウレイト　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０
．０１部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　３５．１部　　トルエン　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　３５．１部上記各組成を分散攪拌機を用いて１時間攪
拌して、研磨塗料Ａを調製した。

【００３０】 （弁柄塗料の調製） 　　「トダカラー１６０ＥＤ」（戸田工業社製酸化第２
鉄顔料）　　　　　　　　　　　　　　　１００部　　
「ＶＡＧＨ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　１００部　　レシチン　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１
．５部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　１８７部　　トルエン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　１８７部上記各組成をボールミルを用いて２３時間混
練して、弁柄塗料を調製した。

【００３１】 （研磨塗料Ｂの組成） 　　「サイロイド７４」　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　１．６部　　「ＣＲ８０８ＣＭ」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　３．３部　　上記弁柄塗料　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　３．１部　　「ＶＡ
ＧＨ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　５．６部　　「パンデックスＴ−５２６０−
３５ＭＴ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　１６．２部　　ジブ
チルチンジラウレイト　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０
．０１部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　３５．１部　　トルエン　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　３５．１部上記各組成を分散攪拌機を用いて１時間攪
拌して研磨塗料Ｂを調製した。

【００３２】 （酸化クロム塗料の組成） 　　「酸化クロムＮＤ−８０１」（日本電工（株）製酸
化クロム顔料）　　　　　　　　　　　　１００部　　
「ＶＡＧＨ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　１００部　　レシチン　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１
．５部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　１８７部　　トルエン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　１８７部上記各組成をボールミルを用いて３０時間混
練して酸化クロム塗料を調製した。

【００３３】 （研磨塗料Ｃの組成） 　　「サイロイド７４」　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　１．６部　　「ＣＲ８０８ＣＭ」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　３．３部　　上記酸化クロム塗料　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　３．１部　　「ＶＡＧＨ」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　５．６部　　「パンデックスＴ−５２６０−３５Ｍ
Ｔ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　１６．２部　　ジブチルチ
ンジラウレイト　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０１
部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　３５．１部　　トルエン　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３５
．１部上記各組成を分散攪拌機を用いて１時間攪拌して
研磨塗料を調製した。

【００３４】 （酸化チタン塗料の調製） 　　「タイペークＲ−８３０」（石原産業（株）製酸化
チタン顔料）　　　　　　　　　　　　　１００部　　
「ＶＡＧＨ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　１００部　　レシチン　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１
．５部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　１８７部　　トルエン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　１８７部上記各組成をボールミルを用いて３０時間混
練して酸化チタン塗料を調製した。

【００３５】 （研磨塗料Ｄの調製） 　　「サイロイド７４」　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　１．６部　　「ＣＲ８０８ＣＭ」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　３．３部　　酸化チタン塗料　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　３．１部　　「ＶＡＧ
Ｈ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　５．６部　　「パンデックスＴ−５２６０−３
５ＭＴ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　１６．２部　　ジブチ
ルチンジラウレイト　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．
０１部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　３５．１部　　トルエン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
３５．１部上記各組成を分散攪拌機を用いて１時間攪拌
して研磨塗料を調製した。

【００３６】 （研磨塗料Ｅの調製） 　　「サイロイド７４」　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　０．５３部　　「ＣＲ８０８ＣＭ」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　５．５０部　　酸化チタン塗料　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　３．１０部　　「ＶＡＧ
Ｈ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　５．４３部　　「パンデックスＴ−５２６０−３
５ＭＴ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　１６．２０部　　ジブチ
ルチンジラウレイト　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．
０１部　　「サゾールワックスＳＰＮ−３」（南アフリ
カ国・サゾール公社製ワックス）　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　０．４０部　　メチルエチルケトン
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３４．６０部
　　トルエン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　３４．６０部上記各組成を分散攪
拌機を用いて１時間攪拌して研磨塗料Ｅを調製した。

【００３７】 （研磨塗料Ｆの調製） 　　「サイロイド７４」　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　０．１９部　　「ＣＲ８０８ＣＭ」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　１．９４部　　酸化チタン塗料　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　１．０８部　　「ＶＡＧ
Ｈ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　６．６４部　　「パンデックスＴ−５２６０−３
５ＭＴ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　１９．５１部　　ジブチ
ルチンジラウレイト　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．
０１部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　３５．３０部　　トルエン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３
５．３０部上記各組成を分散攪拌機を用いて１時間攪拌
して研磨塗料Ｆを調製した。

【００３８】 （研磨塗料Ｇの調製） 　　「サイロイド７４」　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　４．１０部　　酸化チタン塗料　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２３．６０
部　　「パンデックスＴ−５２６０−３５ＭＴ」　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　７．５０部　　ジブチルチンジラウレ
イト　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　０．０１部　　メチ
ルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　３２．４０部　　トルエン　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　３２．４０部上記
各組成を分散攪拌機を用いて１時間攪拌して研磨塗料Ｇ
を調製した。

【００３９】 （研磨塗料Ｈの調製） 　　「サイロイド７４」　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　１．８６部　　「ＣＲ８０８ＣＭ」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　３．３部　　酸化チタン塗料　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　１．７８部　　「ＶＡＧ
Ｈ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　５．８３部　　「パンデックスＴ−５２６０−３
５ＭＴ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　１６．２部　　ジブチ
ルチンジラウレイト　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．
０１部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　３５．５１部　　トルエン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３
５．５１部上記各組成を分散攪拌機を用いて１時間攪拌
して研磨塗料Ｈを調製した。

【００４０】 （研磨塗料Ｊの調製） 　　「サイロイド７４」　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　０．３１部　　「ＣＲ８０８ＣＭ」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　３．３０部　　酸化チタン塗料　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　１０．７０部　　「ＶＡＧ
Ｈ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　４．２８部　　「パンデックスＴ−５２６０−３
５ＭＴ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　１６．２０部　　ジブチ
ルチンジラウレイト　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．
０１部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　３２．６０部　　トルエン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３
２．６０部上記各組成を分散攪拌機を用いて１時間攪拌
して研磨塗料Ｊを調製した。

【００４１】（実施例１）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレフタレートシート上に、上記磁性塗料１００部及
び「バーノックＤ−７５０」（大日本インキ化学工業（
株）製ポリイソシアネート）３部から成る塗料をリバー
ス方式で乾燥塗膜が１２μｍとなるように塗布し、その
後、同様の方式で上記「研磨塗料Ａ」１００部及び「バ
ーノックＤ−７５０」５部から成る塗料を乾燥膜厚が６
μｍになるように塗布し、磁気カードを作製した。なお
、磁性塗料の乾燥膜厚及び研磨塗料の乾燥膜厚は、触針
式膜厚計を用いて測定した。

【００４２】また、研磨塗料の乾燥塗膜の表面粗さを（
株）東京精密製「サーフコム、モデルＥ−ＲＣ−Ｓ０１
Ａ」を用いて測定したところ、Ｒａが０．９８μｍであ
った。

【００４３】（実施例２）実施例１において、「研磨塗
料Ａ」１００部及び「バーノックＤ−７５０」５部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料Ｂ」１００部及び「バ
ーノックＤ−７５０」５部から成る塗料を用いた以外は
、実施例１と同様にして磁気カードを作製した。

【００４４】また、実施例１と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Ｒａが０．９４μ
ｍであった。

【００４５】（実施例３）実施例１において、「研磨塗
料Ａ」１００部及び「バーノックＤ−７５０」５部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料Ｃ」１００部及び「バ
ーノックＤ−７５０」５部から成る塗料を用いた以外は
、実施例１と同様にして磁気カードを作製した。

【００４６】また、実施例１と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Ｒａが１．０３μ
ｍであった。

【００４７】（実施例４）実施例１において、「研磨塗
料Ａ」１００部及び「バーノックＤ−７５０」５部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料Ｄ」１００部及び「バ
ーノックＤ−７５０」５部から成る塗料を用いた以外は
、実施例１と同様にして磁気カードを作製した。

【００４８】また、実施例１と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Ｒａが０．８９μ
ｍであった。

【００４９】（実施例５）実施例１において、「研磨塗
料Ａ」１００部及び「バーノックＤ−７５０」５部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料Ｅ」１００部及び「バ
ーノックＤ−７５０」５部から成る塗料を用いた以外は
、実施例１と同様にして磁気カードを作製した。

【００５０】また、実施例１と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Ｒａが０．６６μ
ｍであった。

【００５１】（実施例６）実施例１において、「研磨塗
料Ａ」１００部及び「バーノックＤ−７５０」５部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料Ｄ」１００部及び「バ
ーノックＤ−７５０」５部から成る塗料を乾燥膜厚が０
．７４μｍになるように塗布した以外は、実施例１と同
様にして磁気カードを作製した。

【００５２】また、実施例１と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Ｒａが０．１４μ
ｍであった。

【００５３】（実施例７）実施例１において、「研磨塗
料Ａ」１００部及び「バーノックＤ−７５０」５部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料Ｄ」１００部及び「バ
ーノックＤ−７５０」５部から成る塗料を乾燥膜厚が１
１μｍになるように塗布した以外は、実施例１と同様に
して磁気カードを作製した。

【００５４】また、実施例１と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Ｒａが１．９３μ
ｍであった。

【００５５】（実施例８）実施例１において、「研磨塗
料Ａ」１００部及び「バーノックＤ−７５０」５部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料Ｆ」１００部及び「バ
ーノックＤ−７５０」５部から成る塗料を用いた以外は
、実施例１と同様にして磁気カードを作製した。

【００５６】また、実施例１と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Ｒａが０．１２μ
ｍであった。

【００５７】（実施例９）実施例１において、「研磨塗
料Ａ」１００部及び「バーノックＤ−７５０」５部から
成る塗料に代えて上記「研磨塗料Ｈ」１００部及び「バ
ーノックＤ−７５０」５部から成る塗料を用いた以外は
、実施例１と同様にして磁気カードを作製した。

【００５８】また、実施例１と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Ｒａが１．１２μ
ｍであった。

【００５９】（実施例１０）実施例１において、「研磨
塗料Ａ」１００部及び「バーノックＤ−７５０」５部か
ら成る塗料に代えて上記「研磨塗料Ｊ」１００部及び「
バーノックＤ−７５０」５部から成る塗料を用いた以外
は、実施例１と同様にして磁気カードを作製した。

【００６０】また、実施例１と同様にして研磨塗料の乾
燥塗膜の表面粗さを測定したところ、Ｒａが０．２１μ
ｍであった。

【００６１】（磁気カードの評価）各実施例で得た磁気
カードのヘッド付着物の除去性、汚染物保持性、ヘッド
研磨性及び周波数特性の評価を行い、その結果を第１表
に掲げた。尚、ヘッド付着物の除去性、再付着防止性、
ヘッド研磨性及び周波数特性の評価基準は次の通りであ
る。

【００６２】（ヘッド付着物除去性）磁気ヘッドの表面
をコーラ液の中に１分間浸漬した後取り出し、室温で乾
燥させ、付着物皮膜を形成した。このヘッドを用いて、
ヘッド押し圧３５０ｇ、走行速度１９０ｍｍ／秒で、各
実施例で得られた磁気カードを１０回走行し、磁気ヘッ
ドの付着物の状態を観察した。

【００６３】 ○：磁気ヘッドの付着物が完全に取り除かれている。 △：磁気ヘッドの付着物がほとんど取り除かれているが
、悪影響を及ぼさない範囲で付着物が見られる。

【００６４】×：磁気ヘッドの付着物がまったく取り除
かれていない。

【００６５】（汚染物保持性）磁気ヘッド表面に綿棒を
用いてコーラ液を付着させ、室温で乾燥させた。各実施
例で得られた磁気カードを、ヘッド押し圧３００ｇ、走
行速度１９０ｍｍ／秒で各々１００回走行させた後、下
記の計算式に従い、出力変動率を計算し、出力変動率の
大小により汚染物保持性の良否を表わす。

【００６６】

【数１】

【００６７】（ヘッド研磨性）各実施例で得られた磁気
カードをヘッド押し圧３５０ｇ、走行速度１９０ｍｍ／
秒で１０００回走行させ磁気ヘッドの研磨状態を観察し
た。

【００６８】○：磁気ヘッドが研磨されていない。 △：磁気ヘッドが、悪影響を及ぼさない程度に少々研磨
されている。 ×：磁気ヘッドがかなり研磨されている。

【００６９】（周波数特性）各実施例で得られた磁気カ
ードを、アポロメック社製磁気カード出力検査機で、ヘ
ッド押し圧３００ｇ、走行速度１９０ｍｍ／秒、記録密
度２００ＦＣＩ及び５００ＦＣＩ、記録電流値６００ｍ
Ａで記録し、再生した時の５００ＦＣＩと２００ＦＣＩ
の出力の比を以下の計算式に基づき求めた。

【００７０】

【数２】

【００７１】

【表１】

【００７２】第１表に掲げた結果から、各実施例で得ら
れた磁気カードは、当初の目的であった磁気ヘッドに付
着した汚染物を取り除き、且つ磁気ヘッドを傷つけず、
また除去した汚染物を研磨層の表面粗さの中に保持し、
磁気カードの出力変動率を劣化せず、また磁気カードの
実用上問題のない周波数特性を有するものである。

【００７３】しかしながら、実施例１〜５の各磁気カー
ドと比較して、実施例６の磁気カードは、研磨層の膜厚
が薄いので、汚染物の保持性がやや低く、出力変動率が
やや高く、実施例７の磁気カードは、研磨層の膜厚が厚
いので、周波数特性がやや低い、実施例８の磁気カード
は、研磨層中のシリカ及び酸化チタンの配合割合を低く
したため、汚染物除去性がやや低い、実施例９の磁気カ
ードは、研磨層中のシリカ及び酸化チタンの使用割合が
シリカが多いため、汚染物除去性がやや低い、実施例１
０の磁気カードは、研磨層中の酸化チタンの使用割合が
多いため、研磨力がやや強すぎる傾向にあり、磁気ヘッ
ドを少々傷つけている。

【００７４】

【発明の効果】本発明による磁気カードは、磁気ヘッド
に付着した汚染物を、磁気ヘッドを傷つけず除去するこ
とができ、また、取り除いた汚染物を研磨層表面の粗さ
の中に保持することができるので、汚染物が磁気ヘッド
とのスペースロスとならず、磁気カードの出力変動率を
低下させない。また、磁気カードが端末機磁気ヘッドを
汚染しない効果を持つので、端末機メンテナンスが不要
となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１図は、本発明に関わる磁気カードの断面図
である。

【図２】第２図は、本発明に関わる磁気カードの断面図
である。

【符号の説明】

１　　基体 ２　　磁気層 ３　　研磨層

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　磁気記録層上に（１）シリカ及び（２
   ）アルミナ、酸化チタン、酸化クロム及び酸化第２鉄か
   ら成る群から選ばれる金属酸化物を含有する研磨層を有
   することを特徴とする磁気カード。
2. 【請求項２】　　研磨層の膜厚が１〜９μｍの範囲にあ
   る請求項１記載の磁気カード。
3. 【請求項３】　　研磨層の表面粗さ（Ｒａ）が０．２〜
   １．６μｍの範囲にある請求項１又は２記載の磁気カー
   ド。
4. 【請求項４】　　研磨層中のシリカ及び金属酸化物の配
   合割合が３〜５０重量の範囲にある請求項１、２又は３
   記載の磁気カード。
5. 【請求項５】　　研磨層中のシリカ及び金属酸化物の使
   用割合が重量比で５：１〜１：５の範囲にある請求項４
   記載の磁気カード。