JPH0474770B2 - - Google Patents
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- JPH0474770B2 JPH0474770B2 JP63077297A JP7729788A JPH0474770B2 JP H0474770 B2 JPH0474770 B2 JP H0474770B2 JP 63077297 A JP63077297 A JP 63077297A JP 7729788 A JP7729788 A JP 7729788A JP H0474770 B2 JPH0474770 B2 JP H0474770B2
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- cleaning
- abrasive particles
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K13/00—Conveying record carriers from one station to another, e.g. from stack to punching mechanism
- G06K13/02—Conveying record carriers from one station to another, e.g. from stack to punching mechanism the record carrier having longitudinal dimension comparable with transverse dimension, e.g. punched card
- G06K13/08—Feeding or discharging cards
- G06K13/0868—Feeding or discharging cards using an arrangement for keeping the feeding or insertion slot of the card station clean of dirt, or to avoid feeding of foreign or unwanted objects into the slot
- G06K13/0893—Feeding or discharging cards using an arrangement for keeping the feeding or insertion slot of the card station clean of dirt, or to avoid feeding of foreign or unwanted objects into the slot the arrangement comprising means for cleaning the card upon insertion
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Description
〔分野の概要〕
本発明は、磁気記録再生装置の磁気ヘツドをク
リーニングするクリーニングカードに関するもの
である。 〔従来技術の内容と問題点〕 従来、磁気記録再生装置用磁気ヘツドのクリー
ニングカードとしては、一般にベースフイルム上
に張り付けたフエルトにアルコールなどの溶剤を
しみ込ませたものを用い、磁気ヘツド面を走行さ
せることにより磁気ヘツドに接触し、汚れを除去
する湿式方式があり、又アルミナ、シリカ、並び
に酸化チタンなどの粒径のそろつた細かい研磨材
を塗布したクリーニングカードを磁気ヘツド面に
走行することにより、磁気ヘツドに接触させて汚
れを除去する乾式方式がある。 しかしながら現在普及しているIDカード、或
いはキヤツシユカード用の入出力機器用の磁気ヘ
ツドは、磁気カードに付着した手の汚れ、ゴミ、
ホコリなどによる汚れや、又娯楽用カードなど環
境条件の悪い場所での磁気カードや入出力機器で
は、磁気カードの使用により磁気ヘツドが汚さ
れ、磁気ヘツドの汚れが他の磁気カードを汚し、
さらには磁気カードの磁気記録媒体表面に傷をつ
け、情報の読みとりエラーなどを発生しやすくし
ていた。これら磁気カードに使用されている磁性
粉や印刷インキ以外のゴミやホコリなどによる汚
れは、アルコールなどの溶剤では除去しにくいこ
と、又アルミナ、シリカ、並びに酸化チタン等の
研磨材を用いたクリーニングカードについても磁
気ヘツド表面の汚れが落ちにくいという問題点が
あつた。 〔発明の目的〕 本発明は、これらの欠点を除去するために、安
価で、汚れを除去する磁気ヘツドの記録再生する
ための空隙の長さにより、粒径を容易に選択でき
る軟磁性材料のソフトフエライトの粉末を塗布し
たクリーニングカードにより、磁気カードを使用
した入出力機器に用いられている記録再生用の、
空隙の長さが10μｍないし100μｍである磁気ヘツ
ドの磁気カード摺動面の汚れを除去するものであ
り、又磁気ヘツドとクリーニングカードとの摺動
面において、磁気ヘツドの空隙部分に生ずる記録
磁界の磁気吸引力を利用してクリーニングカード
の研磨粒子を形成するソフトフエライトにより、
クリーニングカード研磨面と磁気ヘツド摺動面と
を密着させ磁気ヘツド摺動面の汚れを取り除くも
ので、かつ表面が比較的粗く塗膜強度の強いクリ
ーニングカードを提供することにある。 〔発明の構成〕 本発明によるクニーニングカードは、ポリエチ
レンテレフタレート（PET）等のベースフイル
ム上に、研磨粒子、及び結合剤からなるクニーニ
ング層を形成した磁気カードを使用する磁気記録
再生装置用磁気ヘツドのクリーニングカードであ
つて、研磨粒子はボールミルにより粉砕した後分
級を行ない、粒径が37μｍないし250μｍで、高密
度に焼結した材料中にボイド（空間）がほとんど
存在しない、ビツカース硬度が600ないし700で、
かつ初比透磁率が100以上の軟磁性材料のソフト
フエライトの研磨粒子を用い作られたクリーニン
グカードである。通常実用されている軟磁性の
Mn−Znフエライト、Ni−Znフエライトの焼結
体では、焼結温度が低いため緻密に焼結されてお
らず、材料中にボイド（空間）が生じており、ビ
ツカース硬度の値は600以下であり、研磨粒子と
して使用する時使用中に砕け、かえつて磁気ヘツ
ドに疵を発生させるので、ビツカース硬度の値は
少なくとも600以上の材料を用いることが必要で
ある。本発明のクニーニングカードの研磨粒子に
ソフトフエライト粉末を使用することにより、ク
リーニングカードが磁気ヘツド面を走行する時に
於て、磁気ヘツドの記録磁界により軟磁性材料で
あるソフトフエライトが磁化されることによりク
リーニングカードは磁気ヘツドの摺動面へ密着す
ることとなり、クニーニングカードと磁気ヘツド
との密着性はより良好となる。 即ち本発明は、非磁性体であるベースフイルム
上に、研磨粒子と結合剤から成るクリーニング層
を形成した磁気記録再生装置用磁気ヘツドのクリ
ーニングカードに於て、クリーニング層の研磨粒
子の粒径が37μｍないし250μｍで、かつビツカー
ス硬度が600ないし700である軟磁性ソフトフエラ
イト粉末からなることを特徴とするクリーニング
カードである。 〔実施例による説明〕 以下本発明の実施例について詳細に説明する。 本発明のクリーニングカードは、第１図に示す
ようにベースフイルム１と、このベースフイルム
１上に形成されたクリーニング層２から構成され
ている。クリーニング層２は研磨粒子３を結合剤
４に混合し、ベースフイルム１上に塗布されてい
る。軟磁性フエライト材からなる研磨粒子３の粒
径は、37μｍないし250μｍ、ビツカース硬度が
600ないし700である。この研磨粒子３によつて磁
気ヘツド５の表面に付着している付着物６を削り
除去するものである。 研磨粒子の粒径は250μｍよりも大きいとベー
スフイルムとの接着性が悪くなるばかりでなくク
リーニング層表面の粗さが大きくなり、磁気ヘツ
ドとの接触も悪くなり、更には粒子が脱落しクリ
ーニングカードの耐久性を劣化させる。又、粒径
が小さすぎると研磨能力を劣化させ、磁気ヘツド
汚れの除去具合が悪くなるため37μｍ以上の粒径
が必要である。従つて、研磨粒子の粒径は実用上
10ないし250μｍであればよいが、研磨効果とし
ては37μｍないし250μｍの粒径の範囲とするのが
好ましい。 又、研磨粒子のビツカース硬度は、磁気ヘツド
摺動面の付着物を取り除くために必要な硬度であ
り、磁気カードに使用されている磁性粉末、結合
剤、各種の添加剤、磁気ヘツドの材質、磁気カー
ドと磁気ヘツドとの相対速度などによつて異なる
が、一般に磁気ヘツドに使用されている材質の硬
度は、ビツカース硬度で、センダスト約500、ア
モルフアス合金約900、フエライト系600ないし
700、パーマロイ系で100ないし200であるから、
パーマロイ系の材質以外では、研磨能力から考え
て研磨粒子の硬度の下限はビツカース硬度で600
は必要であるが、ソフトフエライトのMn−Znフ
エライト、Ni−Znフエライトで、緻密に焼結さ
れた材料のビツカース硬度は600ないし700であ
る。研磨粒子の硬度が低い、即ち材料の中にボイ
ド（空間）がある研磨粒子を使用した時には、ヘ
ツド汚れの除去具合、クリーニングカードの耐久
性は劣化し、又研磨粒子の一部が結合剤より剥離
し磁気ヘツドの表面にギスを発生させ好ましくな
い。 本発明によるクリーニングカードの研磨粒子に
はソフトフエライト粉末を使用しており、磁気ヘ
ツドのクリーニング作業時にクリーニングカード
が磁気ヘツド表面を通過するが、クリーニングカ
ード研磨面に塗布されている軟磁性材料のソフト
フエライトの研磨粒子はクリーニングカード走行
時に磁気ヘツドの空隙部分の磁界により磁化さ
れ、磁気ヘツドが作る磁気記録磁界も1Kエルス
テツト以上であるためクリーニングカードのソフ
トフエライトはほぼ磁気飽和値迄磁化され、クリ
ーニングカードは磁気ヘツド空隙部分に吸引され
磁気ヘツドとの密着性が良くなる。従つて、その
ためには初比透磁率は実用上100以上もあればよ
い。 研磨粒子を分散する結合剤としては従来の磁気
カードに用いられるものと同様、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、或いはこれらの混合物が使用され
る。 研磨粒子に対する結合剤の割合は、結合剤が少
ないと研磨粒子がはがれやすくなり、逆に多いと
クリーニング層の表面が平滑になりクリーニング
効果が少なくなる。研磨粒子100重量部に対して
結合剤固形分は５重量ないし50重量部であり特に
15重量部ないし25重量部が好ましい。 本発明のクリーニングカードの全厚は磁気カー
ドの種類により異なるが、ベースフイルムの厚さ
とクリーニング層の厚さの合計として最大300μ
ｍが好ましい。実際に使用されている磁気カード
の磁性層の厚さは5μｍないし20μｍ程度のものが
一般的であるが、磁気カードを対象とした磁気ヘ
ツドの汚れを除去し、且つなめらかに走行するた
めには20μｍ以上50μｍ以下が望ましい。 尚、各実施例における重量比はすべて重量部で
示す。 実施例 １ 厚さ250μｍのPET（ポリエチレンテレフタレー
ト）基板上に、下記の塗布液組成(A)で50μの厚さ
に塗布を行なつた。Mn−Zn系フエライトの研磨
粒子の大きさは、粉砕まま（粒径500μｍ以下）、
−60メツシユ（粒径250μｍ以下）、−200メツシユ
（粒径74μｍ以下）、−400メツシユ（粒径37μｍ以
下）の４水準とし、それぞれサンプルNo.１ないし
４とする。塗布にはグラビアコータを使用し、塗
布膜厚さを50μｍとした。 塗布液組成(A) 研磨粒子（Mn−Zn系フエライト） 100部 ポリウレタン樹脂（MX−4001……三菱化成製）
85部 イソシアネート化合物（コロネートＬ……日本ポ
リウレタン工業製） ３部 トルエン 270部 MIBK（メチルイソブチルケトン） 50部 尚、実際に研磨粒子に使用したMn−Zn系フエ
ライトの特性は、 交流初比透磁率μiac 2000 飽和磁束密度 5000ガウス 硬さHv 650 密 度 5.04×103Kg／m3 であり、ボールミルにて粉砕したのち分級を行な
つた。 塗布後、カレンダー処理を行ない86.0mm×54.0
mmの大きさのカードに打ち抜き、クリーニングカ
ードを作製した。このクリーニングカードを磁気
カードの記録再生を行う入出力機器のカードリー
ダーに通し、磁気ヘツドの汚れの除去具合、クリ
ーニングカードのクリーニング層の耐久性、磁気
ヘツドのキズを調べた。この結果を第１表に示
す。 実施例 ２ 実施例１の塗布液組成(A)の代わりに下記の塗布
液組成(B)によりクリーニングカードを作製し、実
施例１と同様の試験を行なつた。研磨粒子の大き
さの水準、塗布方式、PET基板、基板厚さ、塗
布膜厚さについても実施例１と同様である。Ni
−Znフエライトの研磨粒子の大きさは、粉砕ま
ま（粒径500μｍ以下）、−60メツシユ（粒径250μ
ｍ以下）、−200メツシユ（粒径74μｍ以下）、−400
メツシユ（粒径37μｍ以下）おの４水準とし、
夫々サンプルNo.５ないし８とした。塗布にはグラ
ビアコータを使用し、塗布膜厚さを50μｍとし
た。 塗布液組成(B) 研磨粒子（Ni−Zn系フエライト） 100部 ポリウレタン樹脂（MX−4001……三菱化成製）
81.5部 イソシアネート化合物（コロネートＬ……日本ポ
リウレタン工業製） 2.8部 トルエン 255部 MIBK（メチルイソブチルケトン） 45部 尚、研磨粒子であるNi−Zn系フエライトの特
性は、 交流初比透磁率μiac 1000 飽和磁束密度 2400ガウス 硬さHv 700 密 度 5.33×103Kg／m3 であり、ボールミルにて粉砕したのち、分級を行
なつた。 実施例 ３ 実施例１と同じ条件で研磨粒子の大きさが−60
メツシユ（粒径250μｍ以下）で、研磨粒子の硬
度がビツカース硬度で夫々500、550、580、600、
650、700の軟磁性フエライトを用いたクリーニン
グカードをサンプルNo.９、No.10、No.11、No.12、No.
13、No.14として試作し、カードリーダに通し、磁
気ヘツドの汚れの除去具合、クリーニング層の耐
久性、磁気ヘツドのキズの発生を調べた。この結
果を第２票に示す。 実施例 ４ 実施例１、及び実施例２で作製したクリーニン
グカードについて、環境試験として耐侵せき性試
験を行なつた。 ５％食塩水、１％炭酸ナトリウム水溶液、５％
酢酸水溶液中にそれぞれ24時間侵せきした結果、
クリーニング層のはがれ、膨潤などがなく、乾燥
後も正常に動作を行なつた。 実施例１、実施例２の結果を示す第１表におい
て、本発明のクリーニングカードにおける研磨粒
子の粒径に対するクリーニング特性は、Mn−Zn
系フエライト、Ni−Znフエライト共、試料No.１
に於てはクリーニングカードの耐久性に問題があ
り、試料No.４に於てはヘツド汚れの除去具合が完
全ではない。即ちヘツドの汚れの除去具合、カー
ドの耐久性、磁気ヘツドのキズの発生において
は、試料No.２、試料No.３、試料No.６、試料No.７で
は特性は必要条件を満足し、研磨粒子の粒径は
250μｍないし37μｍの範囲が好適であることを示
す。 又実施例３の結果を示す第２表に於て、本発明
のクリーニングカードにおける研磨粒子の硬度に
よるクリーニング特性は、No.９、No.10、No.11の硬
度の低い材料を用いたものでは、カードの耐久
性、ヘツドの汚れの除去具合、磁気ヘツドのキズ
について要求する特性を満足しておらず、研磨粒
子の硬度はビツカース硬度において600ないし700
の特性を持つ材料が好ましいことを示す。 従つて、本発明に用いるMn−Zn系フエライ
ト、Ni−Znフエライトの研磨粒子用ソフトフエ
ライトは軟磁気特性を持ち、高密度に焼結された
ほとんどボイド（空間）のない、硬度がビツカー
ス硬度で600ないし700の材料であり、交流の初比
透磁率μiacの値は、実施例のMn−Znフエライト
ではμiacの値が2000、Ni−Znフエライトでは
μiacの値は1000の材料を使用したが、クリーニン
グを行なう磁気ヘツドの磁気記録時の磁界はほぼ
1Kエルステツト以上もある故、研磨粒子に使用
するソフトフエライトの交流初比透磁率μiacの値
は100もあれば充分に磁気ヘツドに発生する磁気
記録磁界により材料の磁気飽和値迄磁化され、ク
リーニングカードは磁気ヘツド面に吸引される。
リーニングするクリーニングカードに関するもの
である。 〔従来技術の内容と問題点〕 従来、磁気記録再生装置用磁気ヘツドのクリー
ニングカードとしては、一般にベースフイルム上
に張り付けたフエルトにアルコールなどの溶剤を
しみ込ませたものを用い、磁気ヘツド面を走行さ
せることにより磁気ヘツドに接触し、汚れを除去
する湿式方式があり、又アルミナ、シリカ、並び
に酸化チタンなどの粒径のそろつた細かい研磨材
を塗布したクリーニングカードを磁気ヘツド面に
走行することにより、磁気ヘツドに接触させて汚
れを除去する乾式方式がある。 しかしながら現在普及しているIDカード、或
いはキヤツシユカード用の入出力機器用の磁気ヘ
ツドは、磁気カードに付着した手の汚れ、ゴミ、
ホコリなどによる汚れや、又娯楽用カードなど環
境条件の悪い場所での磁気カードや入出力機器で
は、磁気カードの使用により磁気ヘツドが汚さ
れ、磁気ヘツドの汚れが他の磁気カードを汚し、
さらには磁気カードの磁気記録媒体表面に傷をつ
け、情報の読みとりエラーなどを発生しやすくし
ていた。これら磁気カードに使用されている磁性
粉や印刷インキ以外のゴミやホコリなどによる汚
れは、アルコールなどの溶剤では除去しにくいこ
と、又アルミナ、シリカ、並びに酸化チタン等の
研磨材を用いたクリーニングカードについても磁
気ヘツド表面の汚れが落ちにくいという問題点が
あつた。 〔発明の目的〕 本発明は、これらの欠点を除去するために、安
価で、汚れを除去する磁気ヘツドの記録再生する
ための空隙の長さにより、粒径を容易に選択でき
る軟磁性材料のソフトフエライトの粉末を塗布し
たクリーニングカードにより、磁気カードを使用
した入出力機器に用いられている記録再生用の、
空隙の長さが10μｍないし100μｍである磁気ヘツ
ドの磁気カード摺動面の汚れを除去するものであ
り、又磁気ヘツドとクリーニングカードとの摺動
面において、磁気ヘツドの空隙部分に生ずる記録
磁界の磁気吸引力を利用してクリーニングカード
の研磨粒子を形成するソフトフエライトにより、
クリーニングカード研磨面と磁気ヘツド摺動面と
を密着させ磁気ヘツド摺動面の汚れを取り除くも
ので、かつ表面が比較的粗く塗膜強度の強いクリ
ーニングカードを提供することにある。 〔発明の構成〕 本発明によるクニーニングカードは、ポリエチ
レンテレフタレート（PET）等のベースフイル
ム上に、研磨粒子、及び結合剤からなるクニーニ
ング層を形成した磁気カードを使用する磁気記録
再生装置用磁気ヘツドのクリーニングカードであ
つて、研磨粒子はボールミルにより粉砕した後分
級を行ない、粒径が37μｍないし250μｍで、高密
度に焼結した材料中にボイド（空間）がほとんど
存在しない、ビツカース硬度が600ないし700で、
かつ初比透磁率が100以上の軟磁性材料のソフト
フエライトの研磨粒子を用い作られたクリーニン
グカードである。通常実用されている軟磁性の
Mn−Znフエライト、Ni−Znフエライトの焼結
体では、焼結温度が低いため緻密に焼結されてお
らず、材料中にボイド（空間）が生じており、ビ
ツカース硬度の値は600以下であり、研磨粒子と
して使用する時使用中に砕け、かえつて磁気ヘツ
ドに疵を発生させるので、ビツカース硬度の値は
少なくとも600以上の材料を用いることが必要で
ある。本発明のクニーニングカードの研磨粒子に
ソフトフエライト粉末を使用することにより、ク
リーニングカードが磁気ヘツド面を走行する時に
於て、磁気ヘツドの記録磁界により軟磁性材料で
あるソフトフエライトが磁化されることによりク
リーニングカードは磁気ヘツドの摺動面へ密着す
ることとなり、クニーニングカードと磁気ヘツド
との密着性はより良好となる。 即ち本発明は、非磁性体であるベースフイルム
上に、研磨粒子と結合剤から成るクリーニング層
を形成した磁気記録再生装置用磁気ヘツドのクリ
ーニングカードに於て、クリーニング層の研磨粒
子の粒径が37μｍないし250μｍで、かつビツカー
ス硬度が600ないし700である軟磁性ソフトフエラ
イト粉末からなることを特徴とするクリーニング
カードである。 〔実施例による説明〕 以下本発明の実施例について詳細に説明する。 本発明のクリーニングカードは、第１図に示す
ようにベースフイルム１と、このベースフイルム
１上に形成されたクリーニング層２から構成され
ている。クリーニング層２は研磨粒子３を結合剤
４に混合し、ベースフイルム１上に塗布されてい
る。軟磁性フエライト材からなる研磨粒子３の粒
径は、37μｍないし250μｍ、ビツカース硬度が
600ないし700である。この研磨粒子３によつて磁
気ヘツド５の表面に付着している付着物６を削り
除去するものである。 研磨粒子の粒径は250μｍよりも大きいとベー
スフイルムとの接着性が悪くなるばかりでなくク
リーニング層表面の粗さが大きくなり、磁気ヘツ
ドとの接触も悪くなり、更には粒子が脱落しクリ
ーニングカードの耐久性を劣化させる。又、粒径
が小さすぎると研磨能力を劣化させ、磁気ヘツド
汚れの除去具合が悪くなるため37μｍ以上の粒径
が必要である。従つて、研磨粒子の粒径は実用上
10ないし250μｍであればよいが、研磨効果とし
ては37μｍないし250μｍの粒径の範囲とするのが
好ましい。 又、研磨粒子のビツカース硬度は、磁気ヘツド
摺動面の付着物を取り除くために必要な硬度であ
り、磁気カードに使用されている磁性粉末、結合
剤、各種の添加剤、磁気ヘツドの材質、磁気カー
ドと磁気ヘツドとの相対速度などによつて異なる
が、一般に磁気ヘツドに使用されている材質の硬
度は、ビツカース硬度で、センダスト約500、ア
モルフアス合金約900、フエライト系600ないし
700、パーマロイ系で100ないし200であるから、
パーマロイ系の材質以外では、研磨能力から考え
て研磨粒子の硬度の下限はビツカース硬度で600
は必要であるが、ソフトフエライトのMn−Znフ
エライト、Ni−Znフエライトで、緻密に焼結さ
れた材料のビツカース硬度は600ないし700であ
る。研磨粒子の硬度が低い、即ち材料の中にボイ
ド（空間）がある研磨粒子を使用した時には、ヘ
ツド汚れの除去具合、クリーニングカードの耐久
性は劣化し、又研磨粒子の一部が結合剤より剥離
し磁気ヘツドの表面にギスを発生させ好ましくな
い。 本発明によるクリーニングカードの研磨粒子に
はソフトフエライト粉末を使用しており、磁気ヘ
ツドのクリーニング作業時にクリーニングカード
が磁気ヘツド表面を通過するが、クリーニングカ
ード研磨面に塗布されている軟磁性材料のソフト
フエライトの研磨粒子はクリーニングカード走行
時に磁気ヘツドの空隙部分の磁界により磁化さ
れ、磁気ヘツドが作る磁気記録磁界も1Kエルス
テツト以上であるためクリーニングカードのソフ
トフエライトはほぼ磁気飽和値迄磁化され、クリ
ーニングカードは磁気ヘツド空隙部分に吸引され
磁気ヘツドとの密着性が良くなる。従つて、その
ためには初比透磁率は実用上100以上もあればよ
い。 研磨粒子を分散する結合剤としては従来の磁気
カードに用いられるものと同様、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、或いはこれらの混合物が使用され
る。 研磨粒子に対する結合剤の割合は、結合剤が少
ないと研磨粒子がはがれやすくなり、逆に多いと
クリーニング層の表面が平滑になりクリーニング
効果が少なくなる。研磨粒子100重量部に対して
結合剤固形分は５重量ないし50重量部であり特に
15重量部ないし25重量部が好ましい。 本発明のクリーニングカードの全厚は磁気カー
ドの種類により異なるが、ベースフイルムの厚さ
とクリーニング層の厚さの合計として最大300μ
ｍが好ましい。実際に使用されている磁気カード
の磁性層の厚さは5μｍないし20μｍ程度のものが
一般的であるが、磁気カードを対象とした磁気ヘ
ツドの汚れを除去し、且つなめらかに走行するた
めには20μｍ以上50μｍ以下が望ましい。 尚、各実施例における重量比はすべて重量部で
示す。 実施例 １ 厚さ250μｍのPET（ポリエチレンテレフタレー
ト）基板上に、下記の塗布液組成(A)で50μの厚さ
に塗布を行なつた。Mn−Zn系フエライトの研磨
粒子の大きさは、粉砕まま（粒径500μｍ以下）、
−60メツシユ（粒径250μｍ以下）、−200メツシユ
（粒径74μｍ以下）、−400メツシユ（粒径37μｍ以
下）の４水準とし、それぞれサンプルNo.１ないし
４とする。塗布にはグラビアコータを使用し、塗
布膜厚さを50μｍとした。 塗布液組成(A) 研磨粒子（Mn−Zn系フエライト） 100部 ポリウレタン樹脂（MX−4001……三菱化成製）
85部 イソシアネート化合物（コロネートＬ……日本ポ
リウレタン工業製） ３部 トルエン 270部 MIBK（メチルイソブチルケトン） 50部 尚、実際に研磨粒子に使用したMn−Zn系フエ
ライトの特性は、 交流初比透磁率μiac 2000 飽和磁束密度 5000ガウス 硬さHv 650 密 度 5.04×103Kg／m3 であり、ボールミルにて粉砕したのち分級を行な
つた。 塗布後、カレンダー処理を行ない86.0mm×54.0
mmの大きさのカードに打ち抜き、クリーニングカ
ードを作製した。このクリーニングカードを磁気
カードの記録再生を行う入出力機器のカードリー
ダーに通し、磁気ヘツドの汚れの除去具合、クリ
ーニングカードのクリーニング層の耐久性、磁気
ヘツドのキズを調べた。この結果を第１表に示
す。 実施例 ２ 実施例１の塗布液組成(A)の代わりに下記の塗布
液組成(B)によりクリーニングカードを作製し、実
施例１と同様の試験を行なつた。研磨粒子の大き
さの水準、塗布方式、PET基板、基板厚さ、塗
布膜厚さについても実施例１と同様である。Ni
−Znフエライトの研磨粒子の大きさは、粉砕ま
ま（粒径500μｍ以下）、−60メツシユ（粒径250μ
ｍ以下）、−200メツシユ（粒径74μｍ以下）、−400
メツシユ（粒径37μｍ以下）おの４水準とし、
夫々サンプルNo.５ないし８とした。塗布にはグラ
ビアコータを使用し、塗布膜厚さを50μｍとし
た。 塗布液組成(B) 研磨粒子（Ni−Zn系フエライト） 100部 ポリウレタン樹脂（MX−4001……三菱化成製）
81.5部 イソシアネート化合物（コロネートＬ……日本ポ
リウレタン工業製） 2.8部 トルエン 255部 MIBK（メチルイソブチルケトン） 45部 尚、研磨粒子であるNi−Zn系フエライトの特
性は、 交流初比透磁率μiac 1000 飽和磁束密度 2400ガウス 硬さHv 700 密 度 5.33×103Kg／m3 であり、ボールミルにて粉砕したのち、分級を行
なつた。 実施例 ３ 実施例１と同じ条件で研磨粒子の大きさが−60
メツシユ（粒径250μｍ以下）で、研磨粒子の硬
度がビツカース硬度で夫々500、550、580、600、
650、700の軟磁性フエライトを用いたクリーニン
グカードをサンプルNo.９、No.10、No.11、No.12、No.
13、No.14として試作し、カードリーダに通し、磁
気ヘツドの汚れの除去具合、クリーニング層の耐
久性、磁気ヘツドのキズの発生を調べた。この結
果を第２票に示す。 実施例 ４ 実施例１、及び実施例２で作製したクリーニン
グカードについて、環境試験として耐侵せき性試
験を行なつた。 ５％食塩水、１％炭酸ナトリウム水溶液、５％
酢酸水溶液中にそれぞれ24時間侵せきした結果、
クリーニング層のはがれ、膨潤などがなく、乾燥
後も正常に動作を行なつた。 実施例１、実施例２の結果を示す第１表におい
て、本発明のクリーニングカードにおける研磨粒
子の粒径に対するクリーニング特性は、Mn−Zn
系フエライト、Ni−Znフエライト共、試料No.１
に於てはクリーニングカードの耐久性に問題があ
り、試料No.４に於てはヘツド汚れの除去具合が完
全ではない。即ちヘツドの汚れの除去具合、カー
ドの耐久性、磁気ヘツドのキズの発生において
は、試料No.２、試料No.３、試料No.６、試料No.７で
は特性は必要条件を満足し、研磨粒子の粒径は
250μｍないし37μｍの範囲が好適であることを示
す。 又実施例３の結果を示す第２表に於て、本発明
のクリーニングカードにおける研磨粒子の硬度に
よるクリーニング特性は、No.９、No.10、No.11の硬
度の低い材料を用いたものでは、カードの耐久
性、ヘツドの汚れの除去具合、磁気ヘツドのキズ
について要求する特性を満足しておらず、研磨粒
子の硬度はビツカース硬度において600ないし700
の特性を持つ材料が好ましいことを示す。 従つて、本発明に用いるMn−Zn系フエライ
ト、Ni−Znフエライトの研磨粒子用ソフトフエ
ライトは軟磁気特性を持ち、高密度に焼結された
ほとんどボイド（空間）のない、硬度がビツカー
ス硬度で600ないし700の材料であり、交流の初比
透磁率μiacの値は、実施例のMn−Znフエライト
ではμiacの値が2000、Ni−Znフエライトでは
μiacの値は1000の材料を使用したが、クリーニン
グを行なう磁気ヘツドの磁気記録時の磁界はほぼ
1Kエルステツト以上もある故、研磨粒子に使用
するソフトフエライトの交流初比透磁率μiacの値
は100もあれば充分に磁気ヘツドに発生する磁気
記録磁界により材料の磁気飽和値迄磁化され、ク
リーニングカードは磁気ヘツド面に吸引される。
【表】
以上述べた如く本発明によるクリーニングカー
ドは、磁気ヘツドにキズをつけることなく、ソフ
トフエライトの粉末を研磨粒子としたクリーニン
グカードにより、良好な磁気ヘツドのクリーニン
グ効果があることが確認され、安価で粉砕加工の
容易なソフトフエライト粉末を使い、比較的表面
が粗く塗膜強度の強いといつた利点を持つクリー
ニングカードの提供が可能となつた。
ドは、磁気ヘツドにキズをつけることなく、ソフ
トフエライトの粉末を研磨粒子としたクリーニン
グカードにより、良好な磁気ヘツドのクリーニン
グ効果があることが確認され、安価で粉砕加工の
容易なソフトフエライト粉末を使い、比較的表面
が粗く塗膜強度の強いといつた利点を持つクリー
ニングカードの提供が可能となつた。
第１図は、磁気ヘツドのクリーニングの状況を
示す本発明のクリーニングカードの断面図であ
る。 １……ベースフイルム、２……クリーニング
層、３……研磨粒子、４……結合剤、５……磁気
ヘツド、６……付着物。
示す本発明のクリーニングカードの断面図であ
る。 １……ベースフイルム、２……クリーニング
層、３……研磨粒子、４……結合剤、５……磁気
ヘツド、６……付着物。
Claims (1)
- １ 非磁性体であるベースフイルム上に、研磨粒
子と結合剤から成るクリーニング層を形成した磁
気記録再生装置用磁気ヘツドのクリーニングカー
ドに於て、クリーニング層の研磨粒子の粒径が
37μｍないし250μｍで、かつビツカース硬度が
600ないし700である軟磁性ソフトフエライト粉末
からなることを特徴とするクリーニングカード。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7729788A JPH01251310A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | クリーニングカード |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7729788A JPH01251310A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | クリーニングカード |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01251310A JPH01251310A (ja) | 1989-10-06 |
| JPH0474770B2 true JPH0474770B2 (ja) | 1992-11-27 |
Family
ID=13629956
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7729788A Granted JPH01251310A (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | クリーニングカード |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01251310A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61123012A (ja) * | 1984-11-20 | 1986-06-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | クリ−ニングテ−プ |
-
1988
- 1988-03-30 JP JP7729788A patent/JPH01251310A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01251310A (ja) | 1989-10-06 |
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