JPH0435733A - 真空排気装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はガラス、セラミック、プラスチック等の基板上
に金属膜あるいは誘電体多層膜をコーテングする真空蒸
着装置の改良に関する。

〔従来の技術〕

従来、ガラス、セラミック、プラスチック等の基板上に
金属膜あるいは誘電体多層膜をコーテングすることが行
われている。

同ガラス、セラミック、プラスチック等の基板上に金属
膜あるいは誘電体多層膜をコーテングするには、その前
処理として基板に膜の付着力を増大するために、基板を
プラズマ洗浄するか、あるいはイオンボンバード等処理
することが行われている。

この前処理を行うと、基板の表面に付着している油脂等
の有機汚染物を分解除去でき、また基板の表面はエツチ
ングされ、金属膜あるいは誘電体多層膜は基板に強く付
着される。

ところで、従来の粗引き真空蒸着装置は、例えば第３図
示すように、真空槽１に粗引きをするための油回転ポン
プ２を接続配管３で接続し、また同真空槽１と油回転ポ
ンプ２の間に、粗引きバルブ４を設け、同粗引きバルブ
４を調整することにより、真空槽１内を１０−２程度ま
で真空排気し、粗引きすることが行われている。

かかる後、真空槽１に接続してなる拡散ポンプ５により
１０″″４程度まで真空排気し、本引きすることが行わ
れている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし、上記した真空蒸着装置によると、特に粗引きす
る際に、真空槽１と接続配管内の気体が乱れ、真空槽１
の微細なゴミ等の異物が基板上に付着し、不良品が発生
する欠点がある。

〔発明の目的〕

本発明は上記の点に鑑み発明したものであって。

真空槽を粗引きする際に、気体の乱れが少なく、真空槽
の微細な異物が基板上に付着することがなく、確実に基
板上に膜を蒸着することのできる真空蒸着装置を提供す
ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕 本発明は上記の課題を解決するために次の構成とする。

つまり、基板を装着する真空槽に、接続配管で油回転ポ
ンプを接続する。

また同真空槽と油回転ポンプの間に、粗引バルブを接続
する。

また真空槽と油回転ポンプのと間に、圧力スイッチとガ
ス導入バルブを接続する。

そしてガス導入バルブを開き、油回転ポンプに負荷をか
けつつ粗引バルブを開き、除々に装置内部を真空にする
。

そしてかかる後、真空槽内を１０−１程度まで真空排気
し、本引きする。

〔作用ゴ 上記した構造の真空蒸着装置によると、ガス導入バルブ
を開き、油回転ポンプに負荷をかけつつ粗引バルブを開
き、除々に装置内部を真空にするので粗引の真空排気中
、真空槽内の気体の乱れが少なく、真空槽の微細な異物
が基板上に付着することがない。

〔実施例〕

以下本発明を第１図及び第２図について説明する。図に
おいて、１１は基板を装着する真空槽、１２は真空槽１
１に配管で接続してなる油回転ポンプ、１３は真空槽１
１と油回転ポンプ１２の間に接続してなる粗引バルブ、
１４は真空槽１１と油回転ポンプ１２の間に接続してな
るガス導入バルブ、１５は真空槽１１とガス導入バルブ
１４に接続してなる圧力スイッチ、１６は真空槽１１と
粗引バルブ１３の間の配管１９とガス導入バルブ１４と
の間に設けてなる防塵フィルター、１７はガス導入バル
ブ１４に接続してなる防塵フィルタ１８は防塵フィルタ
ー１７に接続してなる除湿フィルターであって、エアー
を注入する６２０は真空槽１１に接続してなる高真空ポ
ンプ、２１は真空槽１１と高真空ポンプ２０との間に接
続してなる高真空バルブである。２２は管２３と高真空
ポンプ２０との間に接続してなる補助バルブである。

同装置において、ガス導入バルブ１４を開き。

油回転ポンプ１２に負荷をかけつつ粗引バルブ１３を開
き、除々に真空槽１１を真空排気する。

そして１０−２程度の圧力まで粗引きする。

かかる後、真空槽１１に接続してなる高真空ポンプ２０
に切換え１０−４程度まで真空排気し、本引きする。

上記した本発明の真空蒸着装置によると、ガス導入バル
ブを通じて導入されたガス（Ａｉｒ）によって、油回転
ポンプに負荷をかけることができる。この時の油回転ポ
ンプの排気速度は第２図に示すようにガス導入なしの状
態に比べて小さくなるため、従来の真空蒸着装置に比較
し、真空槽の粗引きを除々に行なうことができるので、
真空槽内の気体の乱れは少ない。

〔発明の効果〕

本発明は上記したように、基板を装着する真空槽に、配
管で粗引バルブをを接続し、また同粗引バルブに配管で
油回転ポンプを接続し、また一端を粗引バルブと油回転
ポンプの間に接続し、他端を真空槽に接続し、且つ圧力
スイッチを有するガス導入バルブを設けて構成し。

ガス導入バルブを開き、油回転ポンプに負荷をかけつつ
粗引バルブを開き、除々に装置内部を真空にするように
構成したので、粗引の真空排気中に真空槽内の気体の乱
れが少なく、真空槽の微細な異物が基板上に付着するこ
とがない特有な効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る真空蒸着装置の正面図、第２図は
本発明に係る真空蒸着装置と従来の真空蒸着装置との排
気速度と圧力との関係を示す説明図、第３図は従来の真
空蒸着装置の側面図である。 １１・・・真空槽 １２・・・油回転ポンプ １３・・・粗引バルブ １４・・・ガス導入バルブ １５・・・圧力スイッチ ２０・・・高真空ポンプ ｊ［２ 図 圧力（Ｔｏｒｒ） ０．１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　基板を装着する真空槽と。 真空槽に配管で接続してなる粗引バルブと、粗引バルブ
   に配管で接続してなる油回転ポンプと、 一端を粗引バルブと油回転ポンプの間に接続し、他端を
   真空槽に接続し、圧力スイッチを有するガス導入バルブ
   とを有し、 圧力スイッチからの信号により、ガス導入バルブを開き
   、油回転ポンプに負荷をかけつつ粗引バルブを開き、除
   々に装置内部を真空にするように構成したことを特徴と
   する真空排気装置。