JPH05762U - 真空成膜装置 - Google Patents
真空成膜装置Info
- Publication number
- JPH05762U JPH05762U JP4497791U JP4497791U JPH05762U JP H05762 U JPH05762 U JP H05762U JP 4497791 U JP4497791 U JP 4497791U JP 4497791 U JP4497791 U JP 4497791U JP H05762 U JPH05762 U JP H05762U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- film forming
- tank
- exhaust mechanism
- thin film
- Prior art date
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 部品の交換が少なくて済み、ランニングコス
トが低廉な真空成膜装置を提供することである。 【構成】 薄膜形成物質の堆積により成膜が行われる槽
と、この槽に連結された第1のパイプと、排気機構と、
この排気機構に連結された第2のパイプと、前記第1の
パイプと第2のパイプとを連結する連結機構と、前記第
1のパイプの途中において磁力を作用させる磁石あるい
は凹条溝とを具備した真空成膜装置。
トが低廉な真空成膜装置を提供することである。 【構成】 薄膜形成物質の堆積により成膜が行われる槽
と、この槽に連結された第1のパイプと、排気機構と、
この排気機構に連結された第2のパイプと、前記第1の
パイプと第2のパイプとを連結する連結機構と、前記第
1のパイプの途中において磁力を作用させる磁石あるい
は凹条溝とを具備した真空成膜装置。
Description
【0001】
本考案は、例えば真空蒸着装置あるいはスパッタ装置といったような真空成膜
装置に関するものである。
【0002】
例えば、真空蒸着装置あるいはスパッタ装置といったような真空成膜装置は、
図2に示される如く、粒子の堆積により成膜が行われる真空槽10と、この真空
槽10内を真空にする為のターボ分子ポンプ、拡散ポンプあるいはクライオポン
プといった排気機構11と、真空槽10と排気機構11とをつなぐパイプ12a
,12bと、パイプ12aとパイプ12bとを連結するバルブ13とを具備して
なり、排気機構11の力により真空槽10内を高真空にさせた後、真空槽10内
に配置された基板に対して粒子を飛来付着させ、この粒子の堆積により薄膜が形
成されるものである。
【0003】
ところで、薄膜形成過程にあっては、真空槽10内を高真空に維持する為に排
気機構11は常に作動しており、この為に真空槽10内の壁に付着していた薄膜
が剥離、落下した一部が真空槽10とパイプ12aとの接続部に設けられたマス
クを通り抜けてパイプ12a内に入り込んで来ることも有り、このようなパイプ
12a内に入り込んで来た粒子がパイプ12aとパイプ12bとを連結するバル
ブ13の部分に配設されているパッキン等に付着し、バルブ13の開閉に際して
付着した粒子によってパッキン等が損傷を受け、バルブ13の部分からのリーク
が頻繁に起きている問題が有り、バルブ13の交換を頻繁に行わなければならな
い等の問題が有った。
【0004】
本考案の目的は、部品の交換が少なくて済み、ランニングコストが低廉な真空
成膜装置を提供することである。
この本考案の目的は、薄膜形成物質の堆積により成膜が行われる槽と、この槽
に連結された第1のパイプと、排気機構と、この排気機構に連結された第2のパ
イプと、前記第1のパイプと第2のパイプとを連結する連結機構と、前記第1の
パイプの途中において磁力を作用させる磁石とを具備したことを特徴とする真空
成膜装置によって達成される。
【0005】
又、薄膜形成物質の堆積により成膜が行われる槽と、この槽に連結された第1
のパイプと、排気機構と、この排気機構に連結された第2のパイプと、前記第1
のパイプと第2のパイプとを連結する連結機構と、前記第1のパイプの途中の内
壁面に形成された凹条溝とを具備したことを特徴とする真空成膜装置によって達
成される。
【0006】
すなわち、バルブ等の連結機構が設けられている前段階のパイプの途中におい
て磁力を作用させる磁石を設けたり、あるいはパイプの内壁面に凹条溝を形成し
ておくと、薄膜形成に際して槽の内壁に付着していた粒子が剥離、落下し、槽と
パイプとの接続部に設けられたマスクを通り抜けてパイプ内に入り込んで来ても
、バルブ位置よりも前段階にある磁石の力で粒子はトラップされ、あるいは凹条
溝に入り込んでしまってトラップされ、バルブ位置まで到達することは格段に少
なくなり、よってパッキン等は損傷しにくく、バルブの部分からのリークの問題
は起きにくく、バルブの交換を頻繁に行わなければならない等の問題が大幅に改
善されたのである。しかも、この改善手段は、実施に複雑な技術を要するもので
はなく、極めて簡単に実施できるものである。
【0007】
図1は、本考案に係る真空成膜装置の概略図である。
同図中、1は薄膜形成物質の堆積により成膜が行われる槽、2aは槽1に連結
された第1のパイプ、3はターボ分子ポンプ、拡散ポンプあるいはクライオポン
プといった排気機構、2bは排気機構3に連結された第2のパイプ、4は第1の
パイプ2aと第2のパイプ2bとを連結するバルブであり、これらの部分の構成
はこれまでにも良く知られているから詳細な説明は省略する。
【0008】
5は第1のパイプ2aの途中に構成された大径部、6は大径部5の内壁面に形
成された楔状の凹条溝、7は凹条溝6の位置に対応して配置された磁石である。
上記のように構成させていると、薄膜形成に際して、槽1の内壁1aに付着し
ていた薄膜が剥離、落下し、このような薄膜の一部が槽1と第1のパイプ2aと
の接続部に設けられたマスクを通り抜けて第1のパイプ2a内に入り込んで来て
も、バルブ4位置よりも前段階にある磁石7の力で磁性粒子などはトラップされ
、特に凹条溝6内に入り込んでしまってトラップされ、バルブ4の位置まで到達
することは格段に少なくなり、よってバルブ4に配設されているパッキン等は損
傷しにくく、バルブ4の部分からのリークの問題は起きにくく、バルブ4の交換
を頻繁に行わなければならない等の問題が大幅に改善された。
【0009】
しかも、この改善技術は、実施に複雑な技術を要求されず、極めて簡単に実施
できるものであり、従ってコストアップをもたらすものではなく、実に低廉なも
のである。
又、槽1の内壁1aに付着していた薄膜が剥離、落下し、このような薄膜の一
部が槽1と第1のパイプ2aとの接続部に設けられたマスクを通り抜けて第1の
パイプ2a内に入り込んで来ても、バルブ4位置よりも前段階にある磁石7の力
で磁性粒子などはトラップされるから、前記のマスクは目の粗いもので良く、従
って排気機構3の能力が大きなものでなくても排気速度は高く、薄膜形成能率は
高い。そして、排気機構3のコストも安いものでも済む。
【0010】
尚、楔状の凹条溝6は、図1に示される如く、粒子がトラップされ易いように
角度αが90°以上であることが好ましい。
【0011】
【効果】
薄膜形成に際して、槽内壁に付着していた薄膜が剥離、落下し、このような
薄膜の一部が槽と第1のパイプとの接続部に設けられたマスクを通り抜けて第1
のパイプ内に入り込んで来ても、バルブ位置よりも前段階にある磁石あるいは凹
条溝でトラップされ、バルブの位置まで到達することは格段に少なくなり、よっ
てバルブに配設されているパッキン等は損傷しにくく、バルブの部分からのリー
クの問題は起きにくく、バルブの交換を頻繁に行わなければならない等の問題が
大幅に改善された。
本考案の改善技術は、実施に複雑な技術を要求されず、極めて簡単に実施で
きるものであり、従ってコストアップをもたらすものではなく、低廉である。
槽内壁に堆積していた薄膜が剥離、落下し、このような薄膜の一部が槽と第
1のパイプとの接続部に設けられたマスクを通り抜けて第1のパイプ内に入り込
んで来ても、バルブ位置よりも前段階においてトラップされるから、マスクは目
の粗いもので良く、従って排気機構の能力が大きなものでなくても排気速度は高
い。
【図1】本考案に係る真空成膜装置の概略図である。
【図2】従来の真空成膜装置の概略図である。
1 槽
2a 第1のパイプ
2b 第2のパイプ
3 排気機構
4 バルブ
5 大径部
6 凹条溝
7 磁石
Claims (2)
- 【請求項1】 薄膜形成物質の堆積により成膜が行われ
る槽と、この槽に連結された第1のパイプと、排気機構
と、この排気機構に連結された第2のパイプと、前記第
1のパイプと第2のパイプとを連結する連結機構と、前
記第1のパイプの途中において磁力を作用させる磁石と
を具備したことを特徴とする真空成膜装置。 - 【請求項2】 薄膜形成物質の堆積により成膜が行われ
る槽と、この槽に連結された第1のパイプと、排気機構
と、この排気機構に連結された第2のパイプと、前記第
1のパイプと第2のパイプとを連結する連結機構と、前
記第1のパイプの途中の内壁面に形成された凹条溝とを
具備したことを特徴とする真空成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4497791U JPH05762U (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 真空成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4497791U JPH05762U (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 真空成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05762U true JPH05762U (ja) | 1993-01-08 |
Family
ID=12706531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4497791U Pending JPH05762U (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 真空成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05762U (ja) |
-
1991
- 1991-06-14 JP JP4497791U patent/JPH05762U/ja active Pending
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