JPH04359055A - 改良された室温硬化性シリコ―ン組成物 - Google Patents
改良された室温硬化性シリコ―ン組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は室温硬化性のシリコ―ン
組成物に係る。特に本発明は、改良された貯蔵寿命、改
良されたプライマ―なしの接着特性、厚い断面部分の改
良された硬化、および低い毒性特性を有する一液型の室
温硬化性シリコ―ン組成物に係る。
組成物に係る。特に本発明は、改良された貯蔵寿命、改
良されたプライマ―なしの接着特性、厚い断面部分の改
良された硬化、および低い毒性特性を有する一液型の室
温硬化性シリコ―ン組成物に係る。
【０００２】
【従来の技術】エ―テル、エポキシ、イソシアナト、シ
アノ、アクリルオキシまたはアシルオキシで官能化され
たポリアルコキシシランは、室温硬化性（ＲＴＶ）のシ
リコ―ン組成物用として重要なシランカップリング剤で
ある。これらの化合物は広範囲の基材に対して、プライ
マ―なしの優れた接着力を付与し、一方シ―ラント黄変
またはモジュラス増大を促進しない。したがって、これ
らを使用すると、シ―ラント黄変およびモジュラス増大
を促進するアミノ官能性のアルコキシシランを使用する
場合と比べて顕著な改善が達成される。
アノ、アクリルオキシまたはアシルオキシで官能化され
たポリアルコキシシランは、室温硬化性（ＲＴＶ）のシ
リコ―ン組成物用として重要なシランカップリング剤で
ある。これらの化合物は広範囲の基材に対して、プライ
マ―なしの優れた接着力を付与し、一方シ―ラント黄変
またはモジュラス増大を促進しない。したがって、これ
らを使用すると、シ―ラント黄変およびモジュラス増大
を促進するアミノ官能性のアルコキシシランを使用する
場合と比べて顕著な改善が達成される。
【０００３】アルコキシで末端が停止したポリジオルガ
ノシロキサンＲＴＶ組成物中に、アミノ、エ―テル、エ
ポキシ、イソシアナト、シアノ、アクリルオキシまたは
アシルオキシによって官能化された接着促進性のポリア
ルコキシシランを使用することは、たとえば、ル―カス
（Ｌｕｃａｓ）らの米国特許第４，４８３，９７３号お
よび第４，５２８，３５３号に開示されている。これら
の特許に開示されているＲＴＶ組成物は縮合硬化触媒と
してジアルキルスズジカルボキシレ―トを含有している
。
ノシロキサンＲＴＶ組成物中に、アミノ、エ―テル、エ
ポキシ、イソシアナト、シアノ、アクリルオキシまたは
アシルオキシによって官能化された接着促進性のポリア
ルコキシシランを使用することは、たとえば、ル―カス
（Ｌｕｃａｓ）らの米国特許第４，４８３，９７３号お
よび第４，５２８，３５３号に開示されている。これら
の特許に開示されているＲＴＶ組成物は縮合硬化触媒と
してジアルキルスズジカルボキシレ―トを含有している
。
【０００４】プライマ―なしの接着特性として最適のも
のを有するＲＴＶ組成物を得るためには、上記した基の
ひとつにより官能化された接着促進性のポリアルコキシ
シランが、ポリアルコキシで末端停止したポリジオルガ
ノシロキサン１００部当たり少なくとも０．６部の濃度
、好ましくは約１．０〜約１．６部の範囲の濃度で組成
物中に存在しなければならない。しかしながら、ジアル
キルスズジカルボキシレ―ト縮合触媒が存在する場合、
接着促進性のポリアルコキシシランをポリアルコキシで
末端停止したポリジオルガノシロキサン１００部に対し
て０．８〜１．６部の濃度で含有するＲＴＶ組成物は、
ジシラザンヒドロキシスカベンジャ―を高濃度で存在さ
せたとしても貯蔵安定性が悪いということが発見された
。本明細書中で使用する「貯蔵安定性」という用語は、
未硬化のＲＴＶ組成物を１００℃で２４時間エ―ジング
した後の硬化の質に関連している。「貯蔵安定性」のＲ
ＴＶシ―ラント組成物は、１００℃で２４時間保存した
後のＡＳＴＭシ―ト物理特性が、室温保存したシ―ラン
トと比較してほとんど変化していない。
のを有するＲＴＶ組成物を得るためには、上記した基の
ひとつにより官能化された接着促進性のポリアルコキシ
シランが、ポリアルコキシで末端停止したポリジオルガ
ノシロキサン１００部当たり少なくとも０．６部の濃度
、好ましくは約１．０〜約１．６部の範囲の濃度で組成
物中に存在しなければならない。しかしながら、ジアル
キルスズジカルボキシレ―ト縮合触媒が存在する場合、
接着促進性のポリアルコキシシランをポリアルコキシで
末端停止したポリジオルガノシロキサン１００部に対し
て０．８〜１．６部の濃度で含有するＲＴＶ組成物は、
ジシラザンヒドロキシスカベンジャ―を高濃度で存在さ
せたとしても貯蔵安定性が悪いということが発見された
。本明細書中で使用する「貯蔵安定性」という用語は、
未硬化のＲＴＶ組成物を１００℃で２４時間エ―ジング
した後の硬化の質に関連している。「貯蔵安定性」のＲ
ＴＶシ―ラント組成物は、１００℃で２４時間保存した
後のＡＳＴＭシ―ト物理特性が、室温保存したシ―ラン
トと比較してほとんど変化していない。
【０００５】ジアルキルスズジカルボキシレ―トは、遊
離のヒドロキシ化学種（たとえば開環したエポキシシラ
ン）が存在すると、ポリアルコキシで末端停止したポリ
マ―の分解を引き起こす。その結果ＲＴＶ組成物は硬化
しないか、または硬化状態が悪くなる。エポキシ官能性
のポリアルコキシシランを含有しジアルキルスズジカル
ボキシレ―トにより触媒されたＲＴＶシリコ―ン組成物
が貯蔵安定性になるには、エポキシ官能性のポリアルコ
キシシランがポリアルコキシで末端停止したポリジオル
ガノシロキサン１００部当たり０．４５部未満で存在し
なければならない。しかし、この量はプライマ―なしの
状態で最適の接着を達成するには不十分である。
離のヒドロキシ化学種（たとえば開環したエポキシシラ
ン）が存在すると、ポリアルコキシで末端停止したポリ
マ―の分解を引き起こす。その結果ＲＴＶ組成物は硬化
しないか、または硬化状態が悪くなる。エポキシ官能性
のポリアルコキシシランを含有しジアルキルスズジカル
ボキシレ―トにより触媒されたＲＴＶシリコ―ン組成物
が貯蔵安定性になるには、エポキシ官能性のポリアルコ
キシシランがポリアルコキシで末端停止したポリジオル
ガノシロキサン１００部当たり０．４５部未満で存在し
なければならない。しかし、この量はプライマ―なしの
状態で最適の接着を達成するには不十分である。
【０００６】したがって、貯蔵寿命が延び、しかもプラ
イマ―を使用しないときの接着力に優れているＲＴＶシ
リコ―ン組成物を提供することが望まれるのである。
イマ―を使用しないときの接着力に優れているＲＴＶシ
リコ―ン組成物を提供することが望まれるのである。
【０００７】上で引用したル―カス（Ｌｕｃａｓ）らの
特許に開示されているＲＴＶシリコ―ン組成物は２重量
％以上のシラザンヒドロキシスカベンジャ―を含有して
いる。 そのため、ル―カス（Ｌｕｃａｓ）らのＲＴＶ組成物は
、貯蔵寿命とプライマ―なしの接着力に関する制限があ
ることに加えて、シラザンヒドロキシスカベンジャ―を
含まないＲＴＶ組成物と比較して深部硬化の点で劣って
いる。 ル―カス（Ｌｕｃａｓ）らの組成物の深部硬化が悪いの
は、ポリマ―の末端基と内部（ＣＨ３ ）３ ＳｉＯ１
／２ 基生成性シラザンスカベンジャ―との加水分解的
相互作用によりポリマ―架橋部位が減少するためである
。
特許に開示されているＲＴＶシリコ―ン組成物は２重量
％以上のシラザンヒドロキシスカベンジャ―を含有して
いる。 そのため、ル―カス（Ｌｕｃａｓ）らのＲＴＶ組成物は
、貯蔵寿命とプライマ―なしの接着力に関する制限があ
ることに加えて、シラザンヒドロキシスカベンジャ―を
含まないＲＴＶ組成物と比較して深部硬化の点で劣って
いる。 ル―カス（Ｌｕｃａｓ）らの組成物の深部硬化が悪いの
は、ポリマ―の末端基と内部（ＣＨ３ ）３ ＳｉＯ１
／２ 基生成性シラザンスカベンジャ―との加水分解的
相互作用によりポリマ―架橋部位が減少するためである
。
【０００８】したがって、改良された深部硬化を有する
ＲＴＶ組成物を提供することも望ましい。
ＲＴＶ組成物を提供することも望ましい。
【０００９】ロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）らの米
国特許第４，５１７，３３７号とウェングロビウス（Ｗ
ｅｎｇｒｏｖｉｕｓ）らの米国特許第４，８６３，９９
２号には、硬化触媒としてジアルキルスズ‐ビスジケト
ナ―トを含有しアルコキシで末端が停止したポリジオル
ガノシロキサンＲＴＶシリコ―ン組成物が開示されてい
る。さらに、ウェングロビウス（Ｗｅｎｇｒｏｖｉｕｓ
）らの特許では、アミノ官能性のポリアルコキシシラン
を含む接着促進剤を高濃度で使用することも教示されて
いる。このロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）らとウェ
ングロビウス（Ｗｅｎｇｒｏｖｉｕｓ）らの組成物では
、シラザンスカベンジャ―を使用することなく、優れた
貯蔵安定性と優れた深部硬化とが一緒に得られる。しか
し、これらの組成物では、スズ上でのメタノ―ル／キレ
―トリガンド交換（メトキシ‐スズ平衡触媒が形成され
ることになろう）を防止するために安定化量の余分なβ
‐ジケトンが必要である。コストと入手容易性の観点か
ら工業的に特に重要なβ‐ジケトンは２，４‐ペンタン
ジオンであり、これに対応する硬化触媒はジブチルスズ
‐ビス‐アセチルアセトナ―トである。しかし、米国環
境保護庁（Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ Ｐｒｏｔｅｃ
ｔｉｏｎＡｇｅｎｃｙ）は最近２，４‐ペンタンジオン
に関して「重要新規使用規則（Ｓｉｇｎｉｆｉｃａｎｔ
Ｎｅｗ Ｕｓｅ Ｒｕｌｅ）」（ＳＮＵＲ）を発布し
た。それによると、２，４‐ペンタンジオンは吸入によ
り次第に毒性を強める神経毒および突然変異原である可
能性がある。このＳＮＵＲはいかなる新製品にも２，４
‐ペンタンジオンを使用することを基本的に禁じており
、したがって２，４‐ペンタンジオンを含有するＲＴＶ
組成物の市場性は著しく制限されている。２，４‐ペン
タンジオンの代わりに毒性が比較的少ない他のβ‐ジケ
トン（たとえば、２，４‐ヘキサンジオン）を使用する
ことはできるが、そのようなβ‐ジケトンは商業的に入
手が容易でない。
国特許第４，５１７，３３７号とウェングロビウス（Ｗ
ｅｎｇｒｏｖｉｕｓ）らの米国特許第４，８６３，９９
２号には、硬化触媒としてジアルキルスズ‐ビスジケト
ナ―トを含有しアルコキシで末端が停止したポリジオル
ガノシロキサンＲＴＶシリコ―ン組成物が開示されてい
る。さらに、ウェングロビウス（Ｗｅｎｇｒｏｖｉｕｓ
）らの特許では、アミノ官能性のポリアルコキシシラン
を含む接着促進剤を高濃度で使用することも教示されて
いる。このロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）らとウェ
ングロビウス（Ｗｅｎｇｒｏｖｉｕｓ）らの組成物では
、シラザンスカベンジャ―を使用することなく、優れた
貯蔵安定性と優れた深部硬化とが一緒に得られる。しか
し、これらの組成物では、スズ上でのメタノ―ル／キレ
―トリガンド交換（メトキシ‐スズ平衡触媒が形成され
ることになろう）を防止するために安定化量の余分なβ
‐ジケトンが必要である。コストと入手容易性の観点か
ら工業的に特に重要なβ‐ジケトンは２，４‐ペンタン
ジオンであり、これに対応する硬化触媒はジブチルスズ
‐ビス‐アセチルアセトナ―トである。しかし、米国環
境保護庁（Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ Ｐｒｏｔｅｃ
ｔｉｏｎＡｇｅｎｃｙ）は最近２，４‐ペンタンジオン
に関して「重要新規使用規則（Ｓｉｇｎｉｆｉｃａｎｔ
Ｎｅｗ Ｕｓｅ Ｒｕｌｅ）」（ＳＮＵＲ）を発布し
た。それによると、２，４‐ペンタンジオンは吸入によ
り次第に毒性を強める神経毒および突然変異原である可
能性がある。このＳＮＵＲはいかなる新製品にも２，４
‐ペンタンジオンを使用することを基本的に禁じており
、したがって２，４‐ペンタンジオンを含有するＲＴＶ
組成物の市場性は著しく制限されている。２，４‐ペン
タンジオンの代わりに毒性が比較的少ない他のβ‐ジケ
トン（たとえば、２，４‐ヘキサンジオン）を使用する
ことはできるが、そのようなβ‐ジケトンは商業的に入
手が容易でない。
【００１０】したがって、スズ‐メトキシ化学種の形成
を防止すると共にＲＴＶシリコ―ン組成物に貯蔵安定性
を付与する、２，４‐ペンタンジオンの入手が容易な代
替化合物を提供することが望ましい。
を防止すると共にＲＴＶシリコ―ン組成物に貯蔵安定性
を付与する、２，４‐ペンタンジオンの入手が容易な代
替化合物を提供することが望ましい。
【００１１】アミノ官能性のポリアルコキシシランがジ
アルキルスズ‐ビス‐ジケトナ―ト触媒と反応して遊離
の２，４‐ペンタンジオンを形成することが判明した。 この遊離の２，４‐ペンタンジオンは、上に述べた毒性
に加えて、未硬化のエラストマ―組成物中に存在する不
純物の鉄と反応して黄色物質を生じるという欠点ももっ
ている。さらに、アミノ官能性のポリアルコキシシラン
は後硬化の不安定性も助長し、その結果、硬化したエラ
ストマ―組成物でモジュラスが増大する。
アルキルスズ‐ビス‐ジケトナ―ト触媒と反応して遊離
の２，４‐ペンタンジオンを形成することが判明した。 この遊離の２，４‐ペンタンジオンは、上に述べた毒性
に加えて、未硬化のエラストマ―組成物中に存在する不
純物の鉄と反応して黄色物質を生じるという欠点ももっ
ている。さらに、アミノ官能性のポリアルコキシシラン
は後硬化の不安定性も助長し、その結果、硬化したエラ
ストマ―組成物でモジュラスが増大する。
【００１２】すなわち、接着促進剤としてアミノ官能性
のポリアルコキシシランを使用しないＲＴＶ組成物を提
供することも望ましいことである。
のポリアルコキシシランを使用しないＲＴＶ組成物を提
供することも望ましいことである。
【００１３】
【発明の目的】したがって、本発明の主たる目的は、長
くなった貯蔵寿命、プライマ―を使用しないときの改良
された接着性、改良された深部硬化、および低い毒性を
組合せて有するＲＴＶシリコ―ン組成物を提供すること
である。
くなった貯蔵寿命、プライマ―を使用しないときの改良
された接着性、改良された深部硬化、および低い毒性を
組合せて有するＲＴＶシリコ―ン組成物を提供すること
である。
【００１４】本発明のもうひとつ別の目的は、スズ‐メ
トキシ化学種の形成を防止するために２，４‐ペンタン
ジオン以外の物質を含有するＲＴＶシリコ―ン組成物を
提供することである。
トキシ化学種の形成を防止するために２，４‐ペンタン
ジオン以外の物質を含有するＲＴＶシリコ―ン組成物を
提供することである。
【００１５】これらの目的とその他の目的は本発明で達
成される。
成される。
【００１６】
【発明の概要】本発明のＲＴＶシリコ―ン組成物はいく
つかの利点を有する。たとえば、硬化または未硬化状態
で黄変しないこと、低めの安定したモジュラス、スカベ
ンジャ―濃度を７５％低減したことによる改良された深
部硬化、プライマ―を使用しないときの基材に対する改
良された接着力、および接着剤の改良された加水分解安
定性などである。
つかの利点を有する。たとえば、硬化または未硬化状態
で黄変しないこと、低めの安定したモジュラス、スカベ
ンジャ―濃度を７５％低減したことによる改良された深
部硬化、プライマ―を使用しないときの基材に対する改
良された接着力、および接着剤の改良された加水分解安
定性などである。
【００１７】本発明のＲＴＶシリコ―ン組成物は、エ―
テル、エポキシ、イソシアナト、シアノ、アクリルオキ
シ、またはアシルオキシによって官能化された接着促進
性のポリアルコキシシランを高めの濃度で混入すること
ができ、貯蔵安定性を犠牲にすることなくプライマ―な
しの接着力を改良することができる。というのは、本発
明のＲＴＶ組成物は、ヒドロキシ基に対するスカベンジ
ャ―を微量に含むことに加えて、縮合触媒としてジアル
キルスズジカルボキシレ―トではなくジアルキルスズ‐
ビス‐ジケトナ―トを含有するからである。プライマ―
なしで優れた接着力が得られる理由は、ポリアルコキシ
で末端が停止したポリジオルガノシロキサン１００部に
対して少なくとも０．６部の量で接着促進剤を使用する
ことである。さらに、本発明の組成物はスカベンジャ―
濃度が低下しているので、それより高濃度のスカベンジ
ャ―を含有するＲＴＶ組成物と比較して深部硬化が改良
されている。また、本発明の組成物は２，４‐ペンタン
ジオンの代わりにスカベンジャ―を使用するので毒性が
低い。
テル、エポキシ、イソシアナト、シアノ、アクリルオキ
シ、またはアシルオキシによって官能化された接着促進
性のポリアルコキシシランを高めの濃度で混入すること
ができ、貯蔵安定性を犠牲にすることなくプライマ―な
しの接着力を改良することができる。というのは、本発
明のＲＴＶ組成物は、ヒドロキシ基に対するスカベンジ
ャ―を微量に含むことに加えて、縮合触媒としてジアル
キルスズジカルボキシレ―トではなくジアルキルスズ‐
ビス‐ジケトナ―トを含有するからである。プライマ―
なしで優れた接着力が得られる理由は、ポリアルコキシ
で末端が停止したポリジオルガノシロキサン１００部に
対して少なくとも０．６部の量で接着促進剤を使用する
ことである。さらに、本発明の組成物はスカベンジャ―
濃度が低下しているので、それより高濃度のスカベンジ
ャ―を含有するＲＴＶ組成物と比較して深部硬化が改良
されている。また、本発明の組成物は２，４‐ペンタン
ジオンの代わりにスカベンジャ―を使用するので毒性が
低い。
【００１８】本発明は、改良された貯蔵安定性、プライ
マ―を使用しないときの改良された接着力、改良された
深部硬化、および低毒性を有するスカベンジャ―含有室
温硬化性シリコ―ン組成物を提供する。この組成物は以
下の成分からなる（部は重量による）。 （Ａ）２５℃で約１００〜約１，０００，０００センチ
ポイズの粘度を有するポリジオルガノシロキサン１００
部。ただし、各ポリマ―鎖末端のケイ素原子は少なくと
も２個のアルコキシ基で停止している。また、有機基は
Ｃ（１−１５）の一価の炭化水素基である。 （Ｂ）次の一般式を有するジオルガノスズビスβ‐ジケ
トナ―ト縮合触媒の有効量。
マ―を使用しないときの改良された接着力、改良された
深部硬化、および低毒性を有するスカベンジャ―含有室
温硬化性シリコ―ン組成物を提供する。この組成物は以
下の成分からなる（部は重量による）。 （Ａ）２５℃で約１００〜約１，０００，０００センチ
ポイズの粘度を有するポリジオルガノシロキサン１００
部。ただし、各ポリマ―鎖末端のケイ素原子は少なくと
も２個のアルコキシ基で停止している。また、有機基は
Ｃ（１−１５）の一価の炭化水素基である。 （Ｂ）次の一般式を有するジオルガノスズビスβ‐ジケ
トナ―ト縮合触媒の有効量。
【００１９】
【化５】
ここで、Ｒ５ はＣ（１−１８）の一価の炭化水素基お
よび置換された一価の炭化水素基の中から選択され、Ｒ
６ 、Ｒ７ およびＲ８ は水素、Ｒ５ 、ＯＲ５ 、
−ＯＳｉ（Ｒ５ ）３ 、−Ｓｉ（Ｒ５ ）３ 、アリ
―ル、アシルおよびニトリルより成る群の中から選択さ
れる同一かまたは異なる一価の基である。 （Ｃ）ヒドロキシ官能基用スカベンジャ―約０．１〜約
１．５部。 （Ｄ）次の一般式を有する接着促進性のポリアルコキシ
シラン約０．６〜約５部。
よび置換された一価の炭化水素基の中から選択され、Ｒ
６ 、Ｒ７ およびＲ８ は水素、Ｒ５ 、ＯＲ５ 、
−ＯＳｉ（Ｒ５ ）３ 、−Ｓｉ（Ｒ５ ）３ 、アリ
―ル、アシルおよびニトリルより成る群の中から選択さ
れる同一かまたは異なる一価の基である。 （Ｃ）ヒドロキシ官能基用スカベンジャ―約０．１〜約
１．５部。 （Ｄ）次の一般式を有する接着促進性のポリアルコキシ
シラン約０．６〜約５部。
【００２０】
【化６】
ここで、Ｒ９ とＲ１０はＣ１−８ の一価の炭化水素
基であり、Ｚは、エ―テル、エポキシ、イソシアナト、
シアノ、アクリルオキシおよびアシルオキシより成る群
の中から選択された基によって官能化されていてもよい
飽和、不飽和または芳香族の炭化水素残基であり、ｂは
０から３までで変化する。 （Ｅ）架橋用のポリアルコキシシラン０〜約１０部。
基であり、Ｚは、エ―テル、エポキシ、イソシアナト、
シアノ、アクリルオキシおよびアシルオキシより成る群
の中から選択された基によって官能化されていてもよい
飽和、不飽和または芳香族の炭化水素残基であり、ｂは
０から３までで変化する。 （Ｅ）架橋用のポリアルコキシシラン０〜約１０部。
【００２１】
本発明の組成物の成分（Ａ）は、ポリマ―鎖の各末端が
少なくとも２個のアルコキシ基によって停止しており、
２５℃で約１００〜約１，０００，０００センチポイズ
、好ましくは２５℃で約５０００〜約２００，０００セ
ンチポイズの範囲の粘度を有するポリジオルガノシロキ
サンポリマ―である。このポリマ―の有機基はＣ１−１
５の一価の炭化水素基である。
少なくとも２個のアルコキシ基によって停止しており、
２５℃で約１００〜約１，０００，０００センチポイズ
、好ましくは２５℃で約５０００〜約２００，０００セ
ンチポイズの範囲の粘度を有するポリジオルガノシロキ
サンポリマ―である。このポリマ―の有機基はＣ１−１
５の一価の炭化水素基である。
【００２２】成分（Ａ）を構成するポリマ―は次の一般
式（Ｉ）を有するものが好ましい。
式（Ｉ）を有するものが好ましい。
【００２３】
【化７】
ここで、ＲとＲ２ は各々が独立して、置換されている
かまたは置換されていないＣ（１−１５）の一価の炭化
水素基であり、Ｒ１ はアルキル基、アルキルエ―テル
基、アルキルエステル基、アルキルケトン基、アルキル
シアノ基の中から選択されるＣ（１−８） の脂肪族有
機基、またはＣ（７−１５）のアラルキル基であり、ｎ
は約５０から約２５００までの範囲の整数であり、ａは
０か１の整数である。
かまたは置換されていないＣ（１−１５）の一価の炭化
水素基であり、Ｒ１ はアルキル基、アルキルエ―テル
基、アルキルエステル基、アルキルケトン基、アルキル
シアノ基の中から選択されるＣ（１−８） の脂肪族有
機基、またはＣ（７−１５）のアラルキル基であり、ｎ
は約５０から約２５００までの範囲の整数であり、ａは
０か１の整数である。
【００２４】式（Ｉ）中で、ＲはＣ（１−１３）で一価
の炭化水素基、ハロゲン化された炭化水素基およびシア
ノアルキル基の中から選択されるものが好ましく、Ｒ１
はＣ（１−８） のアルキル基またはＣ（７−１３）
のアラルキル基が好ましく、Ｒ２ はメチル、フェニル
またはビニルが好ましい。Ｒ、Ｒ１ およびＲ２ がい
ずれもメチルであるものが最も好ましい。
の炭化水素基、ハロゲン化された炭化水素基およびシア
ノアルキル基の中から選択されるものが好ましく、Ｒ１
はＣ（１−８） のアルキル基またはＣ（７−１３）
のアラルキル基が好ましく、Ｒ２ はメチル、フェニル
またはビニルが好ましい。Ｒ、Ｒ１ およびＲ２ がい
ずれもメチルであるものが最も好ましい。
【００２５】成分（Ａ）のポリマ―の末端ケイ素原子は
少なくとも２個のアルコキシ基をもっていなければなら
ず、上記定義に従って３個のアルコキシ基を有すること
ができる。
少なくとも２個のアルコキシ基をもっていなければなら
ず、上記定義に従って３個のアルコキシ基を有すること
ができる。
【００２６】式（Ｉ）のポリマ―はチャン（Ｃｈｕｎｇ
）の米国特許第４，５１５，９３２号およびウェングロ
ビウス（Ｗｅｎｇｒｏｖｉｕｓ）らの米国特許第４，８
６３，９９２号（両方とも援用する）に記載されている
方法に従って製造するのが好ましい。このチャン（Ｃｈ
ｕｎｇ）およびウェングロビウス（Ｗｅｎｇｒｏｖｉｕ
ｓ）らの方法でポリマ―を製造するには、２５℃で１０
０〜１，０００，０００センチポイズの範囲の粘度を有
するシラノ―ルで末端停止したジオルガノポリシロキサ
ンポリマ―（有機基は一価の炭化水素基である）を、末
端カップリング触媒の存在下で次式のポリアルコキシ架
橋剤と反応させる。
）の米国特許第４，５１５，９３２号およびウェングロ
ビウス（Ｗｅｎｇｒｏｖｉｕｓ）らの米国特許第４，８
６３，９９２号（両方とも援用する）に記載されている
方法に従って製造するのが好ましい。このチャン（Ｃｈ
ｕｎｇ）およびウェングロビウス（Ｗｅｎｇｒｏｖｉｕ
ｓ）らの方法でポリマ―を製造するには、２５℃で１０
０〜１，０００，０００センチポイズの範囲の粘度を有
するシラノ―ルで末端停止したジオルガノポリシロキサ
ンポリマ―（有機基は一価の炭化水素基である）を、末
端カップリング触媒の存在下で次式のポリアルコキシ架
橋剤と反応させる。
【００２７】
【化８】
ただし、Ｒ１ 、Ｒ２ およびｂはすでに定義した通り
である。
である。
【００２８】式（Ｉ）のポリマ―が形成される上記末端
カップリング反応は、ブレンステッド酸、ルイス酸、ス
テアリン酸で処理した炭酸カルシウム、およびアミン、
ならびにこれらの混合物より成る群の中から選択される
末端カップリング触媒の存在下で、アルコキシシランを
、シラノ―ルで末端停止したジオルガノポリシロキサン
ポリマ―（１種以上）と混合することによって実施する
。最も好ましい触媒は上記酸のいずれか１種とアミンと
の組合せである。
カップリング反応は、ブレンステッド酸、ルイス酸、ス
テアリン酸で処理した炭酸カルシウム、およびアミン、
ならびにこれらの混合物より成る群の中から選択される
末端カップリング触媒の存在下で、アルコキシシランを
、シラノ―ルで末端停止したジオルガノポリシロキサン
ポリマ―（１種以上）と混合することによって実施する
。最も好ましい触媒は上記酸のいずれか１種とアミンと
の組合せである。
【００２９】成分（Ｂ）は次の一般式（ＩＩ）のジオル
ガノスズ‐ビス‐ジケトナ―ト縮合触媒である。
ガノスズ‐ビス‐ジケトナ―ト縮合触媒である。
【００３０】
【化９】
ここで、Ｒ５ はＣ（１−１８）の一価の炭化水素基お
よび置換された一価の炭化水素基の中から選択され、Ｒ
６ 、Ｒ７ およびＲ８ は水素、ＯＲ５ 、Ｒ５ 、
ＯＳｉ（Ｒ５ ）３ 、−Ｓｉ（Ｒ５ ）３ 、アリ―
ル、アシルおよびニトリルより成る群の中から選択され
る同一かまたは異なる一価の基である。
よび置換された一価の炭化水素基の中から選択され、Ｒ
６ 、Ｒ７ およびＲ８ は水素、ＯＲ５ 、Ｒ５ 、
ＯＳｉ（Ｒ５ ）３ 、−Ｓｉ（Ｒ５ ）３ 、アリ―
ル、アシルおよびニトリルより成る群の中から選択され
る同一かまたは異なる一価の基である。
【００３１】式（ＩＩ）のＲ５ に包含される基は、た
とえば、Ｃ（６−１３）のアリ―ル基およびハロゲン化
されたアリ―ル基（たとえば、フェニル、トリル、クロ
ロフェニル、ナフチル）、Ｃ（１−１８）で脂肪族また
は環式脂肪族の基およびこれらのハロゲン化された誘導
体（たとえば、シクロヘキシル、シクロブチル）、アル
キル基およびアルケニル基（たとえば、メチル、エチル
、プロピル、クロロプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ビニル、アリルおよびトリ
フルオロプロピル）である。
とえば、Ｃ（６−１３）のアリ―ル基およびハロゲン化
されたアリ―ル基（たとえば、フェニル、トリル、クロ
ロフェニル、ナフチル）、Ｃ（１−１８）で脂肪族また
は環式脂肪族の基およびこれらのハロゲン化された誘導
体（たとえば、シクロヘキシル、シクロブチル）、アル
キル基およびアルケニル基（たとえば、メチル、エチル
、プロピル、クロロプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ビニル、アリルおよびトリ
フルオロプロピル）である。
【００３２】式（ＩＩ）に包含されるスズ縮合触媒をい
くつか挙げると、たとえば、ジ（ｎ‐ブチル）スズビス
（アセチルアセトナ―ト）、ジ（ｎ‐ブチル）スズビス
（ベンゾイルアセトナ―ト）、ジ（エチル）スズビス（
ラウロイルアセトナ―ト）、ジ（メチル）スズビス（ピ
バロイルアセトナ―ト）、ジ（ｎ‐ブチル）スズビス（
エチルアセトアセテ―ト）、ジ（ｎ‐オクチル）スズビ
ス（アセチルアセトナ―ト）、ジ（ｎ‐プロピル）スズ
ビス（１，１，１‐トリフルオロアセチルアセトナ―ト
）、およびジ（ｎ‐ブチル）スズ（アセチルアセトナ―
ト）（エチルアセトアセテ―ト）がある。
くつか挙げると、たとえば、ジ（ｎ‐ブチル）スズビス
（アセチルアセトナ―ト）、ジ（ｎ‐ブチル）スズビス
（ベンゾイルアセトナ―ト）、ジ（エチル）スズビス（
ラウロイルアセトナ―ト）、ジ（メチル）スズビス（ピ
バロイルアセトナ―ト）、ジ（ｎ‐ブチル）スズビス（
エチルアセトアセテ―ト）、ジ（ｎ‐オクチル）スズビ
ス（アセチルアセトナ―ト）、ジ（ｎ‐プロピル）スズ
ビス（１，１，１‐トリフルオロアセチルアセトナ―ト
）、およびジ（ｎ‐ブチル）スズ（アセチルアセトナ―
ト）（エチルアセトアセテ―ト）がある。
【００３３】本発明で使用するのに好ましいスズ触媒は
ジ（ｎ‐ブチル）スズビス（アセチルアセトナ―ト）で
ある。
ジ（ｎ‐ブチル）スズビス（アセチルアセトナ―ト）で
ある。
【００３４】この触媒は有効量で存在し、これは、通常
約０．０１〜約２重量部、好ましくは約０．１〜約１重
量部、最も好ましくは約０．２〜約０．５重量部である
。
約０．０１〜約２重量部、好ましくは約０．１〜約１重
量部、最も好ましくは約０．２〜約０．５重量部である
。
【００３５】成分（Ｃ）はヒドロキシ官能基用のスカベ
ンジャ―化合物である。
ンジャ―化合物である。
【００３６】このスカベンジャ―は業界で公知の任意の
スカベンジャ―とすることができる。本出願のスカベン
ジャ―は、組成物中にある遊離のヒドロキシ基を固定し
て反応し、そのヒドロキシ基と結合し、そのヒドロキシ
基が組成物中のアルコキシ基と反応するのを防止する官
能基をもっているすべての化合物と定義される。この点
で本発明のスカベンジャ―は後述するようにアルコキシ
基と捕捉（スカベンジャ―）基とを含有する一体化され
た架橋剤／スカベンジャ―であり得る。
スカベンジャ―とすることができる。本出願のスカベン
ジャ―は、組成物中にある遊離のヒドロキシ基を固定し
て反応し、そのヒドロキシ基と結合し、そのヒドロキシ
基が組成物中のアルコキシ基と反応するのを防止する官
能基をもっているすべての化合物と定義される。この点
で本発明のスカベンジャ―は後述するようにアルコキシ
基と捕捉（スカベンジャ―）基とを含有する一体化され
た架橋剤／スカベンジャ―であり得る。
【００３７】本発明のＲＴＶ組成物中に使用するのに適
したスカベンジャ―化合物は、たとえばル―カス（Ｌｕ
ｃａｓ）の米国特許第４，８９５，９１８号、ドジャ―
ク（Ｄｚｉａｒｋ）の同第４，４１７，０４２号、ロッ
クハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）の同第４，４６７，０６
３号、ロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）の同第４，４
７７，６２５号、ロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）の
同第４，４９９，２２９号、ロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈ
ａｒｔ）の同第４，４９９，２３０号、ホワイト（Ｗｈ
ｉｔｅ）らの同第４，３９５，５２６号およびホワイト
（Ｗｈｉｔｅ）らの同第４，４７２，５５１号（すべて
援用する）に開示されている。
したスカベンジャ―化合物は、たとえばル―カス（Ｌｕ
ｃａｓ）の米国特許第４，８９５，９１８号、ドジャ―
ク（Ｄｚｉａｒｋ）の同第４，４１７，０４２号、ロッ
クハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）の同第４，４６７，０６
３号、ロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）の同第４，４
７７，６２５号、ロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）の
同第４，４９９，２２９号、ロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈ
ａｒｔ）の同第４，４９９，２３０号、ホワイト（Ｗｈ
ｉｔｅ）らの同第４，３９５，５２６号およびホワイト
（Ｗｈｉｔｅ）らの同第４，４７２，５５１号（すべて
援用する）に開示されている。
【００３８】本発明で使用するのに適したスカベンジャ
―としては、たとえば、非環式シラノ―ルスカベンジャ
―および環式シリル窒素スカベンジャ―があり、これら
はル―カス（Ｌｕｃａｓ）の米国特許第４，８９５，９
１８号（援用する）に開示されている。
―としては、たとえば、非環式シラノ―ルスカベンジャ
―および環式シリル窒素スカベンジャ―があり、これら
はル―カス（Ｌｕｃａｓ）の米国特許第４，８９５，９
１８号（援用する）に開示されている。
【００３９】本発明のＲＴＶ組成物中でスカベンジャ―
として使用することができる別の種類の捕捉用化合物は
次式を有するシランである。
として使用することができる別の種類の捕捉用化合物は
次式を有するシランである。
【００４０】
【化１０】
ここで、Ｒ１ 、Ｒ２ およびＸはすでに定義した通り
であり、ｃは０から３までの数に等しい整数であり、ｆ
は１から４までの数に等しい整数であり、ｃ＋ｆの和は
１から４までに等しい。
であり、ｃは０から３までの数に等しい整数であり、ｆ
は１から４までの数に等しい整数であり、ｃ＋ｆの和は
１から４までに等しい。
【００４１】式（ＩＩＩ）の範囲内に入るスカベンジャ
―は、たとえば、ル―カス（Ｌｕｃａｓ）の米国特許第
４，８９５，９１８号およびホワイト（Ｗｈｉｔｅ）ら
の同第４，３９５，５２６号（両方とも援用する）に開
示されている。
―は、たとえば、ル―カス（Ｌｕｃａｓ）の米国特許第
４，８９５，９１８号およびホワイト（Ｗｈｉｔｅ）ら
の同第４，３９５，５２６号（両方とも援用する）に開
示されている。
【００４２】また、ロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）
の米国特許第４，４６７，０６３号に開示されているＮ
‐シリル‐置換イミダゾ―ル、ロックハ―ト（Ｌｏｃｋ
ｈａｒｔ）の米国特許第４，４９９，２３０号に開示さ
れているゼオライト、およびホワイト（Ｗｈｉｔｅ）ら
の米国特許第４，４７２，５５１号に教示されている有
機スカベンジャ―も本発明で使用するのに適している。 これらの特許はすべてすでに援用してある。
の米国特許第４，４６７，０６３号に開示されているＮ
‐シリル‐置換イミダゾ―ル、ロックハ―ト（Ｌｏｃｋ
ｈａｒｔ）の米国特許第４，４９９，２３０号に開示さ
れているゼオライト、およびホワイト（Ｗｈｉｔｅ）ら
の米国特許第４，４７２，５５１号に教示されている有
機スカベンジャ―も本発明で使用するのに適している。 これらの特許はすべてすでに援用してある。
【００４３】その他の適切なスカベンジャ―としては、
たとえば、ロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）の米国特
許第４，４９９，２２９号および第４，４７７，６２５
号（両方ともすでに援用してある）に開示されているケ
イ素含有スカベンジャ―がある。
たとえば、ロックハ―ト（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）の米国特
許第４，４９９，２２９号および第４，４７７，６２５
号（両方ともすでに援用してある）に開示されているケ
イ素含有スカベンジャ―がある。
【００４４】これらのケイ素含有スカベンジャ―は次の
一般式をもっている。
一般式をもっている。
【００４５】
【化１１】
ここで、Ｘはすでに定義した通りであり、ｄは０から４
までの値に等しい整数であり、ＳｉのＸが占めることが
できる原子価を除く残りの原子価はＳｉ、Ｈ、Ｃ、Ｏ、
Ｎ、Ｐ、Ｓ、およびＩＩＩａ、ＩＶａ 、Ｖａ 、ＶＩ
ａ、ＶＩＩａおよびＶＩＩＩ族の遷移元素ならびにこれ
らの混合物の中から選択される原子によって占めること
ができる。
までの値に等しい整数であり、ＳｉのＸが占めることが
できる原子価を除く残りの原子価はＳｉ、Ｈ、Ｃ、Ｏ、
Ｎ、Ｐ、Ｓ、およびＩＩＩａ、ＩＶａ 、Ｖａ 、ＶＩ
ａ、ＶＩＩａおよびＶＩＩＩ族の遷移元素ならびにこれ
らの混合物の中から選択される原子によって占めること
ができる。
【００４６】本発明のＲＴＶ組成物中に使用するのに好
ましいスカベンジャ―は以下のものより成る群の中から
選択されるケイ素‐窒素化合物である。（ａ）次式（Ｉ
Ｖ）を有するケイ素‐窒素化合物。
ましいスカベンジャ―は以下のものより成る群の中から
選択されるケイ素‐窒素化合物である。（ａ）次式（Ｉ
Ｖ）を有するケイ素‐窒素化合物。
【００４７】
【化１２】
ここで、ＹはＲ８ および（Ｒ７ ）２ Ｎ−の中から
選択される。（ｂ）（１）式
選択される。（ｂ）（１）式
【００４８】
【化１３】
を有する単位より成る群の中から選択される化学結合し
た構造単位３〜１００モル％と、 （２）式 （Ｒ８ ）ｃ ＳｉＯ（４−ｃ／２） によって表わさ
れる化学結合した構造単位０〜９７モル％とからなるケ
イ素‐窒素ポリマ―。ただし、このケイ素‐窒素ポリマ
―のケイ素原子はＳｉＯＳｉ結合およびＳｉＮＲ７ Ｓ
ｉ結合の中から選択される結合を介して互いに結合して
おり、ケイ素原子の酸素と結合してシロキシ単位を形成
している原子価および窒素と結合してシラジル単位を形
成している原子価以外の遊離の原子価はＲ８ 基および
（Ｒ７ ）２ Ｎ基の中から選択される基に結合してお
り、ケイ素‐窒素ポリマ―のＲ８ 基および（Ｒ７ ）
２ Ｎ基の合計とケイ素原子との比は１．５から３まで
の値を有しており、Ｒ７ は水素、一価の炭化水素基お
よびフルオロアルキル基より成る群の中から選択される
ものであり、Ｒ８ は水素、一価の炭化水素基およびフ
ルオロアルキル基より成る群の中から選択されるもので
あり、ｃは０から３までの値に等しい整数である。
た構造単位３〜１００モル％と、 （２）式 （Ｒ８ ）ｃ ＳｉＯ（４−ｃ／２） によって表わさ
れる化学結合した構造単位０〜９７モル％とからなるケ
イ素‐窒素ポリマ―。ただし、このケイ素‐窒素ポリマ
―のケイ素原子はＳｉＯＳｉ結合およびＳｉＮＲ７ Ｓ
ｉ結合の中から選択される結合を介して互いに結合して
おり、ケイ素原子の酸素と結合してシロキシ単位を形成
している原子価および窒素と結合してシラジル単位を形
成している原子価以外の遊離の原子価はＲ８ 基および
（Ｒ７ ）２ Ｎ基の中から選択される基に結合してお
り、ケイ素‐窒素ポリマ―のＲ８ 基および（Ｒ７ ）
２ Ｎ基の合計とケイ素原子との比は１．５から３まで
の値を有しており、Ｒ７ は水素、一価の炭化水素基お
よびフルオロアルキル基より成る群の中から選択される
ものであり、Ｒ８ は水素、一価の炭化水素基およびフ
ルオロアルキル基より成る群の中から選択されるもので
あり、ｃは０から３までの値に等しい整数である。
【００４９】上記式に包含され、本発明で使用するのに
適したケイ素‐窒素化合物の例はドジャ―ク（Ｄｚｉａ
ｒｋ）の米国特許第４，４１７，０４２号（すでに援用
してある）に開示されている。これらの化合物にはシラ
ザン類および水素含有アミン類が含まれる。
適したケイ素‐窒素化合物の例はドジャ―ク（Ｄｚｉａ
ｒｋ）の米国特許第４，４１７，０４２号（すでに援用
してある）に開示されている。これらの化合物にはシラ
ザン類および水素含有アミン類が含まれる。
【００５０】本発明で使用するのに好ましいケイ素‐窒
素スカベンジャ―化合物はジシラザンとポリシラザンで
ある。適切なシラザンの例としては、ヘキサメチルシク
ロトリシラザン、オクタメチルテトラシラザン、トリメ
チルトリフェニルシクロトリシラザン、およびトリビニ
ルトリメチルシクロトリシラザンなどがある。本発明で
使用するのに最も好ましいポリシラザンはヘキサメチル
シクロ‐Ｎ‐メチルトリシラザンであり、最も好ましい
ジシラザンはヘキサメチルジシラザンである。
素スカベンジャ―化合物はジシラザンとポリシラザンで
ある。適切なシラザンの例としては、ヘキサメチルシク
ロトリシラザン、オクタメチルテトラシラザン、トリメ
チルトリフェニルシクロトリシラザン、およびトリビニ
ルトリメチルシクロトリシラザンなどがある。本発明で
使用するのに最も好ましいポリシラザンはヘキサメチル
シクロ‐Ｎ‐メチルトリシラザンであり、最も好ましい
ジシラザンはヘキサメチルジシラザンである。
【００５１】スカベンジャ―はポリアルコキシで末端が
停止したポリジオルガノシロキサン（Ａ）１００部に対
して約０．１〜約１．５部、好ましくは約０．２〜約１
部、最も好ましくは約０．４〜約０．８部の範囲の量で
本発明の組成物中に存在する。
停止したポリジオルガノシロキサン（Ａ）１００部に対
して約０．１〜約１．５部、好ましくは約０．２〜約１
部、最も好ましくは約０．４〜約０．８部の範囲の量で
本発明の組成物中に存在する。
【００５２】成分（Ｄ）は次の一般式（Ｖ）を有する接
着促進剤である。
着促進剤である。
【００５３】
【化１４】
ここで、Ｒ９ とＲ１０はＣ１−８ の一価の炭化水素
基であり、Ｚはエ―テル、エポキシ、イソシアナト、シ
アノ、アクリルオキシおよびアシルオキシより成る群の
中から選択された基によってさらに官能化されていても
よい飽和、不飽和または芳香族の炭化水素残基であり、
ｂは０から３までで変化する。
基であり、Ｚはエ―テル、エポキシ、イソシアナト、シ
アノ、アクリルオキシおよびアシルオキシより成る群の
中から選択された基によってさらに官能化されていても
よい飽和、不飽和または芳香族の炭化水素残基であり、
ｂは０から３までで変化する。
【００５４】成分（Ｄ）は次の一般式（ＶＩ）を有する
接着促進剤が好ましい。
接着促進剤が好ましい。
【００５５】
【化１５】
ここで、Ｒ９ とＲ１０はＣ１−８ の一価の炭化水素
基であり、Ｒ１１とＲ１２はＣ２−１２の二価の炭化水
素基であり、Ｒ１３は水素およびＣ１−８ の一価の炭
化水素基より成る群の中から選択され、ｔは０から３ま
でで変化する。
基であり、Ｒ１１とＲ１２はＣ２−１２の二価の炭化水
素基であり、Ｒ１３は水素およびＣ１−８ の一価の炭
化水素基より成る群の中から選択され、ｔは０から３ま
でで変化する。
【００５６】式（Ｖ）と（ＶＩ）の範囲内に入る適切な
接着促進剤とその製造方法はル―カス（Ｌｕｃａｓ）ら
の米国特許第４，４８３，９７３号（援用する）に開示
されている。
接着促進剤とその製造方法はル―カス（Ｌｕｃａｓ）ら
の米国特許第４，４８３，９７３号（援用する）に開示
されている。
【００５７】式（ＶＩ）でＲ１１とＲ１２はアルキレン
基、アリ―レン基、アルキレンアリ―レン基などのよう
な二価の炭化水素基のいずれであってもよく、ハロゲン
原子、エ―テル基、エステル基、その他の炭化水素基の
ような各種の基によって置換されていてもよいし、置換
されていなくてもよい。Ｒ１３は水素または一価の炭化
水素基であり、水素が好ましい。上記式（ＶＩ）の範囲
内に入る化合物としては、たとえば、γ‐グリシドキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ‐グリシドキシプ
ロピルトリエトキシシラン、γ‐グリシドキシプロピル
メチルジエトキシシラン、およびγ‐グリシドキシエチ
ルトリメトキシシラン、ならびにエポキシシクロヘキシ
ルエチルトリメトキシシランおよびエポキシシクロヘキ
シルエチルトリメトキシシランがある。式（ＶＩ）の範
囲内に入る最も好ましい化合物はγ‐グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシランである。
基、アリ―レン基、アルキレンアリ―レン基などのよう
な二価の炭化水素基のいずれであってもよく、ハロゲン
原子、エ―テル基、エステル基、その他の炭化水素基の
ような各種の基によって置換されていてもよいし、置換
されていなくてもよい。Ｒ１３は水素または一価の炭化
水素基であり、水素が好ましい。上記式（ＶＩ）の範囲
内に入る化合物としては、たとえば、γ‐グリシドキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ‐グリシドキシプ
ロピルトリエトキシシラン、γ‐グリシドキシプロピル
メチルジエトキシシラン、およびγ‐グリシドキシエチ
ルトリメトキシシラン、ならびにエポキシシクロヘキシ
ルエチルトリメトキシシランおよびエポキシシクロヘキ
シルエチルトリメトキシシランがある。式（ＶＩ）の範
囲内に入る最も好ましい化合物はγ‐グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシランである。
【００５８】式（Ｖ）と（ＶＩ）の化合物は、文献に記
載のようにしてシリコ―ン生産者が作成することができ
るし、あるいは特殊化学品供給業者から入手することが
できる。
載のようにしてシリコ―ン生産者が作成することができ
るし、あるいは特殊化学品供給業者から入手することが
できる。
【００５９】すでに述べたように、アミノ官能性のポリ
アルコキシシランは、本発明の組成物中で使用するのに
適した接着促進剤ではない。これらの化合物はジアルキ
ルスズ‐ビス‐ジケトナ―ト触媒と反応して遊離の２，
４‐ペンタンジオンを形成するが、この２，４‐ペンタ
ンジオンはすでに述べたように毒性を有する上に、未硬
化のエラストマ―組成物中に混在する不純物の鉄と反応
して黄色い物質を生成するという欠点もある。さらにア
ミノ官能性のポリアルコキシシランは、後硬化不安定性
も増長し、硬化したエラストマ―組成物のモジュラスが
増大することになる。
アルコキシシランは、本発明の組成物中で使用するのに
適した接着促進剤ではない。これらの化合物はジアルキ
ルスズ‐ビス‐ジケトナ―ト触媒と反応して遊離の２，
４‐ペンタンジオンを形成するが、この２，４‐ペンタ
ンジオンはすでに述べたように毒性を有する上に、未硬
化のエラストマ―組成物中に混在する不純物の鉄と反応
して黄色い物質を生成するという欠点もある。さらにア
ミノ官能性のポリアルコキシシランは、後硬化不安定性
も増長し、硬化したエラストマ―組成物のモジュラスが
増大することになる。
【００６０】このような化合物を製造するひとつの方法
では、アリルグリシジルエ―テルを白金触媒の存在下で
トリメトキシヒドリドシランと反応させる。この一般的
な反応に従って上記式（Ｖ）の範囲内に入る他の化合物
を製造することができる。
では、アリルグリシジルエ―テルを白金触媒の存在下で
トリメトキシヒドリドシランと反応させる。この一般的
な反応に従って上記式（Ｖ）の範囲内に入る他の化合物
を製造することができる。
【００６１】接着促進助剤は本発明の組成物中で、ポリ
アルコキシで末端が停止したポリジオルガノシロキサン
（Ａ）１００部当たり約０．６〜約５部、好ましくは約
０．８〜約１．６部、最も好ましくは約１．０〜約１．
６部の量で存在する。接着促進剤の存在量が０．６部未
満であると、プライマ―なしのときの改良された接着力
が得られない。
アルコキシで末端が停止したポリジオルガノシロキサン
（Ａ）１００部当たり約０．６〜約５部、好ましくは約
０．８〜約１．６部、最も好ましくは約１．０〜約１．
６部の量で存在する。接着促進剤の存在量が０．６部未
満であると、プライマ―なしのときの改良された接着力
が得られない。
【００６２】本発明で使用するのに適した架橋用ポリア
ルコキシシラン（Ｅ）は次の一般式をもっている。
ルコキシシラン（Ｅ）は次の一般式をもっている。
【００６３】
【化１６】
ここで、Ｒ１ 、Ｒ２ およびｂはすでに定義した通り
である。
である。
【００６４】上記式（ＶＩＩ）で表わされる代表的な化
合物としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、テトラエ
トキシシランおよびビニルトリメトキシシランがある。 メチルトリメトキシシランが好ましい。
合物としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、テトラエ
トキシシランおよびビニルトリメトキシシランがある。 メチルトリメトキシシランが好ましい。
【００６５】架橋剤は本発明のＲＴＶ組成物中に、ポリ
アルコキシで末端が停止したポリジオルガノシロキサン
１００部に対して通常は約０〜約１０部、好ましくは約
０．３〜約２部、最も好ましくは約０．５〜約１．６部
の範囲の量で存在する。
アルコキシで末端が停止したポリジオルガノシロキサン
１００部に対して通常は約０〜約１０部、好ましくは約
０．３〜約２部、最も好ましくは約０．５〜約１．６部
の範囲の量で存在する。
【００６６】好ましい態様において本発明のＲＴＶ組成
物はさらに（Ｆ）充填材も含有する。本発明の組成物に
は、たとえば、二酸化チタン、ケイ酸ジルコニウム、シ
リカエ―ロゲル、酸化鉄、ケイソウ土、ヒュ―ムドシリ
カ、カ―ボンブラック、沈降シリカ、ガラス繊維、ポリ
塩化ビニル、粉砕石英、炭酸カルシウムなどのような各
種の充填材を配合することができる。本発明の組成物中
に使用するのに好ましい充填材は強化用充填材であり、
ヒュ―ムドシリカ充填材が最も好ましい。
物はさらに（Ｆ）充填材も含有する。本発明の組成物に
は、たとえば、二酸化チタン、ケイ酸ジルコニウム、シ
リカエ―ロゲル、酸化鉄、ケイソウ土、ヒュ―ムドシリ
カ、カ―ボンブラック、沈降シリカ、ガラス繊維、ポリ
塩化ビニル、粉砕石英、炭酸カルシウムなどのような各
種の充填材を配合することができる。本発明の組成物中
に使用するのに好ましい充填材は強化用充填材であり、
ヒュ―ムドシリカ充填材が最も好ましい。
【００６７】充填材の使用量は目的とする用途に応じて
広い範囲内で変えることができる。
広い範囲内で変えることができる。
【００６８】本発明の組成物は、建設・工事用のシ―ラ
ントやコ―キングコンパウンドとして使用することがで
きる。したがって、充填材の正確な量は組成物の目的と
する用途や使用する充填材のタイプといったような要因
に依存する。一般に、本発明のＲＴＶ組成物中には、ポ
リアルコキシで末端が停止したポリジオルガノシロキサ
ン１００部当たり約０〜約１００部の充填材（これは、
約２０部までのヒュ―ムドシリカ充填材を含むのが好ま
しい）を使用するのが好ましい。
ントやコ―キングコンパウンドとして使用することがで
きる。したがって、充填材の正確な量は組成物の目的と
する用途や使用する充填材のタイプといったような要因
に依存する。一般に、本発明のＲＴＶ組成物中には、ポ
リアルコキシで末端が停止したポリジオルガノシロキサ
ン１００部当たり約０〜約１００部の充填材（これは、
約２０部までのヒュ―ムドシリカ充填材を含むのが好ま
しい）を使用するのが好ましい。
【００６９】シリカ充填材はオクタメチルシクロテトラ
シロキサンのような活性化剤で前処理すると有利なこと
が多い。
シロキサンのような活性化剤で前処理すると有利なこと
が多い。
【００７０】また、本発明の組成物は、次の一般式（Ｖ
ＩＩＩ）を有するシアノ官能性のポリアルコキシシラン
（Ｇ）を含むのが好ましい。
ＩＩＩ）を有するシアノ官能性のポリアルコキシシラン
（Ｇ）を含むのが好ましい。
【００７１】
【化１７】
ここで、Ｒ１４とＲ１５は各々が炭素原子を１〜約８個
有する一価の炭化水素基または置換された炭化水素基で
あり、ｂは約０〜約３までの範囲の数であり、Ｚは飽和
、不飽和または芳香族のシアノ官能化炭化水素基である
。
有する一価の炭化水素基または置換された炭化水素基で
あり、ｂは約０〜約３までの範囲の数であり、Ｚは飽和
、不飽和または芳香族のシアノ官能化炭化水素基である
。
【００７２】上記式（ＶＩＩＩ）の範囲内に入るシアノ
官能性のポリアルコキシシランと、強化用充填材、およ
びすでに述べたように酸とアミンの組合せである末端カ
ップリング用触媒を存在させてシラノ―ルで末端停止し
たジオルガノポリシロキサンポリマ―をポリアルコキシ
シラン架橋剤と反応させることによって製造されるアル
コキシ官能性ポリジオルガノシロキサンとを組合せると
、押出速度とチキソトロピ―特性が良好になったＲＴＶ
組成物が得られることが判明している。
官能性のポリアルコキシシランと、強化用充填材、およ
びすでに述べたように酸とアミンの組合せである末端カ
ップリング用触媒を存在させてシラノ―ルで末端停止し
たジオルガノポリシロキサンポリマ―をポリアルコキシ
シラン架橋剤と反応させることによって製造されるアル
コキシ官能性ポリジオルガノシロキサンとを組合せると
、押出速度とチキソトロピ―特性が良好になったＲＴＶ
組成物が得られることが判明している。
【００７３】式（ＶＩＩＩ）の化合物でＲ１４とＲ１５
はアルキル基（たとえば、メチル、エチル、プロピルな
ど）、アルケニル基（たとえば、ビニル、アリルなど）
、シクロアルキル基（たとえば、シクロヘキシル、シク
ロヘプチルなど）、単核アリ―ル基（たとえば、メチル
‐フェニルなど）、およびフルオロアルキル基（たとえ
ば、３，３，３‐トリフルオロプロピル）であることが
できる。 Ｒ１４とＲ１５はメチルまたはエチルの中から選択され
るのが好ましく、両方ともメチルであるのが最も好まし
い。
はアルキル基（たとえば、メチル、エチル、プロピルな
ど）、アルケニル基（たとえば、ビニル、アリルなど）
、シクロアルキル基（たとえば、シクロヘキシル、シク
ロヘプチルなど）、単核アリ―ル基（たとえば、メチル
‐フェニルなど）、およびフルオロアルキル基（たとえ
ば、３，３，３‐トリフルオロプロピル）であることが
できる。 Ｒ１４とＲ１５はメチルまたはエチルの中から選択され
るのが好ましく、両方ともメチルであるのが最も好まし
い。
【００７４】またＺは次式を有するのが好ましい。
【００７５】
【化１８】
ここで、Ｒ１６はＣ（１−１２）の二価の炭化水素基で
あり、好ましいＲ１６は炭素原子数が２〜約１２個、最
も好ましくは約２〜約４個のアルキレンまたはアリ―レ
ンで置換された二価の炭化水素基である。
あり、好ましいＲ１６は炭素原子数が２〜約１２個、最
も好ましくは約２〜約４個のアルキレンまたはアリ―レ
ンで置換された二価の炭化水素基である。
【００７６】式（ＶＩＩ）でｂは０か１が好ましく、０
が最も好ましい。
が最も好ましい。
【００７７】上記式（ＶＩＩＩ）の範囲内に入る好まし
い特定の化合物はβ‐シアノエチルトリメトキシシラン
である。他の特定の化合物としては、３‐（シアノエト
キシ）‐３‐メチルブテニルトリメトキシシラン、β‐
シアノエチルトリエトキシシラン、β‐シアノエチルト
リメトキシシラン、２‐シアノエチルメチルジエトキシ
シラン、３‐シアノプロピルトリエトキシシラン、シア
ノプロピルメチルジメトキシシラン、１‐シアノエチル
トリス（メトキシエトキシ）シランがある。
い特定の化合物はβ‐シアノエチルトリメトキシシラン
である。他の特定の化合物としては、３‐（シアノエト
キシ）‐３‐メチルブテニルトリメトキシシラン、β‐
シアノエチルトリエトキシシラン、β‐シアノエチルト
リメトキシシラン、２‐シアノエチルメチルジエトキシ
シラン、３‐シアノプロピルトリエトキシシラン、シア
ノプロピルメチルジメトキシシラン、１‐シアノエチル
トリス（メトキシエトキシ）シランがある。
【００７８】式（ＶＩＩＩ）の範囲内に入る化合物の製
造方法は、たとえばル―カス（Ｌｕｃａｓ）らの米国特
許第４，４８３，９７３号および第４，５２８，３５３
号（援用する）に開示されている。これらの化合物は、
白金触媒の存在下でシアン化オレフィンをトリクロロヒ
ドリドシランと反応させて所望の中間体を生成させた後
この中間体をアルコキシル化してシアノ官能性のアルコ
キシシランを生成させることによって製造することがで
きる。したがって、ひとつの特定のタイプの反応は、た
とえばシアン化アリルとトリクロロシランとの反応とす
ることができるであろう。この反応では、メトキシル化
された中間体を白金触媒との付加反応に使用するとメト
キシ基がシアン化物基と反応して所望の生成物の収率を
下げることになるので、クロロシランをシアン化物と反
応させる。
造方法は、たとえばル―カス（Ｌｕｃａｓ）らの米国特
許第４，４８３，９７３号および第４，５２８，３５３
号（援用する）に開示されている。これらの化合物は、
白金触媒の存在下でシアン化オレフィンをトリクロロヒ
ドリドシランと反応させて所望の中間体を生成させた後
この中間体をアルコキシル化してシアノ官能性のアルコ
キシシランを生成させることによって製造することがで
きる。したがって、ひとつの特定のタイプの反応は、た
とえばシアン化アリルとトリクロロシランとの反応とす
ることができるであろう。この反応では、メトキシル化
された中間体を白金触媒との付加反応に使用するとメト
キシ基がシアン化物基と反応して所望の生成物の収率を
下げることになるので、クロロシランをシアン化物と反
応させる。
【００７９】成分（Ｇ）は本発明の組成物中に、ポリア
ルコキシで末端が停止したポリジオルガノシロキサン（
Ａ）１００部当たり約０〜約１０部、好ましくは約０．
３〜約２部、最も好ましくは約０．５〜約１部の範囲の
量で存在することができる。
ルコキシで末端が停止したポリジオルガノシロキサン（
Ａ）１００部当たり約０〜約１０部、好ましくは約０．
３〜約２部、最も好ましくは約０．５〜約１部の範囲の
量で存在することができる。
【００８０】本発明の組成物はさらに、２５℃で１０〜
５０００センチポイズの粘度を有するトリオルガノシリ
ルで末端停止したジオルガノポリシロキサン（この有機
基は一価の炭化水素基であり、炭素原子を１〜８個有す
るのが好ましい）を約１〜約５０重量部含有していても
よい。このような線状のジオルガノポリシロキサンポリ
マ―は可塑剤として有用である。このような可塑剤はシ
ラノ―ル基を含んでいないのが好ましいが、通常は約５
００ｐｐｍまでのシラノ―ル基が存在する。また、オル
ガノ置換基がメチルであり、粘度が２５℃で１０〜１０
００センチポイズの範囲であるのが好ましい。
５０００センチポイズの粘度を有するトリオルガノシリ
ルで末端停止したジオルガノポリシロキサン（この有機
基は一価の炭化水素基であり、炭素原子を１〜８個有す
るのが好ましい）を約１〜約５０重量部含有していても
よい。このような線状のジオルガノポリシロキサンポリ
マ―は可塑剤として有用である。このような可塑剤はシ
ラノ―ル基を含んでいないのが好ましいが、通常は約５
００ｐｐｍまでのシラノ―ル基が存在する。また、オル
ガノ置換基がメチルであり、粘度が２５℃で１０〜１０
００センチポイズの範囲であるのが好ましい。
【００８１】以上の可塑剤に代えて、またはそれに加え
て、本発明の室温硬化性組成物にさらに、三官能性、四
官能性またはこれらの混合物を高度に含有する流体シロ
キサンを１〜２０重量部含ませるのが望ましい。一般に
このような可塑剤は、（ｉ）２５〜６０モル％のモノア
ルキルシロキシ単位、シロキシ単位またはこれらの混合
物、（ｉｉ）１〜６モル％のトリアルキルシロキシ単位
、および（ｉｉｉ）３４〜７４モル％のジアルキルシロ
キシ単位からなる。ここで、この可塑剤流体はケイ素に
結合したヒドロキシル単位を約０．１〜約２重量％含有
する。
て、本発明の室温硬化性組成物にさらに、三官能性、四
官能性またはこれらの混合物を高度に含有する流体シロ
キサンを１〜２０重量部含ませるのが望ましい。一般に
このような可塑剤は、（ｉ）２５〜６０モル％のモノア
ルキルシロキシ単位、シロキシ単位またはこれらの混合
物、（ｉｉ）１〜６モル％のトリアルキルシロキシ単位
、および（ｉｉｉ）３４〜７４モル％のジアルキルシロ
キシ単位からなる。ここで、この可塑剤流体はケイ素に
結合したヒドロキシル単位を約０．１〜約２重量％含有
する。
【００８２】その他の化合物、たとえば白金のような難
燃剤も本発明の組成物に含ませることができる。
燃剤も本発明の組成物に含ませることができる。
【００８３】本発明のＲＴＶ組成物は業界で公知の方法
によって製造できる。たとえば、全部の成分を同時に混
合して製造することができる。好ましい製造方法では、
ポリアルコキシで末端が停止したポリマ―、シアノ官能
性のポリアルコキシシランおよび充填材の混合物を激し
く混和する。その後架橋剤、スズ触媒、安定剤／スカベ
ンジャ―、接着促進剤、その他の成分（たとえば可塑剤
）を別々に、または一緒に加え、無水条件下で充分に混
合する。
によって製造できる。たとえば、全部の成分を同時に混
合して製造することができる。好ましい製造方法では、
ポリアルコキシで末端が停止したポリマ―、シアノ官能
性のポリアルコキシシランおよび充填材の混合物を激し
く混和する。その後架橋剤、スズ触媒、安定剤／スカベ
ンジャ―、接着促進剤、その他の成分（たとえば可塑剤
）を別々に、または一緒に加え、無水条件下で充分に混
合する。
【００８４】本発明のＲＴＶ組成物は各種の基材・基板
、特にメ―ソンリ―基材に塗布することができる。適し
た基材の例としては、アルミニウム、ガラス、ポリアク
リレ―ト、ポリカ―ボネ―ト、ポリ塩化ビニルおよびコ
ンクリ―トがある。
、特にメ―ソンリ―基材に塗布することができる。適し
た基材の例としては、アルミニウム、ガラス、ポリアク
リレ―ト、ポリカ―ボネ―ト、ポリ塩化ビニルおよびコ
ンクリ―トがある。
【００８５】
【実施例の記載】本発明を例示する目的で以下に実施例
を挙げる。これらの実施例は本発明の範囲もしくは境界
を定める目的で挙げるものではない。実施例中で部とあ
るのはすべて重量部である。
を挙げる。これらの実施例は本発明の範囲もしくは境界
を定める目的で挙げるものではない。実施例中で部とあ
るのはすべて重量部である。
【００８６】実 験
実施例１
本実施例はメチルジメトキシで末端が停止したポリジメ
チルシロキサンポリマ―の製造を例示する。このポリマ
―は、無水条件下で以下の材料を混合することによって
製造した。
チルシロキサンポリマ―の製造を例示する。このポリマ
―は、無水条件下で以下の材料を混合することによって
製造した。
【００８７】
２５℃で１１０，０００センチポイズの粘度を
１００ 部 有する
ヒドロキシで末端が停止したポリジメチ ルシロ
キサンポリマ― メチルトリメトキシシラン
１．７５
部 ジイソブチルアミン
０．０６部 ギ酸
０．０３部反応混合物を窒素雰
囲気下で３時間１２０℃に加熱した。この時点でポリジ
メチルシロキサンは１００％がＣＨ３ （ＣＨ３ Ｏ）
２ Ｓｉ−基で末端停止していることがＳｉ２９ＦＴＮ
ＭＲ分析によって判明した。最後に得られた末端停止し
たポリマ―は２５℃の粘度が１３０，０００センチポイ
ズであった。 実施例２ 実施例２は、スカベンジャ―／安定剤を含まないＲＴＶ
シ―ラント組成物を、３０ｍｍワ―ナ―‐プライデラ―
（Ｗｅｒｎｅｒ−Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ）二軸式エクス
トル―ダ―を用いて連続的に製造する例を示す。本実施
例では、ジシラザンスカベンジャ―も余分な遊離β‐ジ
ケトン安定剤も存在しない場合の貯蔵安定性の悪さを例
示する。
１００ 部 有する
ヒドロキシで末端が停止したポリジメチ ルシロ
キサンポリマ― メチルトリメトキシシラン
１．７５
部 ジイソブチルアミン
０．０６部 ギ酸
０．０３部反応混合物を窒素雰
囲気下で３時間１２０℃に加熱した。この時点でポリジ
メチルシロキサンは１００％がＣＨ３ （ＣＨ３ Ｏ）
２ Ｓｉ−基で末端停止していることがＳｉ２９ＦＴＮ
ＭＲ分析によって判明した。最後に得られた末端停止し
たポリマ―は２５℃の粘度が１３０，０００センチポイ
ズであった。 実施例２ 実施例２は、スカベンジャ―／安定剤を含まないＲＴＶ
シ―ラント組成物を、３０ｍｍワ―ナ―‐プライデラ―
（Ｗｅｒｎｅｒ−Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ）二軸式エクス
トル―ダ―を用いて連続的に製造する例を示す。本実施
例では、ジシラザンスカベンジャ―も余分な遊離β‐ジ
ケトン安定剤も存在しない場合の貯蔵安定性の悪さを例
示する。
【００８８】エクストル―ダ―のすべての部分を７５℃
に加熱した。このエクストル―ダ―のバレル１に、Ｄ４
で処理したヒュ―ムドシリカ１６部、上記実施例１で
製造したメチルジメトキシで末端が停止したポリジメチ
ルシロキサンポリマ―６０部、およびシアノエチルトリ
メトキシシラン０．８部を連続的に加えた。またバレル
８には、実施例１で製造したポリマ―４０部、１００セ
ンチポイズの粘度を有するトリメチルシリルで末端停止
したポリジメチルシロキサン流体１７．５部、および５
０センチポイズの粘度を有するＭＤＴシラノ―ル流体１
７．５部を連続的に加えた。空気を除去するためにバレ
ル１１を通して減圧にした。さらにバレル１２には、ジ
ブチルスズ‐ビス‐アセチルアセトナ―ト硬化触媒０．
４８部、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン０．
４８部、およびメチルトリメトキシシラン１．６部を連
続的に加えた。ＲＴＶシ―ラントが４０ポンド／時の速
度で連続的に生成した。
に加熱した。このエクストル―ダ―のバレル１に、Ｄ４
で処理したヒュ―ムドシリカ１６部、上記実施例１で
製造したメチルジメトキシで末端が停止したポリジメチ
ルシロキサンポリマ―６０部、およびシアノエチルトリ
メトキシシラン０．８部を連続的に加えた。またバレル
８には、実施例１で製造したポリマ―４０部、１００セ
ンチポイズの粘度を有するトリメチルシリルで末端停止
したポリジメチルシロキサン流体１７．５部、および５
０センチポイズの粘度を有するＭＤＴシラノ―ル流体１
７．５部を連続的に加えた。空気を除去するためにバレ
ル１１を通して減圧にした。さらにバレル１２には、ジ
ブチルスズ‐ビス‐アセチルアセトナ―ト硬化触媒０．
４８部、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン０．
４８部、およびメチルトリメトキシシラン１．６部を連
続的に加えた。ＲＴＶシ―ラントが４０ポンド／時の速
度で連続的に生成した。
【００８９】このシ―ラント組成物を７２℃、５０％の
相対湿度（標準状態）で７日間硬化させた。次にシ―ラ
ントのＡＳＴＭ物理的性質を測定した。また、未硬化の
シ―ラントを２４時間１００℃に加熱した後標準状態で
７日間硬化させた後の促進貯蔵寿命に関するＡＳＴＭ物
理的性質を測定した。さらに、未硬化のシ―ラントを７
０℃で１４日間加熱してから標準状態で７日間硬化させ
た後に、促進貯蔵寿命に関するＡＳＴＭ物理的性質を測
定した。（深部硬化の尺度として）１″×１″×１／８
″のＰＶＣ重ね剪断接着試験片は、標準状態で３日間硬
化させた後に作成した。結果はすべて表１に示す。下記
表中で「Ｎ／Ａ」とあるのは「適用できない」ことを意
味し、組成物が硬化しなかったためその特性を測定する
ことができなかったことを示している。
相対湿度（標準状態）で７日間硬化させた。次にシ―ラ
ントのＡＳＴＭ物理的性質を測定した。また、未硬化の
シ―ラントを２４時間１００℃に加熱した後標準状態で
７日間硬化させた後の促進貯蔵寿命に関するＡＳＴＭ物
理的性質を測定した。さらに、未硬化のシ―ラントを７
０℃で１４日間加熱してから標準状態で７日間硬化させ
た後に、促進貯蔵寿命に関するＡＳＴＭ物理的性質を測
定した。（深部硬化の尺度として）１″×１″×１／８
″のＰＶＣ重ね剪断接着試験片は、標準状態で３日間硬
化させた後に作成した。結果はすべて表１に示す。下記
表中で「Ｎ／Ａ」とあるのは「適用できない」ことを意
味し、組成物が硬化しなかったためその特性を測定する
ことができなかったことを示している。
【００９０】
【表１】
表 １ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ 硬化しない 硬化しな
い ショアＡ型デュロメ―タ ２０
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 引張
強さ（ｐｓｉ） ２４８
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 伸び
（％） ４８２
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 重ね
剪断（ｐｓｉ） １０３
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ実施例３ 硬化触媒としてジブチルスズ‐ビス‐アセチルアセトナ
―トの代わりにジブチルスズジアセテ―ト（０．２６部
）を使用した以外は実施例２を繰返した。本実施例は、
ジシラザンスカベンジャ―が存在しないとシ―ラントが
安定性に欠けることを例示する。結果を表２に示す。
表 １ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ 硬化しない 硬化しな
い ショアＡ型デュロメ―タ ２０
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 引張
強さ（ｐｓｉ） ２４８
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 伸び
（％） ４８２
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 重ね
剪断（ｐｓｉ） １０３
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ実施例３ 硬化触媒としてジブチルスズ‐ビス‐アセチルアセトナ
―トの代わりにジブチルスズジアセテ―ト（０．２６部
）を使用した以外は実施例２を繰返した。本実施例は、
ジシラザンスカベンジャ―が存在しないとシ―ラントが
安定性に欠けることを例示する。結果を表２に示す。
【００９１】
【表２】
表 ２ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ 硬化しない 硬化しな
い ショアＡ型デュロメ―タ ２２
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 引張
強さ（ｐｓｉ） ２５０
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 伸び
（％） ４７３
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 重ね
剪断（ｐｓｉ） ６５
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ実施例
４ ヘキサメチルジシラザン０．８部をエクストル―ダ―の
バレル１に連続的に加えた以外は実施例３を繰返した。 本実施例は、ジシラザンスカベンジャ―の存在量が不十
分な場合、ジブチルスズジアセテ―トで触媒されたＲＴ
Ｖ組成物が貯蔵安定性に欠けることを例示する。結果を
表３に示す。
表 ２ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ 硬化しない 硬化しな
い ショアＡ型デュロメ―タ ２２
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 引張
強さ（ｐｓｉ） ２５０
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 伸び
（％） ４７３
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 重ね
剪断（ｐｓｉ） ６５
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ実施例
４ ヘキサメチルジシラザン０．８部をエクストル―ダ―の
バレル１に連続的に加えた以外は実施例３を繰返した。 本実施例は、ジシラザンスカベンジャ―の存在量が不十
分な場合、ジブチルスズジアセテ―トで触媒されたＲＴ
Ｖ組成物が貯蔵安定性に欠けることを例示する。結果を
表３に示す。
【００９２】
【表３】
表 ３ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ 硬化しない 硬化しな
い ショアＡ型デュロメ―タ ２１
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 引張
強さ（ｐｓｉ） ２４５
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 伸び
（％） ５０５
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 重ね
剪断（ｐｓｉ） ７３
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ実施例
５ ヘキサメチルジシラザン３．２部をエクストル―ダ―の
バレル１に連続的に加えた以外は実施例３を繰返した。 本実施例は、ジシラザンスカベンジャ―の量を多くする
と貯蔵安定性が得られるが、深部硬化の質は劣ることを
例示する。結果を表４に示す。
表 ３ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ 硬化しない 硬化しな
い ショアＡ型デュロメ―タ ２１
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 引張
強さ（ｐｓｉ） ２４５
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 伸び
（％） ５０５
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 重ね
剪断（ｐｓｉ） ７３
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ実施例
５ ヘキサメチルジシラザン３．２部をエクストル―ダ―の
バレル１に連続的に加えた以外は実施例３を繰返した。 本実施例は、ジシラザンスカベンジャ―の量を多くする
と貯蔵安定性が得られるが、深部硬化の質は劣ることを
例示する。結果を表４に示す。
【００９３】
【表４】
表 ４ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ ２０
２０ ショアＡ型デュロメ―タ ２１
２０
２２ 引張強さ（ｐｓｉ） ２３
７ ２１２ ２
５２ 伸び（％） ５０
１ ５５５ ４
９５ 重ね剪断（ｐｓｉ）
３５ 試験せず 試
験せず実施例６ グリシドキシプロピルトリメトキシシラン０．８部をエ
クストル―ダ―のバレル８に連続的に加えた以外は実施
例５を繰返した。本実施例は、高濃度のヘキサメチルジ
シラザンを含有するジブチルスズジアセテ―トで触媒さ
れたＲＴＶシ―ラント組成物中のグリシドキシプロピル
トリメトキシシランの量を０．４８部（すなわち約０．
３重量％）から０．８部（すなわち約０．５重量％）に
増やすと、このシ―ラントの貯蔵安定性が失われること
を例示する。結果を表５に示す。
表 ４ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ ２０
２０ ショアＡ型デュロメ―タ ２１
２０
２２ 引張強さ（ｐｓｉ） ２３
７ ２１２ ２
５２ 伸び（％） ５０
１ ５５５ ４
９５ 重ね剪断（ｐｓｉ）
３５ 試験せず 試
験せず実施例６ グリシドキシプロピルトリメトキシシラン０．８部をエ
クストル―ダ―のバレル８に連続的に加えた以外は実施
例５を繰返した。本実施例は、高濃度のヘキサメチルジ
シラザンを含有するジブチルスズジアセテ―トで触媒さ
れたＲＴＶシ―ラント組成物中のグリシドキシプロピル
トリメトキシシランの量を０．４８部（すなわち約０．
３重量％）から０．８部（すなわち約０．５重量％）に
増やすと、このシ―ラントの貯蔵安定性が失われること
を例示する。結果を表５に示す。
【００９４】
【表５】
表 ５ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ 硬化しない 硬化しな
い ショアＡ型デュロメ―タ ２４
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 引張
強さ（ｐｓｉ） ２５２
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 伸び
（％） ５３１
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 重ね
剪断（ｐｓｉ） ２７
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ実施例
７ ヘキサメチルジシラザン０．８部をエクストル―ダ―の
バレル１に連続的に加えた以外は実施例２を繰返した。 本実施例は、低濃度のジシラザンスカベンジャ―が、グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン０．４８部（約
０．３重量％）の存在下で、ジブチルスズ‐ビス‐アセ
チルアセトナ―トで触媒されたＲＴＶ組成物を安定化す
ることを例示する。また、低濃度のヘキサメチルジシラ
ザン（すなわち、０．８部または０．５重量％）の時改
良された深部硬化を示している。結果を表６に示す。
表 ５ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ 硬化しない 硬化しな
い ショアＡ型デュロメ―タ ２４
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 引張
強さ（ｐｓｉ） ２５２
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 伸び
（％） ５３１
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ 重ね
剪断（ｐｓｉ） ２７
Ｎ／Ａ Ｎ／Ａ実施例
７ ヘキサメチルジシラザン０．８部をエクストル―ダ―の
バレル１に連続的に加えた以外は実施例２を繰返した。 本実施例は、低濃度のジシラザンスカベンジャ―が、グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン０．４８部（約
０．３重量％）の存在下で、ジブチルスズ‐ビス‐アセ
チルアセトナ―トで触媒されたＲＴＶ組成物を安定化す
ることを例示する。また、低濃度のヘキサメチルジシラ
ザン（すなわち、０．８部または０．５重量％）の時改
良された深部硬化を示している。結果を表６に示す。
【００９５】
【表６】
表 ６ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ ３０
２０ ショアＡ型デュロメ―タ １７
１５
１８ 引張強さ（ｐｓｉ） ２５
１ ２３９ ２
４７ 伸び（％） ５４
４ ５８７ ５
３１ 重ね剪断（ｐｓｉ） １０
５ 試験せず 試験
せず実施例８ ヘキサメチルジシラザン０．８部をエクストル―ダ―の
バレル１に連続的に加え、かつグリシドキシプロピルト
リメトキシシラン０．８部をバレル１２に連続的に加え
た以外は実施例２を繰返した。本実施例は、ヘキサメチ
ルジシラザンが低濃度（すなわち、０．８部または０．
５重量％）であるジブチルスズ‐ビス‐アセチルアセト
ナ―トで触媒されたＲＴＶ組成物が、高濃度（すなわち
、０．８部または０．５重量％）のグリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランの存在下で貯蔵安定性であること
を立証する。結果を表７に示す。
表 ６ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ ３０
２０ ショアＡ型デュロメ―タ １７
１５
１８ 引張強さ（ｐｓｉ） ２５
１ ２３９ ２
４７ 伸び（％） ５４
４ ５８７ ５
３１ 重ね剪断（ｐｓｉ） １０
５ 試験せず 試験
せず実施例８ ヘキサメチルジシラザン０．８部をエクストル―ダ―の
バレル１に連続的に加え、かつグリシドキシプロピルト
リメトキシシラン０．８部をバレル１２に連続的に加え
た以外は実施例２を繰返した。本実施例は、ヘキサメチ
ルジシラザンが低濃度（すなわち、０．８部または０．
５重量％）であるジブチルスズ‐ビス‐アセチルアセト
ナ―トで触媒されたＲＴＶ組成物が、高濃度（すなわち
、０．８部または０．５重量％）のグリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランの存在下で貯蔵安定性であること
を立証する。結果を表７に示す。
【００９６】
【表７】
表 ７ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ ３０
２０ ショアＡ型デュロメ―タ １７
１５
１７ 引張強さ（ｐｓｉ） ２５
２ ２９９ ２
６２ 伸び（％） ５５
４ ６３４ ５
７２ 重ね剪断（ｐｓｉ） １２
５ 試験せず 試験
せず実施例９ 高濃度（すなわち、約１部または０．７重量％）のグリ
シドキシプロピルトリメトキシシランを使用した以外は
実施例７を繰返した。本実施例は、低濃度のヘキサメチ
ルジシラザンを含有するジブチルスズ‐ビス‐アセチル
アセトナ―トで触媒されたＲＴＶ組成物が、高濃度のグ
リシドキシプロピルトリメトキシシランの存在下で貯蔵
安定性であることを例証する。結果を表８に示す。
表 ７ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ ３０
２０ ショアＡ型デュロメ―タ １７
１５
１７ 引張強さ（ｐｓｉ） ２５
２ ２９９ ２
６２ 伸び（％） ５５
４ ６３４ ５
７２ 重ね剪断（ｐｓｉ） １２
５ 試験せず 試験
せず実施例９ 高濃度（すなわち、約１部または０．７重量％）のグリ
シドキシプロピルトリメトキシシランを使用した以外は
実施例７を繰返した。本実施例は、低濃度のヘキサメチ
ルジシラザンを含有するジブチルスズ‐ビス‐アセチル
アセトナ―トで触媒されたＲＴＶ組成物が、高濃度のグ
リシドキシプロピルトリメトキシシランの存在下で貯蔵
安定性であることを例証する。結果を表８に示す。
【００９７】
【表８】
表 ８ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ ３０
２０ ショアＡ型デュロメ―タ １７
１５
１５ 引張強さ（ｐｓｉ） ２１
６ ２１８ ２
１０ 伸び（％） ５１
２ ５２４ ５
３５ 重ね剪断（ｐｓｉ） １３
１ 試験せず 試験
せず実施例１０ グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１．６部をエ
クストル―ダ―のバレル１２に連続的に加えた以外は実
施例７を繰返した。本実施例は、低濃度のヘキサメチル
ジシラザンを含有するジブチルスズ‐ビス‐アセチルア
セトナ―トで触媒されたＲＴＶ組成物が、高濃度のグリ
シドキシプロピルトリメトキシシランの存在下で貯蔵安
定性であることを例証する。結果を表９に示す。
表 ８ シ―ラント特性
２５℃ １００℃、２４時間 ７０
℃、１４日間 指触乾燥時間（分）
２０ ３０
２０ ショアＡ型デュロメ―タ １７
１５
１５ 引張強さ（ｐｓｉ） ２１
６ ２１８ ２
１０ 伸び（％） ５１
２ ５２４ ５
３５ 重ね剪断（ｐｓｉ） １３
１ 試験せず 試験
せず実施例１０ グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１．６部をエ
クストル―ダ―のバレル１２に連続的に加えた以外は実
施例７を繰返した。本実施例は、低濃度のヘキサメチル
ジシラザンを含有するジブチルスズ‐ビス‐アセチルア
セトナ―トで触媒されたＲＴＶ組成物が、高濃度のグリ
シドキシプロピルトリメトキシシランの存在下で貯蔵安
定性であることを例証する。結果を表９に示す。
【００９８】
【表９】
Claims (11)
- 【請求項１】 （Ａ）２５℃で約１００〜約１，００
０，０００センチポイズの粘度を有するポリジオルガノ
シロキサン１００重量部（ただし、各ポリマ―鎖末端の
ケイ素原子は少なくとも２個のアルコキシ基で停止して
おり、有機基はＣ１−１５の一価の炭化水素基である）
と、（Ｂ）一般式 【化１】 ［式中、Ｒ５ はＣ（１−１８）の一価の炭化水素基お
よび置換された一価の炭化水素基の中から選択され、Ｒ
６ 、Ｒ７ およびＲ８ は水素、Ｒ５ 、ＯＲ５ 、
−ＯＳｉ（Ｒ５ ）３ 、−Ｓｉ（Ｒ５ ）３ 、アリ
―ル、アシルおよびニトリルより成る群の中から選択さ
れる同一かまたは異なる一価の基である］のジオルガノ
スズビスβ‐ジケトナ―ト縮合触媒の有効量と、（Ｃ）
ヒドロキシ官能基用スカベンジャ―約０．１〜約１．５
重量部と、（Ｄ）一般式 【化２】 ［式中、Ｒ９ およびＲ１０はＣ１−８ の一価の炭化
水素基であり、Ｚは飽和、不飽和または芳香族炭化水素
残基であり、これはエ―テル、エポキシ、イソシアナト
、シアノ、アクリルオキシおよびアシルオキシより成る
群の中から選択された基によってさらに官能化されてい
てもよく、ｂは０から３までで変化する］を有する接着
促進性のポリアルコキシシラン約０．６〜約５重量部と
、（Ｅ）架橋用ポリアルコキシシラン０〜約１０重量部
とを含む、貯蔵寿命、プライマ―なしの接着特性、およ
び深部硬化が改良された低毒性のスカベンジャ―含有室
温硬化性シリコ―ン組成物。 - 【請求項２】 スズ縮合触媒が、ジ（ｎ‐ブチル）ス
ズビス（アセチルアセトナ―ト）、ジ（ｎ‐ブチル）ス
ズビス（ベンゾイルアセトナ―ト）、ジ（エチル）スズ
ビス（ラウロイルアセトナ―ト）、ジ（メチル）スズビ
ス（ピバロイルアセトナ―ト）、ジ（ｎ‐オクチル）ス
ズビス（アセチルアセトナ―ト）、ジ（ｎ‐プロピル）
スズビス（１，１，１‐トリフルオロアセチルアセトナ
―ト）、ジ（ｎ‐ブチル）スズ（アセチルアセトナ―ト
）（エチルアセトアセテ―ト）、およびジ（ｎ‐ブチル
）スズビス（エチルアセトアセテ―ト）より成る群の中
から選択される、請求項１記載の組成物。 - 【請求項３】 接着促進性のポリアルコキシシランが
、一般式 【化３】 ［式中、Ｒ９ およびＲ１０はＣ１−８ の一価の炭化
水素基であり、Ｒ１１およびＲ１２はＣ２−１２の二価
の炭化水素基であり、Ｒ１３は水素およびＣ１−８の一
価の炭化水素基より成る群の中から選択され、ｔは０か
ら３までで変化する］を有するエポキシ官能性のポリア
ルコキシシランである、請求項１記載の組成物。 - 【請求項４】 接着促進性のエポキシ官能性ポリアル
コキシシランが、γ‐グリシドキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ‐グリシドキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ‐グリシドキシプロピルメチルジエトキシシ
ラン、およびγ‐グリシドキシエチルトリメトキシシラ
ン、ならびにエポキシシクロヘキシルエチルトリメトキ
シシランより成る群の中から選択される、請求項３記載
の組成物。 - 【請求項５】 さらに充填材を含んでいる、請求項１
記載の組成物。 - 【請求項６】 充填材が強化用充填材である、請求項
５記載の組成物。 - 【請求項７】 接着促進性のポリアルコキシシラン（
Ｄ）が約０．８〜約１．６部の範囲の量で存在する、請
求項１記載の組成物。 - 【請求項８】 縮合触媒が約０．０１〜約２．０部の
範囲の量で存在する、請求項１記載の組成物。 - 【請求項９】 スカベンジャ―が約０．２〜約１部の
範囲の量で組成物中に存在する、請求項１記載の組成物
。 - 【請求項１０】 ポリアルコキシ架橋剤が約０．３〜
約２．０部の範囲の量で存在する、請求項１記載の組成
物。 - 【請求項１１】 （Ａ）２５℃で約１００〜約１，０
００，０００センチポイズの粘度を有し、一般式【化４
】 ［式中、Ｒ、Ｒ１ およびＲ２ は各々メチル基であり
、ｎは約５０から約２５００までの範囲の整数であり、
ａは０または１の整数である］を有するポリジオルガノ
シロキサン１００重量部と、（Ｂ）ジ（ｎ‐ブチル）ス
ズビス（アセチルアセトナ―ト）約０．２〜約０．５重
量部と、（Ｃ）ヘキサメチルジシラザン約０．４〜約０
．８重量部と、（Ｄ）γ‐グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン約０．８〜約１．６重量部と、（Ｅ）メチ
ルトリメトキシシラン０．５〜約１．６重量部とを含む
、貯蔵寿命、プライマ―なしの接着特性、および深部硬
化が改良された低毒性のスカベンジャ―含有室温硬化性
シリコ―ン組成物。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US62877190A | 1990-12-17 | 1990-12-17 | |
| US628,771 | 1990-12-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3350502A Expired - Lifetime JP2698268B2 (ja) | 1990-12-17 | 1991-12-11 | 改良された室温硬化性シリコ―ン組成物 |
Country Status (7)
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|---|---|
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| DE (1) | DE69117036T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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