JPH04361522A - シャッタ制御装置 - Google Patents
シャッタ制御装置Info
- Publication number
- JPH04361522A JPH04361522A JP3137524A JP13752491A JPH04361522A JP H04361522 A JPH04361522 A JP H04361522A JP 3137524 A JP3137524 A JP 3137524A JP 13752491 A JP13752491 A JP 13752491A JP H04361522 A JPH04361522 A JP H04361522A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- amount
- shutter
- exposure
- afterglow
- residual light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＶＬＳＩを製造する縮
小投影露光装置に係り、高精度かつ安定度の高い露光量
制御を必要とする、シャッタ制御装置に好適な技術に関
する。
小投影露光装置に係り、高精度かつ安定度の高い露光量
制御を必要とする、シャッタ制御装置に好適な技術に関
する。
【０００２】
【従来の技術】図２、および図３を用いて、従来から用
いられているシャッタ制御方式について説明し、次にこ
れら従来技術の欠点について、あわせて説明する。
いられているシャッタ制御方式について説明し、次にこ
れら従来技術の欠点について、あわせて説明する。
【０００３】縮小投影露光装置は、波長の短い光を光源
に使用し、ウエハ上に回路パターンを焼き付ける装置で
あり、露光光１は、シャッタ２によって光量（露光エネ
ルギー）制御され、ウエハ上に導かれる。
に使用し、ウエハ上に回路パターンを焼き付ける装置で
あり、露光光１は、シャッタ２によって光量（露光エネ
ルギー）制御され、ウエハ上に導かれる。
【０００４】シャッタ２は、モータ３によって回転駆動
される。ここで、モータ３には回転角度の検出、および
回転速度の検出用として、ロータリエンコーダ３ａが取
り付けられている。
される。ここで、モータ３には回転角度の検出、および
回転速度の検出用として、ロータリエンコーダ３ａが取
り付けられている。
【０００５】ロータリエンコーダ３ａの出力信号は、モ
ータ制御部６へ接続され、シャッタ２の回転量制御に使
用される。
ータ制御部６へ接続され、シャッタ２の回転量制御に使
用される。
【０００６】次に、露光量の制御方法について説明する
。シャッタ２は、制御用計算機７によって露光量、およ
び露光のタイミングが制御される。制御用計算機７は、
露光量データ１３を、カウンタ８にセットし、ついで、
シャッタ開指令１２をモータ制御部６にセットする。モ
ータ制御部６は、駆動回路５によりシャッタ２を一定角
度回転させる（開動作）。この時、ロータリエンコーダ
３ａの出力信号がモータ制御部６にフィードバックされ
、高速、かつ高精度でシャッタ２が位置決めされる。シ
ャッタ２が開くことにより、露光光１はウエハ上に導か
れるが、それと同時に、照度センサ１０上にも入射され
る。
。シャッタ２は、制御用計算機７によって露光量、およ
び露光のタイミングが制御される。制御用計算機７は、
露光量データ１３を、カウンタ８にセットし、ついで、
シャッタ開指令１２をモータ制御部６にセットする。モ
ータ制御部６は、駆動回路５によりシャッタ２を一定角
度回転させる（開動作）。この時、ロータリエンコーダ
３ａの出力信号がモータ制御部６にフィードバックされ
、高速、かつ高精度でシャッタ２が位置決めされる。シ
ャッタ２が開くことにより、露光光１はウエハ上に導か
れるが、それと同時に、照度センサ１０上にも入射され
る。
【０００７】照度センサ１０上に入射した光は電圧信号
に変換され、後段のＶ／Ｆ変換器９に入力され周波数に
変換される。すなわち、ここまでの過程で露光光１の照
度に比例した周波数の計数パルス１４が取り出されるこ
とになる。計数パルス１４はカウンタ８を減算し、カウ
ンタボロー１５を発生させる。この信号が、モータ制御
部６へ入力され、シャッタ２を更に一定角度回転させ、
露光光１を遮光する（閉動作）。このように、照度信号
を周波数信号に変換することにより、照度の変動に対し
て、常に安定した露光量制御が可能となる。閉位置セン
サ１１は、シャッタ２が確実に閉まったかどうかを検出
するために、取り付けられている。
に変換され、後段のＶ／Ｆ変換器９に入力され周波数に
変換される。すなわち、ここまでの過程で露光光１の照
度に比例した周波数の計数パルス１４が取り出されるこ
とになる。計数パルス１４はカウンタ８を減算し、カウ
ンタボロー１５を発生させる。この信号が、モータ制御
部６へ入力され、シャッタ２を更に一定角度回転させ、
露光光１を遮光する（閉動作）。このように、照度信号
を周波数信号に変換することにより、照度の変動に対し
て、常に安定した露光量制御が可能となる。閉位置セン
サ１１は、シャッタ２が確実に閉まったかどうかを検出
するために、取り付けられている。
【０００８】以上、露光量の制御方法について述べたが
、この方法には次の欠点がある。
、この方法には次の欠点がある。
【０００９】図４は、図３の照度センサ１０の出力に注
目して書いたものである。この図からわかるように、制
御用計算機７から制御できる露光量は、カウンタボロー
１５が出るまでの期間、すなわち照度センサ１１の信号
を積分した面積分の露光量１７となる。ところが実際は
、モータ３が閉動作を始めてもすぐには照度はゼロにな
らず、残光量４が必ず発生する。
目して書いたものである。この図からわかるように、制
御用計算機７から制御できる露光量は、カウンタボロー
１５が出るまでの期間、すなわち照度センサ１１の信号
を積分した面積分の露光量１７となる。ところが実際は
、モータ３が閉動作を始めてもすぐには照度はゼロにな
らず、残光量４が必ず発生する。
【００１０】この制御されない光量、すなわち残光量４
は、正確な露光量を要求される半導体製造プロセスにお
いて、オフセット成分となるため装置性能を低下させる
のみならず、これが変動することで、製品歩留まりを低
下させる要因ともなっていた。
は、正確な露光量を要求される半導体製造プロセスにお
いて、オフセット成分となるため装置性能を低下させる
のみならず、これが変動することで、製品歩留まりを低
下させる要因ともなっていた。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】前記従来技術は、正確
な露光量を制御することが困難だったため、装置性能の
低下、および製品歩留まりの低下という問題点があった
。
な露光量を制御することが困難だったため、装置性能の
低下、および製品歩留まりの低下という問題点があった
。
【００１２】本発明の目的は、前記従来技術で説明した
欠点を取り除くため、残光量を含めた全体での露光量（
露光エネルギー）を正確に制御する手段を提供すること
にある。
欠点を取り除くため、残光量を含めた全体での露光量（
露光エネルギー）を正確に制御する手段を提供すること
にある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】前記目的は、図１に示す
システムにより達成されることを以下説明する。
システムにより達成されることを以下説明する。
【００１４】従来のシステムに対し、残光量を定量的に
、かつ正確に計測する手段として、あらたに残光量カウ
ンタ１６を設ける。制御用計算機７はこの残光量を計測
し、製品ロット毎に異なる露光量データに、残光量分の
補正を加えることにより、正確な露光制御が可能となる
。以上のことにより、前記目的は達成される。
、かつ正確に計測する手段として、あらたに残光量カウ
ンタ１６を設ける。制御用計算機７はこの残光量を計測
し、製品ロット毎に異なる露光量データに、残光量分の
補正を加えることにより、正確な露光制御が可能となる
。以上のことにより、前記目的は達成される。
【００１５】
【作用】図１を用いて、システム全体の動作を説明する
。
。
【００１６】残光量カウンタ１６は、照度に比例した計
数パルス１４を、シャッタ２が閉動作を開始した時点、
すなわちカウンタボロー１５が発生した時点から計数す
るようになっている。制御用計算機７は製品を露光する
前に、あらかじめこの残光量を測定しておき、製品毎に
セットする露光量データから、残光量分を差し引いた新
たな露光量データを、カウンタ８にセットすることによ
り、残光量を含めた全体の露光量制御が可能となる。ま
た、残光量をシャッタ２が動作する毎に計測し、前回、
および過去の計測データと比較，判断し、適正なモータ
制御を行うことにより、更に高精度な露光量制御が可能
となる。
数パルス１４を、シャッタ２が閉動作を開始した時点、
すなわちカウンタボロー１５が発生した時点から計数す
るようになっている。制御用計算機７は製品を露光する
前に、あらかじめこの残光量を測定しておき、製品毎に
セットする露光量データから、残光量分を差し引いた新
たな露光量データを、カウンタ８にセットすることによ
り、残光量を含めた全体の露光量制御が可能となる。ま
た、残光量をシャッタ２が動作する毎に計測し、前回、
および過去の計測データと比較，判断し、適正なモータ
制御を行うことにより、更に高精度な露光量制御が可能
となる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１、および図４
を用いて説明する。
を用いて説明する。
【００１８】最初に、システムの構成について説明する
。機構系は、露光光１を投光，遮光するシャッタ２、シ
ャッタ２を回転駆動するモータ３、およびモータ３の回
転角度，速度を検出するロータリエンコーダ３ａから構
成される。これに対し制御系は、モータ３を駆動する駆
動回路５、およびモータ３の回転量を制御するモータ制
御部６から構成されるモータ駆動系と、露光光１の照度
を計測し、電圧信号に変換する照度センサ１０、その電
圧を周波数に変換するＶ／Ｆ変換器９、さらに周波数に
変換された照度信号をカウントするカウンタ８、残光量
を計測する残光量カウンタ１６、およびシャッタ２が確
実に閉まったことを検出する閉位置センサ１１から構成
される検出系、およびこれら全体を制御するものとして
、制御用計算機７から構成されている。
。機構系は、露光光１を投光，遮光するシャッタ２、シ
ャッタ２を回転駆動するモータ３、およびモータ３の回
転角度，速度を検出するロータリエンコーダ３ａから構
成される。これに対し制御系は、モータ３を駆動する駆
動回路５、およびモータ３の回転量を制御するモータ制
御部６から構成されるモータ駆動系と、露光光１の照度
を計測し、電圧信号に変換する照度センサ１０、その電
圧を周波数に変換するＶ／Ｆ変換器９、さらに周波数に
変換された照度信号をカウントするカウンタ８、残光量
を計測する残光量カウンタ１６、およびシャッタ２が確
実に閉まったことを検出する閉位置センサ１１から構成
される検出系、およびこれら全体を制御するものとして
、制御用計算機７から構成されている。
【００１９】次に、露光量の制御方法について説明する
。シャッタ２は、制御用計算機７によって露光量、およ
び露光のタイミングが制御される。制御用計算機７は、
製品の露光を開始する前に、あらかじめ残光量４を求め
る。最初に、仮の露光量データ１３を、カウンタ８にセ
ットし、ついで、シャッタ開指令１２をモータ制御部６
にセットする。
。シャッタ２は、制御用計算機７によって露光量、およ
び露光のタイミングが制御される。制御用計算機７は、
製品の露光を開始する前に、あらかじめ残光量４を求め
る。最初に、仮の露光量データ１３を、カウンタ８にセ
ットし、ついで、シャッタ開指令１２をモータ制御部６
にセットする。
【００２０】モータ制御部６は、駆動回路５によりシャ
ッタ２を一定角度回転させる（開動作）。この時、ロー
タリエンコーダ３ａの出力信号がモータ制御部６にフィ
ードバックされ、高速、かつ高精度でシャッタ２が位置
決めされる。シャッタ２が開くことにより、露光光１が
照度センサ１０上に入射され、照度に応じた電圧信号に
変換される。
ッタ２を一定角度回転させる（開動作）。この時、ロー
タリエンコーダ３ａの出力信号がモータ制御部６にフィ
ードバックされ、高速、かつ高精度でシャッタ２が位置
決めされる。シャッタ２が開くことにより、露光光１が
照度センサ１０上に入射され、照度に応じた電圧信号に
変換される。
【００２１】更にこの電圧信号は、後段のＶ／Ｆ変換器
９に入力され、露光光１の照度に比例した周波数の計数
パルス１４が取り出される。計数パルス１４はカウンタ
８を減算し、カウンタボロー１５を発生させる。この信
号が、モータ制御部６へ入力され、シャッタ２を更に一
定角度回転させ、露光光１を遮光する（閉動作）と同時
に、残光量カウンタ１６を起動する。
９に入力され、露光光１の照度に比例した周波数の計数
パルス１４が取り出される。計数パルス１４はカウンタ
８を減算し、カウンタボロー１５を発生させる。この信
号が、モータ制御部６へ入力され、シャッタ２を更に一
定角度回転させ、露光光１を遮光する（閉動作）と同時
に、残光量カウンタ１６を起動する。
【００２２】残光量カウンタ１６は、Ｖ／Ｆ変換器９か
らの出力信号である計数パルス１４を数え始まり、シャ
ッタ２が完全に閉じて閉位置センサ１１となったところ
で計数停止する。
らの出力信号である計数パルス１４を数え始まり、シャ
ッタ２が完全に閉じて閉位置センサ１１となったところ
で計数停止する。
【００２３】制御用計算機７は、残光量カウンタ１６の
内容を読み取り、補正定数として内部メモリに記憶して
おく。
内容を読み取り、補正定数として内部メモリに記憶して
おく。
【００２４】次に、実際の製品を露光する場合について
説明する。
説明する。
【００２５】製品毎に与えられる全体の露光量は、露光
量１７と残光量４との和になることから、制御用計算機
７はカウンタ８に対して、全体の露光量から残光量４を
差し引いた値を露光量データ１３として与える。あとは
、前記説明通り露光量の制御がなされる。
量１７と残光量４との和になることから、制御用計算機
７はカウンタ８に対して、全体の露光量から残光量４を
差し引いた値を露光量データ１３として与える。あとは
、前記説明通り露光量の制御がなされる。
【００２６】また、残光量４をシャッタ２が動作する毎
に計測し、制御用計算機７の内部メモリに格納しておき
、前回、および過去の計測データと比較，判断し、適正
なモータ制御を行うことにより、更に高精度な露光量制
御が可能となる。さらには、この残光量４の長期的変化
を監視することにより、装置自身の性能維持、および性
能低下の事前予知も可能となる。
に計測し、制御用計算機７の内部メモリに格納しておき
、前回、および過去の計測データと比較，判断し、適正
なモータ制御を行うことにより、更に高精度な露光量制
御が可能となる。さらには、この残光量４の長期的変化
を監視することにより、装置自身の性能維持、および性
能低下の事前予知も可能となる。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、正確、かつ安定した露
光量の制御が可能となり、半導体製造プロセスにおいて
、製品歩留まり向上に多大の効果が期待できる。また、
残光量を監視し適正なモータ制御を行うことにより、装
置自身の性能確保、および性能低下の事前予知にも効果
がある。
光量の制御が可能となり、半導体製造プロセスにおいて
、製品歩留まり向上に多大の効果が期待できる。また、
残光量を監視し適正なモータ制御を行うことにより、装
置自身の性能確保、および性能低下の事前予知にも効果
がある。
【図１】本発明の一実施例のシャッタ制御システム構成
図である。
図である。
【図２】従来のシャッタ制御システム構成図である。
【図３】シャッタ動作タイミング図である。
【図４】シャッタ動作タイミング図である。
１…露光光、２…シャッタ、３…モータ、３ａ…ロータ
リエンコーダ、４…残光量、５…駆動回路、６…モータ
制御部、７…制御用計算機、８…カウンタ、９…Ｖ／Ｆ
変換器、１０…照度センサ、１１…閉位置センサ、１２
…シャッタ開指令、１３…露光量データ、１４…計数パ
ルス、１５…カウンタボロー、１６…残光量カウンタ、
１７…露光量。
リエンコーダ、４…残光量、５…駆動回路、６…モータ
制御部、７…制御用計算機、８…カウンタ、９…Ｖ／Ｆ
変換器、１０…照度センサ、１１…閉位置センサ、１２
…シャッタ開指令、１３…露光量データ、１４…計数パ
ルス、１５…カウンタボロー、１６…残光量カウンタ、
１７…露光量。
Claims (1)
- 【請求項１】縮小投影露光装置にて使用される、露光光
源からの光線を投光，遮光せしめる切り欠きのある円板
（以下シャッタと呼ぶ）、前記シャッタを回転駆動する
モータ、前記シャッタによって通過した光量を積算し露
光量を制御する回路、およびこれら全体を制御する制御
用計算機からなるシャッタ制御装置において、（１）シ
ャッタが開き始めてから閉じ始まるまでの光量を計測す
る手段と、シャッタが閉じ始めてから、完全に閉じ終わ
るまでの残光量（オフセット）を計測する手段を具備す
ること。 （２）露光量設定時、必要な露光量から前記残光量を差
し引いた値を、露光量としてセットし、シャッタが閉じ
る動作から発生する残光量による誤差を補正すること。 （３）前記残光量を制御用計算機の内部メモリに記憶し
、その変動分、および残光量の大きさを監視すること。 を特徴とするシャッタ制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3137524A JPH04361522A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | シャッタ制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3137524A JPH04361522A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | シャッタ制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04361522A true JPH04361522A (ja) | 1992-12-15 |
Family
ID=15200693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3137524A Pending JPH04361522A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | シャッタ制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04361522A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015149450A (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-20 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
| JP2019003145A (ja) * | 2017-06-19 | 2019-01-10 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
-
1991
- 1991-06-10 JP JP3137524A patent/JPH04361522A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015149450A (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-20 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
| JP2019003145A (ja) * | 2017-06-19 | 2019-01-10 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
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