JPH0436422A - 焼結原料の造粒方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は焼ｌ！原料の造粒方法に係り、さらに詳しくは
、鉄鉱石などの焼結原料をＤＬ式焼結機に供給してｍ結
鉱を焼成する際、ｔＲ帖原料の通気性を改善する焼結原
料の造粒方法に係る。

従　　来　　の　　技　　術 第１２図は従来例のＤＬ式焼結機の全体フロシートを示
すものであって、焼結原料配合槽１には、焼結原料（粉
鉱石、石灰石、粉コークス、生石灰および返鉱なと）が
収納されており、配合槽下部に設けられたコンスタント
フィーダ２により定量切出された後、ベルトコンベヤ３
上で多ｌ！楡み配合される。その配合原料はドラム型ミ
キサ４にて４〜５％の水分を添加して混合造粒される。

造粒物は給鉱ホッパ１４に搬送され、下部のドラムフィ
ーダ１５および給鉱シュート１６を介してＯＬ′ｉ！：
、ｍ結機１７のパレット１８内へ装入される。その後点
火バーナ１９にて原料中の粉コークスに着火し、焼結が
進行する。

この場合、６０μｍ未満の粒子が６０％以上であるよう
な、微粉鉄鉱石（以下ＰＦという）も使用される。ＰＦ
を多配合使用（主原料に対し１０％以上）すると焼結ベ
ツドの通気を阻害し、生産性が低下する。あるいは通気
を改善するためのバインダ（生石灰、消石灰等）を多量
に必要とし、バインダコストが８諺する等の欠点がある
。

上記の問題点を解決するため、ＰＦ（約６０％）と核に
なる原料（返鉱または鉄鉱６約４０％）をドラム型ミキ
サまたはディスク型ベレタイザ４にて事前造粒した後、
通常の焼結原料と混ぜてドラム型ミキサ４に装入し、混
合造粒するＰＦの核造粒法が提示されている（鉄と鋼：
Ｖｏｌ、７１、＆、１０（１９８５）ｒ焼結原料の造粒
とその役割」）。この場合は、核になる原料が必要であ
るため、同−ＰＦ配合比では、混合機の能力が１．４倍
大きいものが必要となり、設備コストが高くつくという
欠点がある。

さらに別の方法として、通常の焼結原料（粉鉱石６０％
）にＰＦを４０％程度多配合し、ディスク型ペレタイザ
に供給して混合造粒し、５〜１０Ｉ！ｌのベレットを作
る。その後微粉コークスを添加し、ベレットの外周に外
装コークスをまぶしたものを給鉱ホッパ１４に搬送し、
焼結する方法が提示されている（鉄と鋼：　ＶＯ１，７
３、ｋｌｌ（１９８７Ｂ高炉用新塊成鉱の製造条件に関
する基礎的研究及び品質の評価」）。

この方法の欠点として、生ボールの見掛けの密度が小さ
（、ボールの圧潰強度が低いので、焼結ベツドまでの搬
送過程で壊れ易（、ベツドの通気を阻害する。また、成
品の平均粒径が８〜１０闘と大きく外装コークスが必要
である。

さらに外装コークスがベレットの外周に均一に付着しな
い場合はボール内部が未溶融となり破砕工程で単一のベ
レットになるか返鉱になり易いという欠点がある。

一方、古い技術であるが、温式磨砕混練方式造粒成形法
（特公昭４３−６２５６号公報）が知られており、ボー
ルミル、ロッドミルその他の温式磨砕混練機にて原料の
磨砕、水分調整、混線を行なった後、竪型、円筒型その
他の造粒機を用いて生ベレットを造粒するものである。

この方法は旧来の湿式または乾式の磨砕工程と水分調整
混線工程とを′Ｍ潤状態で１工程で達成するものである
。この方法は設備の割に生産量が少なく、動力原単位が
大きく、現時点では経済性に乏しい。

そこで、本発明者等は上記問題を解決する方法としてさ
きに焼結原料に水を添加し、原料を圧密媒体を内蔵した
圧密可塑化混練機に装入し、振動加速度３ｇ〜１０Ｑ（
Ｑは重力の加速度）を加えて加振圧密混練して可塑化状
態の混練フレクを形成させ、この混練原料を加振円筒型
造粒機内に装入し、造粒機の円筒軸を±１０度の範囲の
勾配に傾斜させ、または振動加速度を３Ｑ〜５Ｑの範囲
に調整のうえ原料を転動塊成化して、強固なミニペレッ
トを造粒し、この造粒後のミニペレットの粒径＋１０１
１１１１のオーバーサイズ率を測定し、測定値を設定値
と比較し偏差値をもとに、混練機並びに造粒機の加振力
および添加水分を調整する焼結原料のオーバーサイズ率
制御方法を提案した。しかしながら、この方法によれば
焼結原料のオーバーサイズ率を制御され、強固なミニペ
レットを得ることは可能であるが、ミニペレットの粒径
を自動検出することができず、規定の造粒範囲への自動
制御がむずかしいという問題があった。

発明が解決しようとする課題 本発明者らは上記問題の解決を目的とし、具体的には、
焼結原料に圧密媒体を混入し円運動振動によってこれを
強力に加振することにより、高能率高生産」で品質の優
れた加振圧密混練を行ない、ざらに造粒用加振円筒型造
粒器を用いて口れを加振転動塊成化し焼結機用原料とす
る際に、このミニペレットの粒径を連続的に検出し規定
粒度範囲に自動制御することができる焼結原料の造粒方
法を提案することを目的とする。

課題を解決するための 手段ならびにその作用 本発明は、微粉焼結原料に水分を添加し、該原料を圧密
媒体の内蔵する圧密可塑化混練機に装入し、振動加速度
３ｇ以上を加え混線フレークを形成させ、該可塑化状態
の混線フレークを加振円筒型造粒機内に装入し、振動加
速度３ｇ以上を加え、該混練フレークを転動塊成化して
ミニペレットとし焼結原料として利用するに際し、転勤
塊成化後のミニペレット表閣部をレザ距離計で測定し、
ミニペレット粒径を検出し、該検出値に基づいて混練機
ならびに造粒機の振動加速度および／′または焼結原料
の添加水分を制御することを特徴とする。

以下本発明の手段たる構成ならびにその作用について詳
しく説明すると、次の通りである。

本発明者等は焼結原料に水分を添加し、この焼結原料を
圧密可塑化混練機と加振円筒型造粒機とを用いて強固な
ミニペレットに造粒した後、このミニペレットの粒径を
自動検出し、ＰＦ銘柄、ＰＦ粗粒径ＰＦ供給量、生石灰
供給量、添加原料水分等の外乱要素を制御し、規定粒度
範囲への自動制御する方法について検討したところ、例
えば造粒機の排出部にミニペレットのサンプリング容器
を配置し、一定量収納した後、その表一部の凹凸をレー
ザー距離計からの距離の変化として捉え表一部の形状を
検出し、この形状検出後のデータ処理結果に基づいて製
造造粒径分布を判別し、これをフィードバックして（１
）設定粒径通りのものを製造すること、（２）設定粒径
オーバーサイズ率＋１０ｓ以上の比率を設定値以下に抑
え込むことという２つのＰＩＤ調節演算に基づき開ルー
プ制御すればよいという知見を得た。

ざらに進んで研究開発を行ない、この研究に基づいて本
発明は成立したものである。

以下図面を参照しながら本発明を説明する。

なお、第１図は本発明を実施する際に用いられる造粒機
から造粒物収納箱に排出されたミニペレット表回部の粒
径分布をレーザー距離計により測定する場合の斜視図で
あり、第２図（イ）ならびに（ロ）はそれぞれレーザー
距離計による粒径分布の測定イメージを示し、（イ）は
粒度小の場合、（ロ）は粒度大の場合の説明図であり、
第３図（ａｌは第２図の造粒物表置部の形状をレザー距
離計で検出する場合の原理を示し、（イ）は粒径小の場
合の説明図、（ロ）は粒径大の場合の説明図であり、第
３図（ｂ）、（Ｃ）、（ｄ）、（ｅ）ならびに（ｆｌは
それぞれ造粒物をレーザ距離計で検出し、この検出デー
タに基づく粒径分布判別法を示し、（ｂ）は極大値−極
小値法、（Ｃ）は微分パルス化法、（ｄ）はＦＦＴ法、
ｔｅｌはサンプリングヒストクラム法、（ｆ）はｔｅｌ
のサンプリングヒストグラムの標準偏差グラフ法の各説
明図であり、第４図は粒径分布判別法の一例を示す粒径
と粒度分布との関係グラフであり、第５図は本発明の制
御方法の一例を示す説明図であり、第６図（ａ）は水分
をパラメータとした場合の振動加速度ｑと粒径＋１０＠
のオバーサイズ率との関係グラフ、第６図（ｂ）は振動
加速度ｑをパラメータとした場合の水分と粒径＋１０１
ＩＩ１１のオーバーサイズ率との関係グラフであり、第
７図は本発明の実施する際に用いられる装置の一例を示
す系統説明図であり、第８図は粒径測定装置の処理タイ
ミングの説明図であり、第９図はＰＩＤｉｌｌｌｌｌを
起動させる仕組みの説明図であり、第１０図はＰＶＤ演
算結果に不惑率を設ける場合の説明図であり、第１１図
は従来例のＰＩＤＩＩ＠方法の説明図であり、第１２図
は従来例の焼結機のフローの説明図である。

まず、本発明法のミニペレットの製造法がら説明する。

本発明法は圧密媒体と共に強力な円運動を行なう振動加
速度を焼結原料に付与することによって、圧密媒体が同
一方向に回転し、隣接する圧密媒体同士の面の相対逆方
向運動により、その圧密媒体間に存在する粒子に圧密、
剪断、転勤、圧潰作用を与え、粒子の内部水分の絞り出
し、表面水分の均−展拡作用をなす。その結果粒子群は
一体化すると共に可塑化する。この場合、振動加速度が
３ｇ未層では、圧密可塑化が不十分で製造されるベレッ
トの乾燥密度が低く、１０Ｑを越えると飽和して効果が
ないので上限を１０Ｑとする。

次に造粒工程では、圧密可塑化した原料に強力な加振に
よる転勤を与えると、充填密度の増大、表面への水分の
透出、この水分による付着、粒度成長が起こり、強力な
ミニペレットを得ることができる。この造粒工程の振動
加速度が３Ｑ未満では、ミニペレットの粒径が小さく、
５Ｑを越えるとオーバーサイズが増加するので振動加速
度の範囲を限定した。

第６図（ａ）は水分をパラメータとした場合の振動加速
度Ｑと粒径＋１０１１ＩＩｌのオーバーサイズ率（以下
＋１０ＩＩＩＩＩｌという）の関係グラフ、また、第６
図＋１１）は加振力Ｑをパラメータとした場合の水分と
＋１０ＩＩＩＩＩの関係グラフを示したものであり、振
動加速度ｑあるいは添加水分を調整することによって＋
１０１１Ｉ１１のオーバーサイズ率が制御可能であるこ
とを示している。

水分添加量は原料の保有水分と造粒最適含水比との差を
添加すればよく０〜２％である。すなわち、粒度範囲の
広い焼結原料の全量を加振圧密する時は、原料の保有水
分５〜６％に対して、最適含水比は５〜７％に調整する
。また、ＰＦのみを造粒する場合は、ＰＦは８〜１１％
の保有水分を有し、最適含水比は９〜１２％である。

上述のようにして製造されたミニペレットの内、粒径＋
１０ＩＩｌｌのオーバーサイズ率をレーザ距離計ならび
に粒度分布の各センサにより自動的に測定し、この測定
値と設定値との偏差値をもとに、混練機ならびに造粒機
の振動加速度および１．・または焼結原料添加水分を調
整することにより、焼結機に装入するミニペレットの粒
度分布を狭くすると共に設定粒径以上のものの比率を設
定値以下にするように粒度制御することが可能となり、
ミニペレットの強度の向上、通気性の改善を図ることが
でき、ＰＦの多配合が可能となると共に返鉱発生量を少
なくし、原料コストを低減させることができる。また、
主排風様の省受電が期待できる。

まず、第１図の符号２１はサンプリング容器を示し、こ
のサンプリング容器２１はベルトコンベヤ９の上方に設
けられた造粒機６の排出部から排出されるミニペレット
を一定量収納すると共に、ベルトコンベヤ９の上方に設
けられたレーザー距離計２２によりサンプリング容器内
のミニペレット表目部の凹凸形状を検出する口とができ
るようにしたものであり、第２図にその測定イメージを
示す。

この粒径測定原理は第３図（ａ）に示すようにミニペレ
ット表目部の凹凸をレーザー距離計からの距離の変化と
して捉え、表■部の形状を検出する。この形状検出後の
データ処理は例えば第３図（ｂＪ、（Ｃ）、（ｄ）、（
ｅｌならびに（ｆｌに示す粒径判別法に従って粒径大と
粒径小の粒度分布を対比し、その粒径分布を知ることが
でき、さらにこれらデータをフーリエ交換し、パワスペ
クトルを求めることにより粒径分布を得ることができる
。例えば、第４図に示すように予め求めた粒径と周波数
との対応をとることにより粒径分布を求めることができ
る。

さらに上記の粒径判別法について説明をすると、形状検
出後のデータを（ｂ）凹部間の凸部の高さを求めた判別
する極大値−極小ＩＩ法、（Ｃｌ凹部間のピッチを求め
てパルス信号を得、このパルス数で判別する微分パルス
化法、（ｄｌ凹凸のカーブを周波数として周波数比較で
粒径の判別する周波数比較ｆＦＦＴＩ法、（イ）凹部間
のピッチのヒストグラムを求め、粒径を判別するサンプ
リングヒストグラム法、（ｆｌさらにｔｅｌによって求
められたヒストグラムからその標準偏差グラフを求め、
粒径の判別を行なうなどの方法があり、これらを適用す
る口とができる。

次に、粒径＋１０ｍｍ＋のオーバーサイズ率（以下＋１
０ｍという）の制御を第５図により詳しく説明する。

じｌ＋１０ｍｍが通常の調整範囲（点線で示す）内にあ
る場合 ＋１１０ｌ１が点線の範囲内にある時は、振動加速度Ｑ
は図示した制御範囲内でフィードバック制御を行なう。

例えば、振動加速度Ｑ、Ｘ点に在る時は振動加速度を＋
△Ｑ増加してやれば、＋１０ｍは設定値に制御されるこ
とになる。

＋２１＋　１０１１１１が点線の範囲外で低い時、例え
ば０点に在る場合 ■　振動加速度Ｑを振動加速度Ｑの制御範囲の上限まで
大きくするよう制御する。その結果＋１０閣が点線の範
囲内に入れば、上述の（１）の制御を行なう。

■　■の制御を行なっても＋１０１１１１が点線の範囲
より低い時、例えば◎貞に在る時は、現在設定されてい
る水分の特性との＋１０ａ差△Ｏｍに相当する水分Δｍ
を求め、＋Δｍの添加水量の調整を行なうと共に、振動
加速度Ｑを振動加速度ｑの制御範囲内に戻すように制御
する。その結果、＋１０ｍが点線の範囲内に入れば、上
述の（１）の制御を行なう。

なお、６ｍは図から次のようにして求められる。すなわ
ち、 △０＝０１ｏ　　Ｏｑ、Δｍ＝ΔＱ　ｍ　、、／△０ｔ
３）＋１０ｍｍが点線の範囲外で高い時、例えば０点に
在る時は、 ■　振動加速度ｑを振動加速度Ｑの制御範囲の下限まで
小さくするよう制御する。その結果＋１０１１が点線の
範囲内に入れば、上述の（１）の制御を行なう。

■　■の制御を行なっても＋１０ｍが点線の範囲より高
い時、例えばΔ点に在る時は、現在設定されている水分
の特性との＋１０閤差△Ｏｍ　＋　に相当する水分Δｍ
、を求め、−△ｍ、の添加水量の調整を行なうと共に、
振動加速度Ｑを振動加速度Ｑの制御範囲内に戻すように
制御する。その結果、＋１１０１１Ｉが点線の範囲内に
入れば、上述の（１）の制御を行なう。

なお、Δｍ１は上述の６ｍと同様に図から次のようにし
て求められる。すなわち、 △０Ｉ＝０１１−０．。、 Δｍ＋　＝△Ｏｍ１／△０１ ここに、添字９．１０．１１は含有水分量（％）を示し
ている。

以上、振動加速度ｑを調節して粒径＋１０１１Ｉ１１の
オーバーサイズ率の制御方法を説明したが、水分を調節
しても、振動加速度Ｑの場合と同様に、粒径＋１０關の
オーバーサイズ率を制御することができる。

本発明では、粒径＋１０ＩＩＩ１１が振動加速度制御の
制御範囲内にあるときは、水分は一定とし、粒径＋１０
１Ｉ＋１ＩＩＩＩａの結果を振動加速度制御装置ヘカス
ケード制御し、振動加速度制御の制御範囲を越えた時、
水分制御の設定変更を行なう様にしている。また、振動
加速度制御と水分制御の一方を一定に制御し、他方のみ
をカスケード制御してもよい。

このようにして、振動加速度および添加水分を調整する
ことにより、ミニペレットの粒径十１０ＩｌｌｌＩｌの
オーバーサイズ率を制御することができる。

以上説明したようにレーザー距離計によりミベレットの
表回部の凹凸を自動検出してこの検出後のデータ処理を
粒度センサによりミニペレットの粒径を測定しＰＩＤｉ
ｌｌｔｌ１１方法により粒径を制御することが可能であ
る。しかしながら、従来のＰＩＤＩＩＩｔ１１方法では
次のような問題があある。すなわち、第１１図の従来例
は連続制御系ＰＩＤＩＩＪＩａｈ法であり、［ＰＶ］値
として連続値（オンラインリアルタイム処理）を得るセ
ンサ（アナログ系）が使用されていたが、近年、ディジ
タル計装の進歩ならびに高度な機能の要求により［ＰＶ
］値をサンプル値とするようになった。

第７図に示す本発明では粒径測定装置がレザー距離計セ
ンサに基づく粒度センサから構成され、この粒度センサ
部がディジタル処理装置から成っている。従って、出力
はサンプル値系（バッチ処理）であり、主にセンシブル
でしかもデリケートな処理のため、不定期のバッチ処理
となる。すなわち、粒径測定装置からの出力［ＰＶ］値
が不定期のサンプル値であるのに対し、調節計部のＰＩ
Ｄ演算部は連続系であるため、両者にギャップを生じ、
制御系の安定化は計ることはできない。なお、第１１図
の制御１Ｉｉｌ差値［ｅ］、操作量値［ＭＶ］は正常動
作（点ＩＩ）を模して表現したものであって、実際には
発散、暴走することになる。

そこで、本発明においては粒径測定装置の処理タイミン
グを優先独立させて、これに同期させてＰＩＤ演算部を
走らせる処理方式により制御系の安定化を計るものであ
る。

次に、第８図の粒径測定装置の処理タイミングを示す説
明図により特徴ならびにその作用について説明する。図
面■のデータ状変信号をレザー距離計より成る粒径測定
装置に発信する。

この信号はディスクリートな信号であり、この信号出力
［ＰＶ］値の測定変更毎に発信するが、その発信幅は同
一信号が発信している間の［ＰＶ］値の各Ｔｓａｃとす
る。プロセス量ＰＶの測定値がサンプル値系であった場
合、すなわち、リアルタイムの連続測定でなくバッチ系
測定であった場合、当然制御系についてもサンプリング
制御でなければ制御系の安定化は計られない。

さらには、Ｐ［ＤｉｌＪｌｉｌｌの出力である操作信号
ＭＶ値とＰＶｉ！とは制御プロセス装置を介して同期タ
イミング化されていなければならない。そこで、第９図
に示す如く制御同期△Ｔｓとプロセス量ＰＶの測定同期
とを同期させ、さらには一致させてＰＶ値の変化タイミ
ング毎ＰＩＤ制御を起動させる方式とするものでプロセ
スＩＰＶの変化タイミングがＰＩＤ制御のキック（外部
起動型）となる。図面の■に入力される■のデータ状変
信号をトリか−とし、この信号が発信している間（Ｔ５
ｅｚ）だけＤＩＰ演算部を走らせる。すなわち、常時演
算するのではなく、外部状況変化のみ演算し出力するこ
とになる。これは外部起動同期型の意味である。図面の
■のＡＤ変換とホールド回路に入力される［ＰＶＪ値は
不定期サンプル値であるため、Ａ／′Ｄ変換と小−４ド
回］：ｒ　［ＰＶ］　−［ＰＶ’　Ｊ　に示す様にアナ
ログ−ディジタル変換とホールド処理がされ、この［Ｐ
Ｖ］に基づいてＰ［Ｄ演算が行なわれる。図面の■のＤ
７Ａ変換と積分形ホールド回路に入力される［ＭＶ’　
　］は■のブタ状信号と同期したパルス状のため、Ｄ　
、’　Ａ変換とホールド回路にて［ＭＶ’　］→［ＭＶ
］に示す様にアナログ−ディジタル変換とホールド処理
が行なわれる。

これによりプロセスには常時アナログ連続値が供給され
ることになる。図面の■のＰＩＤ演算部においては下記
式（１）、（２）に従ってＰＩＤ演算が行なわれる。

但し、ＰＢ：比例率（％） Ｔ工：積分時間 ＴＤ：微分時間 △Ｔ：処理周期＝ＰＩＧスキャン時間 ΔＭＶ′７Ｌ＝操作Ｉ　Ｍ　Ｖ　’ｘｆ）　１　回前（
７）操作量、ＭＶ′几−ｌがらの変化 量 ΔＭ　Ｖ　’Ｏ几：微分項の変化量 １／α：微分ゲイン ｎ：時系列的変化を示すサフィックス △ＭＶ’　　二△ＭＶＷ不惑率 そのＰＩＤ演算結果ΔＭＶルに不惑率（△ＭＶＤＺＡ　
　）を第１０図に示すように設は不惑率処理をする。更
に上記ディジタル値の６Ｍ　Ｖ　’ｎをＤ２Ａ変換して
△ＭＶルとし、積分形ホールド回路にて積分処理しＩＶ
Ｉ　Ｖとする。すなわち、Σ△ＭＶルーＭＶ変化量△Ｍ
　Ｖａを累積して操作量［Ｍ　Ｖ　］とする。

実　　施　　例 第７図に示す装置を用いて焼結原料を造粒した。原料Ｐ
Ｆおよび生石灰は、添加水分と共に圧密媒体を内蔵した
圧密可塑化混練機５に装入され、加振力３Ｑ〜１０Ｃ］
を加えて加振圧密混練して可塑化状態のフレークを形成
さゼた後、混練原料を加振円筒からなる造粒機６に装入
し、円筒の円筒軸を＋１０度の範囲の勾配に傾斜させ、
または加振力を３Ｑ〜５ｇの範囲に調整のうえ原料を転
動塊成化して、強固なミニペレットに造粒される。次い
で、粉鉱、生石灰、コークスおよび返鉱かうなる通常の
焼結原料を前述のミニペレットと共にドラムミキサーで
混合、再造粒の上、焼結機パレットに装入される。

本発明方法は、上述の転動塊成化して造粒されたミニペ
レットの粒径＋１０１１Ｉ１１のオーバーサイズ率を測
定する。

この測定はベルトコンベア９上の焼結原料中、造粒原料
１０の表層部をレーザー距離計２２により測定しその表
層の凹凸を測定する（別途造粒原料をサンプルして測定
してもかまわない）。

この測定はデータ処理順に記載したｆｂ）〜（ｆ）のい
ずれかの方法で行ない、この結果であるＰＶ値は第７図
のＰＩＤ調節演算部２３を有す粒径コントロールに出力
されて目標ｆｉｌｉｔｓＶ）を達成するための操作ＩＩ
ＭＶが求められる。このＭＶ値に基づいてＶＶＶＦ制御
部２４では、造粒機６の振動加速度Ｑを制御するもので
、その粒径の調節が行なわれる。図中５は、造粒機６へ
造粒原料を供給する混練機を示し、この混練機としては
振動型混練機が最適であり、混線に際し水分を供水弁７
から添加し、水分制御を行なった後、振動加速度を加え
混練した原料を造粒機６に送給する。造粒機６では上記
原料に対し円筒ドラム内で振動加速度を加えることによ
り造粒が行なわれ、粒径は振動力の速度Ｑを調節するこ
とにより変更が可能である。８は混練機５に原料を供給
するベルトコンベアを示し、と特に微粉原料を送給して
これを所定粒径に造粒し、焼結機へ供給するもので、９
は通常で用いられる原料を供給するベルトコンベアを示
す。

なお、べＬトロンベア８ならびに９へ原料を供給するた
めにそれぞれホッパ１１を有しており、このホッパ１１
にはトリッパコンベア１２で原料が供給される。また、
本例ではベルトコンベア９の途中より造粒原料１０が搭
載され、その表層の造粒原料１０をレーザー距離・計２
２にて測定し、続いて原料はドラムミキサ１３へ供給さ
れ、混合、一部の造粒が行なわれ、焼結機へ供給される
。

以上述べたように本発明では造粒原料の粒径が簡単に測
定できるから、所定粒径の制御に簡単に反映でき、もっ
て焼結操業の最適化が実現され得る。

〈発明の効果〉 以上詳しく説明したように、本発明は、微粉焼結原料に
水分を添加し、該原料を圧密媒体の内蔵する圧密可塑化
混練機に装入し、振動加速度３ｇ以上を加え混練フレー
クを形成させ、該可塑化状態の混線フレークを加振円筒
型造粒機内に装入し、振動加速度３ｇ以上を加え、該混
線フレークを転勤塊成化してミニペレットとし焼結原料
として利用するに際し、転動塊成化後のミニペレット表
層部をレーザ距離計で測定し、ミニペレット粒径を検出
し、該検出値に基づいて混練機ならびに造粒機の振動加
速度および、／または焼結原料の添加水分を制御するこ
とを特徴とする。

本発明の効果を列記すると次の通りである。

■ミニペレット内の粉体粒子の充填度が密になり、生ミ
ニペレット、乾燥ミニペレットおよび焼成ミニペレット
の強度が向上し、焼結時の通気性が改善され、主排風機
の電力経費の節減が可能となる。

■焼結時の通気性が改善されるために、ＰＦを多量に配
合することが可能となり、原料コストの低減を図ること
ができる。

（ｌ＋ミニペレットの造粒径が自動検出され、規定造粒
範囲への自動コントロールができ、ＰＦ銘柄、ＰＦ粗粒
径ＰＦ供給量、生石灰供給量、原料水分等の外乱要素を
起越し現場密着運転から解放される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を実施する際に用いられる造粒機がら造
粒物収納箱に排出されたミニペレット表層部の粒径分布
をレーザー距離計により測定する場合の斜視図、第２図
（イ）ならひに（ロ）はそれぞれレーザー距離計による
粒径分布の測定イメージを示し、（イ）は粒度小の場合
、（ロ）は粒度大の場合の説明図、第３図（ａ）は第２
図の造粒物表１部の形状をレーザー距離計で検出する場
合の原理を示し、（イ）は粒径小の場合の説明図、（ロ
）は粒径大の場合の説明図、第３図（ｂ）、（Ｃ）、（
ｄ）、（ｅ）ならびにｌｆＪはそれぞれ造粒物をレーザ
ー距離計て検出し、この検出データに基づく粒径分布判
別法を示し、（ｂｌは極大値−極小値法、ｔｃ＋は微分
パルス化法、（ｄ）はＦＦＴ法、（ｅｌはサンプリング
ヒストクラム法、ｔｆ）は（ｅ）のサンプリングヒスト
グラムの標準偏差グラフ法の各説明図、第４図は粒径分
布判別法の一例を示す粒径と粒度分布との関係グラフ、
第５図は本発明の制御方法の一例を示す説明図、第６図
ｔ８）は水分をパラメータとした場合の振動加速度Ｑと
粒径＋ＩＯＮのオバーサイズ率との関係グラフ、第６図
（ｂ）は振動加速度Ｑをパラメータとした場合の水分と
粒径＋１０−のオーバーサイズ率との関係グラフ、第７
図は本発明の実施する際に用いられる装置の一例を示す
系統説明図、第８図は粒径測定装置の処理タイミングの
説明図、第９図はＰＩＤＩＩＪＩＩＩを起動させる仕組
みの説明図、第１０図はＰＶＤ演算結果に不惑率を設け
る場合の説明図、第１１図は従来例のＰＩＤＩＩＩＩ１
１方法の説明図、第１２図は従来例の焼結機のフローの
説明図である。 符号５・・・・・・混練機 ６・・・・・・造粒機 ７・・・・・・給水弁 ８・・・・・・ベルトコンベア ９・・・・・・ベルトコンベア １０・・・・・・造粒原料 １１・・・・・・ホッパ １２・・・・・・トリッパコンベア １３・・・・・・ドラムミキサ ２１・・・・・・サンプル容器 ２２・・・・・・レーザー距離計 ２３・・・・・・ＰＩＤ調節演算部 ２４　・−・・−・Ｖ　Ｖ　Ｖ　Ｆ　ＩＩＩ　ｆｉｌｌ
　部ｍ１図 第４図 第２図 □紅Ｌ（、、小） （イ） （ロ） 第３図 （の） （ロ） （Ｊ） （ロ） 粒 乳 小 舷鉢た （Ｃ） （ｄ） （イ） （ロ） （イ） （ロ） 畝 ｄ ＼Ｆ　　ＩＬ　　１　１乞　ニＬ （−５’） （ロ） （イ） （ロ） サレトリシ７ｚＺｋ？ラム床 銑声普：ｌｒ、ニア７床 第６図 （ａ／） 緻動か４凛（９） 第６図 （紗） 東分（％） ＩＩｏ図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）微粉焼結原料に水分を添加し、該原料を圧密媒体の
   内蔵する圧密可塑化混練機に装入し、振動加速度３ｇ以
   上を加え混練フレークを形成させ、該可塑化状態の混練
   フレークを加振円筒型造粒機内に装入し、振動加速度３
   ｇ以上を加え、該混練フレークを転動塊成化してミニペ
   レットとし焼結原料として利用するに際し、転動塊成化
   後のミニペレット表層部をレーザ距離計で測定し、ミニ
   ペレット粒径を検出し、該検出値に基づいて前記混練機
   ならびに造粒機の振動加速度および／または前記焼結原
   料の添加水分を制御することを特徴とする焼結原料の造
   粒方法。