JPH04367527A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
- Publication number
- JPH04367527A JPH04367527A JP2795791A JP2795791A JPH04367527A JP H04367527 A JPH04367527 A JP H04367527A JP 2795791 A JP2795791 A JP 2795791A JP 2795791 A JP2795791 A JP 2795791A JP H04367527 A JPH04367527 A JP H04367527A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- molding
- base material
- substrate
- optical element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/10—Die base materials
- C03B2215/11—Metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/20—Oxide ceramics
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学ガラス素子等をプレ
ス成形する際に用いる光学素子成形用型に関するもので
ある。
ス成形する際に用いる光学素子成形用型に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】光学ガラス素子を直接プレス成形により
高精度に製造するには、優れた像形成品質を付与するこ
とが要求される。このため、型材料としては耐熱性、耐
熱衝撃性に優れ、加工性が良く超精密加工が可能なこと
が必要である。かかる性質を満足する型として、従来か
ら種々のものが提案されている。例えば、特開昭６２−
１７０２９号公報に記載されたように、Ｓｉ単結晶より
なる基材と、Ｓｉ単結晶および白金系合金との密着性に
優れた材料よりなる中間層と、該中間層の上に形成した
白金系合金膜とからなるプレス成形用型がある。
高精度に製造するには、優れた像形成品質を付与するこ
とが要求される。このため、型材料としては耐熱性、耐
熱衝撃性に優れ、加工性が良く超精密加工が可能なこと
が必要である。かかる性質を満足する型として、従来か
ら種々のものが提案されている。例えば、特開昭６２−
１７０２９号公報に記載されたように、Ｓｉ単結晶より
なる基材と、Ｓｉ単結晶および白金系合金との密着性に
優れた材料よりなる中間層と、該中間層の上に形成した
白金系合金膜とからなるプレス成形用型がある。
【０００３】かかる成形用型では、Ｓｉ単結晶と白金系
合金膜との密着強度を中間層により高めて型寿命を延長
させている。
合金膜との密着強度を中間層により高めて型寿命を延長
させている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
の成形用型に用いる白金系合金膜は、Ｓｉの窒化物、炭
化物、硼化物等の如き高融点化合物膜と比較して下記の
問題点を有している。
の成形用型に用いる白金系合金膜は、Ｓｉの窒化物、炭
化物、硼化物等の如き高融点化合物膜と比較して下記の
問題点を有している。
【０００５】（１）白金系合金膜の表面粗度が使用回数
の増加につれて変化する。
の増加につれて変化する。
【０００６】（２）合金膜表面に傷がつきやすい。
【０００７】（３）光学ガラス素子の微小片が成形後合
金膜表面に付着、蓄積される。
金膜表面に付着、蓄積される。
【０００８】（４）合金膜が変色しやすい。
【０００９】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解決し、高温時の耐酸化性および耐腐蝕性に優れ、微小
ガラス片の付着および表面粗度の変化がない、すなわち
離型性の良い光学素子成形用型を提供せんとするにある
。
解決し、高温時の耐酸化性および耐腐蝕性に優れ、微小
ガラス片の付着および表面粗度の変化がない、すなわち
離型性の良い光学素子成形用型を提供せんとするにある
。
【００１０】
【課題を解決するための手段および作用】本発明に係る
光学素子成形用型は、Ｎｉ：２〜４ｗｔ％，Ｃｕ：１〜
３ｗｔ％，Ｆｅ：１〜３ｗｔ％および残部が実質的にＷ
よりなる高密度Ｗ系合金の型基材と、該型基材の表面に
形成したＷの酸化物層とからなっている。
光学素子成形用型は、Ｎｉ：２〜４ｗｔ％，Ｃｕ：１〜
３ｗｔ％，Ｆｅ：１〜３ｗｔ％および残部が実質的にＷ
よりなる高密度Ｗ系合金の型基材と、該型基材の表面に
形成したＷの酸化物層とからなっている。
【００１１】本発明に用いる型基材は、密度が高く、融
点も３４１０℃と高い非常に揮発しにくい材料で、プレ
ス成形時の６００℃以上の高温下でも化学的に安定であ
る。また、該型基材の表面に形成された緻密かつ酸素を
透過させないタングステンの酸化物の存在により、型基
材はプレス成形すべき光学ガラス素子に含まれる酸素と
共有反応を生じないため、型表面での焼付きが発生しな
い。
点も３４１０℃と高い非常に揮発しにくい材料で、プレ
ス成形時の６００℃以上の高温下でも化学的に安定であ
る。また、該型基材の表面に形成された緻密かつ酸素を
透過させないタングステンの酸化物の存在により、型基
材はプレス成形すべき光学ガラス素子に含まれる酸素と
共有反応を生じないため、型表面での焼付きが発生しな
い。
【００１２】また、型基材はＷと反応する低融点のＮｉ
，Ｃｕ，Ｆｅとの合金であるため、熱伝導性で、熱膨張
率が小さい。従って、本発明に係る成形用型を用いて光
学ガラス素子をプレス成形する場合、高温下でも成形精
度の高い成形ガラスを付与することができる。
，Ｃｕ，Ｆｅとの合金であるため、熱伝導性で、熱膨張
率が小さい。従って、本発明に係る成形用型を用いて光
学ガラス素子をプレス成形する場合、高温下でも成形精
度の高い成形ガラスを付与することができる。
【００１３】本発明に用いる型基材を構成するＷ系合金
において、Ｎｉ量は２ｗｔ％未満の場合、Ｗの酸化を増
大させ、また４ｗｔ％を越えると、型基材の硬度を低下
させる。これに対し、Ｃｕ量が１ｗｔ％未満の場合、機
械加工性が低下し、また３ｗｔ％を越えると、耐熱性が
低下する。さらに、Ｆｅ量が１ｗｔ％未満の場合、型基
材の熱膨張率が不所望に大きくなり、また３ｗｔ％を越
えると、耐酸化性が低下する。
において、Ｎｉ量は２ｗｔ％未満の場合、Ｗの酸化を増
大させ、また４ｗｔ％を越えると、型基材の硬度を低下
させる。これに対し、Ｃｕ量が１ｗｔ％未満の場合、機
械加工性が低下し、また３ｗｔ％を越えると、耐熱性が
低下する。さらに、Ｆｅ量が１ｗｔ％未満の場合、型基
材の熱膨張率が不所望に大きくなり、また３ｗｔ％を越
えると、耐酸化性が低下する。
【００１４】また、Ｗ系合金の主成分であるＷとして、
Ｗ量が９０ｗｔ％未満の場合、高温下での耐腐蝕性が不
十分になり、一方９６ｗｔ％を越えると、基材自体が硬
く、脆くなり加工が困難になる。
Ｗ量が９０ｗｔ％未満の場合、高温下での耐腐蝕性が不
十分になり、一方９６ｗｔ％を越えると、基材自体が硬
く、脆くなり加工が困難になる。
【００１５】Ｗ系合金よりなる型基材の表面に従来既知
の酸化処理を施してタングステンの酸化物被膜を形成す
る。
の酸化処理を施してタングステンの酸化物被膜を形成す
る。
【００１６】以下、本発明を実施例につき説明する。
【００１７】
【実施例１】まず、Ｗ：９６ｗｔ％，Ｎｉ：２ｗｔ％，
Ｃｕ：１ｗｔ％およびＦｅ：１ｗｔ％の化学組成を有す
る高密度Ｗ系合金より型基材を作製し、その表面に通常
の酸化処理を施してＷの酸化物層を形成した。かくして
得た成形用型の成形面をダイヤモンド粉末よりなる研磨
剤によりＲｍａｘ＝０．０５μｍ以下の表面粗度になる
よう研磨仕上げした。
Ｃｕ：１ｗｔ％およびＦｅ：１ｗｔ％の化学組成を有す
る高密度Ｗ系合金より型基材を作製し、その表面に通常
の酸化処理を施してＷの酸化物層を形成した。かくして
得た成形用型の成形面をダイヤモンド粉末よりなる研磨
剤によりＲｍａｘ＝０．０５μｍ以下の表面粗度になる
よう研磨仕上げした。
【００１８】この光学素子成形用型を用いてＬａ系ガラ
スを融解し、所望形状の光学ガラス素子に成形したとこ
ろ、１００００ショットの連続成形を行っても、得られ
た成形品の品質ならびに型の成形面には何等欠陥は生じ
なかった。
スを融解し、所望形状の光学ガラス素子に成形したとこ
ろ、１００００ショットの連続成形を行っても、得られ
た成形品の品質ならびに型の成形面には何等欠陥は生じ
なかった。
【００１９】これに対し、特開昭６２−１７０２９号公
報に記載されたような従来の成形用型を用いて上記と同
様に光学ガラス素子を成形したところ、３００ショット
で型の成形面に微小なガラス片の焼付きが生じ、１００
０ショットで使用不能になった。
報に記載されたような従来の成形用型を用いて上記と同
様に光学ガラス素子を成形したところ、３００ショット
で型の成形面に微小なガラス片の焼付きが生じ、１００
０ショットで使用不能になった。
【００２０】
【実施例２】Ｗ：９０ｗｔ％，Ｎｉ：４ｗｔ％，Ｃｕ：
３ｗｔ％およびＦｅ：３ｗｔ％の化学組成を有するＷ系
高密度合金より所望形状の型基材を作製し、その表面に
通常の方法でＷの酸化物層を形成して光学素子成形用型
を得た。次いで、この型の成形面をＲｍａｘ＝０．０７
μｍ以下の表面粗度になるよう実施例１と同様の方法で
研磨仕上げした。
３ｗｔ％およびＦｅ：３ｗｔ％の化学組成を有するＷ系
高密度合金より所望形状の型基材を作製し、その表面に
通常の方法でＷの酸化物層を形成して光学素子成形用型
を得た。次いで、この型の成形面をＲｍａｘ＝０．０７
μｍ以下の表面粗度になるよう実施例１と同様の方法で
研磨仕上げした。
【００２１】この成形用型を用いてＢａ系ガラスを融解
し、所定形状の光学ガラス素子を成形したところ、ほぼ
実施例１と同様の結果が得られ、従来の成形用型と比較
して型寿命が著しく向上した。
し、所定形状の光学ガラス素子を成形したところ、ほぼ
実施例１と同様の結果が得られ、従来の成形用型と比較
して型寿命が著しく向上した。
【００２２】
【発明の効果】上述したことから明らかな如く、本発明
に係る光学素子成形用型は、特に高温下での耐酸化性に
優れ、また成形面へのガラスの微小付着がなく離型性が
非常に優れたものである。さらに型寿命も著しく向上し
、高精度な光学ガラス素子を量産するのに有効である。
に係る光学素子成形用型は、特に高温下での耐酸化性に
優れ、また成形面へのガラスの微小付着がなく離型性が
非常に優れたものである。さらに型寿命も著しく向上し
、高精度な光学ガラス素子を量産するのに有効である。
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｎｉ：２〜４ｗｔ％，Ｃｕ：１〜３ｗ
ｔ％，Ｆｅ：１〜３ｗｔ％および残部が実質的にＷより
なる高密度Ｗ系合金の型基材と、該型基材の表面に形成
したＷの酸化物層とからなる光学素子成形用型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2795791A JPH04367527A (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2795791A JPH04367527A (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 光学素子成形用型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04367527A true JPH04367527A (ja) | 1992-12-18 |
Family
ID=12235375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2795791A Withdrawn JPH04367527A (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04367527A (ja) |
-
1991
- 1991-01-28 JP JP2795791A patent/JPH04367527A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |