JPH0436876B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0436876B2 JPH0436876B2 JP54164627A JP16462779A JPH0436876B2 JP H0436876 B2 JPH0436876 B2 JP H0436876B2 JP 54164627 A JP54164627 A JP 54164627A JP 16462779 A JP16462779 A JP 16462779A JP H0436876 B2 JPH0436876 B2 JP H0436876B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- layer
- recording medium
- optical recording
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
この発明は新規な光学記録媒体、特に固体注入
型レーザに用いられる光学記録媒体に関する。 米国特許第4097895号明細書にはフルオレセイ
ン等の吸光層で被覆したアルミニウム、金等の光
反射性材料を含む融除型記録媒体が記載されてい
る。アルゴンまたはヘリウム・カドミウムレーザ
からのような集束強度変調レーザービームは、記
録媒体に当るとその吸光材料を蒸発させまたは融
除して開孔を残し、光反射層を露出させる。この
吸光層の厚さは構体の反射率が最低になるように
選ばれているから、記録後吸光層の最低反射率と
光反射層の反射率との間に最大のコントラストが
生じる。その上光反射層自体が不導体基板上の薄
層であれば、薄い吸光層から反射によつて失われ
るエネルギは殆んどなく、また反射層を介する透
過による損失も殆んどないから、光ビームから吸
収されたエネルギは極めて薄い皮膜内に集中し、
記録感度は驚異的に高い。 この方式の動作は良好であるが、アルゴンレー
ザやヘリウム・カドミウムレーザが動作に比較的
大入力電力を要する大型装置であるという欠点を
持つ上、外部に光変調器が必要である。アルミニ
ウム・ガリウム砒素レーザを含む固体注入型レー
ザにおけるようにさらに低い入力電力レベルで動
作させることが望ましい。これらのレーザは波長
約750〜850nmで動作するから、上記記録方式に
有用な記録媒体にはこの波長で吸収する材料が必
要である。 材料は吸光層として有用であるためには光学的
品質と所定の厚さを持つ薄い平滑層の形成に適用
し得る必要があり、使用する光源の周波数で吸光
性を持たねばならず、また解除または熔融されて
信号対雑音比が少なくとも40dBの信号パタンを
与える滑らかな開孔を形成する必要がある。 光反射層と、下のような式を持つ染料を含む約
750〜850nmで吸収を示す吸光層とを含む融除型
記録媒体が発見された。 ただしＸは水素または塩素、Ｍは鉛、アルミニ
ウム、バナジル及び錫（＋４）から成る群から選
ばれたものである。 この発見の記録媒体に特に適する染料は鉛フタ
ロシアニン、クロロアルミニウムフタロシアニ
ン、バナジルフタロシアニン、錫フタロシアニン
またはクロロアルミニウム、クロロフタロシアニ
ンを含むものである。 上記化合物はすべて固体注入型レーザの波長で
吸収を行い、光反射層上に蒸着されて信号対雑音
比の高い記録情報を形成する滑らかな光学的品質
の吸光層を与えることができる。 バナジルフタロシアニンは屈折率2.4、800nm
の吸収係数Ｋが1.0である。 クロロアルミニウムフタロシアニンは屈折率
3.2、800nmの吸収係数0.5である。 鉛フタロシアニンは屈折率2.4、800nmの吸収
係数0.4である。 クロロアルミニウム・クロロフタロシアニンは
屈折率3.1、800nmの吸収係数0.3である。 光反射層自体が基板上の層のときは基板の性質
は重要でないが、この基板は被着される光反射層
が接着するような光学的平滑面を持つ必要があ
る。ガラス板、ガラス円板またはプラスチツク円
板が適している。光反射材料が光学的平滑の自立
層として形成できれば、基板は不要になる。 光反射材料は記録用の光を反射しなければなら
ない。適当な光反射材料としてはアルミニウム、
ロジウム、金等がある。この光反射材料は記録光
を反射する厚さを有する。 この発明のフタロシアニン染料は普通の真空蒸
着によつて被着することができる。この染料を適
当な容器に入れて真空室内におき、その容器を電
流源に接続する。基板をこの染料の上におき、真
空室を約10-6mmHgまで排気して容器に電流を流
し、染料の温度をその蒸発温度まで上昇する。光
反射層上に所要厚さの染料層が被着されるまで蒸
着を続け、その厚さに達すると電流を遮断して真
空室に空気を入れる。 次にこの発明を添付図面を参照しつつ詳細に説
明する。 第１図は記録光に露出する前のこの発明を実施
した記録媒体で、ガラス基板１１０と、厚さ約
600Åの金層から成る光反射層１１２と、上記フ
タロシアニン染料の１つから成る吸光層１１４と
を具備する。 第２図は記録光に露出した後のこの発明を実施
した記録媒体で、染料層１１４が融除されて開孔
１１６を残し、光反射層１１２を露出している。
第２図には１個しか示されていないが、記録後の
記録媒体には複数個の開孔すなわちピツト１１６
があることが判る。 この発明の記録媒体の用法は第３図を参照して
さらに詳細に説明することができる。記録の場合
はアルミニウム・ガリウム砒素注入型レーザ１０
により発射された光が入力電気信号１４に応じて
直接変調され、この変調光が記録用光学系１６に
より拡大されて強度変調レーザービームの直径を
増し、レーザ１０の平面に平行並びに垂直な平面
内の対物レンズ１８の所要の開口を充たすように
する。この拡大された変調レーザービームは偏光
ビーム分割器２０により全反射してビーム回転用
１／４波長板２２を通り、対物レンズ１８に入る。
さらに変調記録ビームは第１図に示す記録媒体２
４に衝突してその吸光層の一部を融除または蒸発
させ、光反射層の一部を露出する。記録媒体２４
はターンテーブル２６により約1800回転／分で回
転される。対物レンズ１８と記録媒体２４の表面
との距離は集束サーボ機構２８により一定に保た
れる。 再生の場合は未変調の弱いレーザすなわち記録
媒体に融除を起こさないものを記録ビームと同じ
径路で記録媒体２４に導くと、その反射非反射の
記録パタンにより反射光が変調され、対物レンズ
１８および1/4波長板２２を通つて戻つて来る。
このとき光は1/4波長板２２を２回通つて90°回転
しているが、さらに偏光ビーム分割器２０を通つ
て再生用光学系により光検知器３２に導入され
る。この光検知器３２は反射光ビームを信号源１
４からの入力信号に対応する電気出力信号に変換
して端子３４に生成する。追跡サーボ機構３６は
再生用光学系３０を通る光を監視して記録媒体２
４のトラツクが再生中記録に用いたものと確実に
同じになるようにしている。 次にこの発明を例を挙げて説明するが、これは
この発明がこの説明の細部に限定されることを意
味するものではない。 例 １ 基板上に蒸着により厚さ約600Åの金層を被着
し、被覆基板を真空室内に入れて鉛フタロシアニ
ンを入れた蒸着ボート上におき、このボートに電
流源を接続して真空室を約10-6mmHgに排気し
た。ボートを約300〜400°に加熱してシヤツタを
開き、約４Å／秒の速度で染料を蒸着し、これを
金層上に厚さ約600Åの層が被着されるまで続け
た。 これによつて平滑無定形無色の連続被膜が形成
された。 このようにして得られた記録媒体を第３図に示
す装置によりアルミニウム・ガリウム砒素連続波
注入型レーザからの波長約800nmの50n秒光パル
ス列に露光して、染料薄膜に規則正しい形の滑ら
かな開孔を融除により形成するのに要するレーザ
の入射記録閾値は約31mWであつた。 例 ２ 例１の手順に準じて例１におけるような金被覆
基板を厚さ約510Åのクロロアルミニウム・フタ
ロシアニンの層で被覆する。染料薄膜に規則正し
い形の滑らかな開孔を融除により形成するのに要
するレーザの入射記録閾値は約42mWであつた。 例 ３ 例１の手順に準じて金被覆基板に厚さ約650Å
のバナジルフタロシアニンを被着したところ、反
射率は8000Åで約９％であつた。この反射率は約
６週間放置しても不変であつた。 レーザにより滑らかな規則正しい形の開孔を融
除により形成するのに要する記録面のレーザ入射
記録閾値は約３〜3.5mWであつた。 例 ４ 例１の手順に準じて金被覆基板に厚さ約400Å
のクロロアルミニウム・クロロフタロシアニンを
被着したところ、800nmの反射率は約13％であつ
た。 滑らかで規則正しい形の開孔を融除により形成
するのに要する記録面のレーザ入射記録閾値は約
３〜3.5mWであつた。 比較例 例１の手順に準じて金被覆基板に他のフタロシ
アニン染料を被着したが、この用途に適すること
は立証できなかつた。このデータをまとめて次の
表に示す。
型レーザに用いられる光学記録媒体に関する。 米国特許第4097895号明細書にはフルオレセイ
ン等の吸光層で被覆したアルミニウム、金等の光
反射性材料を含む融除型記録媒体が記載されてい
る。アルゴンまたはヘリウム・カドミウムレーザ
からのような集束強度変調レーザービームは、記
録媒体に当るとその吸光材料を蒸発させまたは融
除して開孔を残し、光反射層を露出させる。この
吸光層の厚さは構体の反射率が最低になるように
選ばれているから、記録後吸光層の最低反射率と
光反射層の反射率との間に最大のコントラストが
生じる。その上光反射層自体が不導体基板上の薄
層であれば、薄い吸光層から反射によつて失われ
るエネルギは殆んどなく、また反射層を介する透
過による損失も殆んどないから、光ビームから吸
収されたエネルギは極めて薄い皮膜内に集中し、
記録感度は驚異的に高い。 この方式の動作は良好であるが、アルゴンレー
ザやヘリウム・カドミウムレーザが動作に比較的
大入力電力を要する大型装置であるという欠点を
持つ上、外部に光変調器が必要である。アルミニ
ウム・ガリウム砒素レーザを含む固体注入型レー
ザにおけるようにさらに低い入力電力レベルで動
作させることが望ましい。これらのレーザは波長
約750〜850nmで動作するから、上記記録方式に
有用な記録媒体にはこの波長で吸収する材料が必
要である。 材料は吸光層として有用であるためには光学的
品質と所定の厚さを持つ薄い平滑層の形成に適用
し得る必要があり、使用する光源の周波数で吸光
性を持たねばならず、また解除または熔融されて
信号対雑音比が少なくとも40dBの信号パタンを
与える滑らかな開孔を形成する必要がある。 光反射層と、下のような式を持つ染料を含む約
750〜850nmで吸収を示す吸光層とを含む融除型
記録媒体が発見された。 ただしＸは水素または塩素、Ｍは鉛、アルミニ
ウム、バナジル及び錫（＋４）から成る群から選
ばれたものである。 この発見の記録媒体に特に適する染料は鉛フタ
ロシアニン、クロロアルミニウムフタロシアニ
ン、バナジルフタロシアニン、錫フタロシアニン
またはクロロアルミニウム、クロロフタロシアニ
ンを含むものである。 上記化合物はすべて固体注入型レーザの波長で
吸収を行い、光反射層上に蒸着されて信号対雑音
比の高い記録情報を形成する滑らかな光学的品質
の吸光層を与えることができる。 バナジルフタロシアニンは屈折率2.4、800nm
の吸収係数Ｋが1.0である。 クロロアルミニウムフタロシアニンは屈折率
3.2、800nmの吸収係数0.5である。 鉛フタロシアニンは屈折率2.4、800nmの吸収
係数0.4である。 クロロアルミニウム・クロロフタロシアニンは
屈折率3.1、800nmの吸収係数0.3である。 光反射層自体が基板上の層のときは基板の性質
は重要でないが、この基板は被着される光反射層
が接着するような光学的平滑面を持つ必要があ
る。ガラス板、ガラス円板またはプラスチツク円
板が適している。光反射材料が光学的平滑の自立
層として形成できれば、基板は不要になる。 光反射材料は記録用の光を反射しなければなら
ない。適当な光反射材料としてはアルミニウム、
ロジウム、金等がある。この光反射材料は記録光
を反射する厚さを有する。 この発明のフタロシアニン染料は普通の真空蒸
着によつて被着することができる。この染料を適
当な容器に入れて真空室内におき、その容器を電
流源に接続する。基板をこの染料の上におき、真
空室を約10-6mmHgまで排気して容器に電流を流
し、染料の温度をその蒸発温度まで上昇する。光
反射層上に所要厚さの染料層が被着されるまで蒸
着を続け、その厚さに達すると電流を遮断して真
空室に空気を入れる。 次にこの発明を添付図面を参照しつつ詳細に説
明する。 第１図は記録光に露出する前のこの発明を実施
した記録媒体で、ガラス基板１１０と、厚さ約
600Åの金層から成る光反射層１１２と、上記フ
タロシアニン染料の１つから成る吸光層１１４と
を具備する。 第２図は記録光に露出した後のこの発明を実施
した記録媒体で、染料層１１４が融除されて開孔
１１６を残し、光反射層１１２を露出している。
第２図には１個しか示されていないが、記録後の
記録媒体には複数個の開孔すなわちピツト１１６
があることが判る。 この発明の記録媒体の用法は第３図を参照して
さらに詳細に説明することができる。記録の場合
はアルミニウム・ガリウム砒素注入型レーザ１０
により発射された光が入力電気信号１４に応じて
直接変調され、この変調光が記録用光学系１６に
より拡大されて強度変調レーザービームの直径を
増し、レーザ１０の平面に平行並びに垂直な平面
内の対物レンズ１８の所要の開口を充たすように
する。この拡大された変調レーザービームは偏光
ビーム分割器２０により全反射してビーム回転用
１／４波長板２２を通り、対物レンズ１８に入る。
さらに変調記録ビームは第１図に示す記録媒体２
４に衝突してその吸光層の一部を融除または蒸発
させ、光反射層の一部を露出する。記録媒体２４
はターンテーブル２６により約1800回転／分で回
転される。対物レンズ１８と記録媒体２４の表面
との距離は集束サーボ機構２８により一定に保た
れる。 再生の場合は未変調の弱いレーザすなわち記録
媒体に融除を起こさないものを記録ビームと同じ
径路で記録媒体２４に導くと、その反射非反射の
記録パタンにより反射光が変調され、対物レンズ
１８および1/4波長板２２を通つて戻つて来る。
このとき光は1/4波長板２２を２回通つて90°回転
しているが、さらに偏光ビーム分割器２０を通つ
て再生用光学系により光検知器３２に導入され
る。この光検知器３２は反射光ビームを信号源１
４からの入力信号に対応する電気出力信号に変換
して端子３４に生成する。追跡サーボ機構３６は
再生用光学系３０を通る光を監視して記録媒体２
４のトラツクが再生中記録に用いたものと確実に
同じになるようにしている。 次にこの発明を例を挙げて説明するが、これは
この発明がこの説明の細部に限定されることを意
味するものではない。 例 １ 基板上に蒸着により厚さ約600Åの金層を被着
し、被覆基板を真空室内に入れて鉛フタロシアニ
ンを入れた蒸着ボート上におき、このボートに電
流源を接続して真空室を約10-6mmHgに排気し
た。ボートを約300〜400°に加熱してシヤツタを
開き、約４Å／秒の速度で染料を蒸着し、これを
金層上に厚さ約600Åの層が被着されるまで続け
た。 これによつて平滑無定形無色の連続被膜が形成
された。 このようにして得られた記録媒体を第３図に示
す装置によりアルミニウム・ガリウム砒素連続波
注入型レーザからの波長約800nmの50n秒光パル
ス列に露光して、染料薄膜に規則正しい形の滑ら
かな開孔を融除により形成するのに要するレーザ
の入射記録閾値は約31mWであつた。 例 ２ 例１の手順に準じて例１におけるような金被覆
基板を厚さ約510Åのクロロアルミニウム・フタ
ロシアニンの層で被覆する。染料薄膜に規則正し
い形の滑らかな開孔を融除により形成するのに要
するレーザの入射記録閾値は約42mWであつた。 例 ３ 例１の手順に準じて金被覆基板に厚さ約650Å
のバナジルフタロシアニンを被着したところ、反
射率は8000Åで約９％であつた。この反射率は約
６週間放置しても不変であつた。 レーザにより滑らかな規則正しい形の開孔を融
除により形成するのに要する記録面のレーザ入射
記録閾値は約３〜3.5mWであつた。 例 ４ 例１の手順に準じて金被覆基板に厚さ約400Å
のクロロアルミニウム・クロロフタロシアニンを
被着したところ、800nmの反射率は約13％であつ
た。 滑らかで規則正しい形の開孔を融除により形成
するのに要する記録面のレーザ入射記録閾値は約
３〜3.5mWであつた。 比較例 例１の手順に準じて金被覆基板に他のフタロシ
アニン染料を被着したが、この用途に適すること
は立証できなかつた。このデータをまとめて次の
表に示す。
【表】
第１図はこの発明を実施する記録媒体の記録前
の断面図、第２図はこの発明を実施する記録媒体
の記録後の断面図、第３図はこの発明の記録媒体
を使用し得る記録再生方式の略図である。 １１０……ガラス基板、１１２……光反射層、
１１４……吸光層、１１６……融除開孔。
の断面図、第２図はこの発明を実施する記録媒体
の記録後の断面図、第３図はこの発明の記録媒体
を使用し得る記録再生方式の略図である。 １１０……ガラス基板、１１２……光反射層、
１１４……吸光層、１１６……融除開孔。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Ｘを水素または塩素、Ｍを鉛、アルミニウ
ム、バナジル及び錫（＋４）から成る群から選ば
れたものとするとき、下記の式を有する吸光性染
料の層で被覆された、ロジウム及び金を含む群か
ら選ばれた光反射性材料の層を備えた融除型光学
記録媒体。 ２ 光源から放射される約750〜850nm波長の光
に対する反射率が最小になるように吸光性染料層
の厚さが選ばれている、請求項第１項記載の融除
型光学記録媒体。 ３ 光反射性材料層の部分が露出されると、情報
に対応する光反射−吸光パターンが形成される、
請求項第２項記載の融除型光学記録媒体。 ４ Ｘを水素、Ｍを鉛とするとき、下記の式を有
する吸光性染料の層で被覆された光反射性材料層
を備えた融除型光学記録媒体。 ５ 光源から放射される約750〜850nm波長の光
に対する反射率が最小になるように吸光性染料層
の厚さが選ばれている、請求項第４項記載の融除
型光学記録媒体。 ６ 光反射性材料層の部分が露出されると、情報
に対応する光反射−吸光パターンが形成される、
請求項第５項記載の融除型光学記録媒体。 ７ Ｘを塩素、Ｍを鉛、バナジル及び錫（＋４）
から成る群から選ばれたものとするとき、下記の
式を有する吸光性染料の層で被覆された光反射性
材料層を備えた融除型光学記録媒体。 ８ 光源から放射される約750〜850nm波長の光
に対する反射率が最小になるように吸光性染料層
の厚さが選ばれている、請求項第７項記載の融除
型光学記録媒体。 ９ 光反射性材料層の部分が露出されると、情報
に対応する光反射−吸光パターンが形成される、
請求項第８項記載の融除型光学記録媒体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB7941271A GB2066489B (en) | 1979-11-29 | 1979-11-29 | Ablative optical recording medium |
| JP16462779A JPS5686795A (en) | 1979-11-29 | 1979-12-17 | Melting removing type optical recording medium |
| JP4040263A JPH0662010B2 (ja) | 1979-11-29 | 1992-01-29 | 融除型光学記録媒体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB7941271A GB2066489B (en) | 1979-11-29 | 1979-11-29 | Ablative optical recording medium |
| JP16462779A JPS5686795A (en) | 1979-11-29 | 1979-12-17 | Melting removing type optical recording medium |
| JP4040263A JPH0662010B2 (ja) | 1979-11-29 | 1992-01-29 | 融除型光学記録媒体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4040263A Division JPH0662010B2 (ja) | 1979-11-29 | 1992-01-29 | 融除型光学記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5686795A JPS5686795A (en) | 1981-07-14 |
| JPH0436876B2 true JPH0436876B2 (ja) | 1992-06-17 |
Family
ID=27260815
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16462779A Granted JPS5686795A (en) | 1979-11-29 | 1979-12-17 | Melting removing type optical recording medium |
| JP4040263A Expired - Lifetime JPH0662010B2 (ja) | 1979-11-29 | 1992-01-29 | 融除型光学記録媒体 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4040263A Expired - Lifetime JPH0662010B2 (ja) | 1979-11-29 | 1992-01-29 | 融除型光学記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPS5686795A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5686795A (en) * | 1979-11-29 | 1981-07-14 | Rca Corp | Melting removing type optical recording medium |
| JPS5782093A (en) * | 1980-11-12 | 1982-05-22 | Ricoh Co Ltd | Optical information recording medium |
| JPS5856892A (ja) * | 1981-10-01 | 1983-04-04 | Ricoh Co Ltd | 光学的情報記録媒体 |
| JPH0749231B2 (ja) * | 1985-08-13 | 1995-05-31 | 三菱化学株式会社 | 光学記録体 |
| JPH02132656A (ja) * | 1988-07-30 | 1990-05-22 | Taiyo Yuden Co Ltd | 光情報記録媒体及びそれを用いた光情報記録方法 |
| TW421791B (en) * | 1997-03-31 | 2001-02-11 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Optical recording medium and production process for the same |
| JPH11123871A (ja) | 1997-10-22 | 1999-05-11 | Konica Corp | 画像形成材料及びその製造方法と画像形成装置 |
| WO2000055136A1 (en) | 1999-03-16 | 2000-09-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Metal-containing azo compounds and optical recording media |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7900281A (nl) * | 1979-01-15 | 1980-07-17 | Philips Nv | Optische registratie-inrichting alsmede een werkwijze voor het registreren van informatie langs optische weg. |
| JPS5686795A (en) * | 1979-11-29 | 1981-07-14 | Rca Corp | Melting removing type optical recording medium |
-
1979
- 1979-12-17 JP JP16462779A patent/JPS5686795A/ja active Granted
-
1992
- 1992-01-29 JP JP4040263A patent/JPH0662010B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0662010B2 (ja) | 1994-08-17 |
| JPS5686795A (en) | 1981-07-14 |
| JPH0640163A (ja) | 1994-02-15 |
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