JPH0662010B2 - 融除型光学記録媒体 - Google Patents
融除型光学記録媒体Info
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- JPH0662010B2 JPH0662010B2 JP4040263A JP4026392A JPH0662010B2 JP H0662010 B2 JPH0662010 B2 JP H0662010B2 JP 4040263 A JP4040263 A JP 4040263A JP 4026392 A JP4026392 A JP 4026392A JP H0662010 B2 JPH0662010 B2 JP H0662010B2
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Landscapes
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、新規な光学記録媒
体、特に固体注入型レーザに用いられる光学記録媒体に
関する。
体、特に固体注入型レーザに用いられる光学記録媒体に
関する。
【0002】
【従来の技術】米国特許第4097895号明細書には
フルオレセイン等の吸光層で被覆したアルミニウム、金
等の光反射性材料を含む融除型記録媒体が記載されてい
る。アルゴンまたはヘリウム・カドミウムレーザからの
ような集束強度変調レーザ−ビームは、記録媒体に当た
るとその吸光材料を蒸発させまたは融除して開孔を残
し、光反射層を露出させる。この吸光層の厚さは構体の
反射率が最低になるように選ばれているから、記録後吸
収層の最低反射率と光反射層の反射率との間に最大のコ
ントラストが生じる。その上光反射層自体が不導体基板
上の薄層であれば、薄い吸光層から反射によって失われ
るエネルギは殆どなく、また反射層を介する透過による
損失も殆どないから、光ビームから吸収されたエネルギ
は極めて薄い被膜内に集中し、記録感度は驚異的に高く
なるという特徴がある。
フルオレセイン等の吸光層で被覆したアルミニウム、金
等の光反射性材料を含む融除型記録媒体が記載されてい
る。アルゴンまたはヘリウム・カドミウムレーザからの
ような集束強度変調レーザ−ビームは、記録媒体に当た
るとその吸光材料を蒸発させまたは融除して開孔を残
し、光反射層を露出させる。この吸光層の厚さは構体の
反射率が最低になるように選ばれているから、記録後吸
収層の最低反射率と光反射層の反射率との間に最大のコ
ントラストが生じる。その上光反射層自体が不導体基板
上の薄層であれば、薄い吸光層から反射によって失われ
るエネルギは殆どなく、また反射層を介する透過による
損失も殆どないから、光ビームから吸収されたエネルギ
は極めて薄い被膜内に集中し、記録感度は驚異的に高く
なるという特徴がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この方式の動作は良好
であるが、アルゴンレーザやヘリウム・カドミウムレー
ザが動作に比較的大入力電力を要する大型装置であると
いう欠点を持つ上、外部に光変調器が必要である。アル
ミニウム・ガリウム砒素レーザを含む固体注入型レーザ
におけるようにさらに低い入力電力レベルで動作させる
ことが望ましい。これらのレーザは波長約750〜85
0nmで動作するから、上記記録方式に有用な記録媒体
にはこの波長で吸収する材料が必要である。
であるが、アルゴンレーザやヘリウム・カドミウムレー
ザが動作に比較的大入力電力を要する大型装置であると
いう欠点を持つ上、外部に光変調器が必要である。アル
ミニウム・ガリウム砒素レーザを含む固体注入型レーザ
におけるようにさらに低い入力電力レベルで動作させる
ことが望ましい。これらのレーザは波長約750〜85
0nmで動作するから、上記記録方式に有用な記録媒体
にはこの波長で吸収する材料が必要である。
【0004】材料は吸光層として有用であるためには光
学的品質と所定の厚さを持つ薄い平滑層の形成に適用し
得る必要があり、使用する光源の周波数で吸光性を持た
ねばならず、また融除または溶融されて信号対雑音比が
少なくとも40dBの信号パタンを与える滑らかな開孔
を形成する必要がある。
学的品質と所定の厚さを持つ薄い平滑層の形成に適用し
得る必要があり、使用する光源の周波数で吸光性を持た
ねばならず、また融除または溶融されて信号対雑音比が
少なくとも40dBの信号パタンを与える滑らかな開孔
を形成する必要がある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の融除型光学記録
媒体は、記録された情報に対して光反射性、非反射性の
材料の層からなり、この層は情報を記録するために下に
示すような式を有する吸光性染料の被膜を含むものであ
る。この吸光性染料の被膜は例えば約750〜850n
m波長の光に対して吸光性を示す。
媒体は、記録された情報に対して光反射性、非反射性の
材料の層からなり、この層は情報を記録するために下に
示すような式を有する吸光性染料の被膜を含むものであ
る。この吸光性染料の被膜は例えば約750〜850n
m波長の光に対して吸光性を示す。
【0006】
【化2】 ただしXは水素または塩素、Mは鉛、アルミニウム、バ
ナジルおよび錫(+4)から成る群から選ばれたもので
ある。
ナジルおよび錫(+4)から成る群から選ばれたもので
ある。
【0007】この発明の記録媒体に特に適する染料は鉛
フタロシアニン、クロロアルミニウムフタロシアニン、
バナジルフタロシアニン、錫フタロシアニンまたはクロ
ロアルミニウム・クロロフタロシアニンを含むものであ
る。
フタロシアニン、クロロアルミニウムフタロシアニン、
バナジルフタロシアニン、錫フタロシアニンまたはクロ
ロアルミニウム・クロロフタロシアニンを含むものであ
る。
【0008】
【作用】上記化合物はすべて固体注入型レーザの波長で
吸収を行い、光反射層上に蒸着されて信号対雑音比の高
い記録情報を形成する滑らかな光学的品質の吸光層を与
えることができる。
吸収を行い、光反射層上に蒸着されて信号対雑音比の高
い記録情報を形成する滑らかな光学的品質の吸光層を与
えることができる。
【0009】バナジルフタロシアニンは屈折率2.4、
800nmの吸収係数Kが1.0である。クロロアルミ
ニウムフタロシアニンは屈折率3.2、800nmの吸
収係数0.5である。鉛フタロシアニンは屈折率2.
4、800nmの吸収係数0.4である。クロロアルミ
ニウム・クロロフタロシアニンは屈折率3.1、800
nmの吸収係数0.3である。
800nmの吸収係数Kが1.0である。クロロアルミ
ニウムフタロシアニンは屈折率3.2、800nmの吸
収係数0.5である。鉛フタロシアニンは屈折率2.
4、800nmの吸収係数0.4である。クロロアルミ
ニウム・クロロフタロシアニンは屈折率3.1、800
nmの吸収係数0.3である。
【0010】光反射層自体が基板上の層のときは基板の
性質は重要でないが、この基板は被着される光反射層が
接着するような光学的平滑面を持つ必要がある。基板と
しては、ガラス板、ガラス円板またはプラスチック円板
が適している。光反射材料が光学的平滑の自立層として
形成できれば、基板は不要になる。
性質は重要でないが、この基板は被着される光反射層が
接着するような光学的平滑面を持つ必要がある。基板と
しては、ガラス板、ガラス円板またはプラスチック円板
が適している。光反射材料が光学的平滑の自立層として
形成できれば、基板は不要になる。
【0011】光反射材料は記録用の光を反射しなければ
ならない。適当な光反射材料としてはアルミニウム、ロ
ジウム、金等がある。この光反射材料は記録光を反射す
る厚さを有する。
ならない。適当な光反射材料としてはアルミニウム、ロ
ジウム、金等がある。この光反射材料は記録光を反射す
る厚さを有する。
【0012】この発明のフタロシアニン染料は普通の真
空蒸着によって被着することができる。この染料を適当
な容器に入れて真空室内におき、その容器を電流源に接
続する。基板をこの染料の上におき、真空室を約10-6
mmHgまで排気して容器に電流を流し、染料の温度を
その蒸発温度まで上昇する。光反射層上に所要厚さの染
料層が被着されるまで蒸着を続け、その厚さに達すると
電流を遮断して真空室に空気を入れる。
空蒸着によって被着することができる。この染料を適当
な容器に入れて真空室内におき、その容器を電流源に接
続する。基板をこの染料の上におき、真空室を約10-6
mmHgまで排気して容器に電流を流し、染料の温度を
その蒸発温度まで上昇する。光反射層上に所要厚さの染
料層が被着されるまで蒸着を続け、その厚さに達すると
電流を遮断して真空室に空気を入れる。
【0013】
【実施例】次にこの発明を添付図面を参照しつつ詳細に
説明する。
説明する。
【0014】図1は記録光に露出する前のこの発明を実
施した記録媒体で、ガラス基板110と、厚さ約600
Åの金層から成る光反射層112と、上記フタロシアニ
ン染料の1つから成る吸光層114とを具備する。
施した記録媒体で、ガラス基板110と、厚さ約600
Åの金層から成る光反射層112と、上記フタロシアニ
ン染料の1つから成る吸光層114とを具備する。
【0015】図2は記録光に露出した後のこの発明を実
施した記録媒体で、染料層114が融除されて開孔11
6を残し、光反射層112を露出している。図2には1
個しか示されていないが、記録後の記録媒体には複数個
の開孔すなわちピット116があることが判る。
施した記録媒体で、染料層114が融除されて開孔11
6を残し、光反射層112を露出している。図2には1
個しか示されていないが、記録後の記録媒体には複数個
の開孔すなわちピット116があることが判る。
【0016】この発明の記録媒体の用法を図3を参照し
てさらに詳細に説明する。記録の場合はアルミニウム・
ガリウム砒素注入型レーザ10により発射された光が入
力電気信号14に応じて直接変調され、この変調光が記
録用光学系16により拡大されて強度変調レーザ−ビー
ムの直径を増し、レーザ10の平面に平行並びに垂直な
平面内の対物レンズ18の所要の開口を満たすようにす
る。
てさらに詳細に説明する。記録の場合はアルミニウム・
ガリウム砒素注入型レーザ10により発射された光が入
力電気信号14に応じて直接変調され、この変調光が記
録用光学系16により拡大されて強度変調レーザ−ビー
ムの直径を増し、レーザ10の平面に平行並びに垂直な
平面内の対物レンズ18の所要の開口を満たすようにす
る。
【0017】この拡大された変調レーザ−ビームは偏光
ビーム分割器20により全反射してビーム回転用1/4
波長板22を通り、対物レンズ18に入る。さらに変調
記録ビームは図1に示す記録媒体24に衝突してその吸
光層の一部を融除または蒸発させ、光反射層の一部を露
出する。記録媒体24はターンテーブル26により約1
800回転/分で回転される。対物レンズ18と記録媒
体24の表面との距離は集束サーボ機構28により一定
に保たれる。
ビーム分割器20により全反射してビーム回転用1/4
波長板22を通り、対物レンズ18に入る。さらに変調
記録ビームは図1に示す記録媒体24に衝突してその吸
光層の一部を融除または蒸発させ、光反射層の一部を露
出する。記録媒体24はターンテーブル26により約1
800回転/分で回転される。対物レンズ18と記録媒
体24の表面との距離は集束サーボ機構28により一定
に保たれる。
【0018】再生の場合は未変調の弱いレーザすなわち
記録媒体に融除を起こさないものを記録ビームと同じ径
路で記録媒体24に導くと、その反射、非反射の記録パ
タンにより反射光が変調され、対物レンズ18および1
/4波長板22を通って戻って来る。このとき光は1/
4波長板22を2回通って90°回転しているが、さら
に偏光ビーム分割器20を通って再生用光学系30によ
り光検知器32に導入される。この光検知器32は反射
光ビームを信号源14からの入力信号に対応する電気信
号に変換する。変換された電気信号は出力信号として信
号出力端子34に発生する。追跡サーボ機構36は再生
用光学系30を通る光を監視して記録媒体24のトラッ
クが再生中記録に用いたものと確実に同じになるように
している。
記録媒体に融除を起こさないものを記録ビームと同じ径
路で記録媒体24に導くと、その反射、非反射の記録パ
タンにより反射光が変調され、対物レンズ18および1
/4波長板22を通って戻って来る。このとき光は1/
4波長板22を2回通って90°回転しているが、さら
に偏光ビーム分割器20を通って再生用光学系30によ
り光検知器32に導入される。この光検知器32は反射
光ビームを信号源14からの入力信号に対応する電気信
号に変換する。変換された電気信号は出力信号として信
号出力端子34に発生する。追跡サーボ機構36は再生
用光学系30を通る光を監視して記録媒体24のトラッ
クが再生中記録に用いたものと確実に同じになるように
している。
【0019】次にこの発明を例を挙げて説明するが、こ
れはこの発明がこの説明の細部に限定されることを意味
するものではない。
れはこの発明がこの説明の細部に限定されることを意味
するものではない。
【0020】例1 基板上に蒸着により厚さ約600Åの金層を被着し、金
層で被覆された基板を真空室内に入れて鉛フタロシアニ
ンを入れた蒸着ボート上におき、このボートに電流源を
接続して真空室を約10-6mmHgに排気した。ボート
を約300〜400℃に加熱してシャッタを開き、約4
Å/秒の速度で染料を蒸着し、これを金層上に厚さ約6
00Åの層が被着されるまで続けた。これによって平滑
無定形無色の連続被膜が形成された。
層で被覆された基板を真空室内に入れて鉛フタロシアニ
ンを入れた蒸着ボート上におき、このボートに電流源を
接続して真空室を約10-6mmHgに排気した。ボート
を約300〜400℃に加熱してシャッタを開き、約4
Å/秒の速度で染料を蒸着し、これを金層上に厚さ約6
00Åの層が被着されるまで続けた。これによって平滑
無定形無色の連続被膜が形成された。
【0021】このようにして得られた記録媒体を図3に
示す装置によりアルミニウム・ガリウム砒素連続波注入
型レーザからの波長約800nmの50n秒光パルス列
に露光した。染料薄膜を融除してこれに規則正しい形の
滑らかな開孔を形成するのに要する記録面のレーザ入射
記録閾値は約31mWであった。
示す装置によりアルミニウム・ガリウム砒素連続波注入
型レーザからの波長約800nmの50n秒光パルス列
に露光した。染料薄膜を融除してこれに規則正しい形の
滑らかな開孔を形成するのに要する記録面のレーザ入射
記録閾値は約31mWであった。
【0022】例2 例1の手順に準じて例1におけるような金被覆基板を厚
さ約510Åのクロロアルミニウム・フタロシアニンの
層で被覆する。染料薄膜を融除してこれに規則正しい形
の滑らかな開孔を形成するのに要する記録面のレーザ入
射記録閾値は約42mWであった。
さ約510Åのクロロアルミニウム・フタロシアニンの
層で被覆する。染料薄膜を融除してこれに規則正しい形
の滑らかな開孔を形成するのに要する記録面のレーザ入
射記録閾値は約42mWであった。
【0023】例3 例1の手順に準じて金被覆基板に厚さ約650Åのバナ
ジルフタロシアニンを被着したところ、反射率は800
0Åで約9%であった。この反射率は約6週間放置して
も不変であった。レーザにより滑らかな規則正しい形の
開孔を融除するに要する記録面のレーザーの入射記録閾
値は約3〜3.5mWであった。
ジルフタロシアニンを被着したところ、反射率は800
0Åで約9%であった。この反射率は約6週間放置して
も不変であった。レーザにより滑らかな規則正しい形の
開孔を融除するに要する記録面のレーザーの入射記録閾
値は約3〜3.5mWであった。
【0024】例4 例1の手順に準じて金被覆基板に厚さ約400Åのクロ
ロアルミニウム・クロロフタロシアニンを被着したとこ
ろ、800nmの反射率は約13%であった。滑らかで
規則正しい形の開孔を融除するに要する記録面のレーザ
ーの入射記録閾値は約3〜3.5mWであった。
ロアルミニウム・クロロフタロシアニンを被着したとこ
ろ、800nmの反射率は約13%であった。滑らかで
規則正しい形の開孔を融除するに要する記録面のレーザ
ーの入射記録閾値は約3〜3.5mWであった。
【0025】比較例 例1の手順に準じた金被覆基板に他のフタロシアニン染
料を被着したが、この用途に適することは立証できなか
った。このデータをまとめて次の表に示す。
料を被着したが、この用途に適することは立証できなか
った。このデータをまとめて次の表に示す。
【0026】
【表1】
【図1】この発明を実施する記録媒体の記録前の断面図
である。
である。
【図2】この発明を実施する記録媒体の記録後の断面図
である。
である。
【図3】この発明の記録媒体を使用し得る記録再生方式
の略図である。
の略図である。
110 ガラス基板 112 光反射層 114 吸光層 116 融除開孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−97033(JP,A) 特公 平4−36876(JP,B2)
Claims (3)
- 【請求項1】 記録された情報に対して光反射性、非反
射性の材料の層からなり、この層は、Xを水素または塩
素、Mを鉛、アルミニウム、バナジル及び錫(+4)か
らなる群から選ばれたものとするとき、下記の式を有す
る情報を記録するための吸光性染料の被膜を有するもの
である融除型光学記録媒体。 【化1】 - 【請求項2】 吸光性染料層の厚さは、光源から反射さ
れる約750〜850nm波長の光に対する反射率が最
小になるように選定されていることを特徴とする請求項
1記載の融除型光学記録媒体。 - 【請求項3】 光反射性材料層の部分が露出されて情報
に対応する光反射−吸光パターンが形成されていること
を特徴とする請求項2記載の融除型光学記録媒体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB7941271A GB2066489B (en) | 1979-11-29 | 1979-11-29 | Ablative optical recording medium |
| JP16462779A JPS5686795A (en) | 1979-11-29 | 1979-12-17 | Melting removing type optical recording medium |
| JP4040263A JPH0662010B2 (ja) | 1979-11-29 | 1992-01-29 | 融除型光学記録媒体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB7941271A GB2066489B (en) | 1979-11-29 | 1979-11-29 | Ablative optical recording medium |
| JP16462779A JPS5686795A (en) | 1979-11-29 | 1979-12-17 | Melting removing type optical recording medium |
| JP4040263A JPH0662010B2 (ja) | 1979-11-29 | 1992-01-29 | 融除型光学記録媒体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16462779A Division JPS5686795A (en) | 1979-11-29 | 1979-12-17 | Melting removing type optical recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0640163A JPH0640163A (ja) | 1994-02-15 |
| JPH0662010B2 true JPH0662010B2 (ja) | 1994-08-17 |
Family
ID=27260815
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16462779A Granted JPS5686795A (en) | 1979-11-29 | 1979-12-17 | Melting removing type optical recording medium |
| JP4040263A Expired - Lifetime JPH0662010B2 (ja) | 1979-11-29 | 1992-01-29 | 融除型光学記録媒体 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16462779A Granted JPS5686795A (en) | 1979-11-29 | 1979-12-17 | Melting removing type optical recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPS5686795A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5686795A (en) * | 1979-11-29 | 1981-07-14 | Rca Corp | Melting removing type optical recording medium |
| JPS5782093A (en) * | 1980-11-12 | 1982-05-22 | Ricoh Co Ltd | Optical information recording medium |
| JPS5856892A (ja) * | 1981-10-01 | 1983-04-04 | Ricoh Co Ltd | 光学的情報記録媒体 |
| JPH0749231B2 (ja) * | 1985-08-13 | 1995-05-31 | 三菱化学株式会社 | 光学記録体 |
| JPH02132656A (ja) * | 1988-07-30 | 1990-05-22 | Taiyo Yuden Co Ltd | 光情報記録媒体及びそれを用いた光情報記録方法 |
| US6177132B1 (en) * | 1997-03-31 | 2001-01-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording medium and method of its manufacture |
| JPH11123871A (ja) | 1997-10-22 | 1999-05-11 | Konica Corp | 画像形成材料及びその製造方法と画像形成装置 |
| US6551682B1 (en) | 1999-03-16 | 2003-04-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Metal-containing azo compound and optical recording media |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7900281A (nl) * | 1979-01-15 | 1980-07-17 | Philips Nv | Optische registratie-inrichting alsmede een werkwijze voor het registreren van informatie langs optische weg. |
| JPS5686795A (en) * | 1979-11-29 | 1981-07-14 | Rca Corp | Melting removing type optical recording medium |
-
1979
- 1979-12-17 JP JP16462779A patent/JPS5686795A/ja active Granted
-
1992
- 1992-01-29 JP JP4040263A patent/JPH0662010B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5686795A (en) | 1981-07-14 |
| JPH0436876B2 (ja) | 1992-06-17 |
| JPH0640163A (ja) | 1994-02-15 |
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