JPH0437267U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0437267U JPH0437267U JP8046390U JP8046390U JPH0437267U JP H0437267 U JPH0437267 U JP H0437267U JP 8046390 U JP8046390 U JP 8046390U JP 8046390 U JP8046390 U JP 8046390U JP H0437267 U JPH0437267 U JP H0437267U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- holder
- recess
- edge surface
- showing
- Prior art date
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- Pending
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
第１図はこの考案によるダイヤモンド析出用の
基体ホルダーを示した拡大断面図、第２図は従来
構造の基体ホルダーを示した拡大断面図、第３図
は熱プラズマトーチの全体を示した概略断面図で
ある。 １……高周波電源、２……ワークコイル、３…
…反応ガス供給装置、４，５，６，７……バルブ
、８……ノズル筒、９……基体、１０……ホルダ
ー、１１……排気装置、１２……プラズマ発生室
、１３……水冷ジヤケツト、１４……発光層、１
５……凹部、１６……縁端面。
基体ホルダーを示した拡大断面図、第２図は従来
構造の基体ホルダーを示した拡大断面図、第３図
は熱プラズマトーチの全体を示した概略断面図で
ある。 １……高周波電源、２……ワークコイル、３…
…反応ガス供給装置、４，５，６，７……バルブ
、８……ノズル筒、９……基体、１０……ホルダ
ー、１１……排気装置、１２……プラズマ発生室
、１３……水冷ジヤケツト、１４……発光層、１
５……凹部、１６……縁端面。
Claims (1)
- 基体９を載置するホルダー１０の上面に、前記
基体が嵌入しかつ基体が縁端面１６より突出しな
い深さの凹部１５を形成してなるダイヤモンド析
出用の基体ホルダー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8046390U JPH0437267U (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8046390U JPH0437267U (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0437267U true JPH0437267U (ja) | 1992-03-30 |
Family
ID=31625548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8046390U Pending JPH0437267U (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0437267U (ja) |
-
1990
- 1990-07-26 JP JP8046390U patent/JPH0437267U/ja active Pending