JPH04372738A - 光記録媒体 - Google Patents
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- JPH04372738A JPH04372738A JP3177161A JP17716191A JPH04372738A JP H04372738 A JPH04372738 A JP H04372738A JP 3177161 A JP3177161 A JP 3177161A JP 17716191 A JP17716191 A JP 17716191A JP H04372738 A JPH04372738 A JP H04372738A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体、特にコン
パクトディスク対応のライト・ワンス型の光記録ディス
クに関する。
パクトディスク対応のライト・ワンス型の光記録ディス
クに関する。
【0002】
【従来の技術】基板上に反射層を有する光記録媒体とし
て、例えば、コンパクトディスク(以下、CDと略称す
る)規格に対応して追記ないし記録を行なうことのでき
る光記録ディスクが提案されている(日経エレクトロニ
クス1989年1月23日号,No.465,P107
、社団法人近畿化学協会機能性色素部会,1989年3
月3日,大阪科学技術センター、SPIE vol 1
078 Optical Data Storage
TopicalMeeting,80 1989等)。
て、例えば、コンパクトディスク(以下、CDと略称す
る)規格に対応して追記ないし記録を行なうことのでき
る光記録ディスクが提案されている(日経エレクトロニ
クス1989年1月23日号,No.465,P107
、社団法人近畿化学協会機能性色素部会,1989年3
月3日,大阪科学技術センター、SPIE vol 1
078 Optical Data Storage
TopicalMeeting,80 1989等)。
【0003】このものは、透明樹脂基板上に、色素層、
Au反射層および保護膜をこの順に設層して形成される
。すなわち、反射層を色素層に密着して設けるものであ
る。
Au反射層および保護膜をこの順に設層して形成される
。すなわち、反射層を色素層に密着して設けるものであ
る。
【0004】従来は、色素層にピットを形成するために
色素層上に空気層を設けていたが、この提案では、反射
層を色素層に密着して設ける密着型であるので、CD規
格のディスク全厚1.2mmの構成が可能となっている
。
色素層上に空気層を設けていたが、この提案では、反射
層を色素層に密着して設ける密着型であるので、CD規
格のディスク全厚1.2mmの構成が可能となっている
。
【0005】このような反射層と色素を含有する記録層
とを密着して設ける密着型の媒体の場合には、特に、記
録層の記録光および再生光に対し、60%以上、特にC
D規格では70%以上の反射率をもつ必要がある。この
ため、特開平2−79235号公報等に開示されている
とおり、反射層には、反射率が高く、しかも耐食性が良
いAu薄膜が使用されている。
とを密着して設ける密着型の媒体の場合には、特に、記
録層の記録光および再生光に対し、60%以上、特にC
D規格では70%以上の反射率をもつ必要がある。この
ため、特開平2−79235号公報等に開示されている
とおり、反射層には、反射率が高く、しかも耐食性が良
いAu薄膜が使用されている。
【0006】しかし、Auは、やわらかいため、記録光
を記録層に照射してピット部を形成すると、記録層の熱
膨張によってピット部上のAu薄膜が変形することがあ
る。このため、再生出力波形であるアイパターンが乱れ
たり、ジッターの増加を招いてしまう。
を記録層に照射してピット部を形成すると、記録層の熱
膨張によってピット部上のAu薄膜が変形することがあ
る。このため、再生出力波形であるアイパターンが乱れ
たり、ジッターの増加を招いてしまう。
【0007】また、Auは高価であるため、反射層とし
て、Ag、Cu等の比較的安価な金属薄膜を使用する提
案がされている。例えば、特開平2−79235号、同
2−87341号公報等には、反射層としてAg薄膜や
Cu薄膜等を使用する具体例が記載されている。
て、Ag、Cu等の比較的安価な金属薄膜を使用する提
案がされている。例えば、特開平2−79235号、同
2−87341号公報等には、反射層としてAg薄膜や
Cu薄膜等を使用する具体例が記載されている。
【0008】しかし、Cu薄膜やAg薄膜の場合、成膜
当初は70%程度の反射率が得られるが、耐食性が不十
分である。
当初は70%程度の反射率が得られるが、耐食性が不十
分である。
【0009】また、Au、AgおよびCu以外の金属薄
膜、例えばAl 薄膜では、十分な反射率が得られない
。 このように、Au以外の金属薄膜を反射層に適用した光
記録ディスクは、耐食性と反射率とが両立せず、実用が
困難である。
膜、例えばAl 薄膜では、十分な反射率が得られない
。 このように、Au以外の金属薄膜を反射層に適用した光
記録ディスクは、耐食性と反射率とが両立せず、実用が
困難である。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、前記の
問題を解決するため、特願平2−160100号等によ
り反射層をCu合金薄膜等で構成する旨の提案を行なっ
ている。
問題を解決するため、特願平2−160100号等によ
り反射層をCu合金薄膜等で構成する旨の提案を行なっ
ている。
【0011】しかし、色素、特に塩素を含有する色素を
記録層として使用した場合、記録層上に、密着してCu
を含有する反射層を積層すると、Cuが記録層内の塩素
と反応し、色素が経時劣化することが判明した。
記録層として使用した場合、記録層上に、密着してCu
を含有する反射層を積層すると、Cuが記録層内の塩素
と反応し、色素が経時劣化することが判明した。
【0012】このため、ディスクを長期間保存したり、
高温・高湿下で使用したりすると、反射層自体にはほと
んど影響はないが、記録層が劣化し、この結果アイパタ
ーンが乱れ、ジッターが増加し、エラーレートが増大し
てしまう。
高温・高湿下で使用したりすると、反射層自体にはほと
んど影響はないが、記録層が劣化し、この結果アイパタ
ーンが乱れ、ジッターが増加し、エラーレートが増大し
てしまう。
【0013】本発明の目的は、反射率が高く、しかも耐
食性が良い反射層を有し、記録層が経時劣化せず、アイ
パターンの乱れやジッターの増加がなく、しかもエラー
レートが小さく、良好な記録や再生を行なうことができ
る光記録媒体を提供することにある。
食性が良い反射層を有し、記録層が経時劣化せず、アイ
パターンの乱れやジッターの増加がなく、しかもエラー
レートが小さく、良好な記録や再生を行なうことができ
る光記録媒体を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(3)の本発明により達成される。(1)少な
くとも基板上に色素を含有する記録層を有し、この記録
層上に密着して反射層を設層した光記録媒体であって、
前記反射層は、Cuと、Ti、V、Ta、Cr、Mo、
W、Mn、Fe、Co、Rh、Ni、Pd、Pt、Ag
、Au、Al、NおよびOからなる群より選ばれる1種
以上の元素とを含有する薄膜であり、前記記録層と反射
層間に、50〜500A の厚さの中間層を形成したこ
とを特徴とする光記録媒体。
(1)〜(3)の本発明により達成される。(1)少な
くとも基板上に色素を含有する記録層を有し、この記録
層上に密着して反射層を設層した光記録媒体であって、
前記反射層は、Cuと、Ti、V、Ta、Cr、Mo、
W、Mn、Fe、Co、Rh、Ni、Pd、Pt、Ag
、Au、Al、NおよびOからなる群より選ばれる1種
以上の元素とを含有する薄膜であり、前記記録層と反射
層間に、50〜500A の厚さの中間層を形成したこ
とを特徴とする光記録媒体。
【0015】(2)基板側から再生光を照射したとき、
未記録部分の反射率が60%以上であり、記録部分の反
射率が未記録部分の反射率の60%以下であり、記録光
および再生光の波長における前記記録層の消衰係数kが
0.03〜0.25であり、記録光および再生光の波長
における前記記録層の屈折率nが1.8〜4.0であり
、記録光および再生光の波長が600〜900nmであ
る上記(1)に記載の光記録媒体。
未記録部分の反射率が60%以上であり、記録部分の反
射率が未記録部分の反射率の60%以下であり、記録光
および再生光の波長における前記記録層の消衰係数kが
0.03〜0.25であり、記録光および再生光の波長
における前記記録層の屈折率nが1.8〜4.0であり
、記録光および再生光の波長が600〜900nmであ
る上記(1)に記載の光記録媒体。
【0016】(3)前記反射層上に保護膜を有し、この
保護膜の25℃における鉛筆硬度がH〜8Hである上記
(1)または(2)に記載の光記録媒体。
保護膜の25℃における鉛筆硬度がH〜8Hである上記
(1)または(2)に記載の光記録媒体。
【0017】
【作用】本発明では反射層としてCuと所定の元素とを
含有する薄膜を用いる。このため、反射率が高く、耐食
性が良く、しかもAu薄膜に比べて硬い反射層を形成で
きる。
含有する薄膜を用いる。このため、反射率が高く、耐食
性が良く、しかもAu薄膜に比べて硬い反射層を形成で
きる。
【0018】また、色素を含有する記録層と反射層間に
樹脂塗膜やSiO2 等の連続薄膜の中間層を形成する
。 このため記録層中へのCuの拡散が防止され、記録層の
経時劣化を防止できる。
樹脂塗膜やSiO2 等の連続薄膜の中間層を形成する
。 このため記録層中へのCuの拡散が防止され、記録層の
経時劣化を防止できる。
【0019】この結果、良好なアイパターンを有し、ジ
ッターが少なく、しかもエラーレートが小さく、良好な
記録や再生を行なうことができる光記録媒体が実現する
。
ッターが少なく、しかもエラーレートが小さく、良好な
記録や再生を行なうことができる光記録媒体が実現する
。
【0020】なお、特開平2−132657号公報には
、記録光を照射して、光吸収層にピットを形成する際、
光吸収層の基板側にのみピットを形成するため、光吸収
層と光反射層間に、エポキシ樹脂等の硬質層を設ける旨
の提案がされている。
、記録光を照射して、光吸収層にピットを形成する際、
光吸収層の基板側にのみピットを形成するため、光吸収
層と光反射層間に、エポキシ樹脂等の硬質層を設ける旨
の提案がされている。
【0021】しかし、前記公報に記載されている光反射
層は、Au、Ag、Al等であり、本発明のCuと所定
の元素とを含有する反射層や本発明の反射層の効果、例
えば耐食性の向上等は示唆すらされていない。
層は、Au、Ag、Al等であり、本発明のCuと所定
の元素とを含有する反射層や本発明の反射層の効果、例
えば耐食性の向上等は示唆すらされていない。
【0022】また、米国特許4,900,388号の明
細書には、光吸収層と光反射層間に、樹脂の硬質層を設
けた光情報記録媒体が記載されている。
細書には、光吸収層と光反射層間に、樹脂の硬質層を設
けた光情報記録媒体が記載されている。
【0023】しかし、前記明細書には、硬質層を有し、
光反射層としてAu、Ag、Alを用いた具体例は記載
されているが、Cuを用いた具体例は記載されていない
。しかも本発明の中間層による作用、効果すなわちCu
の色素への拡散防止については何ら着眼されていない。
光反射層としてAu、Ag、Alを用いた具体例は記載
されているが、Cuを用いた具体例は記載されていない
。しかも本発明の中間層による作用、効果すなわちCu
の色素への拡散防止については何ら着眼されていない。
【0024】
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。図1には本発明の光記録媒体の好適例が示
される。
に説明する。図1には本発明の光記録媒体の好適例が示
される。
【0025】本発明の光記録媒体1は、基板2上に、色
素を含有する記録層3を有し、記録層3に密着して、中
間層7、反射層4、保護膜5を順次積層した密着型のも
のである。
素を含有する記録層3を有し、記録層3に密着して、中
間層7、反射層4、保護膜5を順次積層した密着型のも
のである。
【0026】基板2は、記録光および再生光(600〜
900nm程度、特に700〜800nm程度の半導体
レーザー光、特に780nm)に対し、実質的に透明(
好ましくは透過率80%以上)な樹脂あるいはガラスか
ら形成される。これにより、基板裏面側からの記録およ
び再生が可能となる。
900nm程度、特に700〜800nm程度の半導体
レーザー光、特に780nm)に対し、実質的に透明(
好ましくは透過率80%以上)な樹脂あるいはガラスか
ら形成される。これにより、基板裏面側からの記録およ
び再生が可能となる。
【0027】基板2は、通常のサイズのディスク状であ
って、CDとして用いる場合、厚さは1.2mm程度、
直径は80ないし120mm程度とする。
って、CDとして用いる場合、厚さは1.2mm程度、
直径は80ないし120mm程度とする。
【0028】この場合、基板材質としては、樹脂を用い
ることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹
脂、アモルファスポリオレフィン、TPX等の各種熱可
塑性樹脂が好適である。
ることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹
脂、アモルファスポリオレフィン、TPX等の各種熱可
塑性樹脂が好適である。
【0029】なお、必要に応じ、基板2の外表面、内表
面の少なくとも一方と、さらに必要に応じ、内・外周面
に酸素遮断性の被膜を形成してもよい。
面の少なくとも一方と、さらに必要に応じ、内・外周面
に酸素遮断性の被膜を形成してもよい。
【0030】基板2の記録層3形成面には、トラッキン
グ用のグルーブが形成されることが好ましい。グルーブ
は、スパイラル状の連続型グルーブであることが好まし
く、深さは250〜1800A 、幅は0.2〜1.1
μm 、特に0.3〜0.6μm、ランド(隣り合うグ
ルーブ同士の間の部分)幅は0.5〜1.4μm 、特
に1.0〜1.3μm であることが好ましい。グルー
ブをこのような構成とすることにより、グルーブ部の反
射レベルを下げることなく良好なトラッキング信号を得
ることができる。なお、グルーブには、アドレス信号用
の凹凸を設けることもできる。
グ用のグルーブが形成されることが好ましい。グルーブ
は、スパイラル状の連続型グルーブであることが好まし
く、深さは250〜1800A 、幅は0.2〜1.1
μm 、特に0.3〜0.6μm、ランド(隣り合うグ
ルーブ同士の間の部分)幅は0.5〜1.4μm 、特
に1.0〜1.3μm であることが好ましい。グルー
ブをこのような構成とすることにより、グルーブ部の反
射レベルを下げることなく良好なトラッキング信号を得
ることができる。なお、グルーブには、アドレス信号用
の凹凸を設けることもできる。
【0031】本発明では、基板がグルーブを有する場合
、記録光はグルーブ内の記録層に照射されるよう構成さ
れることが好ましい。すなわち、本発明の光記録媒体は
、グルーブ記録の光記録媒体として用いられることが好
ましい。グルーブ記録とすることにより、記録層の有効
厚さを大きくすることができる。
、記録光はグルーブ内の記録層に照射されるよう構成さ
れることが好ましい。すなわち、本発明の光記録媒体は
、グルーブ記録の光記録媒体として用いられることが好
ましい。グルーブ記録とすることにより、記録層の有効
厚さを大きくすることができる。
【0032】また、基板2上に図示しない樹脂層を例え
ば2P法により設層して、樹脂層にトラッキング用の溝
やアドレス信号用の凹凸を設けてもよい。
ば2P法により設層して、樹脂層にトラッキング用の溝
やアドレス信号用の凹凸を設けてもよい。
【0033】樹脂層を構成する樹脂材質に特に制限はな
く、いわゆる2P法に用いられる公知の樹脂から適宜に
選択すればよいが、通常、放射線硬化型化合物が用いら
れる。
く、いわゆる2P法に用いられる公知の樹脂から適宜に
選択すればよいが、通常、放射線硬化型化合物が用いら
れる。
【0034】記録層3は、1種あるいは2種以上の色素
を相溶して形成される。この場合、光吸収色素にクエン
チャーを混合してもよく、さらに、色素カチオンとクエ
ンチャーアニオンとのイオン結合体を光吸収色素として
用いてもよい。
を相溶して形成される。この場合、光吸収色素にクエン
チャーを混合してもよく、さらに、色素カチオンとクエ
ンチャーアニオンとのイオン結合体を光吸収色素として
用いてもよい。
【0035】記録層3の記録光および再生光波長におけ
る消衰係数(複素屈折率の虚部)kは、0.03〜0.
25であることが好ましい。kが0.03未満となると
記録層の吸収率が低下し、通常の記録パワーで記録を行
うことが困難である。また、kが0.25をこえると、
反射率が60%を下回ってしまい、CD規格による再生
を行うことが困難である。この場合、kが0.04〜0
.20、特に0.05〜0.15であると、きわめて好
ましい結果をうる。
る消衰係数(複素屈折率の虚部)kは、0.03〜0.
25であることが好ましい。kが0.03未満となると
記録層の吸収率が低下し、通常の記録パワーで記録を行
うことが困難である。また、kが0.25をこえると、
反射率が60%を下回ってしまい、CD規格による再生
を行うことが困難である。この場合、kが0.04〜0
.20、特に0.05〜0.15であると、きわめて好
ましい結果をうる。
【0036】また、屈折率(複素屈折率の実部)nは、
1.8〜4.0、より好ましくは、2.2〜3.3であ
ることが好ましい。n<1.8では反射率が低下し、C
D規格による再生が困難となる傾向にある。また、n>
4.0とするためには、原料色素の入手が難しい。
1.8〜4.0、より好ましくは、2.2〜3.3であ
ることが好ましい。n<1.8では反射率が低下し、C
D規格による再生が困難となる傾向にある。また、n>
4.0とするためには、原料色素の入手が難しい。
【0037】nおよびkの測定に際しては、所定の透明
基板上に記録層を例えば400〜1000A 程度の厚
さに実際の条件にて設層して、測定サンプルを作製する
。 次いで、基板を通しての、あるいは記録層側からの反射
率を測定する。反射率は記録再生光波長を用いて鏡面反
射(5°程度)にて測定する。また、サンプルの透過率
を測定する。これらの測定値から、例えば、共立全書「
光学」石黒浩三P168〜178に準じ、n、kを算出
すればよい。
基板上に記録層を例えば400〜1000A 程度の厚
さに実際の条件にて設層して、測定サンプルを作製する
。 次いで、基板を通しての、あるいは記録層側からの反射
率を測定する。反射率は記録再生光波長を用いて鏡面反
射(5°程度)にて測定する。また、サンプルの透過率
を測定する。これらの測定値から、例えば、共立全書「
光学」石黒浩三P168〜178に準じ、n、kを算出
すればよい。
【0038】用いる光吸収性の色素としては、吸収極大
が600〜900nm、好ましくは600〜800nm
、より好ましくは650〜750nmであれば、他に特
に制限はないが、シアニン系、フタロシアニン系、ナフ
タロシアニン系、アントラキノン系、アゾ系、トリフェ
ニルメタン系、ピリリウムないしチアピリリウム塩系、
スクワリリウム系、クロコニウム系、金属錯体色素系等
の1種ないし2種以上が好ましい。
が600〜900nm、好ましくは600〜800nm
、より好ましくは650〜750nmであれば、他に特
に制限はないが、シアニン系、フタロシアニン系、ナフ
タロシアニン系、アントラキノン系、アゾ系、トリフェ
ニルメタン系、ピリリウムないしチアピリリウム塩系、
スクワリリウム系、クロコニウム系、金属錯体色素系等
の1種ないし2種以上が好ましい。
【0039】シアニン色素としては、インドレニン環、
特にベンゾインドレニン環を有するシアニン色素である
ことが好ましい。
特にベンゾインドレニン環を有するシアニン色素である
ことが好ましい。
【0040】この場合、色素中に塩素、例えばパークロ
ロイオンが含まれていると、中間層7による色素の劣化
防止能が特に顕著に現われる。
ロイオンが含まれていると、中間層7による色素の劣化
防止能が特に顕著に現われる。
【0041】記録層3の設層方法には特に制限がなく、
例えば、各種溶媒等を用いて塗布によって設層したり、
蒸着等公知の方法を用いればよい。
例えば、各種溶媒等を用いて塗布によって設層したり、
蒸着等公知の方法を用いればよい。
【0042】記録層3の厚さは、500〜2000A
とすることが好ましい。この範囲外では反射率が低下し
て、CD規格の再生を行うことが難しくなる。
とすることが好ましい。この範囲外では反射率が低下し
て、CD規格の再生を行うことが難しくなる。
【0043】記録層3上には中間層7が設層される。中
間層を形成することにより、色素、特に塩素を含む色素
の経時劣化が防止される。
間層を形成することにより、色素、特に塩素を含む色素
の経時劣化が防止される。
【0044】中間層7は、樹脂を含有する樹脂中間層で
あっても、SiO2 等の連続薄膜中間層であってもよ
い。
あっても、SiO2 等の連続薄膜中間層であってもよ
い。
【0045】樹脂中間層7には、ポリオレフィン、シリ
コン樹脂、フッ素樹脂、ポリビニールアルコール、ニト
ロセルロース、アセチルセルロース等の各種樹脂の1種
ないし2種以上が含有される。この場合、平均分子量5
000以上の樹脂が好ましい。前記範囲未満では連続膜
を形成した場合に脆性による不具合が生じる場合がある
。
コン樹脂、フッ素樹脂、ポリビニールアルコール、ニト
ロセルロース、アセチルセルロース等の各種樹脂の1種
ないし2種以上が含有される。この場合、平均分子量5
000以上の樹脂が好ましい。前記範囲未満では連続膜
を形成した場合に脆性による不具合が生じる場合がある
。
【0046】このような中間層7の設層方法には特に制
限がなく、例えば各種溶媒等を用いてスピンコート塗布
によって設層すればよい。
限がなく、例えば各種溶媒等を用いてスピンコート塗布
によって設層すればよい。
【0047】また、連続薄膜中間層7は、酸化物、窒化
物、炭化物および炭素の1種以上を含有する連続薄膜、
好ましくは酸化物および/または窒化物を含有する連続
薄膜で構成する。
物、炭化物および炭素の1種以上を含有する連続薄膜、
好ましくは酸化物および/または窒化物を含有する連続
薄膜で構成する。
【0048】この場合、酸化物としてはSiO2 等、
窒化物としてはSiN等、酸化窒化物としてはSi、A
l、OおよびNを含むいわゆるサイアロン等が好適であ
る。
窒化物としてはSiN等、酸化窒化物としてはSi、A
l、OおよびNを含むいわゆるサイアロン等が好適であ
る。
【0049】このような中間層7の設層方法には特に制
限がなく、スパッタリング等の各種気相成膜法を用いれ
ばよい。
限がなく、スパッタリング等の各種気相成膜法を用いれ
ばよい。
【0050】また、中間層7の厚さは50〜500A
、好ましくは100〜300A とする。厚さが前記範
囲未満では記録光を記録層3に照射してピット部6を形
成する際、中間層7が溶けて中間層7が変形し、このた
めアイパターンが乱れる。そして、この変形部からCu
が記録層中へ入り込むため、記録層が経時劣化し、しか
も前記変形部分が更に変形する。厚さが前記範囲を超え
ると中間層7と、記録層3や反射層4との密着性が低下
し、その結果加速試験において膜剥離を起こす可能性が
大きくなる。また記録層3との光学的バランスが悪くな
り、感度、モジュレーション等記録後の特性が悪くなる
。
、好ましくは100〜300A とする。厚さが前記範
囲未満では記録光を記録層3に照射してピット部6を形
成する際、中間層7が溶けて中間層7が変形し、このた
めアイパターンが乱れる。そして、この変形部からCu
が記録層中へ入り込むため、記録層が経時劣化し、しか
も前記変形部分が更に変形する。厚さが前記範囲を超え
ると中間層7と、記録層3や反射層4との密着性が低下
し、その結果加速試験において膜剥離を起こす可能性が
大きくなる。また記録層3との光学的バランスが悪くな
り、感度、モジュレーション等記録後の特性が悪くなる
。
【0051】中間層7上には反射層4が設層される。
【0052】反射層4は、Cuと、Ti、V、Ta、C
r、Mo、W、Mn、Fe、Co、Rh、Ni、Pd、
Pt、Ag、Au、Al、NおよびOからなる群より選
ばれる1種以上の元素とを含有する薄膜で構成される。
r、Mo、W、Mn、Fe、Co、Rh、Ni、Pd、
Pt、Ag、Au、Al、NおよびOからなる群より選
ばれる1種以上の元素とを含有する薄膜で構成される。
【0053】このような薄膜を用いることにより、Cu
薄膜、Ag薄膜、Al薄膜等に比べ、膜の耐食性が格段
と向上し、Au薄膜に比べ、膜の硬度が格段と増加する
。
薄膜、Ag薄膜、Al薄膜等に比べ、膜の耐食性が格段
と向上し、Au薄膜に比べ、膜の硬度が格段と増加する
。
【0054】この場合、十分高い耐食性を保持したまま
、より一層高い反射率が得られる点で、反射層4は、C
uと、Ti、V、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、
Co、Rh、Ni、Pd、Pt、Ag、AuおよびAl
の1種以上の元素とを含有する薄膜、特にCuと、Rh
、Ni、Pd、Pt、Ag、AuおよびAlの1種以上
の元素とを含有する薄膜で構成されることが好ましい。
、より一層高い反射率が得られる点で、反射層4は、C
uと、Ti、V、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、
Co、Rh、Ni、Pd、Pt、Ag、AuおよびAl
の1種以上の元素とを含有する薄膜、特にCuと、Rh
、Ni、Pd、Pt、Ag、AuおよびAlの1種以上
の元素とを含有する薄膜で構成されることが好ましい。
【0055】反射層4中の元素の好適含有量は元素によ
り異なるため、以下場合分けする。
り異なるため、以下場合分けする。
【0056】Ti、V、Ta、Cr、Mo、W、Mn、
Fe、Co、Rh、Ni、Pd、PtおよびAlの1種
以上の元素の反射層4中の含有量は、合計で20at%
以下が好ましい。
Fe、Co、Rh、Ni、Pd、PtおよびAlの1種
以上の元素の反射層4中の含有量は、合計で20at%
以下が好ましい。
【0057】含有量が、20at% をこえると反射率
が不十分となる。
が不十分となる。
【0058】ただし、含有量があまり少ないと本発明の
効果が得られないため、0.5〜20at% 、特に2
〜15at% が好ましい。
効果が得られないため、0.5〜20at% 、特に2
〜15at% が好ましい。
【0059】また、Agおよび/またはAuの反射層4
中の含有量は、合計で5〜99at%が好ましい。
中の含有量は、合計で5〜99at%が好ましい。
【0060】前記範囲をこえると、膜の硬さが不十分で
あるため、記録光を記録層3に照射してピット部6を形
成する際、記録層3の熱膨張により、ピット部6上の反
射層4が変形してしまう。このため、アイパターンが乱
れたり、ジッターが増加する。前記範囲未満では、耐食
性が不十分である。例えば、高温・高湿下で長期間保存
あるいは使用すると、膜の反射率が低下し、エラーが増
加する。
あるため、記録光を記録層3に照射してピット部6を形
成する際、記録層3の熱膨張により、ピット部6上の反
射層4が変形してしまう。このため、アイパターンが乱
れたり、ジッターが増加する。前記範囲未満では、耐食
性が不十分である。例えば、高温・高湿下で長期間保存
あるいは使用すると、膜の反射率が低下し、エラーが増
加する。
【0061】前記の理由から、反射層4中のAgおよび
Auの含有量の上限は、より好ましくは90at% 、
さらに好ましくは80at% 、特に好ましくは70a
t% が好ましく、特に反射層4中のAuの含有量の上
限は60at% 、Agの含有量の上限は40at%
が好ましい。また、下限は、より好ましくは6at%
、さらに好ましくは8at% 、特に好ましくは10a
t% が好ましい。
Auの含有量の上限は、より好ましくは90at% 、
さらに好ましくは80at% 、特に好ましくは70a
t% が好ましく、特に反射層4中のAuの含有量の上
限は60at% 、Agの含有量の上限は40at%
が好ましい。また、下限は、より好ましくは6at%
、さらに好ましくは8at% 、特に好ましくは10a
t% が好ましい。
【0062】また、Nおよび/またはOの反射層4中の
含有量は、合計で0.5〜2.0at% が好ましい。 この場合、特にOを実質的に含有せず、Nを含有する膜
が好ましい。
含有量は、合計で0.5〜2.0at% が好ましい。 この場合、特にOを実質的に含有せず、Nを含有する膜
が好ましい。
【0063】含有量が前記範囲をこえると、反射率が低
下し過ぎ、媒体再生時に必要な反射レベルがとれなくな
る傾向にある。前記範囲未満では、本発明の効果が得ら
れない傾向にある。
下し過ぎ、媒体再生時に必要な反射レベルがとれなくな
る傾向にある。前記範囲未満では、本発明の効果が得ら
れない傾向にある。
【0064】このような理由から、反射層4中の窒素お
よび酸素の含有量の上限は、より好ましくは1.8at
% 、さらに好ましくは1.6at% 、特に好ましく
は1.4at%が好ましい。また、下限は、より好まし
くは0.7at% 、さらに好ましくは0.8at%
、特に好ましくは0.9at% が好ましい。
よび酸素の含有量の上限は、より好ましくは1.8at
% 、さらに好ましくは1.6at% 、特に好ましく
は1.4at%が好ましい。また、下限は、より好まし
くは0.7at% 、さらに好ましくは0.8at%
、特に好ましくは0.9at% が好ましい。
【0065】反射層4を形成するには、スパッタリング
、蒸着等の各種気相成膜法を用いればよい。
、蒸着等の各種気相成膜法を用いればよい。
【0066】そして、Cuと、Nおよび/またはOとを
含有する薄膜を形成するには、特に、Ar中にN2 や
O2 を含有する雰囲気下で反応性スパッタを行なうこ
とが好ましい。
含有する薄膜を形成するには、特に、Ar中にN2 や
O2 を含有する雰囲気下で反応性スパッタを行なうこ
とが好ましい。
【0067】反射層4の厚さは500A 以上であるこ
とが好ましい。また、厚さの上限に特に制限はないが、
コスト、生産作業時間等を考慮すると、1200A 程
度以下であることが好ましい。
とが好ましい。また、厚さの上限に特に制限はないが、
コスト、生産作業時間等を考慮すると、1200A 程
度以下であることが好ましい。
【0068】これにより、反射層4単独での反射率は、
85%以上、特に90%以上、媒体の未記録部の基板を
とおしての反射率は、60%以上、特に70%以上がえ
られる。
85%以上、特に90%以上、媒体の未記録部の基板を
とおしての反射率は、60%以上、特に70%以上がえ
られる。
【0069】反射層4上には、保護膜5が設層される。
【0070】保護膜5は、例えば紫外線硬化樹脂等の各
種樹脂材質から、通常は、0.1〜100μm 程度の
厚さに設層すればよい。保護膜5は、層状であってもシ
ート状であってもよい。
種樹脂材質から、通常は、0.1〜100μm 程度の
厚さに設層すればよい。保護膜5は、層状であってもシ
ート状であってもよい。
【0071】保護膜5は、特に放射線硬化型化合物およ
び光重合増感剤を含有する塗膜を放射線硬化したもので
あることが好ましい。そして、保護膜5の硬度が、25
℃における鉛筆硬度(JIS K−5400)で、H
〜8H、特に2H〜7Hであるように構成されることが
好ましい。
び光重合増感剤を含有する塗膜を放射線硬化したもので
あることが好ましい。そして、保護膜5の硬度が、25
℃における鉛筆硬度(JIS K−5400)で、H
〜8H、特に2H〜7Hであるように構成されることが
好ましい。
【0072】このように構成することにより、アイパタ
ーンがより一層良好になり、ジッターが格段と減少する
。また、高温・高湿あるいは温湿度変化条件下の保存に
おいても、保護膜と反射層との剥離が生じない。より具
体的には、保護膜の硬度がHより軟らかいとアイパター
ンが乱れ、ジッターが増大し、8Hより硬くなると塗膜
がもろくなり膜形成能が低下する他、反射層との接着力
が低下する。
ーンがより一層良好になり、ジッターが格段と減少する
。また、高温・高湿あるいは温湿度変化条件下の保存に
おいても、保護膜と反射層との剥離が生じない。より具
体的には、保護膜の硬度がHより軟らかいとアイパター
ンが乱れ、ジッターが増大し、8Hより硬くなると塗膜
がもろくなり膜形成能が低下する他、反射層との接着力
が低下する。
【0073】このような保護膜形成に用いる放射線硬化
型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含まれる
ことが好ましい。
型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含まれる
ことが好ましい。
【0074】オリゴエステルアクリレートは、アクリレ
ート基またはメタクリレート基を複数有するオリゴエス
テル化合物である。そして好ましいオリゴステルアクリ
レートとしては、分子量1000〜10000、好まし
くは2000〜7000であって、重合度2〜10、好
ましくは、3〜5のものが挙げられる。また、これらの
うちアクリレート基またはメタクリレート基を2〜6個
、好ましくは3〜6個有する多官能オリゴエステルアク
リレートが好ましい。
ート基またはメタクリレート基を複数有するオリゴエス
テル化合物である。そして好ましいオリゴステルアクリ
レートとしては、分子量1000〜10000、好まし
くは2000〜7000であって、重合度2〜10、好
ましくは、3〜5のものが挙げられる。また、これらの
うちアクリレート基またはメタクリレート基を2〜6個
、好ましくは3〜6個有する多官能オリゴエステルアク
リレートが好ましい。
【0075】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。
【0076】このような放射線硬化型化合物の保護膜の
膜厚は0.1〜30μm 、より好ましくは1〜10μ
m が好ましい。
膜厚は0.1〜30μm 、より好ましくは1〜10μ
m が好ましい。
【0077】この膜厚が0.1μm 未満になると、一
様な膜を形成しにくく、湿度が高い雰囲気中での防湿効
果が十分でなく、記録層の耐久性が下がる。しかも、ジ
ッター防止効果が低下する。また、30μm をこえる
と、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反り
や保護膜中のクラックが生じやすい。
様な膜を形成しにくく、湿度が高い雰囲気中での防湿効
果が十分でなく、記録層の耐久性が下がる。しかも、ジ
ッター防止効果が低下する。また、30μm をこえる
と、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反り
や保護膜中のクラックが生じやすい。
【0078】このような塗膜は、通常、スピンナーコー
ト、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等、
種々の公知の方法を組み合わせて設層すればよい。この
時の塗膜の設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的
とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。
ト、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等、
種々の公知の方法を組み合わせて設層すればよい。この
時の塗膜の設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的
とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。
【0079】本発明において塗膜に照射する放射線とし
ては、紫外線、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ま
しい。
ては、紫外線、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ま
しい。
【0080】紫外線を用いる場合には、前述したような
放射線硬化型化合物の中には、通常、光重合増感剤が加
えられる。
放射線硬化型化合物の中には、通常、光重合増感剤が加
えられる。
【0081】光重合増感剤としては、例えば、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メ
チルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾイン等のベ
ンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン、モルホ
リノジメチルメチル−4−メチルチオフェニルケトン、
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類、ア
セトラキノン、フェナントラキノン等のキノン類、ベン
ジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィ
ド等のスルフィド類等を挙げることができる。
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メ
チルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾイン等のベ
ンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン、モルホ
リノジメチルメチル−4−メチルチオフェニルケトン、
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類、ア
セトラキノン、フェナントラキノン等のキノン類、ベン
ジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィ
ド等のスルフィド類等を挙げることができる。
【0082】そして、このような光重合増感剤と放射線
硬化型化合物を含有する塗膜を紫外線によって硬化させ
るには、公知の種々の方法に従えばよい。たとえば、キ
セノン放電管、水銀放電管などの紫外線電球等を用いれ
ばよい。また、場合によっては電子線を用いることもで
きる。
硬化型化合物を含有する塗膜を紫外線によって硬化させ
るには、公知の種々の方法に従えばよい。たとえば、キ
セノン放電管、水銀放電管などの紫外線電球等を用いれ
ばよい。また、場合によっては電子線を用いることもで
きる。
【0083】このような構成の光記録媒体1に記録ない
し追記を行なうには、例えば780nmの記録光を、基
板2をとおしてパルス状に照射する。
し追記を行なうには、例えば780nmの記録光を、基
板2をとおしてパルス状に照射する。
【0084】これにより、記録層3が光を吸収して発熱
し、同時に基板2も加熱される。この結果、基板2と記
録層3との界面近傍において、色素等の記録層材質の融
解や分解が生じ、記録層3と基板2との界面に圧力が加
わり、グルーブの底壁や側壁を変形させることがある。
し、同時に基板2も加熱される。この結果、基板2と記
録層3との界面近傍において、色素等の記録層材質の融
解や分解が生じ、記録層3と基板2との界面に圧力が加
わり、グルーブの底壁や側壁を変形させることがある。
【0085】この場合記録層3の融解物や分解物を含有
する分解物層61が、通常グルーブ23の底部および境
界を覆うような形状に残存する。分解物層61の材質は
、実質的に基板材質を含まない材質であり、記録層材質
の分解物あるいは記録層材質の分解物と、記録層材質と
の混合物によって構成される。分解物層61は、記録層
3の厚さの通常30〜90%程度の厚さである。
する分解物層61が、通常グルーブ23の底部および境
界を覆うような形状に残存する。分解物層61の材質は
、実質的に基板材質を含まない材質であり、記録層材質
の分解物あるいは記録層材質の分解物と、記録層材質と
の混合物によって構成される。分解物層61は、記録層
3の厚さの通常30〜90%程度の厚さである。
【0086】そして、通常、分解物層61上には、空隙
63が形成され、分解物層61と、空隙63とがピット
部6に形成される。空隙63は、記録層3の厚さの通常
10〜70%程度の厚さである。
63が形成され、分解物層61と、空隙63とがピット
部6に形成される。空隙63は、記録層3の厚さの通常
10〜70%程度の厚さである。
【0087】また、このような記録過程において、基板
2は変形しない場合もあるが、通常、基板2のピット部
6は、加熱時の圧力によって凹状にへこむことになる。 基板2のへこみ量は、ピット部6の寸法が大きい程大き
く、通常0〜300A 程度の深さである。
2は変形しない場合もあるが、通常、基板2のピット部
6は、加熱時の圧力によって凹状にへこむことになる。 基板2のへこみ量は、ピット部6の寸法が大きい程大き
く、通常0〜300A 程度の深さである。
【0088】また、空隙63上には、中間層7に密着し
て微少膜厚にて記録層3ないしその分解物等が残存する
こともある。
て微少膜厚にて記録層3ないしその分解物等が残存する
こともある。
【0089】このように、ピット部6の基板2と記録層
3との界面部には、実質的に基板材質を含有しない層が
形成される。
3との界面部には、実質的に基板材質を含有しない層が
形成される。
【0090】なお、記録光のパワーは、通常、5〜9m
W程度、基板回転線速度は1.2〜1.4m/s 程度
とすればよい。
W程度、基板回転線速度は1.2〜1.4m/s 程度
とすればよい。
【0091】このようにしてピット部6を形成したのち
、例えば780nmの再生光を、基板2をとおして照射
すると、ピット部6により光の位相差を生じ、反射率が
未記録部分の60%以下、特に50%以下、さらには4
0%以下に低下する。一方、未記録部では、60%以上
、特に70%以上の高反射率を示しているので、CD規
格による再生が可能となる。
、例えば780nmの再生光を、基板2をとおして照射
すると、ピット部6により光の位相差を生じ、反射率が
未記録部分の60%以下、特に50%以下、さらには4
0%以下に低下する。一方、未記録部では、60%以上
、特に70%以上の高反射率を示しているので、CD規
格による再生が可能となる。
【0092】再生光のパワーは、0.1〜10mW程度
とする。
とする。
【0093】
【実施例】以下本発明の具体的実施例を挙げ本発明をさ
らに詳細に説明する。 実施例1 連続グルーブを有する120mmφ、厚さ1.2mmの
ポリカーボネート樹脂基板上に色素を含有する記録層を
設層した。次いで記録層上に樹脂中間層を150A厚に
設層した。そしてこの中間層上に、スパッタリングによ
りCu−Ag合金薄膜を1000A 厚に設層して反射
層とし、さらに、オリゴエステルアクリレートを含有す
る紫外線硬化型樹脂を塗布した後紫外線硬化して5μm
厚の保護膜とし、光記録ディスクサンプルNo. 1
を得た。
らに詳細に説明する。 実施例1 連続グルーブを有する120mmφ、厚さ1.2mmの
ポリカーボネート樹脂基板上に色素を含有する記録層を
設層した。次いで記録層上に樹脂中間層を150A厚に
設層した。そしてこの中間層上に、スパッタリングによ
りCu−Ag合金薄膜を1000A 厚に設層して反射
層とし、さらに、オリゴエステルアクリレートを含有す
る紫外線硬化型樹脂を塗布した後紫外線硬化して5μm
厚の保護膜とし、光記録ディスクサンプルNo. 1
を得た。
【0094】サンプルNo. 1の記録層に含有される
色素を下記化1に示す。
色素を下記化1に示す。
【0095】
【化1】
【0096】記録層の設層は、基板を500〜3000
rpm で回転させながらスピンコート塗布により行な
った。塗布溶液としては、3.5wt% ジアセトンア
ルコール溶液を用いた。記録層の厚さはグルーブ部で1
400A 、ランド部で1000A であった。
rpm で回転させながらスピンコート塗布により行な
った。塗布溶液としては、3.5wt% ジアセトンア
ルコール溶液を用いた。記録層の厚さはグルーブ部で1
400A 、ランド部で1000A であった。
【0097】サンプルNo. 1の記録層に含有される
化1に示される色素の含有量は90wt%、一重項酸系
クエンチャーの含有量は10wt% であり、記録層の
屈折率(n)は2、6、消衰係数(k)は、0.06で
あった。
化1に示される色素の含有量は90wt%、一重項酸系
クエンチャーの含有量は10wt% であり、記録層の
屈折率(n)は2、6、消衰係数(k)は、0.06で
あった。
【0098】nおよびkは、上記色素を含有する溶液を
測定用基板上に乾燥膜厚1000Aに成膜して被検記録
層とし、この被検記録層のnおよびkを測定することに
より求めた。なお、この測定は、「光学」(石黒浩三著
、共立全書)第168〜178ページの記載に準じて行
なった。また、上記化1に示される色素を含有する記録
層の測定に際しては、溶媒にジアセトンアルコール、測
定用基板にポリカーボネート基板を用いた。
測定用基板上に乾燥膜厚1000Aに成膜して被検記録
層とし、この被検記録層のnおよびkを測定することに
より求めた。なお、この測定は、「光学」(石黒浩三著
、共立全書)第168〜178ページの記載に準じて行
なった。また、上記化1に示される色素を含有する記録
層の測定に際しては、溶媒にジアセトンアルコール、測
定用基板にポリカーボネート基板を用いた。
【0099】中間層には、ポリオレフィン(平均分子量
30000)を用い、スピンコート塗布により設層した
。
30000)を用い、スピンコート塗布により設層した
。
【0100】なお、塗布溶液としては エチルシクロ
ヘキサンを用いた。
ヘキサンを用いた。
【0101】反射層のCu−Ag合金薄膜の組成は、C
u70Ag30(at% )であり、成膜条件は、下記
のとおりであった。
u70Ag30(at% )であり、成膜条件は、下記
のとおりであった。
【0102】スパッタ圧力:1.0Pa投入パワー:1
1.0W/cm2
1.0W/cm2
【0103】なお、Cu−Ag合金薄膜の組成は、誘導
結合高周波プラズマ分光分析にて求めた。
結合高周波プラズマ分光分析にて求めた。
【0104】また、保護膜は、下記の放射線硬化型化合
物および光重合増感剤を含む塗布組成物をスピンナーコ
ートで設層した。
物および光重合増感剤を含む塗布組成物をスピンナーコ
ートで設層した。
【0105】
(塗布組成物)
多官能オリゴエステルアクリレート[オリゴエステ
ルアクリレート(3官能以上)30重量%、トリメチル
プロパンアクリレート70重量%、商品名アロニックス
M−8030;東亜合成社製]
100重量部光重合増感剤(商品名:IRGAC
URE907;日本チバガイギー社製)
5重量部
ルアクリレート(3官能以上)30重量%、トリメチル
プロパンアクリレート70重量%、商品名アロニックス
M−8030;東亜合成社製]
100重量部光重合増感剤(商品名:IRGAC
URE907;日本チバガイギー社製)
5重量部
【0106】このような塗布組成物を設層後、
120W/cmの紫外線を15sec 照射し架橋硬化
させ、硬化膜とした。
120W/cmの紫外線を15sec 照射し架橋硬化
させ、硬化膜とした。
【0107】この膜の鉛筆硬度は2Hであった。
【0108】また、中間層を形成しないほかはサンプル
No. 1と同様としてNo. 2、中間層の膜厚を6
00 AとしたほかはサンプルNo. 1と同様として
No. 3、反射層をCuとし、中間層を形成しないほ
かはサンプルNo. 1と同様としてNo. 4、反射
層のみを表1に示される薄膜にかえたほかはサンプルN
o. 1と同様として、No. 5およびNo. 6を
製造した。
No. 1と同様としてNo. 2、中間層の膜厚を6
00 AとしたほかはサンプルNo. 1と同様として
No. 3、反射層をCuとし、中間層を形成しないほ
かはサンプルNo. 1と同様としてNo. 4、反射
層のみを表1に示される薄膜にかえたほかはサンプルN
o. 1と同様として、No. 5およびNo. 6を
製造した。
【0109】得られたサンプルNo. 1に対し、波長
780nm、7mWのレーザーにてコンパクトディスク
信号の記録を行ない、次いで市販のコンパクトディスク
プレーヤで再生を行なった。
780nm、7mWのレーザーにてコンパクトディスク
信号の記録を行ない、次いで市販のコンパクトディスク
プレーヤで再生を行なった。
【0110】この結果、S/N比が高く、良好な再生を
行なうことができた。なお、未記録部で70%以上の反
射率が得られ、記録部の反射率は未記録部の反射率の4
0%以下であった。
行なうことができた。なお、未記録部で70%以上の反
射率が得られ、記録部の反射率は未記録部の反射率の4
0%以下であった。
【0111】次に、各サンプルに対し、下記の評価を行
なった。 1)反射率 サンプルに対し、波長780nm、7mWのレーザーに
てコンパクトディスク信号の記録を行なった後、市販の
コンパクトディスクプレーヤで再生を行なって記録部の
Rtop レベルを測定した。次いで、サンプルを温度
60℃、湿度90%RHの環境中に1000時間放置し
た後、同様に記録部のRtop レベルを測定した。そ
して、各サンプルの初期の反射率を基準(1.00)と
し、サンプルNo. 1〜No. 6それぞれについて
規格化された反射率を算出した。 評価基準 ○…規格化した反射率が0.93超 ×…規格化した反射率が0.93未満
なった。 1)反射率 サンプルに対し、波長780nm、7mWのレーザーに
てコンパクトディスク信号の記録を行なった後、市販の
コンパクトディスクプレーヤで再生を行なって記録部の
Rtop レベルを測定した。次いで、サンプルを温度
60℃、湿度90%RHの環境中に1000時間放置し
た後、同様に記録部のRtop レベルを測定した。そ
して、各サンプルの初期の反射率を基準(1.00)と
し、サンプルNo. 1〜No. 6それぞれについて
規格化された反射率を算出した。 評価基準 ○…規格化した反射率が0.93超 ×…規格化した反射率が0.93未満
【0112】2)C1エラー
市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なって、
初期および1000時間(60℃、90%RH)後のC
1エラーを測定した。この場合、C1エラーのCD規格
は、220(カウント/秒)以内である。 評価基準 ○…C1エラー220(カウント/秒)以内×…C1エ
ラー220(カウント/秒)超
初期および1000時間(60℃、90%RH)後のC
1エラーを測定した。この場合、C1エラーのCD規格
は、220(カウント/秒)以内である。 評価基準 ○…C1エラー220(カウント/秒)以内×…C1エ
ラー220(カウント/秒)超
【0113】3)ジッタ
ー 市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なって、
1000時間(60℃、90%RH)後のジッターを測
定した。評価装置は、MEGURO社製CDジッターメ
ーターMJM−631を使用した。 評価基準 ○…30ns未満 ×…30ns以上
ー 市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なって、
1000時間(60℃、90%RH)後のジッターを測
定した。評価装置は、MEGURO社製CDジッターメ
ーターMJM−631を使用した。 評価基準 ○…30ns未満 ×…30ns以上
【0114】4)感度
市販のコンパクトディスクプレーヤーで再生し、そのア
イパターンからそれぞれのディスクの最適記録感度(パ
ワー)を算出した。 評価基準 ○…8mW未満 ×…3mW以上 なお、サンプルNo. 1の1000時間後のアイパタ
ーンのオシロ波形の写真を図2、No. 2の1000
時間後のアイパターンのオシロ波形の写真を図3に示す
。両者のアイパターンを対比するとNo. 2はエラー
、ジッターが極端に劣化していることが判る。上記1)
〜4)の結果は表1に示されるとおりである。
イパターンからそれぞれのディスクの最適記録感度(パ
ワー)を算出した。 評価基準 ○…8mW未満 ×…3mW以上 なお、サンプルNo. 1の1000時間後のアイパタ
ーンのオシロ波形の写真を図2、No. 2の1000
時間後のアイパターンのオシロ波形の写真を図3に示す
。両者のアイパターンを対比するとNo. 2はエラー
、ジッターが極端に劣化していることが判る。上記1)
〜4)の結果は表1に示されるとおりである。
【0115】
【表1】
【0116】表1に示される結果から本発明の効果が明
らかである。
らかである。
【0117】なお、サンプルNo. 1において中間層
の厚さを50 A未満にしたところNo. 1に比べて
アイパターンが乱れ、ジッターの増加がみられた。
の厚さを50 A未満にしたところNo. 1に比べて
アイパターンが乱れ、ジッターの増加がみられた。
【0118】また、各サンプルの保護膜の鉛筆硬度を下
げたところ、アイパターンが少し乱れ、ジッターの増加
がみられた。
げたところ、アイパターンが少し乱れ、ジッターの増加
がみられた。
【0119】また、サンプルNo. 1において、樹脂
中間層をスパッタリングにて成膜したSiO2 薄膜、
SiN薄膜、Si、Al、OおよびNを含むいわゆるサ
イアロン薄膜の中間層に換えた各サンプル、樹脂中間層
の樹脂材質を換えた各サンプル、反射層を他のCu合金
薄膜、Cu窒化物やCu酸化物の薄膜に換えた各サンプ
ルを作製し、前記と同様の評価を行なったところ同等の
結果が得られた。
中間層をスパッタリングにて成膜したSiO2 薄膜、
SiN薄膜、Si、Al、OおよびNを含むいわゆるサ
イアロン薄膜の中間層に換えた各サンプル、樹脂中間層
の樹脂材質を換えた各サンプル、反射層を他のCu合金
薄膜、Cu窒化物やCu酸化物の薄膜に換えた各サンプ
ルを作製し、前記と同様の評価を行なったところ同等の
結果が得られた。
【0120】
【発明の効果】本発明の光記録媒体では、反射層の、耐
食性、耐湿性が良いため、高温、高湿下での使用や長期
保存を行なっても高反射率が維持される。
食性、耐湿性が良いため、高温、高湿下での使用や長期
保存を行なっても高反射率が維持される。
【0121】また記録層と反射層間に中間層を有するた
め、記録層中へのCuの拡散等による記録層の経時劣化
を有効に防止できる。
め、記録層中へのCuの拡散等による記録層の経時劣化
を有効に防止できる。
【0122】このため、アイパターンの乱れがなく、ジ
ッターが少なく、エラーレートが小さく、良好な記録や
再生を行なうことができる光記録媒体が実現する。そし
て、高反射率で、しかもピット部での大きな反射率低下
を示すので、CD規格による再生を行なうことのできる
良好な光記録が可能となる。
ッターが少なく、エラーレートが小さく、良好な記録や
再生を行なうことができる光記録媒体が実現する。そし
て、高反射率で、しかもピット部での大きな反射率低下
を示すので、CD規格による再生を行なうことのできる
良好な光記録が可能となる。
【図1】本発明の光記録媒体を示す部分断面図である。
【図2】オシロ波形を示す図面代用写真であって、本発
明の光記録媒体のアイパターンが示される写真である。
明の光記録媒体のアイパターンが示される写真である。
【図3】オシロ波形を示す図面代用写真であって、比較
用の光記録媒体のアイパターンが示される写真である。
用の光記録媒体のアイパターンが示される写真である。
1…光記録媒体
2…基板
21…ランド部
23…グルーブ
3…記録層
4…反射層
5…保護膜
6…ピット部
61…分解物層
63…空隙
7…中間層
Claims (3)
- 【請求項1】 少なくとも基板上に色素を含有する記
録層を有し、この記録層上に密着して反射層を設層した
光記録媒体であって、前記反射層は、Cuと、Ti、V
、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Rh、N
i、Pd、Pt、Ag、Au、Al、NおよびOからな
る群より選ばれる1種以上の元素とを含有する薄膜であ
り、前記記録層と反射層間に、50〜500A の厚さ
の中間層を形成したことを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項2】 基板側から再生光を照射したとき、未
記録部分の反射率が60%以上であり、記録部分の反射
率が未記録部分の反射率の60%以下であり、記録光お
よび再生光の波長における前記記録層の消衰係数kが0
.03〜0.25であり、記録光および再生光の波長に
おける前記記録層の屈折率nが1.8〜4.0であり、
記録光および再生光の波長が600〜900nmである
請求項1に記載の光記録媒体。 - 【請求項3】 前記反射層上に保護膜を有し、この保
護膜の25℃における鉛筆硬度がH〜8Hである請求項
1または2に記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3177161A JPH04372738A (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3177161A JPH04372738A (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04372738A true JPH04372738A (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=16026250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3177161A Withdrawn JPH04372738A (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04372738A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0917138A3 (en) * | 1997-11-17 | 1999-11-03 | Eastman Kodak Company | Recordable optical disks with metallic interlayer |
| WO2002021524A1 (en) * | 2000-09-04 | 2002-03-14 | Sony Corporation | Reflecting layer, optical recording medium and sputtering target for forming reflecting layer |
| JP2004197117A (ja) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Ulvac Japan Ltd | Ag合金反射膜、スパッタリングターゲットおよびAg合金薄膜製造方法 |
-
1991
- 1991-06-21 JP JP3177161A patent/JPH04372738A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0917138A3 (en) * | 1997-11-17 | 1999-11-03 | Eastman Kodak Company | Recordable optical disks with metallic interlayer |
| WO2002021524A1 (en) * | 2000-09-04 | 2002-03-14 | Sony Corporation | Reflecting layer, optical recording medium and sputtering target for forming reflecting layer |
| JP2004197117A (ja) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Ulvac Japan Ltd | Ag合金反射膜、スパッタリングターゲットおよびAg合金薄膜製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980903 |