JPH0438355Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0438355Y2 JPH0438355Y2 JP1986175401U JP17540186U JPH0438355Y2 JP H0438355 Y2 JPH0438355 Y2 JP H0438355Y2 JP 1986175401 U JP1986175401 U JP 1986175401U JP 17540186 U JP17540186 U JP 17540186U JP H0438355 Y2 JPH0438355 Y2 JP H0438355Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- alignment
- alignment mark
- marks
- boundary line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この考案は、フオトリソグラフイに用いるフオ
トマスクのマスク合せ用の目合せマークに関する
ものである。
トマスクのマスク合せ用の目合せマークに関する
ものである。
フオトリソグラフイーに用いられるフオトマス
クは、設計されたマスクパターンを電子線露光装
置やパターンジエネレーターなどによつてレチク
ルに描写し、このレチクルを原版としてフオトリ
ピーターの逐次露光などによつて作製される。フ
オトマスクに形成されるマスクパターンは所望の
チップパターンの他に目合せ用の目合せマークが
含まれる。
クは、設計されたマスクパターンを電子線露光装
置やパターンジエネレーターなどによつてレチク
ルに描写し、このレチクルを原版としてフオトリ
ピーターの逐次露光などによつて作製される。フ
オトマスクに形成されるマスクパターンは所望の
チップパターンの他に目合せ用の目合せマークが
含まれる。
第３図ａ，ｂに従来のフオトマスクのマスク合
せ用の目合せマークの形状の一例を示す。図中斜
線を施した部分は光を透過しない領域、斜線を施
してない部分は光を透過する領域であり、以下の
図面においても同様な表示法を採ることとする。
せ用の目合せマークの形状の一例を示す。図中斜
線を施した部分は光を透過しない領域、斜線を施
してない部分は光を透過する領域であり、以下の
図面においても同様な表示法を採ることとする。
図には正方形の図形のものを示したが、矩形や
多角形など他の形状の図形を用いることもある。
多角形など他の形状の図形を用いることもある。
初めの工程のフオトリソグラフイに用いるフオ
トマスクＡの目合せマーク（図ａに示す）は、次
の工程のフオトリソグラフイに用いるフオトマス
クＢの目合せマーク（図ｂに示す）に較べ、境界
線のすべての部分が外側に約2μmずれていて、フ
オトマスクＢのウエハへのマスク合せの際、目合
せマークの透明領域を通してフオトマスクＡの目
合せマークの境界線に対応するウエハのパターン
の境界線を全て認識することができ、容易にマー
ク合せができる構成になつている。
トマスクＡの目合せマーク（図ａに示す）は、次
の工程のフオトリソグラフイに用いるフオトマス
クＢの目合せマーク（図ｂに示す）に較べ、境界
線のすべての部分が外側に約2μmずれていて、フ
オトマスクＢのウエハへのマスク合せの際、目合
せマークの透明領域を通してフオトマスクＡの目
合せマークの境界線に対応するウエハのパターン
の境界線を全て認識することができ、容易にマー
ク合せができる構成になつている。
従来の目合せマークは以上のように構成されて
いて、工程中レジストをポジレジストからネガレ
ジストに、またはネガレジストからポジレジスト
に変更する場合、フオトマスクは透明領域と不透
明領域を反転させて使用すると、チツプパターン
はそのまま使用できるが、目合せマークは前工程
の目合せマークの対応する図形の大きさが逆転し
使用することができないという問題があつた。
いて、工程中レジストをポジレジストからネガレ
ジストに、またはネガレジストからポジレジスト
に変更する場合、フオトマスクは透明領域と不透
明領域を反転させて使用すると、チツプパターン
はそのまま使用できるが、目合せマークは前工程
の目合せマークの対応する図形の大きさが逆転し
使用することができないという問題があつた。
例えば、第３図ａ，ｂに示す目合せマークの付
されているフオトマスクをポジレジスト用からネ
ガレジスト用に変更する場合、透明領域と不透明
領域の反転によつて、フオトマスクＡ，Ｂの目合
せマークはそれぞれ第４図ａ，ｂに示すようにな
り、フオトマスクＢのウエハへのマスク合せの
際、目合せマークの透明領域を通してフオトマス
クＡの目合せマークの境界線に対応するウエハの
パターンの境界線を認識できず、マーク合せが容
易でない。
されているフオトマスクをポジレジスト用からネ
ガレジスト用に変更する場合、透明領域と不透明
領域の反転によつて、フオトマスクＡ，Ｂの目合
せマークはそれぞれ第４図ａ，ｂに示すようにな
り、フオトマスクＢのウエハへのマスク合せの
際、目合せマークの透明領域を通してフオトマス
クＡの目合せマークの境界線に対応するウエハの
パターンの境界線を認識できず、マーク合せが容
易でない。
このような場合、目合せマークの部分のみ新た
に設計して、レチクルを作成し、フオトマスクを
作成しなければならなかつた。
に設計して、レチクルを作成し、フオトマスクを
作成しなければならなかつた。
この考案は上記の問題を解決するためになされ
たもので、フオトマスクをポジレジスト用、ネガ
レジスト用の一方から他方へ変更する場合、新た
なレチクルの作製を必要としない目合せマークを
備えたフオトマスクを提供することを目的とす
る。
たもので、フオトマスクをポジレジスト用、ネガ
レジスト用の一方から他方へ変更する場合、新た
なレチクルの作製を必要としない目合せマークを
備えたフオトマスクを提供することを目的とす
る。
この考案に係るフオトマスクは、目合せマーク
がそれぞれ第１の図形と該第１の図形の境界線と
ある間隔を隔てて平行な境界線をもつ第２の図形
を備え、第１のフオトマスクの上記目合せマーク
に対し、第２のフオトマスクの上記目合せマーク
は、上記第１の図形および第２の図形の相対峙す
る境界線が第１の図形は縮少し、第２の図形は拡
大する方向に間隔を隔てて設けられることを特徴
とするものである。
がそれぞれ第１の図形と該第１の図形の境界線と
ある間隔を隔てて平行な境界線をもつ第２の図形
を備え、第１のフオトマスクの上記目合せマーク
に対し、第２のフオトマスクの上記目合せマーク
は、上記第１の図形および第２の図形の相対峙す
る境界線が第１の図形は縮少し、第２の図形は拡
大する方向に間隔を隔てて設けられることを特徴
とするものである。
第１図ａ，ｂにこの考案の一実施例を示す。十
字形図形１のほかにこの十字形図形１の境界線と
ある間隔を隔てて平行な境界線をもつ正方形図形
２を備え、初めの工程のフオトリソグラフイに用
いるフオトマスクＡのもの（図ａに示す）は、次
の工程のフオトリソグラフイに用いるフオトマス
クＢのもの（図ｂに示す）に較べ、十字形図形１
の境界線のすべての部分が外側に約2μmずれてい
て、正方形図形２の境界線のすべての部分が内側
に約2μmずれている。すなわち、十字形図形１と
正方形図形２の相対峙する境界線が同一方向にず
れている。
字形図形１のほかにこの十字形図形１の境界線と
ある間隔を隔てて平行な境界線をもつ正方形図形
２を備え、初めの工程のフオトリソグラフイに用
いるフオトマスクＡのもの（図ａに示す）は、次
の工程のフオトリソグラフイに用いるフオトマス
クＢのもの（図ｂに示す）に較べ、十字形図形１
の境界線のすべての部分が外側に約2μmずれてい
て、正方形図形２の境界線のすべての部分が内側
に約2μmずれている。すなわち、十字形図形１と
正方形図形２の相対峙する境界線が同一方向にず
れている。
例えば、ポジレジスト用のフオトマスクの場
合、フオトマスクＢのウエハのマスク合せの際
は、フオトマスクＡの目合せマークの十字形図形
１の境界線に対応するウエハのパターンの境界線
は図ｂの点線のようになり、認識でき、容易にマ
ーク合せができる。
合、フオトマスクＢのウエハのマスク合せの際
は、フオトマスクＡの目合せマークの十字形図形
１の境界線に対応するウエハのパターンの境界線
は図ｂの点線のようになり、認識でき、容易にマ
ーク合せができる。
フオトマスクをネガレジスト用に変更する場
合、第１図ａ，ｂはそれぞれ透明領域と不透明領
域の反転によつて、第２図ａ，ｂに示すようにな
る。この場合は、フオトマスクＢのウエハへのマ
スク合せの際は、フオトマスクＡの目合せマーク
の正方形図形２の境界線に対応するウエハのパタ
ーンの境界線は図ｂの点線のようになり、透明領
域を通して認識できるので、これを利用してマー
ク合せができる。
合、第１図ａ，ｂはそれぞれ透明領域と不透明領
域の反転によつて、第２図ａ，ｂに示すようにな
る。この場合は、フオトマスクＢのウエハへのマ
スク合せの際は、フオトマスクＡの目合せマーク
の正方形図形２の境界線に対応するウエハのパタ
ーンの境界線は図ｂの点線のようになり、透明領
域を通して認識できるので、これを利用してマー
ク合せができる。
なお、図形の形状は、実施例に示したものに限
定されるものではない。
定されるものではない。
以上のとおり、この考案によれば、フオトマス
クを透明領域と不透明領域の反転によつて、ポジ
レジスト用、ネガレジスト用の一方から他方に変
更する場合、目合せマークを新たに設計する必要
がなくなり、既に作製してあるレチクルを使用し
て作製したフオトマスクを、そのまま使用するこ
とが可能となり、フオトマスク作製工数の削減に
寄与すること大である。
クを透明領域と不透明領域の反転によつて、ポジ
レジスト用、ネガレジスト用の一方から他方に変
更する場合、目合せマークを新たに設計する必要
がなくなり、既に作製してあるレチクルを使用し
て作製したフオトマスクを、そのまま使用するこ
とが可能となり、フオトマスク作製工数の削減に
寄与すること大である。
第１図ａ，ｂはこの考案の一実施例を示す平面
図、第２図ａ，ｂはそれぞれ第１図ａ，ｂの透明
領域と不透明領域を反転させた状態を示す平面
図、第３図ａ，ｂは従来のフオトマスクの目合せ
マークの形状の一例を示す平面図、第４図ａ，ｂ
はそれぞれ第３図ａ，ｂの透明領域と不透明領域
を反転させた状態を示す平面図である。 １……十字形図形、２……正方形図形。なお、
図中同一符号は同一または相当する部分を示す。
図、第２図ａ，ｂはそれぞれ第１図ａ，ｂの透明
領域と不透明領域を反転させた状態を示す平面
図、第３図ａ，ｂは従来のフオトマスクの目合せ
マークの形状の一例を示す平面図、第４図ａ，ｂ
はそれぞれ第３図ａ，ｂの透明領域と不透明領域
を反転させた状態を示す平面図である。 １……十字形図形、２……正方形図形。なお、
図中同一符号は同一または相当する部分を示す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 フオトリソグラフイに用いる１対のフオトマス
クにおいて、マスク合せに用いる目合せマークは
それぞれ第１の図形と、該第１の図形の境界線と
ある間隔を隔てて 平行な境界線をもつ第２の図形を備え、 第１のフオトマスクの上記目合せマークに対
し、 第２のフオトマスクの上記目合せマークは、上
記第１の図形及び第２の図形の相対峙する境界線
が 第１の図形は縮少し、第２の図形は拡大する方
向に間隔を隔てて設けられる ことを特徴とするフオトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986175401U JPH0438355Y2 (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986175401U JPH0438355Y2 (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6380546U JPS6380546U (ja) | 1988-05-27 |
| JPH0438355Y2 true JPH0438355Y2 (ja) | 1992-09-08 |
Family
ID=31114693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986175401U Expired JPH0438355Y2 (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0438355Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5116878A (en) * | 1974-08-01 | 1976-02-10 | Fujitsu Ltd | Hoto masukuno seizohoho |
-
1986
- 1986-11-17 JP JP1986175401U patent/JPH0438355Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6380546U (ja) | 1988-05-27 |
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