JPH0438869A - マスタースライス型半導体集積回路 - Google Patents

マスタースライス型半導体集積回路

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Publication number
JPH0438869A
JPH0438869A JP14582890A JP14582890A JPH0438869A JP H0438869 A JPH0438869 A JP H0438869A JP 14582890 A JP14582890 A JP 14582890A JP 14582890 A JP14582890 A JP 14582890A JP H0438869 A JPH0438869 A JP H0438869A
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JP
Japan
Prior art keywords
cell
cell arrays
circuit device
unit
arrays
Prior art date
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Pending
Application number
JP14582890A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuya Matsumoto
一也 松本
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はマスタースライス型半導体集積回路に関するも
のである。
〔従来の技術〕
セミカスタムIC(集積回路)の設計手法として、開発
期間が短く、また開発コストも安いマス−スライス方式
が広く採用されている。通常は複数個のトランジスタ(
ECL回路などでは抵抗素子も含む)からる単位セルが
、アレイ状に半導体チップ内に並べられており、その素
子間の接続及び単位セル間の接続を変えるだけで、種々
の仕様のICを実現できる。
具体的には、第3図に示すように、半導体チップ1上に
複数の単位セル2を一次元に並べたセルアレイ20を形
成し、このセルアレイ20を並列に複数配設して、複数
の単位セル2を二次元に配設する。そして、セルアレイ
20の間の領域に配線3を形成し、各単位セル2を相互
接続すると共に、チップ1の端部に設けた入出力セル4
とも接統し、斜線で示すセルからなるICを実現する。
第4図は配線領域にもセルアレイ20を形成したタイプ
のマスタースライス型半導体集積回路を示しており、こ
れはSea or Gate 11と呼ばれている。
ここで、セミカスタムICが使われる機器の動作周波数
は年々高くなっており、セミカスタムICに要求される
速度も高くなってきている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、一般にマスタースライス型半導体装置におい
ては、セル間の接続が自動配線で行われるため、配線長
が長くなりがちであり、これに伴う配線容量の増加によ
り、ICの動作速度がフルカスタム設計に比べ低下する
。そこで、ICの動作速度を決める重要な部分には、あ
らかじめ容量負荷駆動力の高い回路を割りあてておけば
上記問題は改善される。しかし、1種類の単位セルをア
レイ状に並べた従来のマスタースライス型半導体装置で
は、設計の自由度は少なく、大きな改善は望めない。
本発明は、かかる課題を達成したマスタースライス型半
導体集積回路を提供することを目的とする。
C課題を解決するための手段〕 本発明に係るマスタースライス型半導体集積回路は、複
数の回路素子を含んで構成されると共に、それぞれ同等
の機能を有する単位セルを、一次元に複数個並べてセル
アレイを構成し、このセルアレイを並列に複数個配設す
ることにより、単位セルを二次元に配置したものにおい
て、複数個のセルアレイのうちの少なくともいずれかは
、セルアレイを構成する単位セル中の回路素子のサイズ
が、他のセルアレイ中の回路素子のサイズと異なってい
ることを特徴とする。
〔作用〕
本発明によれば、サイズの大きい回路素子を含むセルア
レイに対し、高い負荷駆動力の要求される回路を割り当
てることができる。
〔実施例〕
以下、添付図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図および第2図は実施例に係るマスタースライス型
半導体集積回路の平面図であり、第1図は配線前、第2
図は配線後に対応する。第1図に示す通り、単一の半導
体チップ1の4辺の各端部には、複数の入出力セル4が
形成されている。そして、これらの内側には、サイズの
小さい回路素子を含んだ第1の単位セル2人を一次元に
並べた第1のセルアレイ20Aと、サイズの大きい回路
素子を含んだ第2の単位セル2Bを一次元に並べた第2
のセルアレイ20Bとが、互いに平行に配設されている
。そして、2本の第2のセルアレイ20Bの間には、3
本の第1のセルアレイ2OAが介在するようになってい
る。
ここで、上記回路素子にはトランジスタ、ダイオードの
他、必要に応じて抵抗素子も含まれる。
そして、各単位セル2A、2Bは、それぞれ同等の機能
を有するように設計されている。ただし、第1の単位セ
ル2Aに比べて第2の単位セル2Bの方が、回路素子(
例えばMESFET)のサイズが大きい(例えば2倍)
ため、より大きな容量負荷駆動力が実現されている。
第2図には、上記のようなSea of Gate型の
マスターマライス用半導体チップ1に対して、配線を施
して所望の回路を実現した状態が示されている。図示の
通り、斜線で示すセルの回路素子を、配線3で接続する
ことにより、所望のICを実現する。ここで、通常のI
Cにおいてはゲート使用率が40〜50%であるため、
ICに実際上は使っていないセル領域上を、相互配線領
域として使用する。すなわち、半導体プロセスにおける
平坦化技術を用いることにより、セル領域上も容易に配
線領域として使用できることになる。そして、実現すべ
きICで要求される動作速度や負荷駆動力に応じて、第
1の単位セル2Aと第2の単位セル2Bを選択して使用
する。これにより、ICの集積度に影響されることなく
、設計の自由度を大きく向上させることが可能になる。
本発明については、上記実施例に限られることなく、種
々の変形が可能である。
例えば、実施例では3本の第1のセルアレイ2OAの間
に1本の第2のセルアレイ20Bを設けているが、2本
に1本、あるいは4本に1本の割合としてもよい。
〔発明の効果〕
以上、詳細に説明した通り本発明では、サイズの大きい
回路素子を含むセルアレイに対し、高い負荷駆動力の要
求される回路を割り当てることができる。このため、I
Cの設計の自由を大幅に向上させることができる。
ル、20B・・・第2のセルアレイ、3・・・配線、4
・・・入出力セル。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  複数の回路素子を含んで構成されると共に、それぞれ
    同等の機能を有する単位セルを、一次元に複数個並べて
    セルアレイを構成し、当該セルアレイを並列に複数個配
    設することにより、前記単位セルを二次元に配置したマ
    スタースライス型半導体集積回路において、 前記複数個のセルアレイのうちの少なくともいずれかは
    、当該セルアレイを構成する前記単位セル中の前記回路
    素子のサイズが、他の前記セルアレイ中の前記回路素子
    のサイズと異なっていることを特徴とするマスタースラ
    イス型半導体集積回路。
JP14582890A 1990-06-04 1990-06-04 マスタースライス型半導体集積回路 Pending JPH0438869A (ja)

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JPH0438869A true JPH0438869A (ja) 1992-02-10

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5917206A (en) * 1996-05-30 1999-06-29 Nec Corporation Gate array system in which functional blocks are connected by fixed wiring

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5917206A (en) * 1996-05-30 1999-06-29 Nec Corporation Gate array system in which functional blocks are connected by fixed wiring

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