JPH0440733Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0440733Y2 JPH0440733Y2 JP1986118197U JP11819786U JPH0440733Y2 JP H0440733 Y2 JPH0440733 Y2 JP H0440733Y2 JP 1986118197 U JP1986118197 U JP 1986118197U JP 11819786 U JP11819786 U JP 11819786U JP H0440733 Y2 JPH0440733 Y2 JP H0440733Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- filler
- filling
- support
- core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、珪砂やペレツトなどの粒塊状物を充
てん材とし、連続的に払い出すようにした集じん
装置、乾式脱硫装置、乾式脱硝装置などの移動層
式固気接触装置における充てん材の支持構造に関
するものである。
てん材とし、連続的に払い出すようにした集じん
装置、乾式脱硫装置、乾式脱硝装置などの移動層
式固気接触装置における充てん材の支持構造に関
するものである。
従来、固気接触装置として、ルーバー、金網、
多孔板などの2枚の通気性支持体間に粒塊状物を
充てんして充てん層を形成し、この充てん層にガ
スを通過させて固気接触させるようにした装置が
用いられている。
多孔板などの2枚の通気性支持体間に粒塊状物を
充てんして充てん層を形成し、この充てん層にガ
スを通過させて固気接触させるようにした装置が
用いられている。
また、特開昭53−50053号公報には、固体粒子
の移動層内に、多数の逆溝形ダクトを水平方向に
設け、これらの逆溝形ダクト内に排ガスを導入す
ることにより、装置内を多段化するようにしたガ
ス処理装置が記載されている。
の移動層内に、多数の逆溝形ダクトを水平方向に
設け、これらの逆溝形ダクト内に排ガスを導入す
ることにより、装置内を多段化するようにしたガ
ス処理装置が記載されている。
上記の固気接触装置において、処理能力を上げ
たり、性能を向上させようとすると、充てん層の
層厚を厚くしたり、充てん材の粒径を小さくした
りする必要がある。また処理ガス量を増した運転
をすることもある。
たり、性能を向上させようとすると、充てん層の
層厚を厚くしたり、充てん材の粒径を小さくした
りする必要がある。また処理ガス量を増した運転
をすることもある。
このような運転をすると、充てん層間のガスの
圧力降下が増大し、そのために充てん材が下流側
の通気性支持体に押え付けられる力が増大し、充
てん材が下方へ移動し難くなつたり、場合によつ
ては、この差圧によつて充てん材が保持され、下
方へ移動しなくなつてしまうという問題点があつ
た。
圧力降下が増大し、そのために充てん材が下流側
の通気性支持体に押え付けられる力が増大し、充
てん材が下方へ移動し難くなつたり、場合によつ
ては、この差圧によつて充てん材が保持され、下
方へ移動しなくなつてしまうという問題点があつ
た。
また、特開昭53−50053号公報記載の装置は、
充てん層内にガスと平行な方向に内部品を設置
し、内部品の中をガスが通過する構造であり、逆
溝形ダクトを介してガスが出入りするので、充て
ん材の後面への圧力を低減することができず、充
てん層を厚くする必要があるとき、あるいはガス
処理量を増加したり、充てん粒子を小さくしたと
き等に生じる問題(例えば、粒子が流下しなくな
るという問題)を防止することができない。
充てん層内にガスと平行な方向に内部品を設置
し、内部品の中をガスが通過する構造であり、逆
溝形ダクトを介してガスが出入りするので、充て
ん材の後面への圧力を低減することができず、充
てん層を厚くする必要があるとき、あるいはガス
処理量を増加したり、充てん粒子を小さくしたと
き等に生じる問題(例えば、粒子が流下しなくな
るという問題)を防止することができない。
本考案は上記の諸点に鑑みてなされたもので、
充てん層内にガスに直交する方向に複数列の中子
を設けることにより、充てん材の後面への圧力を
低減し、充てん材の流下速度を均一にするように
した充てん材の支持構造を提供することを目的と
するものである。
充てん層内にガスに直交する方向に複数列の中子
を設けることにより、充てん材の後面への圧力を
低減し、充てん材の流下速度を均一にするように
した充てん材の支持構造を提供することを目的と
するものである。
上記の目的を達成するために、本考案の充てん
材の支持構造は、第1図および第3図を参照して
説明すれば、粒塊状物を充てん材とし、この充て
ん材を2枚の通気性支持体1,2間に充てんし
て、連続的に払い出す移動層式固気接触装置の充
てん材の支持構造において、 充てん層3内にガスに直交する方向に複数列の
中子4を配置したことを特徴としている。
材の支持構造は、第1図および第3図を参照して
説明すれば、粒塊状物を充てん材とし、この充て
ん材を2枚の通気性支持体1,2間に充てんし
て、連続的に払い出す移動層式固気接触装置の充
てん材の支持構造において、 充てん層3内にガスに直交する方向に複数列の
中子4を配置したことを特徴としている。
中子4を充てん層3内に挿入して設けることに
より、水平方向荷重の一部を中子4に負担させ、
充てん材の後面への圧力を低減することで、充て
ん材の流下速度が均一となつて、充てん材が動か
なくなるのを防止することができる。
より、水平方向荷重の一部を中子4に負担させ、
充てん材の後面への圧力を低減することで、充て
ん材の流下速度が均一となつて、充てん材が動か
なくなるのを防止することができる。
固気接触装置としては、珪砂などの粒塊状物の
移動層を用いた集じん装置、ボイラ排ガスや石炭
ガス化炉の生成ガスなどを処理するために粒塊状
の脱硫触媒を用いる乾式脱硫装置、ボイラ排ガス
などを処理するために粒塊状の脱硝触媒を用いる
乾式脱硝装置などが適用される。
移動層を用いた集じん装置、ボイラ排ガスや石炭
ガス化炉の生成ガスなどを処理するために粒塊状
の脱硫触媒を用いる乾式脱硫装置、ボイラ排ガス
などを処理するために粒塊状の脱硝触媒を用いる
乾式脱硝装置などが適用される。
以下、図面を参照して本考案の好適な実施例を
詳細に説明する。ただしこの実施例に記載されて
いる構成機器の形状、その相対配置などは、とく
に特定的な記載がない限りは、本考案の範囲をそ
れらのみに限定する趣旨のものではなく、単なる
説明例にすぎない。
詳細に説明する。ただしこの実施例に記載されて
いる構成機器の形状、その相対配置などは、とく
に特定的な記載がない限りは、本考案の範囲をそ
れらのみに限定する趣旨のものではなく、単なる
説明例にすぎない。
第1図および第2図は本考案の一実施例を示し
ている。1は上流側支持体、2は下流側支持体
で、これらの通気性支持体1,2間に珪砂、ペレ
ツトなどの粒塊状物の充てん材を充てんして移動
層の充てん層3を形成する。通気性支持体として
は、ルーバー、金網、多孔板などが用いられる
が、本実施例では一例として、上流側支持体1と
してルーバーを用い、下流側支持体2として充て
ん材より本質的に小さい開口を有する金網または
多孔板を用いる場合を示している。このルーバー
によりガスが出入りし、ガスは内部品の外を通過
する構造となつている。
ている。1は上流側支持体、2は下流側支持体
で、これらの通気性支持体1,2間に珪砂、ペレ
ツトなどの粒塊状物の充てん材を充てんして移動
層の充てん層3を形成する。通気性支持体として
は、ルーバー、金網、多孔板などが用いられる
が、本実施例では一例として、上流側支持体1と
してルーバーを用い、下流側支持体2として充て
ん材より本質的に小さい開口を有する金網または
多孔板を用いる場合を示している。このルーバー
によりガスが出入りし、ガスは内部品の外を通過
する構造となつている。
充てん層3内にガスに直交する方向に複数列の
棒状の中子4を設ける。中子4は第1図および第
2図に示すように、充てん材の移動方向と同じ方
向に設けてもよく、また第3図および第4図ら示
すように、充てん材の移動方向と直角方向に設け
てもよい。
棒状の中子4を設ける。中子4は第1図および第
2図に示すように、充てん材の移動方向と同じ方
向に設けてもよく、また第3図および第4図ら示
すように、充てん材の移動方向と直角方向に設け
てもよい。
中子の形状としては、第5図に示すような棒状
の中子4、第6図に示すようなフラツトバー状の
中子5、第7図に示すようなアングル状の中子6
などが用いられ、これらの中子は複数列配置して
用いられる。本考案では、とくに千鳥状に配列し
て用いるのが望ましい。
の中子4、第6図に示すようなフラツトバー状の
中子5、第7図に示すようなアングル状の中子6
などが用いられ、これらの中子は複数列配置して
用いられる。本考案では、とくに千鳥状に配列し
て用いるのが望ましい。
本考案は上記のように構成されているので、つ
ぎのような効果を有している。
ぎのような効果を有している。
(1) ガスに直交する方向に複数列の中子を配置し
て、充てん材に水平方向にかかる荷重を低減さ
せることにより、充てん材の後面への圧力を低
減することで、充てん材の下方への移動が容易
になり、また下方移動速度もガスの流れ方向に
沿つて均一化される。
て、充てん材に水平方向にかかる荷重を低減さ
せることにより、充てん材の後面への圧力を低
減することで、充てん材の下方への移動が容易
になり、また下方移動速度もガスの流れ方向に
沿つて均一化される。
(2) ガス出口側(下流側)の充てん材支持体にか
かる水平荷重が軽減されるので、充てん材との
摩擦などによる通気性支持体の摩耗が少なくな
り、支持体の寿命が延びる。
かる水平荷重が軽減されるので、充てん材との
摩擦などによる通気性支持体の摩耗が少なくな
り、支持体の寿命が延びる。
第1図は本考案の充てん材の支持構造の一実施
例を示す斜視図、第2図は同平面図、第3図は本
考案の充てん材の支持構造の他の実施例を示す斜
視図、第4図は同平面図、第5図〜第7図は本考
案において用いられる中子の例を示す斜視図であ
る。 1……上流側支持体、2……下流側支持体、3
……充てん層、4……棒状の中子、5……フラツ
トバー状の中子、6……アングル状の中子。
例を示す斜視図、第2図は同平面図、第3図は本
考案の充てん材の支持構造の他の実施例を示す斜
視図、第4図は同平面図、第5図〜第7図は本考
案において用いられる中子の例を示す斜視図であ
る。 1……上流側支持体、2……下流側支持体、3
……充てん層、4……棒状の中子、5……フラツ
トバー状の中子、6……アングル状の中子。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 粒塊状物を充てん材とし、この充てん材を2枚
の通気性支持体1,2間に充てんして、連続的に
払い出す移動層式固気接触装置の充てん材の支持
構造において、 充てん層3内にガスに直交する方向に複数列の
中子4を配置したことを特徴とする充てん材の支
持構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986118197U JPH0440733Y2 (ja) | 1986-07-31 | 1986-07-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986118197U JPH0440733Y2 (ja) | 1986-07-31 | 1986-07-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6325137U JPS6325137U (ja) | 1988-02-19 |
| JPH0440733Y2 true JPH0440733Y2 (ja) | 1992-09-24 |
Family
ID=31004424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986118197U Expired JPH0440733Y2 (ja) | 1986-07-31 | 1986-07-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0440733Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5350053A (en) * | 1976-10-18 | 1978-05-08 | Kouji Watanabe | Gas treatment apparatus |
-
1986
- 1986-07-31 JP JP1986118197U patent/JPH0440733Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6325137U (ja) | 1988-02-19 |
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