JPH0442434A - ディスク状磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
ディスク状磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0442434A JPH0442434A JP15039890A JP15039890A JPH0442434A JP H0442434 A JPH0442434 A JP H0442434A JP 15039890 A JP15039890 A JP 15039890A JP 15039890 A JP15039890 A JP 15039890A JP H0442434 A JPH0442434 A JP H0442434A
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- JP
- Japan
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- magnetic layer
- lubricant
- magnetic
- curing
- disk
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明はディスク状磁気記録媒体の製造方法に関するも
のである。
のである。
口、従来技術
従来、スチルビデオ用、コンピューター用等のディスク
状の磁気記録媒体として、強磁性合金粉末を結合剤中に
分散させた磁性層を非磁性支持体上に塗設した磁気記録
媒体が用いられている。
状の磁気記録媒体として、強磁性合金粉末を結合剤中に
分散させた磁性層を非磁性支持体上に塗設した磁気記録
媒体が用いられている。
こうしたディスク状磁気記録媒体、例えば電子スチルビ
デオフロッピーは通常、次のようにして作製される。即
ち磁性粉(強磁性金属粉末)を含有した磁性塗料を調整
した後、この磁性塗料を濾過して分散不良成分を除去し
、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ=32μ
m)の両面に、それぞれの乾燥厚が3.5μmになるよ
うにリバースロールコータ−を用いて塗布し、加熱下に
溶剤を除去した後、カレンダー処理を行う0次いで、磁
性層中のポリイソシアネート化合物のための加熱硬化(
キュア)を行ない、その後に磁性層に対して潤滑剤含浸
工程を行った後、直径2インチの円盤状に打ち抜き、電
子スチルビデオフロッピーを製造する。上記の打ち抜き
工程の前(潤滑剤含浸工程の後)にはバーニッシュ(表
面硬l!り工程を行う。
デオフロッピーは通常、次のようにして作製される。即
ち磁性粉(強磁性金属粉末)を含有した磁性塗料を調整
した後、この磁性塗料を濾過して分散不良成分を除去し
、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ=32μ
m)の両面に、それぞれの乾燥厚が3.5μmになるよ
うにリバースロールコータ−を用いて塗布し、加熱下に
溶剤を除去した後、カレンダー処理を行う0次いで、磁
性層中のポリイソシアネート化合物のための加熱硬化(
キュア)を行ない、その後に磁性層に対して潤滑剤含浸
工程を行った後、直径2インチの円盤状に打ち抜き、電
子スチルビデオフロッピーを製造する。上記の打ち抜き
工程の前(潤滑剤含浸工程の後)にはバーニッシュ(表
面硬l!り工程を行う。
ところが、本発明者が上記の如き製造方法について検討
を加えた結果、次の如き欠点があることを見出した。即
ち、従来の方法では、潤滑剤含浸工程の前にキュアを行
うために、磁性層の耐久性が不十分となるのである。こ
れは、キュアによって磁性層中の結合剤分子間に複雑な
架橋構造が形成されるため、次の潤滑剤含浸工程におい
ては潤滑剤分子が上記架橋構造中に十分に侵入できない
ためであると考えられる。従って、磁性層中に潤滑剤が
十分な量で含浸されないことになるから、媒体の使用中
に磁性層表面に浸みだしてくる潤滑剤が不足し、ヘッド
等との摺擦に十分耐えられず、摩擦係数も増大し、耐久
性が低下し易くなる。
を加えた結果、次の如き欠点があることを見出した。即
ち、従来の方法では、潤滑剤含浸工程の前にキュアを行
うために、磁性層の耐久性が不十分となるのである。こ
れは、キュアによって磁性層中の結合剤分子間に複雑な
架橋構造が形成されるため、次の潤滑剤含浸工程におい
ては潤滑剤分子が上記架橋構造中に十分に侵入できない
ためであると考えられる。従って、磁性層中に潤滑剤が
十分な量で含浸されないことになるから、媒体の使用中
に磁性層表面に浸みだしてくる潤滑剤が不足し、ヘッド
等との摺擦に十分耐えられず、摩擦係数も増大し、耐久
性が低下し易くなる。
ハ0発明の目的
本発明の目的は、耐久性を向上させ、高い電磁変換特性
のディスク状磁気記録媒体の製造方法を提供することに
ある。
のディスク状磁気記録媒体の製造方法を提供することに
ある。
二0発明の構成
即ち、本発明は、磁性層に対する潤滑剤含浸工程と、デ
ィスク形状への打ち抜き工程と、前記磁性層に対するキ
ュア工程とを有し、前記キュア工程の前に前記潤滑剤含
浸工程を行うディスク状磁気記録媒体の製造方法に係る
ものである。
ィスク形状への打ち抜き工程と、前記磁性層に対するキ
ュア工程とを有し、前記キュア工程の前に前記潤滑剤含
浸工程を行うディスク状磁気記録媒体の製造方法に係る
ものである。
本発明によるディスク状磁気記録媒体の製造方法は、基
本的には、例えば磁性塗料の塗布→乾燥→カレンダー処
理を経た後に、少なくとも潤滑剤含浸工程、ディスク形
状への打ち抜き工程及び磁性層に対するキュア工程を行
うに際し、キュア工程の前に潤滑剤含浸工程を行うこと
を特徴とするものである。
本的には、例えば磁性塗料の塗布→乾燥→カレンダー処
理を経た後に、少なくとも潤滑剤含浸工程、ディスク形
状への打ち抜き工程及び磁性層に対するキュア工程を行
うに際し、キュア工程の前に潤滑剤含浸工程を行うこと
を特徴とするものである。
即ち、上記の塗布、乾燥、カレンダー処理は公知の順序
で公知の方法で行ってよいが、それ以降の工程において
は、特にキュア工程の前に潤滑剤を磁性層に含浸させて
いる(例えば潤滑剤を磁性層表面にオーバーコートする
)ので、磁性層中の結合剤が未硬化(未キユア)状態に
あって架橋構造を未だ形成していない、従って、潤滑剤
は磁性層中に十分な量で侵入することができ、そして次
のキュアによる架橋構造内に適度に保持されることにな
る。換言すれば、架橋構造によて潤滑剤分子が保持され
ると共に、磁性層表面で不足が生じたときjは磁性層内
部から潤滑剤が浸み出して供されることになるから、媒
体の使用中での磁性層のHa係数を常に小さく維持でき
、摺擦に十二分に耐える耐久性を実現できるのである。
で公知の方法で行ってよいが、それ以降の工程において
は、特にキュア工程の前に潤滑剤を磁性層に含浸させて
いる(例えば潤滑剤を磁性層表面にオーバーコートする
)ので、磁性層中の結合剤が未硬化(未キユア)状態に
あって架橋構造を未だ形成していない、従って、潤滑剤
は磁性層中に十分な量で侵入することができ、そして次
のキュアによる架橋構造内に適度に保持されることにな
る。換言すれば、架橋構造によて潤滑剤分子が保持され
ると共に、磁性層表面で不足が生じたときjは磁性層内
部から潤滑剤が浸み出して供されることになるから、媒
体の使用中での磁性層のHa係数を常に小さく維持でき
、摺擦に十二分に耐える耐久性を実現できるのである。
本発明による方法の主要段階については、第1図〜第3
図に例示した工程の組み合せがある。第1図は、潤滑剤
含浸工程の後に、ディスク形状への打ち抜き、更にはキ
ュアを行うものである。第2図は、第1図においてキュ
アを打ち抜き前に行う方法を示す、更に、第3図は、第
1図において打ち抜きを潤滑剤含浸の前に行う方法を示
す。
図に例示した工程の組み合せがある。第1図は、潤滑剤
含浸工程の後に、ディスク形状への打ち抜き、更にはキ
ュアを行うものである。第2図は、第1図においてキュ
アを打ち抜き前に行う方法を示す、更に、第3図は、第
1図において打ち抜きを潤滑剤含浸の前に行う方法を示
す。
いずれの方法でも、本発明による潤滑剤含浸→キュアと
いう順序を有しているで、打ち抜きをどの時点で行って
も、上記したように潤滑剤を十分な量で磁性層に含浸さ
せることができ、耐久性を向上させることができる。但
し、打ち抜き工程は潤滑剤含浸工程の後に行う方が、潤
滑剤の含浸作業(オーバーコート)が容易となり、量産
性も良(なる。
いう順序を有しているで、打ち抜きをどの時点で行って
も、上記したように潤滑剤を十分な量で磁性層に含浸さ
せることができ、耐久性を向上させることができる。但
し、打ち抜き工程は潤滑剤含浸工程の後に行う方が、潤
滑剤の含浸作業(オーバーコート)が容易となり、量産
性も良(なる。
次に、上記において、潤滑剤の含浸工程に用いる潤滑剤
としては、脂肪酸エステル(例えばイソオクチルパルミ
テート)、−塩基性脂肪酸(例えばステアリン酸)や、
シリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブデン、
二硫化タングステン等があげられるが、脂肪酸エステル
が好ましい。
としては、脂肪酸エステル(例えばイソオクチルパルミ
テート)、−塩基性脂肪酸(例えばステアリン酸)や、
シリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブデン、
二硫化タングステン等があげられるが、脂肪酸エステル
が好ましい。
潤滑剤は溶媒に所定濃度に溶解させ、この溶液をロール
コーティング等で塗布し、所定温度で乾燥させて磁性層
中に含浸させることができる。二〇含装置は20〜60
屹/dがより、30〜50a/cjが更に良い、また、
打ち抜き後の潤滑剤の含浸は、ディスク体を回転させな
がら潤滑剤を塗布するスピンコードに依ってもよい。
コーティング等で塗布し、所定温度で乾燥させて磁性層
中に含浸させることができる。二〇含装置は20〜60
屹/dがより、30〜50a/cjが更に良い、また、
打ち抜き後の潤滑剤の含浸は、ディスク体を回転させな
がら潤滑剤を塗布するスピンコードに依ってもよい。
また、上記の打ち抜き工程は、媒体半製品を搬送しなが
ら型によって打ち抜く方法(パンチング)によって行う
ことができ、その方法自体は公知のものである。
ら型によって打ち抜く方法(パンチング)によって行う
ことができ、その方法自体は公知のものである。
更に、上記のキュアについては、磁性層中の未反応の硬
化剤を結合剤と完全に反応させて架橋構造を形成するた
めの加熱工程であるが、例えば50〜75℃で24〜7
2時間、望ましくは65〜70℃で48〜60時間行う
のがよい。
化剤を結合剤と完全に反応させて架橋構造を形成するた
めの加熱工程であるが、例えば50〜75℃で24〜7
2時間、望ましくは65〜70℃で48〜60時間行う
のがよい。
また、上記した磁性#塗料の塗布、乾燥、カレンダー処
理は公知の方法によって行うことができる。
理は公知の方法によって行うことができる。
二二で、磁性層の磁性粉としてFe−Aj!系等の金属
磁性粉(強磁性合金粉末)を用いるのがよいが、こうし
た強磁性金属粉末には、Fe、Ni、Coをはじめ、F
e−Al系、Fe−Aj!−Ni系、Fe−Al!−C
o系、Fe−Ni−3i系、Fe−An!−Zn系、F
e−Ni−Co系、Fe−Mn−Zn系、Fe−Ni系
、F e −N i −Af系、Fe−Ni−Zn系、
)’e−Ni −Mn系、Fe−Co−N1−P系、C
o−Ni系、Fe、Ni、Co等、を主成分とするメタ
ル磁性粉等の強磁性粉が挙げられる。なかでも、耐蝕性
及び分散性の点で特にFe−Al!、、Fe−Al−N
i。
磁性粉(強磁性合金粉末)を用いるのがよいが、こうし
た強磁性金属粉末には、Fe、Ni、Coをはじめ、F
e−Al系、Fe−Aj!−Ni系、Fe−Al!−C
o系、Fe−Ni−3i系、Fe−An!−Zn系、F
e−Ni−Co系、Fe−Mn−Zn系、Fe−Ni系
、F e −N i −Af系、Fe−Ni−Zn系、
)’e−Ni −Mn系、Fe−Co−N1−P系、C
o−Ni系、Fe、Ni、Co等、を主成分とするメタ
ル磁性粉等の強磁性粉が挙げられる。なかでも、耐蝕性
及び分散性の点で特にFe−Al!、、Fe−Al−N
i。
Fe−Aj!−Zn、Fe−Aj!−CoSFe−Ni
。
。
Fe−N1−AfSFe−Ni−Zn、Fe−N1−A
j!−31−Zn、 F e −N i −AI!−3
i −Mnの系のメタル磁性粉が好ましい。
j!−31−Zn、 F e −N i −AI!−3
i −Mnの系のメタル磁性粉が好ましい。
こうしたメタル磁性粉は飽和磁化、保持力が太き(、高
密度記録に優れている。また、比表面積が40rrf/
g以上、特に42rrf/g以上の比表面積(BET値
)の上記の強磁性合金粉末を用いることにより、非常に
電磁変換特性が向上する。また、強磁性金属粉末の保磁
力(抗磁力)は、通常、10000e以上(好ましくは
12000 e以上)である。
密度記録に優れている。また、比表面積が40rrf/
g以上、特に42rrf/g以上の比表面積(BET値
)の上記の強磁性合金粉末を用いることにより、非常に
電磁変換特性が向上する。また、強磁性金属粉末の保磁
力(抗磁力)は、通常、10000e以上(好ましくは
12000 e以上)である。
また、本発明で使用することができる磁性粉の形状に特
に制限はなく、例えば、針状、球状等のものを使用する
ことができる。
に制限はなく、例えば、針状、球状等のものを使用する
ことができる。
上記の磁性粉は、メタル磁性粉であるから、分散を十分
に行い難いものであるが、これは磁性層に下記のポリウ
レタン系樹脂を結合剤として用いることによって十分に
防止でき、分散性を高めることができる。
に行い難いものであるが、これは磁性層に下記のポリウ
レタン系樹脂を結合剤として用いることによって十分に
防止でき、分散性を高めることができる。
即ち、使用するポリウレタン系樹脂は
505M、 0305M、 PO(OM’)*、−
0PO(OM’ )* (但し、Mは水素又はリチウム
、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属、M′は水素
、リチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属)
からなる陰性官能基(親水性極性基)を1種又は2種以
上含有しているのがよい、こうした分子内の極性基によ
って、樹脂と磁性粉とのなじみが向上し、これによって
磁性粉の分散性を良くし、かつ磁性粉の凝集も防止して
塗液安定性を一層向上させることができ、ひいては媒体
の耐久性をも向上させ得る。
0PO(OM’ )* (但し、Mは水素又はリチウム
、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属、M′は水素
、リチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属)
からなる陰性官能基(親水性極性基)を1種又は2種以
上含有しているのがよい、こうした分子内の極性基によ
って、樹脂と磁性粉とのなじみが向上し、これによって
磁性粉の分散性を良くし、かつ磁性粉の凝集も防止して
塗液安定性を一層向上させることができ、ひいては媒体
の耐久性をも向上させ得る。
こうしたポリウレタン系樹脂の合成に関しては、一般に
利用される方法であるポリオシルとポリイソシアネート
との反応を用いることができる。ポリオール成分として
一般には、ポリオールと多塩基酸との反応によって得ら
れるポリエステルポリオールが使用される。従って、上
記の極性基を有するポリエステルポリオールを原料とし
て利用すれば、極性基を有するポリウレタンを合成する
ことができる。
利用される方法であるポリオシルとポリイソシアネート
との反応を用いることができる。ポリオール成分として
一般には、ポリオールと多塩基酸との反応によって得ら
れるポリエステルポリオールが使用される。従って、上
記の極性基を有するポリエステルポリオールを原料とし
て利用すれば、極性基を有するポリウレタンを合成する
ことができる。
使用可能なポリオールとしては、フタル酸、アシヒン酸
、三量化リルイン酸、マレイ:/ 酸等ノ有il二塩基
酸と、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブ
チレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコー
ル類若しくはトリメチロールプロパン、ヘキサントリオ
ール、グリセリン、トリメチロールエタン、ペンタエリ
スリトール等の多価アルコール類若しくはこれらのグリ
コール類及び多価アルコール類の中から選ばれた任意の
2種以上のポリオールとの反応によって合成されたポリ
エステルポリオール;又は、S−カプロラクタム、α−
メチル−1−カプロラクタム、S −メチル−8−カプ
ロラクタム、T−ブチロラクタム等のラクタム類から合
成されるラクトン系ポリエステルポリオール:又はエチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキ
サイド等から合成されるポリエーテルポリオール等これ
らのポリオールは、トリレンジイソシアネー) (TD
I)、ヘキサメチレンジイソシアネー) (HMDり、
メチレンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタン−4,4′ジイソシアネート
(MDI)、1.5−ナフタレンジイソシアネート(N
DI)、トリジンシイ。
、三量化リルイン酸、マレイ:/ 酸等ノ有il二塩基
酸と、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブ
チレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコー
ル類若しくはトリメチロールプロパン、ヘキサントリオ
ール、グリセリン、トリメチロールエタン、ペンタエリ
スリトール等の多価アルコール類若しくはこれらのグリ
コール類及び多価アルコール類の中から選ばれた任意の
2種以上のポリオールとの反応によって合成されたポリ
エステルポリオール;又は、S−カプロラクタム、α−
メチル−1−カプロラクタム、S −メチル−8−カプ
ロラクタム、T−ブチロラクタム等のラクタム類から合
成されるラクトン系ポリエステルポリオール:又はエチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキ
サイド等から合成されるポリエーテルポリオール等これ
らのポリオールは、トリレンジイソシアネー) (TD
I)、ヘキサメチレンジイソシアネー) (HMDり、
メチレンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタン−4,4′ジイソシアネート
(MDI)、1.5−ナフタレンジイソシアネート(N
DI)、トリジンシイ。
ソシアネート(TODI)、リジンイソシアネートメチ
ルエステル(LDI)等のイソシアネート化合物と反応
せしめ、これによってウレタン化したポリエステルポリ
ウレタン、ポリエーテルポリウレタンや、ホスゲンやジ
フェニルカーボネートでカーボネート化したポリカーボ
ネートポリウレタンが合成される。これらのポリウレタ
ンは通常は主として、ポリイソシアネートとポリオール
との反応で製造され、そして遊離イソシアネート基及び
/又はヒドロキシル基を含有するウレタン樹脂又はウレ
タンプレポリマーの形でも、或いはこれらの反応性末端
基を含有しないもの(例えばウレタンエラストマー〇形
)であってもよい。
ルエステル(LDI)等のイソシアネート化合物と反応
せしめ、これによってウレタン化したポリエステルポリ
ウレタン、ポリエーテルポリウレタンや、ホスゲンやジ
フェニルカーボネートでカーボネート化したポリカーボ
ネートポリウレタンが合成される。これらのポリウレタ
ンは通常は主として、ポリイソシアネートとポリオール
との反応で製造され、そして遊離イソシアネート基及び
/又はヒドロキシル基を含有するウレタン樹脂又はウレ
タンプレポリマーの形でも、或いはこれらの反応性末端
基を含有しないもの(例えばウレタンエラストマー〇形
)であってもよい。
ポリウレタン、ウレタンプレポリマー、ウレタンエラス
トマーの製造方法、硬化架橋方法等については公知であ
るので、その詳細な説明は省略する。
トマーの製造方法、硬化架橋方法等については公知であ
るので、その詳細な説明は省略する。
また、例えば、多官能−OHが導入されたポリウレタン
樹脂を製造し、このポリウレタン樹脂と以下に記載する
極性基及び塩素を含有する化合物とを反応(脱塩酸反応
)させてポリウレタン樹脂に極性基を導入する方法を利
用することができる。
樹脂を製造し、このポリウレタン樹脂と以下に記載する
極性基及び塩素を含有する化合物とを反応(脱塩酸反応
)させてポリウレタン樹脂に極性基を導入する方法を利
用することができる。
Cj! CHz CHz S Os M。
CI C)fg CHg OS Os M。
CICHt COOM
CICHt PO(OM’ )z 、このポリウレ
タン系樹脂の重量平均分子量は一般には1〜15万(好
ましくは2.0〜6万)の範囲内となるように反応条件
を設定するのがよい。
タン系樹脂の重量平均分子量は一般には1〜15万(好
ましくは2.0〜6万)の範囲内となるように反応条件
を設定するのがよい。
また、上記ポリウレタン系樹脂は、極性基を有する繰り
返し単位の共重合体中における含有率が通常0.01〜
5モル%(好ましくは0.1〜2.0モル%)の範囲内
にあるものがよい。
返し単位の共重合体中における含有率が通常0.01〜
5モル%(好ましくは0.1〜2.0モル%)の範囲内
にあるものがよい。
なお、ポリウレタンへの極性基の導入に関しては、特公
昭5B−41565号、特開昭57−92422号、同
57−92423号、同59−8127号、同59−5
423号、同59−5424号、同62−121923
号等の公報に記載があり、本発明においてもこれらを利
用することができる。
昭5B−41565号、特開昭57−92422号、同
57−92423号、同59−8127号、同59−5
423号、同59−5424号、同62−121923
号等の公報に記載があり、本発明においてもこれらを利
用することができる。
上記のポリウレタン系樹脂によって、磁性層の耐摩耗性
が一層良くなり、適度な柔軟性も付与できる。そして、
このポリウレタン系樹脂と併用して塩化ビニル系樹脂を
用いると、磁性粉の分散が良好となり、かつ、磁性層の
機械的強度を向上させることができる。この場合、通常
、塩化ビニル系樹脂とポリウレタン系樹脂とは重量比で
80 : 20〜20:80(好ましくは70 : 3
0〜40 : 60)の範囲内にて使用するのがよい。
が一層良くなり、適度な柔軟性も付与できる。そして、
このポリウレタン系樹脂と併用して塩化ビニル系樹脂を
用いると、磁性粉の分散が良好となり、かつ、磁性層の
機械的強度を向上させることができる。この場合、通常
、塩化ビニル系樹脂とポリウレタン系樹脂とは重量比で
80 : 20〜20:80(好ましくは70 : 3
0〜40 : 60)の範囲内にて使用するのがよい。
使用可能な塩化ビニル系樹脂は、例えば塩化ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体等、OH基を含有する共重合体
に下記のような極性基及び塩素原子を含有する化合物と
の反応により付加して合成することができる。
ニルアルコール共重合体等、OH基を含有する共重合体
に下記のような極性基及び塩素原子を含有する化合物と
の反応により付加して合成することができる。
CjICHt CHt SOs M。
CI CHz CHz OS Os M。
CjICHl PO(OM’ )□、
CjICHt C00M
これらの中からCI CHz CHz S Os N
aを例として示すと、 −(C11*CH) + Cj! (CHz) z
5OsNaH → −(CB、−CI) −+ ICfQ
(CHt)g−SOsNa のようになる。
aを例として示すと、 −(C11*CH) + Cj! (CHz) z
5OsNaH → −(CB、−CI) −+ ICfQ
(CHt)g−SOsNa のようになる。
また、すべて共重合性のモノマーと、して共重合させる
方法がある。即ち、極性基を含む繰り返し単位が導入さ
れる不飽和結合を有する反応性モノマーを所定量オート
クレーブ等の反応容器に住人し、−船釣な重合開始剤、
例えばBPO(ベンゾイルパーオキサイド)、AIBN
(アゾビスイソブチロニトリル)等のラジカル重合開始
剤やレドックス重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチ
オン重合開始剤等の重合開始剤を使用して重合できる0
例えば、スルホン酸若しくはその塩を導入するための反
応性七ツマ−の具体例としては、ビニルスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、P−スチレン
スルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの
塩が挙げられる。
方法がある。即ち、極性基を含む繰り返し単位が導入さ
れる不飽和結合を有する反応性モノマーを所定量オート
クレーブ等の反応容器に住人し、−船釣な重合開始剤、
例えばBPO(ベンゾイルパーオキサイド)、AIBN
(アゾビスイソブチロニトリル)等のラジカル重合開始
剤やレドックス重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチ
オン重合開始剤等の重合開始剤を使用して重合できる0
例えば、スルホン酸若しくはその塩を導入するための反
応性七ツマ−の具体例としては、ビニルスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、P−スチレン
スルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの
塩が挙げられる。
更に、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホ
ン酸、(メタ)アクリル酸スルホエチルエステル、(メ
タ)アクリル酸スルホプロピルエステル等のアクリル酸
又はメタクリル酸のスルホアルキルエステル類及びこれ
らの塩、或いはアクリル酸−2−スルホン酸エチル等を
挙げることができる。
ン酸、(メタ)アクリル酸スルホエチルエステル、(メ
タ)アクリル酸スルホプロピルエステル等のアクリル酸
又はメタクリル酸のスルホアルキルエステル類及びこれ
らの塩、或いはアクリル酸−2−スルホン酸エチル等を
挙げることができる。
カルボン酸若しくはその塩を導入(COOMの導入)す
る時には、(メタ)アクリル酸、マレイン酸等を、リン
酸若しくはその塩を導入する時には、(メタ)アクリル
酸−2−リン酸エステルを用いれば良い。
る時には、(メタ)アクリル酸、マレイン酸等を、リン
酸若しくはその塩を導入する時には、(メタ)アクリル
酸−2−リン酸エステルを用いれば良い。
また、塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導入され
ていることが好ましい、エポキシ基の導入により塩化ビ
ニル系共重合体の熱安定性が向上する。エポキシ基を導
入する場合、エポキシ基を有する繰り返し単位の共重合
体中における含有率は好ましくは1〜30モル%(より
好ましくは1〜20モル%)である、導入するためのモ
ノマーとしてはグリシジルアクリレートが好ましく用い
られ関しては、特開昭57−44227号、同58−1
08052号、同59−8127号、同60−1011
61号、同60−235814号、同60−23830
6号、同60−238371号、同62−121923
号、同62−146432号、同62−146433号
等の公報に記載があり、本発明においてもこれらを利用
することができる。
ていることが好ましい、エポキシ基の導入により塩化ビ
ニル系共重合体の熱安定性が向上する。エポキシ基を導
入する場合、エポキシ基を有する繰り返し単位の共重合
体中における含有率は好ましくは1〜30モル%(より
好ましくは1〜20モル%)である、導入するためのモ
ノマーとしてはグリシジルアクリレートが好ましく用い
られ関しては、特開昭57−44227号、同58−1
08052号、同59−8127号、同60−1011
61号、同60−235814号、同60−23830
6号、同60−238371号、同62−121923
号、同62−146432号、同62−146433号
等の公報に記載があり、本発明においてもこれらを利用
することができる。
本発明においては前記結合剤の他、必要に応じて、従来
用いられている非変性の塩ビ系樹脂、ポリウレタン樹脂
或いはポリエステル樹脂を混用又は単用することもでき
るし、更に繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂或いは特定の
使用方式を有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂、電子線照射硬化型樹脂等を併用しても良い。
用いられている非変性の塩ビ系樹脂、ポリウレタン樹脂
或いはポリエステル樹脂を混用又は単用することもでき
るし、更に繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂或いは特定の
使用方式を有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂、電子線照射硬化型樹脂等を併用しても良い。
上記磁性層には、上記の磁性粉、結合剤の他、潤滑剤(
例えばシリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブ
デン、二硫化タングステン、−塩基性脂肪酸(例えばス
テアリン酸)、脂肪酸エステル等)等を添加してよい、
また、非磁性研磨剤粒子として、アルミナ(α−Af2
03 (コランダム)等)、人造コランダム、溶融ア
ルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、ダイヤモンド、α−
Fetus(ヘマタイト)、人造ダイヤモンド、ザクロ
石、エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)等も少量
併用してよい、上記磁性層には、カーボンブラック等の
帯電防止剤を添加してもよい。
例えばシリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブ
デン、二硫化タングステン、−塩基性脂肪酸(例えばス
テアリン酸)、脂肪酸エステル等)等を添加してよい、
また、非磁性研磨剤粒子として、アルミナ(α−Af2
03 (コランダム)等)、人造コランダム、溶融ア
ルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、ダイヤモンド、α−
Fetus(ヘマタイト)、人造ダイヤモンド、ザクロ
石、エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)等も少量
併用してよい、上記磁性層には、カーボンブラック等の
帯電防止剤を添加してもよい。
磁性塗料に使用可能な溶剤としては、ケトン類(例えば
メチエチルケトン)、エーテルI!(例えばジエチルl
エーテル)、エステル類(例えば酢酸エチル)、芳香族
系溶剤(例えばトルエン)、アルコールM(例えばメタ
ノール)等を挙げることができ、これらは単独、或いは
混合しても使用することができる。
メチエチルケトン)、エーテルI!(例えばジエチルl
エーテル)、エステル類(例えば酢酸エチル)、芳香族
系溶剤(例えばトルエン)、アルコールM(例えばメタ
ノール)等を挙げることができ、これらは単独、或いは
混合しても使用することができる。
本発明の方法で得られるディスク状磁気記録媒体は、例
えば第4図に10で示すように、非磁性支持体210両
面に、必要あれば中間層22を介して磁性層24を設け
たものである。必要あれば更に、オーバーコート層(図
示せず)が磁性層上に設けられていてよい。
えば第4図に10で示すように、非磁性支持体210両
面に、必要あれば中間層22を介して磁性層24を設け
たものである。必要あれば更に、オーバーコート層(図
示せず)が磁性層上に設けられていてよい。
磁性層24の乾燥膜厚は0.5〜4.5μmであるのが
よく、3,0〜4.0μmが更によい。
よく、3,0〜4.0μmが更によい。
磁性層下に中間層22を設けるときは、上記した各種結
合剤の塗布によって下引き層を形成してよい、この中間
層は、接着剤層又は下引き層として、磁性層と支持体と
の接着性の向上、導電性の向上等を目的として設けられ
る。
合剤の塗布によって下引き層を形成してよい、この中間
層は、接着剤層又は下引き層として、磁性層と支持体と
の接着性の向上、導電性の向上等を目的として設けられ
る。
また、支持体21の素材としては、ポリエチレンテレフ
タレート及びポリエチレン−2,6−ナフタレート等の
ポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類
、セルローストリアセテート及びセルロースダイアセテ
ート等のセルロース誘導体、ならびに、ポリカーボネー
ト等のプラスチックを挙げることができる。更にCu、
Af、Zn等の非磁性金属、ガラス、いわゆるニューセ
ラミック等をも使用することができる。
タレート及びポリエチレン−2,6−ナフタレート等の
ポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類
、セルローストリアセテート及びセルロースダイアセテ
ート等のセルロース誘導体、ならびに、ポリカーボネー
ト等のプラスチックを挙げることができる。更にCu、
Af、Zn等の非磁性金属、ガラス、いわゆるニューセ
ラミック等をも使用することができる。
これらの素材を用いて形成される支持体の厚みは通常1
0〜80μmの範囲内にある。
0〜80μmの範囲内にある。
支持体の少なくとも一方の面には、磁性層が設けられて
いるが、通常は、上記のように他の面にも磁性層ををす
る。このように両面に磁性層を設けることにより、磁気
ディスクの変形(カーリング)を有効に防止することが
できる。但し、裏面にバックコート層を設けてカーリン
グを防止することも可能である。
いるが、通常は、上記のように他の面にも磁性層ををす
る。このように両面に磁性層を設けることにより、磁気
ディスクの変形(カーリング)を有効に防止することが
できる。但し、裏面にバックコート層を設けてカーリン
グを防止することも可能である。
なお、本発明は、例えば電子スチルカメラ用のビデオフ
ロッピー、データフロッピー等の磁気ディスクに適用し
てよい。
ロッピー、データフロッピー等の磁気ディスクに適用し
てよい。
ホ、実施例
以下、本発明の詳細な説明する。
以下に示す成分、割合、操作順序等は、本発明の精神か
ら逸脱しない範囲において種々変更しうる。
ら逸脱しない範囲において種々変更しうる。
(実施例1)
以下に示す成分をデイスパーニーダ及びボールミルを用
いて十分に混線、分散し、次いで、塗布直前にポリイソ
シアネート化合物(コロネートし二日本ポリウレタン■
製)5重量部を添加し混合して磁性塗料〔I〕、を調製
した。
いて十分に混線、分散し、次いで、塗布直前にポリイソ
シアネート化合物(コロネートし二日本ポリウレタン■
製)5重量部を添加し混合して磁性塗料〔I〕、を調製
した。
一磁豆llLu」−
鉄一アルミニウム系強磁性合金粉末 100重量部(ア
ルミニウム含有率:4重量%、 比表面積:4フイ/g、 抗磁力(Hc ) : 12500 eポリウレタン樹
脂 6重量部(東洋紡績社製のU
R−8200ニ ーSo、Na基含有) 塩化ビニル系共重合体 10重量部(日
本ゼオン製のMRIIOニ ーSO,に基含有) 酸化アルミナAf!O310重量部 (平均粒子径=0.4μm) カーボンブラック 0.5重量部(
平均粒子径:55nm BET比表面積:32nr/g DBP吸油量: 180d/100 g )オレイン
酸 1重量部イソオクチルパ
ルミテート 1重量部シクロへキサノン
100重量部メチルエチルケトン
100重量部トルエン
100重量部得られた磁性塗料を濾過して
分散不良成分を除去し、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム(厚さ232μm)の両面に、それぞれの乾燥厚
が3.5μmになるようにリバースロールコータ−を用
いて塗布し、加熱下に溶剤を除去した後、カレンダー処
理を行なった。
ルミニウム含有率:4重量%、 比表面積:4フイ/g、 抗磁力(Hc ) : 12500 eポリウレタン樹
脂 6重量部(東洋紡績社製のU
R−8200ニ ーSo、Na基含有) 塩化ビニル系共重合体 10重量部(日
本ゼオン製のMRIIOニ ーSO,に基含有) 酸化アルミナAf!O310重量部 (平均粒子径=0.4μm) カーボンブラック 0.5重量部(
平均粒子径:55nm BET比表面積:32nr/g DBP吸油量: 180d/100 g )オレイン
酸 1重量部イソオクチルパ
ルミテート 1重量部シクロへキサノン
100重量部メチルエチルケトン
100重量部トルエン
100重量部得られた磁性塗料を濾過して
分散不良成分を除去し、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム(厚さ232μm)の両面に、それぞれの乾燥厚
が3.5μmになるようにリバースロールコータ−を用
いて塗布し、加熱下に溶剤を除去した後、カレンダー処
理を行なった。
次いで、磁性層に対して、イソオクチルパルミテートの
1%溶液(溶媒はn−ヘキサノン)をリバースロールコ
ータ−で塗布し、90℃で10秒間乾燥することによっ
て、磁性層に潤滑剤(イソオクチルパルミテート)を含
浸させた。この潤滑剤含浸ユ程後に、直径2インチの円
盤状に打ち抜き、更に65℃で50分間の加熱処理によ
って、磁性層中の上記ポリイソシアネート化合物のため
の加熱硬化(キュア)を行なった。その後、カセットに
収容して電子スチルビデオフロッピーを製造した。
1%溶液(溶媒はn−ヘキサノン)をリバースロールコ
ータ−で塗布し、90℃で10秒間乾燥することによっ
て、磁性層に潤滑剤(イソオクチルパルミテート)を含
浸させた。この潤滑剤含浸ユ程後に、直径2インチの円
盤状に打ち抜き、更に65℃で50分間の加熱処理によ
って、磁性層中の上記ポリイソシアネート化合物のため
の加熱硬化(キュア)を行なった。その後、カセットに
収容して電子スチルビデオフロッピーを製造した。
(実施例2)
実施例1において、カレンダー処理を行った後、同様に
して潤滑剤含浸工程を行ない、次いでポリイソシアネー
ト化合物のための加熱硬化(キュア)を行なった0次い
で、直径2インチの円盤状に打ち抜き、電子スチルビデ
オフロッピーを製造した。
して潤滑剤含浸工程を行ない、次いでポリイソシアネー
ト化合物のための加熱硬化(キュア)を行なった0次い
で、直径2インチの円盤状に打ち抜き、電子スチルビデ
オフロッピーを製造した。
(実施例3)
実施例1において、カレンダー処理を行った後、同様に
して直径2インチの円盤状に打ち抜き、その後に潤滑剤
含浸工程を行なった0次いでポリイソシアネート化合物
のための加熱硬化(キュア)を行ない、電子スチルビデ
オフロッピーを製造した。
して直径2インチの円盤状に打ち抜き、その後に潤滑剤
含浸工程を行なった0次いでポリイソシアネート化合物
のための加熱硬化(キュア)を行ない、電子スチルビデ
オフロッピーを製造した。
(比較例1)
実施例1において、カレンダー処理を行った後、同様に
してポリイソシアネート化合物のための加熱硬化(キュ
ア)を行ない、その後に直径2インチの円盤状に打ち抜
き、次いで潤滑剤含浸工程を行い、電子スチルビデオフ
ロッピーを製造した。
してポリイソシアネート化合物のための加熱硬化(キュ
ア)を行ない、その後に直径2インチの円盤状に打ち抜
き、次いで潤滑剤含浸工程を行い、電子スチルビデオフ
ロッピーを製造した。
(比較例2)
実施例1において、カレンダー処理を行った後、同様に
してポリイソシアネート化合物のための加熱硬化(キュ
ア)を行ない、その後に潤滑剤含浸工程をした後、直径
2インチの円盤状に打ち抜き、電子スチルビデオフロッ
ピーを製造した。
してポリイソシアネート化合物のための加熱硬化(キュ
ア)を行ない、その後に潤滑剤含浸工程をした後、直径
2インチの円盤状に打ち抜き、電子スチルビデオフロッ
ピーを製造した。
(比較例3)
実施例1において、カレンダー処理を行った後、同様に
して直径2インチの円盤状に打ち抜き、その後にポリイ
ソシアネート化合物のための加熱硬化(キュア)を行な
い、次いで潤滑剤含浸工程を行ない、電子スチルビデオ
フロッピーを製造した。
して直径2インチの円盤状に打ち抜き、その後にポリイ
ソシアネート化合物のための加熱硬化(キュア)を行な
い、次いで潤滑剤含浸工程を行ない、電子スチルビデオ
フロッピーを製造した。
上記の各ビデオフロッピーについて、以下の性能評価を
行い、結果を下記表に示した。
行い、結果を下記表に示した。
ノー シーク
市販の電子スチルビデオフロッピーレコーダー(AG8
00、投下電器産業■製)を用いて、予め画像信号を5
0トラツクすべてに記録した電子スチルビデオフロッピ
ーのスチルモードで各トラック4秒の再生を1〜50ト
ラツクまで連続して繰り返し、再生出力が初期値から3
dB低下する迄、若しくは再生画像にドロップアウト等
の画質低下が起こる迄の時間を測定した。結果を下記表
に示す。
00、投下電器産業■製)を用いて、予め画像信号を5
0トラツクすべてに記録した電子スチルビデオフロッピ
ーのスチルモードで各トラック4秒の再生を1〜50ト
ラツクまで連続して繰り返し、再生出力が初期値から3
dB低下する迄、若しくは再生画像にドロップアウト等
の画質低下が起こる迄の時間を測定した。結果を下記表
に示す。
なお、同表において、300時間以上とは、300時間
の再生によっても再生出力の低下が3dBに至らず、か
つ画質低下が起こらなかったことを意味する。
の再生によっても再生出力の低下が3dBに至らず、か
つ画質低下が起こらなかったことを意味する。
五」〕比ガ
ソニー■製のM V P−5500を用いて7MHzの
正弦波信号を記録し、再生RF出力を測定した。測定し
た再生RF出力を、ゴールドリファレンスの値に対する
相対値として下記表に記した。RF出力の値が大きい程
、良好な電子スチルビデオフロッピーであることを示す
。
正弦波信号を記録し、再生RF出力を測定した。測定し
た再生RF出力を、ゴールドリファレンスの値に対する
相対値として下記表に記した。RF出力の値が大きい程
、良好な電子スチルビデオフロッピーであることを示す
。
この結果から、本発明に基いてディスク状媒体を構成す
ることによって、耐久性が良好であり、高い電磁変換特
性の磁気ディスクを提供することができる。
ることによって、耐久性が良好であり、高い電磁変換特
性の磁気ディスクを提供することができる。
へ1発明の作用効果
本発明は上述したように、潤滑剤含浸工程、ディスク形
状への打ち抜き工程及び磁性層に対するキュア工程を行
うに際し、キュア工程の前に潤滑剤含浸工程を行ってい
るので、磁性層中の結合剤が未硬化(未キユア)状態に
あって架橋構造を未だ形成していないために潤滑剤は磁
性層中に十分な量て侵入することができ、そして次のキ
ュアによる架橋構造内に適度に保持されることになる。
状への打ち抜き工程及び磁性層に対するキュア工程を行
うに際し、キュア工程の前に潤滑剤含浸工程を行ってい
るので、磁性層中の結合剤が未硬化(未キユア)状態に
あって架橋構造を未だ形成していないために潤滑剤は磁
性層中に十分な量て侵入することができ、そして次のキ
ュアによる架橋構造内に適度に保持されることになる。
従って、媒体の使用中での磁性層の摩擦係数を常に小さ
←維持でき、摺擦に十二分に耐える耐久性を実現でき、
かつ電磁変換特性も良好に維持することができる。
←維持でき、摺擦に十二分に耐える耐久性を実現でき、
かつ電磁変換特性も良好に維持することができる。
図面は本発明を説明するためのものであって、第1図、
第2図、第3図はディスク状媒体の製造工程の主要なフ
ローを示す各チャート、第4図は本発明によるディスク
状媒体の一例の断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 21・・・・・・・・・非磁性支持体 22・・・・・・・・・中間層 24・・・・・・・・・磁性層 である。 代理人 弁理士 逢坂 宏 (自発) 手続補正書 平成2年7月20日 平成2年 特許願第150398号 2、発明の名称 ディスク状磁気記録媒体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名 称
(127)コニカ株式会社 4、代理人 住 所 東京都立川市柴崎町2−4−11FINEビル
e 0425−24−54114156゜ 7゜ 補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 補正の内容
第2図、第3図はディスク状媒体の製造工程の主要なフ
ローを示す各チャート、第4図は本発明によるディスク
状媒体の一例の断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 21・・・・・・・・・非磁性支持体 22・・・・・・・・・中間層 24・・・・・・・・・磁性層 である。 代理人 弁理士 逢坂 宏 (自発) 手続補正書 平成2年7月20日 平成2年 特許願第150398号 2、発明の名称 ディスク状磁気記録媒体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名 称
(127)コニカ株式会社 4、代理人 住 所 東京都立川市柴崎町2−4−11FINEビル
e 0425−24−54114156゜ 7゜ 補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 補正の内容
Claims (1)
- 1、磁性層に対する潤滑剤含浸工程と、ディスク形状へ
の打ち抜き工程と、前記磁性層に対するキュア工程とを
有し、前記キュア工程の前に前記潤滑剤含浸工程を行う
ディスク状磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15039890A JPH0442434A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | ディスク状磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15039890A JPH0442434A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | ディスク状磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0442434A true JPH0442434A (ja) | 1992-02-13 |
Family
ID=15496108
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15039890A Pending JPH0442434A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | ディスク状磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0442434A (ja) |
-
1990
- 1990-06-08 JP JP15039890A patent/JPH0442434A/ja active Pending
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