JPH04146524A - ディスク状磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
口、従来技術
従来、スチルビデオ用、コンピューター用等のディスク
状の磁気記録媒体として、強磁性合金粉末を結合剤中に
分散させた磁性層を非磁性支持体上に塗設した磁気記録
媒体が用いられている。
状の磁気記録媒体として、強磁性合金粉末を結合剤中に
分散させた磁性層を非磁性支持体上に塗設した磁気記録
媒体が用いられている。
こうしたディスク状磁気記録媒体、例えば電子スチルビ
デオフロッピーは通常、次のようにして作製される。即
ち磁性粉(強磁性金属粉末)を含有した磁性塗料を調製
した後、この磁性塗料を濾過して分散不良成分を除去し
、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ232μ
m)の両面に、それぞれの乾燥厚が3.5μmになるよ
うにリバースロールコータ−を用いて塗布し、加熱下に
溶剤を除去した後、カレンダー処理を行う。次いで、磁
性層中のポリイソシアネート化合物のための加熱硬化(
キュア)を行い、その後に磁性層に対して潤滑剤含浸工
程を行った後、直径2インチの円盤状に打ち抜き、電子
スチルビデオフロッピーを製造する。上記の打ち抜き工
程の前(潤滑剤含浸工程の後)にはバーニッシュ(表面
研磨)工程を行う。
デオフロッピーは通常、次のようにして作製される。即
ち磁性粉(強磁性金属粉末)を含有した磁性塗料を調製
した後、この磁性塗料を濾過して分散不良成分を除去し
、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ232μ
m)の両面に、それぞれの乾燥厚が3.5μmになるよ
うにリバースロールコータ−を用いて塗布し、加熱下に
溶剤を除去した後、カレンダー処理を行う。次いで、磁
性層中のポリイソシアネート化合物のための加熱硬化(
キュア)を行い、その後に磁性層に対して潤滑剤含浸工
程を行った後、直径2インチの円盤状に打ち抜き、電子
スチルビデオフロッピーを製造する。上記の打ち抜き工
程の前(潤滑剤含浸工程の後)にはバーニッシュ(表面
研磨)工程を行う。
ところが、本発明者が上記の如き製造方法について検調
を加えた結果、次の如き問題かあることを見出!また9 従来の方法では、上記の磁性塗料の調製段階乙こおいて
結合剤と17て添加するポリウレタン系樹脂は弱塩基性
であって、強塩基性の金属磁性粉と吸着!−雛く、従っ
て金属磁性粉の分散性が悪くなり易い。他方、塩化ビ、
ニル系樹脂ば強酸性であって、金属磁性粉とは酸−塩基
相互作用によってなじみがよく、分散性が向Fする。従
来の方法において、ボリカ1/タンと塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合樹脂を同時に混練する場合は、希釈、分散
後の塗料の粘度が高く、磁性層の光沢性、電磁変換特性
、走行耐久性が劣化し、てしまう。これは、ポリウレタ
ン、と塩化ビニル系樹脂とが競争吸着する際、金属磁性
粉乙こ対1−て塩化ビニル系樹脂の方が吸@L7易く、
このためにポリウレタンの分散か悪(なるためであると
考えられる。
を加えた結果、次の如き問題かあることを見出!また9 従来の方法では、上記の磁性塗料の調製段階乙こおいて
結合剤と17て添加するポリウレタン系樹脂は弱塩基性
であって、強塩基性の金属磁性粉と吸着!−雛く、従っ
て金属磁性粉の分散性が悪くなり易い。他方、塩化ビ、
ニル系樹脂ば強酸性であって、金属磁性粉とは酸−塩基
相互作用によってなじみがよく、分散性が向Fする。従
来の方法において、ボリカ1/タンと塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合樹脂を同時に混練する場合は、希釈、分散
後の塗料の粘度が高く、磁性層の光沢性、電磁変換特性
、走行耐久性が劣化し、てしまう。これは、ポリウレタ
ン、と塩化ビニル系樹脂とが競争吸着する際、金属磁性
粉乙こ対1−て塩化ビニル系樹脂の方が吸@L7易く、
このためにポリウレタンの分散か悪(なるためであると
考えられる。
このように、磁性塗料の調製段階における結合剤の添加
条件によって、性能が大きく変化するので、適切な条件
を見出す必要がある6特に、電子スチル1どデオフロン
ピー等の磁気ディスクの場合、繰り返j−再生の頻度等
が激しいために非常に苛酷な条件で使用され、耐摩耗性
、耐久性を高めることが極めて重要となる。
条件によって、性能が大きく変化するので、適切な条件
を見出す必要がある6特に、電子スチル1どデオフロン
ピー等の磁気ディスクの場合、繰り返j−再生の頻度等
が激しいために非常に苛酷な条件で使用され、耐摩耗性
、耐久性を高めることが極めて重要となる。
ハ0発明の目的
本発明の目的は、耐久性乙こ優れ、高い電磁変換特性の
磁気記録媒体の製造方法を掃供すること(、こある。
磁気記録媒体の製造方法を掃供すること(、こある。
二1発明の構成及びその作用効果
即ち、本発明は、磁性粉と結合剤とを含有する磁性塗料
の塗布によって形成された磁性層を有する磁気記録媒体
の製造方法において、 (a)7 金属磁性粉とウレタン系樹脂と分散助剤とを
混練する第1混練工程と、 [有])、この第1混練工程で得られた混練物を塩化ビ
ニル系樹脂と混練する第2混練工程とを有することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法に係るものである。
の塗布によって形成された磁性層を有する磁気記録媒体
の製造方法において、 (a)7 金属磁性粉とウレタン系樹脂と分散助剤とを
混練する第1混練工程と、 [有])、この第1混練工程で得られた混練物を塩化ビ
ニル系樹脂と混練する第2混練工程とを有することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法に係るものである。
本発明によるディスク状磁気記録媒体の製造方法は、基
本約6こは、第1図乙こ示ずように第1混練工程におい
て金属磁性粉とウレタン系樹脂と分散助剤とを混練して
いるため、金属磁性粉に対して、本来吸着し難いウレタ
ン系樹脂を十二分に分散させることができる。即ち、ま
ず、ウレタン系樹脂を分散助剤と共に金属磁性粉と混練
しているので、この第1段階では塩化ビニル系樹脂が存
在せず、しかも分散助剤が作用するためにポリウレタン
系樹脂の分散(吸着)が十分に進行し、電磁変換特性、
金属磁性粉の充填密度が向上する。そして、本発明では
次に第2段階において、分散性のよい塩化ビニル系樹脂
を混練しているので、全体として結合剤の分散性(金属
磁性粉の吸着性)が」−分となる。更に、本発明の方法
は、各結合剤の添加をニーグー等による混練で行ってい
るので、ボールミル等による通常の分散とは違って分散
性が著しく向上している。
本約6こは、第1図乙こ示ずように第1混練工程におい
て金属磁性粉とウレタン系樹脂と分散助剤とを混練して
いるため、金属磁性粉に対して、本来吸着し難いウレタ
ン系樹脂を十二分に分散させることができる。即ち、ま
ず、ウレタン系樹脂を分散助剤と共に金属磁性粉と混練
しているので、この第1段階では塩化ビニル系樹脂が存
在せず、しかも分散助剤が作用するためにポリウレタン
系樹脂の分散(吸着)が十分に進行し、電磁変換特性、
金属磁性粉の充填密度が向上する。そして、本発明では
次に第2段階において、分散性のよい塩化ビニル系樹脂
を混練しているので、全体として結合剤の分散性(金属
磁性粉の吸着性)が」−分となる。更に、本発明の方法
は、各結合剤の添加をニーグー等による混練で行ってい
るので、ボールミル等による通常の分散とは違って分散
性が著しく向上している。
このように、本発明による方法は、結合剤である塩化ヒ
ニル系樹脂及びボリウ1/タン系樹脂は共に分散が良く
なり、金属磁性粉への吸着状態が良好となるため、金属
磁性粉の充填密度が向」二し、Bm等の電磁変換特性か
大きく向上する。また、ポリウレタン系樹脂の分散が良
いため、磁性層の耐摩耗性は、耐久性が十分となり、か
つ、塩化ビニル系樹脂の分散も良いことから磁性層の機
械的強度が向上する。
ニル系樹脂及びボリウ1/タン系樹脂は共に分散が良く
なり、金属磁性粉への吸着状態が良好となるため、金属
磁性粉の充填密度が向」二し、Bm等の電磁変換特性か
大きく向上する。また、ポリウレタン系樹脂の分散が良
いため、磁性層の耐摩耗性は、耐久性が十分となり、か
つ、塩化ビニル系樹脂の分散も良いことから磁性層の機
械的強度が向上する。
本発明による方法では、第1混練段階で強磁性粉末10
0重量部、つI/タン系樹脂3〜15重量部及び溶剤1
0〜60重量部の比率で混練し、第2混練段階又は第3
混練段階で塩化ビニル系樹脂3〜15重量部を添加して
更に混練を行うのが良い。この場合、各混練段階とも、
0.05〜0.5kw(磁性粉1kg当たり)の消費電
力の負荷を5〜120分間混練装置に与えて混練を行う
ことが望ましい。そして、混練時の雰囲気は酸素濃度が
5%以下とすることが、金属磁性粉の酸化防止(ひいて
は電磁変換特性、分散性の向上)にとって望ましい。
0重量部、つI/タン系樹脂3〜15重量部及び溶剤1
0〜60重量部の比率で混練し、第2混練段階又は第3
混練段階で塩化ビニル系樹脂3〜15重量部を添加して
更に混練を行うのが良い。この場合、各混練段階とも、
0.05〜0.5kw(磁性粉1kg当たり)の消費電
力の負荷を5〜120分間混練装置に与えて混練を行う
ことが望ましい。そして、混練時の雰囲気は酸素濃度が
5%以下とすることが、金属磁性粉の酸化防止(ひいて
は電磁変換特性、分散性の向上)にとって望ましい。
本発明において、磁性層の磁性粉としてFeAl系等の
金属磁性粉(強磁性合金粉末)を用いるのがよいが、こ
うした強磁性金属粉末には、Fe、Ni、Coをはじめ
、Fe−A7!系、Fe−Al−Ni系、Fe−Aff
i−Co系、Fe−Ni−3i系、Fe−Af!−Zn
系、Fe−Ni−Co系、Fe−Mn−Zn系、Fe−
Ni系、F e −N 1−Al系、Fe−Ni−Zn
系、FeNi−Mn系、Fe−Co−N1−P系、C。
金属磁性粉(強磁性合金粉末)を用いるのがよいが、こ
うした強磁性金属粉末には、Fe、Ni、Coをはじめ
、Fe−A7!系、Fe−Al−Ni系、Fe−Aff
i−Co系、Fe−Ni−3i系、Fe−Af!−Zn
系、Fe−Ni−Co系、Fe−Mn−Zn系、Fe−
Ni系、F e −N 1−Al系、Fe−Ni−Zn
系、FeNi−Mn系、Fe−Co−N1−P系、C。
Ni系、Fe、Ni、Co等、を主成分とするメタル磁
性粉等の強磁性粉が挙げられる。なかでも、耐蝕性及び
分散性の点で特にFe−Al、Fe−A1−Ni、Fe
−Af−Zn、Fe−Aj!−Co、Fe−Ni、Fe
−Ni −Al、F e −N 1−Zn、 F e−
N i −Aj!−3i −Zn、 F e−N i
−Aj2−3 i−Mn系のメタル磁性粉が好ましい。
性粉等の強磁性粉が挙げられる。なかでも、耐蝕性及び
分散性の点で特にFe−Al、Fe−A1−Ni、Fe
−Af−Zn、Fe−Aj!−Co、Fe−Ni、Fe
−Ni −Al、F e −N 1−Zn、 F e−
N i −Aj!−3i −Zn、 F e−N i
−Aj2−3 i−Mn系のメタル磁性粉が好ましい。
こうしたメタル磁性粉は飽和磁化、保持力が大きく、高
密度記録に優れている。また、比表面積が40rd/g
以上、特に45rrf/g以上の比表面積(BET値)
の上記の強磁性合金粉末を用いることにより、非常に電
磁変換特性が向上する。また、強磁性金属粉末の保磁力
(抗磁力)は、通常、10000 e以上(好ましくは
12000e以上)である。
密度記録に優れている。また、比表面積が40rd/g
以上、特に45rrf/g以上の比表面積(BET値)
の上記の強磁性合金粉末を用いることにより、非常に電
磁変換特性が向上する。また、強磁性金属粉末の保磁力
(抗磁力)は、通常、10000 e以上(好ましくは
12000e以上)である。
また、本発明で使用することができる磁性粉の形状に特
に制限はなく、例えば、針状、球状等のものを使用する
ことができる。
に制限はなく、例えば、針状、球状等のものを使用する
ことができる。
上記の磁性粉は、メタル磁性粉であるから、分散を十分
に行い難いものであるが、これは磁性層に下記のポリウ
レタン系樹脂を結合剤として用いることによって十分に
防止でき、分散性を高めることができる。
に行い難いものであるが、これは磁性層に下記のポリウ
レタン系樹脂を結合剤として用いることによって十分に
防止でき、分散性を高めることができる。
即ち、使用するポリウレタン系樹脂は
一5ox M、 O3OzM、−PO(OM’ ) 2
、−0PO(OM’ )z (但し、Mは水素又はリ
チウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属、M′
は水素、リチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ
金属、又はアルキル基)からなる陰性官能基(親水性極
性基)を1種又は2種以上含有しているのが良い。こう
した分子内の極性基によって、樹脂と磁性粉とのなじみ
が向上し、これによって磁性粉の分散性を良くし、かつ
磁性粉の凝集も防止して塗液安定性を一層向上させるこ
とができ、ひいては媒体の耐久性をも向上させ得る。
、−0PO(OM’ )z (但し、Mは水素又はリ
チウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属、M′
は水素、リチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ
金属、又はアルキル基)からなる陰性官能基(親水性極
性基)を1種又は2種以上含有しているのが良い。こう
した分子内の極性基によって、樹脂と磁性粉とのなじみ
が向上し、これによって磁性粉の分散性を良くし、かつ
磁性粉の凝集も防止して塗液安定性を一層向上させるこ
とができ、ひいては媒体の耐久性をも向上させ得る。
こうしたポリウレタン系樹脂の合成に関しては、一般に
利用される方法であるポリオールとポリイソシアネート
との反応を用いることができる。ポリオール成分として
一般には、ポリオールと多塩基酸との反応によって得ら
れるポリエステルポリオールが使用される。従って、上
記の極性基を有するポリエステルポリオールを原料とし
て利用すれば、極性基を有するポリウレタンを合成する
ことができる。
利用される方法であるポリオールとポリイソシアネート
との反応を用いることができる。ポリオール成分として
一般には、ポリオールと多塩基酸との反応によって得ら
れるポリエステルポリオールが使用される。従って、上
記の極性基を有するポリエステルポリオールを原料とし
て利用すれば、極性基を有するポリウレタンを合成する
ことができる。
使用可能なポリオールとしては、フタル酸、アジピン酸
、三量化リルイン酸、マレイン酸等の有機二塩基酸と、
エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレン
グリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類若
しくはトリメチロールプロパン、ヘキサントリオール、
グリセリン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリト
ール等の多価アルコール類若しくはこれらのグリコール
類及び多価アルコール類の中から選ばれた任意の2種以
上のポリオールとの反応によって合成されたポリエステ
ルポリオール;又は、S−カプロラクタム、α−メチル
−1−カプロラクタム、Sメチル−8−カプロラクタム
、T−ブチロラクタム等のラクタム類から合成されるラ
クトン系ポリエステルポリオール;又はエチレンオキサ
イド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等か
ら合成されるポリエーテルポリオール等これらのポリオ
ールは、トリレンジイソシアネート(TDI)、ヘキサ
メチレンジイソシアネート()(MDI)、メチレンジ
イソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ジ
フェニルメタン−44′ジイソシアネート(MDI)、
1.5−ナフタレンジイソシアネート(NDI)、トリ
ジンジイソシアネート(TODI)、リジンイソシアネ
ートメチルエステル(LDI)等のイソシアネート化合
物と反応せしめ、これによってウレタン化したポリエス
テルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタンや、ホス
ゲンやジフェニルカーボネートでカーボネート化したポ
リカーボネートポリウレタンが合成される。これらのポ
リウレタンは通常は主として、ポリイソシアネートとポ
リオールとの反応で製造され、そして遊離イソシアネ−
1・基及び/又はヒドロキシル基を含有するウレタン樹
脂又はつI/タンブレポリマーの形でも、或いはこれら
の反応性末端基を含有しないもの(例えばウレタン樹脂
ス(・マーの形)であってもよい。
、三量化リルイン酸、マレイン酸等の有機二塩基酸と、
エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレン
グリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類若
しくはトリメチロールプロパン、ヘキサントリオール、
グリセリン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリト
ール等の多価アルコール類若しくはこれらのグリコール
類及び多価アルコール類の中から選ばれた任意の2種以
上のポリオールとの反応によって合成されたポリエステ
ルポリオール;又は、S−カプロラクタム、α−メチル
−1−カプロラクタム、Sメチル−8−カプロラクタム
、T−ブチロラクタム等のラクタム類から合成されるラ
クトン系ポリエステルポリオール;又はエチレンオキサ
イド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等か
ら合成されるポリエーテルポリオール等これらのポリオ
ールは、トリレンジイソシアネート(TDI)、ヘキサ
メチレンジイソシアネート()(MDI)、メチレンジ
イソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ジ
フェニルメタン−44′ジイソシアネート(MDI)、
1.5−ナフタレンジイソシアネート(NDI)、トリ
ジンジイソシアネート(TODI)、リジンイソシアネ
ートメチルエステル(LDI)等のイソシアネート化合
物と反応せしめ、これによってウレタン化したポリエス
テルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタンや、ホス
ゲンやジフェニルカーボネートでカーボネート化したポ
リカーボネートポリウレタンが合成される。これらのポ
リウレタンは通常は主として、ポリイソシアネートとポ
リオールとの反応で製造され、そして遊離イソシアネ−
1・基及び/又はヒドロキシル基を含有するウレタン樹
脂又はつI/タンブレポリマーの形でも、或いはこれら
の反応性末端基を含有しないもの(例えばウレタン樹脂
ス(・マーの形)であってもよい。
ポリウレタン、ウレタンプレポリマー、ウレタンプレポ
リマーの製造方法、硬化架橋方法等については公知であ
るので、その詳細な説明は省略する。
リマーの製造方法、硬化架橋方法等については公知であ
るので、その詳細な説明は省略する。
また、例えば、多官能−OHが導入されたポリウレタン
樹脂を製造し、このポリウレタン樹脂と以下に記載する
極性基及び塩素を含有する化合物とを反応(脱塩酸反応
)さ(士でポリウレタン樹脂に極性基を導入する方法を
利用することができる。
樹脂を製造し、このポリウレタン樹脂と以下に記載する
極性基及び塩素を含有する化合物とを反応(脱塩酸反応
)さ(士でポリウレタン樹脂に極性基を導入する方法を
利用することができる。
CffCHz CHz so、M。
C1CHz CHz OS O:I M。
CICH,C00M。
CI CHz P O(OM’ ) t、このポリウレ
タン系樹脂の重量平均分子量は一般には1〜15万(好
ましくは2.0〜6万)の範囲内となるように反応条件
を設定するのがよい。
タン系樹脂の重量平均分子量は一般には1〜15万(好
ましくは2.0〜6万)の範囲内となるように反応条件
を設定するのがよい。
また、上記ポリウレタン系樹脂は、極性基を有する繰り
返し単位の共重合体中における含有率が通常0.01〜
5モル%(好ましくは0.1−2.0モル%)の範囲内
にあるものがよい。
返し単位の共重合体中における含有率が通常0.01〜
5モル%(好ましくは0.1−2.0モル%)の範囲内
にあるものがよい。
なお、ポリウレタンへの極性基の導入に間しては、特公
昭58 41565号、特開昭57−92422号、同
57−92423号、同59−8127号、同59−5
423号、同59−5424号、同62−121923
号等の公報に記載があり、本発明においてもこれらを利
用することができる。
昭58 41565号、特開昭57−92422号、同
57−92423号、同59−8127号、同59−5
423号、同59−5424号、同62−121923
号等の公報に記載があり、本発明においてもこれらを利
用することができる。
上記のポリウレタン系樹脂によって、磁性層の耐摩耗性
が一層良くなり、適度な柔軟性も付与できる。そして、
このポリウレタン系樹脂と併用して塩化ビニル系樹脂を
用いることによって、磁性粉の分散が良好となり、かつ
、磁性層の機械的強度を向上させることができる。この
場合、通常、塩化ビニル系樹脂とポリウレタン系樹脂と
は重量比で80 : 20〜20 : 80 (好まし
くは70 : 30へ−40: 60)の範囲内にて使
用するのが良い。
が一層良くなり、適度な柔軟性も付与できる。そして、
このポリウレタン系樹脂と併用して塩化ビニル系樹脂を
用いることによって、磁性粉の分散が良好となり、かつ
、磁性層の機械的強度を向上させることができる。この
場合、通常、塩化ビニル系樹脂とポリウレタン系樹脂と
は重量比で80 : 20〜20 : 80 (好まし
くは70 : 30へ−40: 60)の範囲内にて使
用するのが良い。
使用可能な塩化ビニル系樹脂は、例えば塩化ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体等、OH5を含有する共重合体
に下記のような極性基及び塩素原子を含有する化合物と
の反応により付加して合成することができる。
ニルアルコール共重合体等、OH5を含有する共重合体
に下記のような極性基及び塩素原子を含有する化合物と
の反応により付加して合成することができる。
CI CH2CH2S 03 M、
CICHl CH203O3M。
CfCHz PO(OM’ )z、
(IcH2C00M。
これらの中からCffCHz CH,SOx Naを例
として示すと、 (CHzCH) + C1(CHz) z 5OJ
aH → −(CH2−CH) −+ HCf【 0 (CHz)z 5O=Na のようになる。
として示すと、 (CHzCH) + C1(CHz) z 5OJ
aH → −(CH2−CH) −+ HCf【 0 (CHz)z 5O=Na のようになる。
また、すべて共重合性の七ツマ−として共重合させる方
法がある。即ち、極性基を含む操り返し単位が導入され
る不飽和結合を有する反応性上ツマ−を所定量オートク
レーブ等の反応容器に注入し、−C的な重合開始剤、例
えばBPO(ヘンソイルパーオキサイド)、AIBN
(アゾビスイソブチロニトリル)等のラジカル重合開始
剤やI/ドックス重合開始剤、アニオン重合開始剤、カ
チオン重合開始剤等の重合開始剤を使用して重合できる
。例えば、スルホン酸若しくはその塩を導入するための
反応性上ツマ−の具体例としては、ビニルスルホン酸、
アリルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、p−スチレ
ンスルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれら
の塩が挙げられる。
法がある。即ち、極性基を含む操り返し単位が導入され
る不飽和結合を有する反応性上ツマ−を所定量オートク
レーブ等の反応容器に注入し、−C的な重合開始剤、例
えばBPO(ヘンソイルパーオキサイド)、AIBN
(アゾビスイソブチロニトリル)等のラジカル重合開始
剤やI/ドックス重合開始剤、アニオン重合開始剤、カ
チオン重合開始剤等の重合開始剤を使用して重合できる
。例えば、スルホン酸若しくはその塩を導入するための
反応性上ツマ−の具体例としては、ビニルスルホン酸、
アリルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、p−スチレ
ンスルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれら
の塩が挙げられる。
更に、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホ
ン酸、(メタ)アクリル酸スルホエチルエステル、(メ
タ)アクリル酸スルホプロピルエステル等のアクリル酸
又はメタクリル酸のスルホアルキルエステル類及びこれ
らの塩、或いはアクリル酸−2−スルホン酸エチル等を
挙げることができる。
ン酸、(メタ)アクリル酸スルホエチルエステル、(メ
タ)アクリル酸スルホプロピルエステル等のアクリル酸
又はメタクリル酸のスルホアルキルエステル類及びこれ
らの塩、或いはアクリル酸−2−スルホン酸エチル等を
挙げることができる。
カルボン酸若しくはその塩を導入(COOMの導入)す
る時には、(メタ)アクリル酸、マレイン酸等を、リン
酸若しくはその塩を導入する時には、(メタ)アクリル
酸−2−リン酸エステルを用いれば良い。
る時には、(メタ)アクリル酸、マレイン酸等を、リン
酸若しくはその塩を導入する時には、(メタ)アクリル
酸−2−リン酸エステルを用いれば良い。
また、塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導入され
ていることが好ましい。エポキシ基の導入により塩化ビ
ニル系共重合体の熱安定性が向上する。エポキシ基を導
入する場合、エポキシ基を有する繰り返し単位の共重合
体中における含有率は好ましくは1〜30モル%(より
好ましくは1〜20モル%)である。導入するためのモ
ノマーとしてはグリシジルアクリレートが好ましく用い
られる。
ていることが好ましい。エポキシ基の導入により塩化ビ
ニル系共重合体の熱安定性が向上する。エポキシ基を導
入する場合、エポキシ基を有する繰り返し単位の共重合
体中における含有率は好ましくは1〜30モル%(より
好ましくは1〜20モル%)である。導入するためのモ
ノマーとしてはグリシジルアクリレートが好ましく用い
られる。
なお、塩化ビニル系共重合体への極性基の導入に関して
は、特開昭57−44227号、同5B−108052
号、同59−8127号、同60−101161号、同
60−235814号、同60−238306号、同6
0−238371号、同62−121923号、同62
−146432号、同62−146433号等の公報に
記載があり、本発明においてもこれらを利用することが
できる。
は、特開昭57−44227号、同5B−108052
号、同59−8127号、同60−101161号、同
60−235814号、同60−238306号、同6
0−238371号、同62−121923号、同62
−146432号、同62−146433号等の公報に
記載があり、本発明においてもこれらを利用することが
できる。
また、本発明において使用可能な分散助剤としては、燐
酸エステル、アミン化合物、アルキルサルフェート、脂
肪酸アミド、高級アルコール、ポリエチレンオキサイド
、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル、公知の界面活
性剤等及びこれらの塩があり、また、陰性を機基(例え
ば−COOH)を有する重合体分散剤の塩を使用するこ
ともできる。これら分散助剤は1種類のみで用いても、
或いは2種類以上を併用してもよい。
酸エステル、アミン化合物、アルキルサルフェート、脂
肪酸アミド、高級アルコール、ポリエチレンオキサイド
、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル、公知の界面活
性剤等及びこれらの塩があり、また、陰性を機基(例え
ば−COOH)を有する重合体分散剤の塩を使用するこ
ともできる。これら分散助剤は1種類のみで用いても、
或いは2種類以上を併用してもよい。
本発明においては前記結合剤の他、必要に応じて、従来
用いられている非変性の塩ビ系樹脂、ポリウレタン樹脂
或いはポリエステル樹脂を混用又は単用することもでき
るし、更に繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂或いは特定の
使用方式を有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂、電子線照射硬化型樹脂等を併用しても良い。
用いられている非変性の塩ビ系樹脂、ポリウレタン樹脂
或いはポリエステル樹脂を混用又は単用することもでき
るし、更に繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂或いは特定の
使用方式を有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂、電子線照射硬化型樹脂等を併用しても良い。
上記磁性層には、上記の磁性粉、結合剤の他、潤滑剤(
例えばシリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブ
デン、二硫化タングステン、−塩基性脂肪酸(例えばス
テアリン酸)、脂肪酸エステル等)等を添加してよい。
例えばシリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブ
デン、二硫化タングステン、−塩基性脂肪酸(例えばス
テアリン酸)、脂肪酸エステル等)等を添加してよい。
また、非磁性研磨剤粒子として、アルミナ(α−A12
03 (コランダム)等)、人造コランダム、溶融ア
ルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、ダイヤモンド、α−
Fe、O。
03 (コランダム)等)、人造コランダム、溶融ア
ルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、ダイヤモンド、α−
Fe、O。
(ヘマタイト)、人造ダイヤモンド、ザクロ石、エメリ
ー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)等も少量併用してよ
い。上記磁性層には、カーボンブラック等の帯電防止剤
を添加してもよい。
ー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)等も少量併用してよ
い。上記磁性層には、カーボンブラック等の帯電防止剤
を添加してもよい。
磁性塗料に使用可能な溶剤としては、ケトン類(例えば
メチルエチルケトン)、エーテル類(例えばジエチルエ
ーテル)、エステル類(例えば酢酸エチル)、芳香族系
溶剤(例えばトルエン)、アルコール類(例えばメタノ
ール)等を挙げることができ、これらは単独、或いは混
合しても使用することができる。
メチルエチルケトン)、エーテル類(例えばジエチルエ
ーテル)、エステル類(例えば酢酸エチル)、芳香族系
溶剤(例えばトルエン)、アルコール類(例えばメタノ
ール)等を挙げることができ、これらは単独、或いは混
合しても使用することができる。
本発明の方法で得られるディスク状磁気記録媒体は、例
えば第2図に10で示すように、非磁性支持体21の両
面に、必要あれば中間層22を介して磁性層24を設け
たものである。必要あれば更に、オーバーコート層(図
示せず)が磁性層上に設けれらていてよい。
えば第2図に10で示すように、非磁性支持体21の両
面に、必要あれば中間層22を介して磁性層24を設け
たものである。必要あれば更に、オーバーコート層(図
示せず)が磁性層上に設けれらていてよい。
磁性層24の乾燥膜厚は0.5〜4.5μmであるのが
よく、3.0〜4.0μmが更によい。
よく、3.0〜4.0μmが更によい。
磁性層下に中間層22を設けるときは、上記した各種結
合剤の塗布によって下引き層を形成してよい。この中間
層は、接着剤層又は下引き層として、磁性層と支持体と
の接着性の向上、導電性の向上等を目的として設けられ
る。
合剤の塗布によって下引き層を形成してよい。この中間
層は、接着剤層又は下引き層として、磁性層と支持体と
の接着性の向上、導電性の向上等を目的として設けられ
る。
また、支持体21の素材としては、ポリエチレンテレフ
タレート及びポリエチレン−2,6−ナフタレート等の
ポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類
、セルローストリアセテート及びセルロースダイアセテ
ート等のセルロース誘導体、ならびに、ポリカーボネー
ト等のプラスチックを挙げることができる。更にCu、
A1、Zn等の非磁性金属、ガラス、いわゆるニューセ
ラミック等をも使用することができる。
タレート及びポリエチレン−2,6−ナフタレート等の
ポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類
、セルローストリアセテート及びセルロースダイアセテ
ート等のセルロース誘導体、ならびに、ポリカーボネー
ト等のプラスチックを挙げることができる。更にCu、
A1、Zn等の非磁性金属、ガラス、いわゆるニューセ
ラミック等をも使用することができる。
これらの素材を用いて形成される支持体の厚みは通常1
0〜80μmの範囲内にある。
0〜80μmの範囲内にある。
支持体の少なくとも一方の面には、磁π層、が、設けら
れているが、通常は、上記のように他の面にも磁性層を
有する。このように両面に磁性層を設けることj、こよ
り、磁気ディスクの変形(カーリング)を有効に防止す
ることができる。但し7、裏面にハンクコ−1・層を設
けてカーリングを防止することも可能である。
れているが、通常は、上記のように他の面にも磁性層を
有する。このように両面に磁性層を設けることj、こよ
り、磁気ディスクの変形(カーリング)を有効に防止す
ることができる。但し7、裏面にハンクコ−1・層を設
けてカーリングを防止することも可能である。
なお、本発明は、例えば電子スチルカメラ用のビデオフ
ロッピー、デークツ1コツピー等の磁気ディスクや、8
□□□ビデオテープ等のビデオ用テープに適用してよい
。
ロッピー、デークツ1コツピー等の磁気ディスクや、8
□□□ビデオテープ等のビデオ用テープに適用してよい
。
ホ、実施例
次に、本発明の詳細な説明する。
以下に示す成分、割合、操作順序等は、本発明の精神か
ら逸脱しない範囲乙こおいて種々変更しうる。
ら逸脱しない範囲乙こおいて種々変更しうる。
〈実施例1〉
まず、以下に示す成分の組成物を調製した。
強磁性金属粉末 ioo重璽部(F
e−Aj2系1.!含有率:4重量%、BET比表面積
:4フイ/g、 抗磁力(Hc):12500e) ウレタン系樹脂(ポリウレタン樹脂)10重量部にノボ
ラン2304、日本ポリウレタン社製)オレイン酸
1市川部シクロへキサノン
10重i部メチルエチルケトン
20重量部トルエン
20重量部上記組成物を加圧ニーダ−で30分間混練
した・−・・・・・・・第1混練工程(A)次にこの混
練物に塩化ビニル系共重合体(VAGH:米国U、
C,C1社製)10重置部を添加1.、加圧ニーダ−で
30分間混練した。
e−Aj2系1.!含有率:4重量%、BET比表面積
:4フイ/g、 抗磁力(Hc):12500e) ウレタン系樹脂(ポリウレタン樹脂)10重量部にノボ
ラン2304、日本ポリウレタン社製)オレイン酸
1市川部シクロへキサノン
10重i部メチルエチルケトン
20重量部トルエン
20重量部上記組成物を加圧ニーダ−で30分間混練
した・−・・・・・・・第1混練工程(A)次にこの混
練物に塩化ビニル系共重合体(VAGH:米国U、
C,C1社製)10重置部を添加1.、加圧ニーダ−で
30分間混練した。
・・・・・・・・・第2混練工程(B)この混練物をボ
ールミルに取り出し、さらに下記の素材を添加し、24
時間分散した。
ールミルに取り出し、さらに下記の素材を添加し、24
時間分散した。
混練物
α−′アルミナ
シクロヘキサノン
メチルエチルケトン
トルエン
ミリスチン酸
ブチルステアI/−ト
171重量部
10重置部
50重量部
100重量部
100重量部
1車量部
1重量部
上記磁性塗籾を1慮過してポリイソシアネート化合物(
コロネー1〜し、日本ボリウ1/タン社!り5重量部を
添加し、非磁性支持体(ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、厚さ32μm)の両面に、それぞれ乾燥厚が3
.5μmになるように塗布し4加熱下に溶剤を除去した
後、力1/ンダー処理を行い、次いでポリイソシアネー
ト化合物のための加熱硬化を行った。加熱硬化後、直径
2インチの円盤状に打ち抜き、カセットに収容して電子
スチルビデオフロッピーを作成した。
コロネー1〜し、日本ボリウ1/タン社!り5重量部を
添加し、非磁性支持体(ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、厚さ32μm)の両面に、それぞれ乾燥厚が3
.5μmになるように塗布し4加熱下に溶剤を除去した
後、力1/ンダー処理を行い、次いでポリイソシアネー
ト化合物のための加熱硬化を行った。加熱硬化後、直径
2インチの円盤状に打ち抜き、カセットに収容して電子
スチルビデオフロッピーを作成した。
〈実施例2〉
実施例1において、第1混練工程(A)の時間を1時間
とした以外は同様にして、電子スチルビデオフロッピー
を作成した。
とした以外は同様にして、電子スチルビデオフロッピー
を作成した。
〈実施例3〉
実施例1において、第2混練工程(B)の時間を1時間
とした以外は同様にして、電子スチルビデオフロンビー
を作成した。
とした以外は同様にして、電子スチルビデオフロンビー
を作成した。
〈実施例4〉
実施例1において、第1混練工程(A)のボリウ1ノク
ン系樹脂として−30,、Nalを含有するポリウレタ
ン系樹脂(U R−8300、東洋紡績社製)を使用し
た以外は同様にして、電子スチルビデオフロッピーを作
成した。
ン系樹脂として−30,、Nalを含有するポリウレタ
ン系樹脂(U R−8300、東洋紡績社製)を使用し
た以外は同様にして、電子スチルビデオフロッピーを作
成した。
〈実施例5〉
実施例1において、第2混練工程(B)の塩化ビニル系
樹脂として一3O,+Na蟇を含有する塩化ビニル系樹
脂(MR110、日本七゛オン社製)を使用した以外は
同様にして、電子スチルビデオフロンビーを作成した。
樹脂として一3O,+Na蟇を含有する塩化ビニル系樹
脂(MR110、日本七゛オン社製)を使用した以外は
同様にして、電子スチルビデオフロンビーを作成した。
〈実施例6〉
実施例iaこおいて、第1混練工程(A)及び第2混練
工程(B)のポリウレタン系樹脂及び塩化ビニル系樹脂
ともに一3o3Na基を含有したもの(上記したU R
−8300、MR110)を使用した以外は同様にして
、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
工程(B)のポリウレタン系樹脂及び塩化ビニル系樹脂
ともに一3o3Na基を含有したもの(上記したU R
−8300、MR110)を使用した以外は同様にして
、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
〈実施例7〉
実施例1において、第1混練工程(A)の分散助剤を第
1メイン酸からリン酸エステルに代えた以外は同様にし
て、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
1メイン酸からリン酸エステルに代えた以外は同様にし
て、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
〈実施例8〉
実施例6において、第1混練工程(A)の分散助剤をオ
レイン酸からリン酸エステルに代えた以外は同様にして
、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
レイン酸からリン酸エステルに代えた以外は同様にして
、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
〈実施例9〉
実施例1の磁性塗料を非磁性支持体上に塗布、配向(4
000ガウスの磁石)、乾燥し、スーパーカレンダー処
理を行い、乾燥膜厚2.5μmとした。
000ガウスの磁石)、乾燥し、スーパーカレンダー処
理を行い、乾燥膜厚2.5μmとした。
この後、下記の組成のバックコート用塗料を磁性層の反
対側の面に0.5μmに塗布して、8++m幅にスリッ
トして8皿ビデオテープを作成した。
対側の面に0.5μmに塗布して、8++m幅にスリッ
トして8皿ビデオテープを作成した。
(バックコート層塗布液組成)
カーボンブランク(A) 70重量部(平
均粒子径 30nm) カーボンブラック(B) 30重量部(平
均粒子径 60nm) ニトロセルロース 30重量部ポリウ
レタン系樹脂 30重量部シクロへキサ
ノン 200重量部メチルエチルケト
ン 200重量部トルエン
200重量部上記組成物をボールミルに入
れ、70時間混練分散した後、1μmフィルターで濾過
し、ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン社製
、コロネートL ) 20重量部を添加し、バックコー
ト層用塗布液とした。
均粒子径 30nm) カーボンブラック(B) 30重量部(平
均粒子径 60nm) ニトロセルロース 30重量部ポリウ
レタン系樹脂 30重量部シクロへキサ
ノン 200重量部メチルエチルケト
ン 200重量部トルエン
200重量部上記組成物をボールミルに入
れ、70時間混練分散した後、1μmフィルターで濾過
し、ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン社製
、コロネートL ) 20重量部を添加し、バックコー
ト層用塗布液とした。
〈比較例1〉
実施例1において、第1、第2混練工程= (A)(B
)で使用する素材をすべて同時に添加し、加圧ニーグー
で混練し、他は実施例1と同様にして電子スチルビデオ
フロッピーを作成した。
)で使用する素材をすべて同時に添加し、加圧ニーグー
で混練し、他は実施例1と同様にして電子スチルビデオ
フロッピーを作成した。
〈比較例2〉
実施例1に使われている素材をすべて添加してボールミ
ルで24時間分散し、これを実施例で述べたように塗布
し、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
ルで24時間分散し、これを実施例で述べたように塗布
し、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
く比較例3〉
実施例1において、第2混練工程: (B)に代えてボ
ールミル中での分散工程を実施した以外は同様にして、
電子スチルビデオフロッピーを作成した。
ールミル中での分散工程を実施した以外は同様にして、
電子スチルビデオフロッピーを作成した。
〈比較例4〉
比較例1において、磁性粉をCo−7−Fe、O。
に代えた以外は同様にして、電子スチルビデオフロッピ
ーを作成した。
ーを作成した。
上記の各ビデオフロッピーについて、以下の性能評価を
行い、結果を下記表に示した(同表において、「実」は
実施例、「比」は比較例を示す)。
行い、結果を下記表に示した(同表において、「実」は
実施例、「比」は比較例を示す)。
(1)RF出カ
ラニー■製のM V P−5500を用いて、それぞれ
1.25及び7.0MHzの正弦波信号を記録し、再生
RF出力を測定した。
1.25及び7.0MHzの正弦波信号を記録し、再生
RF出力を測定した。
なお、結果は、測定した再生RF出力を実施例1で製造
した電子スチルビデオフロッピーの再生RF出力を0.
0dBとしたときの相対値として、下記表に記した。R
F比出力値が大きい程、良好な電子スチルビデオフロン
ピーであることを示す。
した電子スチルビデオフロッピーの再生RF出力を0.
0dBとしたときの相対値として、下記表に記した。R
F比出力値が大きい程、良好な電子スチルビデオフロン
ピーであることを示す。
(2)ノイズレベル
■アナライザーのスペクトラムアナライザーを用いて、
7MHzのRF比出力測定し、各サンプルの6MHzの
ノイズレベルを測定した。
7MHzのRF比出力測定し、各サンプルの6MHzの
ノイズレベルを測定した。
測定したノイズレベルを、実施例1で製造した電子スチ
ルビデオフロッピーのノイズレベルを0.0dBとした
ときの相対値として、下記表に記した。ノイズレベルの
値が小さい程、良好な電子スチルビデオフロッピーであ
ることを示す。
ルビデオフロッピーのノイズレベルを0.0dBとした
ときの相対値として、下記表に記した。ノイズレベルの
値が小さい程、良好な電子スチルビデオフロッピーであ
ることを示す。
(3)走行耐久性
日立製作所■製のVX−50を用いて、予め画像信号を
25トラツクに記録した電子スチルビデオフロッピーの
スチルモードでの再生を20°C150%RHの条件下
で連続的に行い、再生出力が3dB低下するまでの時間
を測定した。
25トラツクに記録した電子スチルビデオフロッピーの
スチルモードでの再生を20°C150%RHの条件下
で連続的に行い、再生出力が3dB低下するまでの時間
を測定した。
(4)光沢度
ビデオフロッピーの光沢度は、磁性層の塗布方向と直角
に入射角60°で測定し、標準板を100%として表示
した。
に入射角60°で測定し、標準板を100%として表示
した。
この結果から、本発明に基いて製造することによって、
磁気記録媒体のilt磁変換特性、耐久性等が大きく向
上することが分る。また、磁性粉を酸化鉄にした場合(
比較例4)、メタル磁性粉使用の比較例1よりも性能が
良くなっているが、これはメタル粉使用の場合が結合剤
の混練条件の影響がずっと大きいことを示している。
磁気記録媒体のilt磁変換特性、耐久性等が大きく向
上することが分る。また、磁性粉を酸化鉄にした場合(
比較例4)、メタル磁性粉使用の比較例1よりも性能が
良くなっているが、これはメタル粉使用の場合が結合剤
の混練条件の影響がずっと大きいことを示している。
図面は本発明を説明するためのものであって、第1図は
ディスク状媒体の製造工程の主要なフローを示すメチヤ
ード、 第2図は本発明によるディスク状媒体の一例の断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 21・・・・・・・・・非磁性支持体 22・・・・・・・・・中間層 24・・・・・・・・・磁性層 である。 代理人 弁理士 連環 宏 弔 図
ディスク状媒体の製造工程の主要なフローを示すメチヤ
ード、 第2図は本発明によるディスク状媒体の一例の断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 21・・・・・・・・・非磁性支持体 22・・・・・・・・・中間層 24・・・・・・・・・磁性層 である。 代理人 弁理士 連環 宏 弔 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、磁性粉と結合剤とを含有する磁性塗料の塗布によっ
て形成された磁性層を有する磁気記録媒体の製造方法に
おいて、 (a)、金属磁性粉とウレタン系樹脂と分散助剤とを混
練する第1混練工程と、 (b)、この第1混練工程で得られた混練物を塩化ビニ
ル系樹脂と混練する第2混練工程と を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26913690A JPH04146524A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | ディスク状磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26913690A JPH04146524A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | ディスク状磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04146524A true JPH04146524A (ja) | 1992-05-20 |
Family
ID=17468194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26913690A Pending JPH04146524A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | ディスク状磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04146524A (ja) |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP26913690A patent/JPH04146524A/ja active Pending
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