JPH0442436A - ディスク状磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明はディスク状磁気記録媒体の製造方法に関するも
のである。

口、従来技術 従来、スチルビデオ用、コンピューター用等のディスク
状の磁気記録媒体として、強磁性合金粉末を結合剤中に
分散させた磁性層を非磁性支持体上に塗設した磁気記録
媒体が用いられている。

こうしたディスク状磁気記録媒体、例えば電子スチルビ
デオフロッピーは通常、次のようにして作製される。即
ち磁性粉（強磁性金属粉末）を含有した磁性塗料を調整
した後、この磁性塗料を濾過して分散不良成分を除去し
、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ２３２８
ｍ）の両面に、それぞれの乾燥厚が３．５μｍになるよ
うにリバースロールコータ−を用いて塗布し、加熱下に
溶剤を除去した後、カレンダー処理を行う。次いで、磁
性層中のポリイソシアネート化合物のための加熱硬化（
キュア）を行ない、その後に磁性層に対して潤滑剤含浸
工程を行った後、直径２インチの円盤状に打ち抜き、電
子スチルビデオフロッピーを製造する。上記の打ち抜き
工程の前（潤滑剤含浸工程の後）にはバーニッシュ（表
面研磨）工程を行う。

ところが、本発明者が上記の如き製造方法について検討
を加えた結果、次の如き欠点があることを見出した。即
ち、従来の方法では、打ち抜き工程の前のバーニッシュ
工程は、フィルム状半製品の媒体を走行させながら、そ
の幅方向を研磨テープによって研磨するが、この際に研
磨テープに対してフィルムを押圧するためのエア圧を大
きくすると、同幅方向において、フィルムのブレが生じ
て均一な押圧力が得られず、研磨が場所的に不均一とな
ってしまう。従って弱いエア圧でしか研磨ができないの
で、研磨不十分となって目的とする磁性層の表面性（ひ
いては電磁変換特性）が低下したり、或いは研磨時間が
長くなる等の作業性不良の原因となる。

変換特性のディスク状磁気記録媒体を生産性良く得るこ
とのできる製造方法を提供することにある。

二１発明の構成 即ち、本発明は、磁性層に対する潤滑剤含浸工程と、デ
ィスク形状への打ち抜き工程と、前記磁性層に対するキ
ュア工程と、バーニッシュ工程とを有し、前記打ち抜き
工程の後に前記バーニッシュ工程を行うディスク状磁気
記録媒体の製造方法に係るものである。

本発明によるディスク状磁気記録媒体の製造方法は、基
本的には、例えば磁性塗料の塗布→乾燥→カレンダー処
理を経た後に、少なくとも潤滑剤含浸工程、ディスク形
状への打ち抜き工程、磁性層に対するキュア工程及びバ
ーニッシュ工程を行うに際し、打ち抜き工程の後にバー
ニッシュ工程を行うことを特徴とするものである。

即ち、上記の塗布、乾燥、カレンダー処理は公知の順序
で公知の方法で行ってよいが、それ以降の工程において
は、特にチースフ形状へ打ち抜いてからバーニッシュを
行うので、フィルムに比べてずっとサイズの小さいディ
スク媒体を例えば回転させながら十分な圧力をかけなが
ら研磨を行える。

第４図には打ち抜き後の、ディスク媒体１０を回転上さ
ながら、底面側からエア３１を吹付けて媒体１０を研磨
テープ３０に押圧させながら、媒体１０の径方向を研磨
テープ３０によって研磨する状態を示している。テープ
３０は繰出しロール３２から巻き取りロール３３へ繰出
されガイド手段３４によって案内、支持されかつ全体が
径方向へ移動させられながら、スリット状のエア噴出口
を有する噴出手段３５によってエア３１が噴出される。

第５図には、媒体１０に対する研磨領域３６を仮想線で
示した。

こうしたバーニッシュ研磨はディスク媒体１０に対して
行うものであるから、エア３１の圧力を十分に（例えば
１ｋｇ）としても、ディスク１０はブレを生じることな
しにテープ３０に対して押圧されることになる。この結
果、媒体の磁性層は十分に表面研磨され、目的とする表
面粗度を作業性良（得ることが、できるので、ｉｔ電磁
変換特性向上させることができ、かつ、研磨の効率も良
好であって生産性も大きく向上する。

本発明による方法の主要段階については、第１図〜第３
図に例示した工程の組み合せがある。第１図は、潤滑剤
含浸工程（例えば潤滑剤のオーバーコート→乾燥）を行
なった後にキュアを行い、更にディスク形状に打ち抜て
からバーニッシュを行う方法を示す。

第２図は、第１図においてキュアを打ち抜き後に行う方
法を示す、第３図は、第２図において打ち抜きを潤滑剤
含浸の前に行う方法を示す。

いずれの方法も、本発明による打ち抜き→バーニッシュ
という順序を有しているで、上記したように十分な研磨
が可能であり、表面性向上による電磁変換特性の向上を
実現することができる。なお、潤滑剤含浸をキュアの前
に行うと、磁性層中の結合剤が未硬化（未キユア）状態
にあって架橋構造を未だ形成していない。ので、潤滑剤
は磁性層中に十分な量で侵入することができ、そして次
のキュアによる架橋構造内に適度に保持されることにな
る。換言すれば、架橋構造によて潤滑剤分子が保持され
ると共に、磁性層表面で不足が生じたときには磁性層内
部から潤滑剤が浸み出して供されることになるから、耐
久性が良好となる。また、打ち抜き工程は潤滑剤含浸工
程の後に行う方が、潤滑剤の含浸作業（オーバーコート
）が容易となり、量産性も良くなる。

次に、上記において、潤滑剤の含浸工程に用いる潤滑剤
としては、脂肪酸エステル（例えばイソオクチルパルミ
テート）、−塩基性脂肪酸（例えばステアリン酸）や、
シリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブデン、
二硫化タングステン等があげられるが、脂肪酸エステル
が好ましい。

潤滑剤は溶媒に所定濃度に溶解させ、この溶液をロール
コーティング等で塗布し、所定温度で乾燥させて磁性層
中に含浸させることができる。この含浸量は２０〜６０
■／ｄがよ（，３０〜５０■／ｄが更に良い。また、打
ち抜き後の潤滑剤の含浸は、ディスク体を回転させなが
ら潤滑剤を塗布するスピンコードに依ってもよい。

また、バーニッシュ工程は例えば第４図に示したように
研磨テープによって磁性層表面を研磨することによって
行うが、他の方法（例えばダイヤモンドホイル）によっ
てもよい。バーニッシュによる研磨量は、バーニッシュ
後に磁性層の表面粗さが下記のようにＲａで０．００１
〜０．００２程度小さくなるようにするのがよい。

（バーニッシュ前）（バーニッシュ後）Ｒａ　０．０１
２〜０．Ｏ０５Ｒａ　Ｏ，０１１〜０．００４（更に好
ましくは　　　　　（更に好ましくはＲａ　Ｏ，０１０
〜０．００８　）　　　　Ｒａ　Ｏ，００９〜０．００
７　）バーニッシュ条件は例えば下記の通りとする。

線圧　３ｋｇ／ｃｉ＋ 回転数　２５０Ｏｒｐｍ バーニッシ二時間　１秒 研磨テープ　Ｇ　Ｃ１００００番（ミクロコーティング
社製） また、上記の打ち抜き工程は、媒体半製品を搬送しなが
ら型によって打ち抜（方法（パンチング）によって行う
ことができ、その方法自体は公知のものである。

更に、上記のキュアについては、磁性層中の未反応の硬
化剤を結合剤と完全に反応させて架橋構造を形成するた
めの加熱工程であるが、例えば５５〜７５℃で２４〜７
２時間、望ましくは６５〜７０℃で４８〜６０時間行う
のがよい。

また、上記した磁性塗料の塗布、乾燥、カレンダー処理
は公知の方法によって行うことができる。

ここで、磁性層の磁性粉としてＦ　ｅ　−Ａｊ！系等の
金属磁性粉（強磁性合金粉末）を用いるのがよいが、こ
うした強磁性金属粉末には、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏをはじめ
、Ｆｅ−Ａｊ！系、Ｆｅ−Ａｌ２−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｆ
−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｎｉ−３ｉ系、Ｆｅ−Ａｌ２−Ｚｎ系
、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系、ＦｅＭｎ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ
系、Ｆｅ−Ｎｉ　−Ａｔ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ系、Ｆｅ
−Ｎｉ−Ｍｎ系、Ｆ　ｅ−Ｃｏ　−Ｎ　ｉ−Ｐ系、Ｃｏ
−Ｎｉ系、Ｆｅ。

Ｎｊ、Ｃｏ等、を主成分とするメタル磁性粉等の強磁性
粉が挙げられる。なかでも、耐蝕性及び分散性の点で特
にＦｅ−Ａｌ５Ｆｅ−Ａｌ２−Ｎｉ。

Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ、Ｆｅ−Ａｌ２−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ。

Ｆｅ−Ｎ１−Ａｌ２、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ５Ｆｅ−ＮｉＡ
ｆ−３ｉ−Ｚｎ、Ｆｅ−Ｎ１−Ａｌ２−３ｉ　−Ｍｎの
系のメタル磁性粉が好ましい。

こうしたメタル磁性粉は飽和磁化、保持力が大きく、高
密度記録に優れている。また、比表面積が４０ｒｒｆ／
ｇ以上、特に４２ｒｄ／ｇ以上の比表面積（ＢＥＴ値）
の上記の強磁性合金粉末を用いることにより、非常に電
磁変換特性が向上する。また、強磁性金属粉末の保磁力
（抗磁力）は、通常、１００００ｅ以上（好ましくは１
２０００　ｅ以上）である。

また、本発明で使用することができる磁性粉の形状に特
に制限はなく、例えば、針状、・球状等のものを使用す
ることができる。

上記の磁性粉は、メタル磁性粉であるから、分散を十分
に行い難いものであるが、これは磁性層に下記のポリウ
レタン系樹脂を結合剤として用いることによって十分に
防止でき、分散性を高めることができる。

即ち、使用するポリウレタン系樹脂は ５０５Ｍ、　　Ｏ５ＯｚＭ、　　ＰＯ（ＯＭ’）！、−
０ＰＯ（ＯＭ’　）ｆｆｉ　（但し、Ｍは水素又はリチ
ウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属、Ｍ′は
水素、リチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金
属）からなる陰性官能基（Ｉｌ水性極性基）を１種又は
２種以上含有しているのがよい、こうした分子内の極性
基によって、樹脂と磁性粉とのなじみが向上し、これに
よって磁性粉の分散性を良くし、かつ磁性粉の凝集も防
止して塗液安定性を一層向上させることができ、ひいて
は媒体の耐久性をも向上させ得る。

こうしたポリウレタン系樹脂の合成に関しては、一般に
利用される方法であるポリオールとポリイソシアネート
との反応を用いることができる。ポリオール成分として
一般には、ポリオールと多塩基酸との反応によって得ら
れるポリエステルポリオールが使用される。従って、上
記の極性基を有するポリエステルポリオールを原料とし
て利用すれば、極性基を有するポリウレタンを合成する
ことができる。

使用可能なポリオールとしては、フタル酸、アジピン酸
、三量化リルイン酸、マレイン酸等の有機二塩基酸と、
エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレン
グリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類若
しくはトリメチロールプロパン、ヘキサントリオール、
グリセリン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリト
ール等の多価アルコール類若しくはこれらのグリコール
類及び多価アルコール類の中から選ばれた任意の２種以
上のポリオールとの反応によって合成されたポリエステ
ルポリオール；又は、Ｓ−カプロラクタム、α−メチル
−１−カプロラクタム、Ｓ−メチルーＳ−カプロラクタ
ム、γ−ブチロラクタム等のラクタム類から合成される
ラクトン系ポリエステルポリオール；又はエチレンオキ
サイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等
から合成されるポリエーテルポリオール等これらのポリ
オールは、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ヘキ
サメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、メチレンジ
イソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ジ
フェニルメタン−４，４−ジイソシアネート（ＭＤ　Ｉ
　）、１．５−ナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）
、トリジンジイソシアネート（ＴＯＤＩ）、リジンイソ
シアネートメチルエステル（ＬＤＩ）等のイソシアネー
ト化合物と反応せしめ、これによってウレタン化したポ
リエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタンや
、ホスゲンやジフェニルカーボネートでカーボネート化
したポリカーボネートポリウレタンが合成される。これ
らのポリウレタンは通常は主として、ポリイソシアネー
トとポリオールとの反応で製造され、そして遊離イソシ
アネート基及び／又はヒドロキシル基を含有するウレタ
ン樹脂又はウレタンプレポリマーの形でも、或いはこれ
らの反応性末端基を含有しないもの（例えばウレタンエ
ラストマーの形）であってもよい。

ポリウレタン、ウレタンプレポリマー、ウレタンエラス
トマーの製造方法、硬化架橋方法等については公知であ
るので、その詳細な説明は省略する。

また、例えば、多官能−ＯＨが導入されたポリウレタン
樹脂を製造し、このポリウレタン樹脂と以下に記載する
極性基及び塩素を含有する化合物とを反応（脱塩酸反応
）させてポリウレタン樹脂に極性基を導入する方法を利
用することができる。

ＣｆＣＨ，ＣＨ，ＳＯｓ　Ｍ、 Ｃ１，ＣＨ，ＣＨ，０５０，Ｍ、 ＣＩＧＨｚＣＯＯＭ ＣＩ　ＣＨｚ　　Ｐ　Ｏ（ＯＭ’　　）　ｔ　、このポ
リウレタン系樹脂の重量平均分子量は一般には１〜１５
万（好ましくは２．０〜６万）の範囲内となるように反
応条件を設定するのがよい。

また、上記ポリウレタン系樹脂は、極性基を有する繰り
返し単位の共重合体中における含有率が通常０．０１〜
５モル％（好ましくは０．１〜２．０モル％）の範囲内
にあるものがよい。

なお、ポリウレタンへの極性基の導入に関しては、特公
昭５８−４１５６５号、特開昭５７−９２４２２号、同
５７−９２４２３号、同５９−８１２７号、同５９−５
４２３号、同５９−５４２４号、同６２−１２１９２３
号等の公報に記載があり、本発明においてもこれらを利
用することができる。

上記のポリウレタン系樹脂によって、磁性層の耐摩耗性
が一層良くなり、適度な柔軟性も付与できる。そして、
このポリウレタン系樹脂と併用して塩化ビニル系樹脂を
用いると、磁性粉の分散が良好となり、かつ、磁性層の
機械的強度を向上させることができる、この場合、通常
、塩化ビニル系樹脂とポリウレタン系樹脂とは重量比で
８０　：　２０〜２０　：　８０　（好ましくは７０　
：　３０〜４０　：　６０）の範囲内にて使用するのが
よい。

使用可能な塩化ビニル系樹脂は、例えば塩化ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体等、ＯＨ基を含有する共重合体
に下記のような極性基及び塩素原子を含有する化合物と
の反応により付加して合成することができる。

Ｃｊ！　ＣＨｚ　ＣＨｚ　Ｓ　Ｏｓ　Ｍ。

ＣｆＣＨｔＣＨｔ０５０．Ｍ。

Ｃｊ！　ＣＨｔ　Ｐ　Ｏ（ＯＭ　’　）　ｚ、ＣｊＩＣ
Ｈ，Ｃ００Ｍ これらの中からＣｊＩＣＨｚ　ＣＨ，ＳＯ＊　Ｎａを例
として示すと、 （ＣＨｚＣＨ）　−十Ｃｊ２　　（Ｃ１ｌｚ）ｔ　　５
ＯＪａＨ →　　　　−（ＣＨｚ−ＣＨ）　　＋　ＩＣ１２０（Ｃ
Ｈｚ）ｚ−ＳＯｓＮａ のようになる。

また、すべて共重合性のモノマーとして共重合させる方
法がある。即ち、極性基を含む繰り返し単位が導入され
る不飽和結合を有する反応性モノマーを所定量オートク
レーブ等の反応容器に注入し、−船釣な重合開始剤、例
えばＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド）、ＡＩＢＮ（
アゾビスイソブチロニトリル）等のラジカル重合開始剤
やレドックス重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオ
ン重合開始剤等の重合開始剤を使用して重合できる０例
えば、スルホン酸若しくはその塩を導入するための反応
性モノマーの具体例としては、ビニルスルホン酸、アリ
ルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、ｐ−スチレンス
ルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの塩
が挙げられる。

更に、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホ
ン酸、（メタ）アクリル酸スルホエチルエステル、（メ
タ）アクリル酸スルホプロピルエステル等のアクリル酸
又はメタクリル酸のスルホアルキルエステル類及びこれ
らの塩、或いはアクリル酸−２−スルホン酸エチル等を
挙げることができる。

カルボン酸若しくはその塩を導入（ＣＯＯＭの導入）す
る時には、（メタ）アクリル酸、マレイン酸等を、リン
酸若しくはその塩を導入する時には、（メタ）アクリル
酸−２−リン酸エステルを用いれば良い。

また、塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導入され
ていることが好ましい、エポキシ基の導入により塩化ビ
ニル系共重合体の熱安定性が向上する。エポキシ基を導
入する場合、エポキシ基を有する繰り返し単位の共重合
体中における含有率は好ましくは１〜３０モル％（より
好ましくは１〜２０モル％）である、導入するためのモ
ノマーとしてはグリシジルアクリレートが好ましく用い
られる。

なお、塩化ビニル共重合体への極性基の導入に関しては
、特開昭５７−４４２２７号、同５Ｂ−１０８０５２号
、同５９−８１２７号、同６０−１０１１６１号、同６
０−２３５８１４号、同６０−２３８３０６号、同６０
−２３８３７１号、同６２−１２１９２３号、同６２−
１４６４３２号、同６２−１４６４３３号等の公報に記
載があり、本発明においてもこれらを利用することがで
きる。

本発明においては前記結合剤の他、必要に応じて、従来
用いられている非変性の塩ビ系樹脂、ポリウレタン樹脂
或いはポリエステル樹脂を混用又は単用することもでき
るし、更に繊維業系樹脂、フェノキシ樹脂或いは特定の
使用方式を有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂、電子線照射硬化型樹脂等を併用しても良い。

上記磁性層には、上記の磁性粉、結合剤の他、潤滑剤（
例えばシリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブ
デン、二硫化タングステン、−塩基性脂肪酸（例えばス
テアリン酸）、脂肪酸エステル等）等を添加してよい、
また、非磁性研磨剤粒子として、アルミナ（α−Ａ１．
ｚ　Ｏｓ　　（コランダム）等）、人造コランダム、溶
融アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、ダイヤモンド、
α−Ｆｅ、０゜（ヘマタイト）、人造ダイヤモンド、ザ
クロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）等も
少量併用してよい、上記磁性層には、カーボンプラツク
等の帯電防止剤を添加してもよい。

磁性塗料に使用可能な溶剤としては、ケトン類（例えば
メチエチルケトン）、エーテルＩＩ（例えばジエチルエ
ーテル）、エステルｌ［（例えば酢酸エチル）、芳香族
系溶剤（例えばトルエン）、アルコールＭ（例えばメタ
ノール）等を挙げることができ、これらは単独、或いは
混合しても使用することができる。

本発明の方法で得られるディスク状磁気記録媒体は、例
えば第６図に１０で示すように、非磁性支持体２１の両
面に、必要あれば中間層２２を介して磁性層２４を設け
たものである。必要あれば更に、オーバーコート層（図
示せず）が磁性層上に設けられていてよい。

磁性層２４の乾燥膜厚は０．５〜４．５μｍであるのが
よく、３，０〜４．０μｍが更によい。

磁性層下に中間層２２を設けるときは、上記した各種結
合剤の塗布によって下引き層を形成してよい、この中間
層は、接着剤層又は下引き層として、磁性層と支持体と
の接着性の向上、導電性の向上等を目的として設けられ
る。

また、支持体２１の素材としては、ポリエチレンテレフ
タレート及びポリエチレン−２，６−ナフタレート等の
ポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類
、セルローストリアセテート及びセルロースダイアセテ
ート等のセルロース誘導体、ならびに、ポリカーボネー
ト等のプラスチックを挙げることができる。更にＣｕ５
Ａ７！、Ｚｎ等の非磁性金属、ガラス、いわゆるニュー
セラミック等をも使用することができる。

これらの素材を用いて形成される支持体の厚みは通常１
０〜８０μｍの範囲内にある。

支持体の少なくとも一方の面には、磁性層が設けられて
いるが、通常は、上記のように他の面にも磁性層を有す
る。このように両面に磁性層を設けることにより、磁気
ディスクの変形（カーリング）を有効に防止することが
できる。但し、裏面にバックコート層を設けてカーリン
グを防止することも可能である。

なお、本発明は、例えば電子スチルカメラ用のビデオフ
ロッピー、データフロッピー等の磁気ディスクに適用し
てよい。

水、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。

以下に示す成分、割合、操作順序等社、本発明の精神か
ら逸脱しない範囲において種々変更しうる。

（実施例１） 以下に示す成分をデイスパーニーダ及びボールミルを用
いて十分に混線、分散し、次いで、塗布直前にポリイソ
シアネート化合物（コロネートＬ：日本ポリウレタン■
製）５重量部を添加し混合して磁性塗料〔１〕を調製し
た。

一■−埜料ユ土１ 鉄−アルミニウム系強磁性合金粉末　１００重量部（ア
ルミニウム含有率：４重量％、 比表面積：４２ポ／ｇ、 抗磁力（Ｈｃ　）　：　１２５００　ｅポリウレタン樹
脂　　　　　　　　　　６重量部（東洋紡績社製のＵ　
Ｒ−８２００： Ｓｏ、Ｎａ基含有） 塩化ビニル系共重合体　　　　　　　　１０重量部（日
本ゼオン製のＭＲＩＩＯニ ーＳｏ、に基含有） 酸化アルミナ／１．Ｏユ　　　　　　　１ｏ重量部（平
均粒子径二０．４μｍ） カーボンブラック　　　　　　　　　　０．５重量部（
平均粒子径：５５ｎｍ ＢＥＴ比表面積：３２ボ／ｇ ＤＢＰ峨油置装　　１８０ｄ／ｌｏＯｇ）オレイン酸　
　　　　　　　　　　　　　１重量部イソオクチルパル
ミテート　　　　　　　】重量部シクロヘキサノン　　
　　　　　　　　１００重量部メチルエチルケトン　　
　　　　　　　１００重量部トルエン　　　　　　　　
　　　　　　１００重量部得られた磁性塗料を濾過して
分散不良成分を除去し、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（厚さ＝３２μｍ）の両面に、それぞれの乾燥厚
が３．５μｍになるようにリバースロールコータ−を用
いて塗布し、加熱下に溶剤を除去した後、カレンダー処
理を行なった。

その後、磁性層に対して、イソオクチルパルミテートの
１％溶液（溶媒はｎ−ヘキサノン）をリバースロールコ
ータ−で塗布し、９０℃で１０秒間乾燥することによっ
て、磁性層に潤滑剤（イソオクチルパルミテート）を含
浸させた０次いで、６５℃で５０分間の加熱処理によっ
て、磁性層中の上記ポリイソシアネート化合物のための
加熱硬化（キュア）を行なった。その後、直径２インチ
の円盤状に打ち抜き、次いで、研磨テープによって、径
方向にバーニッシュ研磨を行った。研磨条件は、線圧：
３ｋｇ／ｃｍ、回転数＝　２５０Ｏｒｐｍ　、バーニッ
シュ時間：１秒、研磨テープ：　Ｇ　Ｃ１００００番（
ミクロコーティング社製）とした、その後、カセットに
収容して電子スチルビデオフロッピーを製造した。

（実施例２） 実施例１において、カレンダー処理を行った後、同様に
して潤滑剤含浸工程を行ない、次いで直径２インチの円
盤状に打ち抜き、ポリイソシアネート化合物のための加
熱硬化（キュア）、次いで、バーニッシュ工程を行擢い
、電子スチルビデオフロッピーを製造した。

（実施例３） 実施例１において、カレンダー処理を行った後、同様に
して直径２インチの円盤状に打ち抜き、その後に潤滑剤
含浸工程を行い、次いでポリイソシアネート化合物のた
めの加熱硬化（キュア）、その後、バーニッシュ工程を
行い、電子スチルビデオフロッピーを製造した。

（比較例１） 実施例１において、カレンダー処理を行った後、潤滑剤
含浸工程を行い、次いでバーニッシュ工程を行い、その
後に直径２インチの円盤状に打ち抜き、次いで、ポリイ
ソシアネート化合物のための加熱硬化（キュア）い、電
子スチルビデオフロッピーを製造した。

（比較例２） 実施例１において、カレンダー処理を行った後、バーニ
ッシュ工程、その後に直径２インチの円盤状への打ち抜
き、次いで潤滑剤含浸工程を行い、ポリイソシアネート
化合物のための加熱硬化（キュア）を行い、電子スチル
ビデオフロッピーを製造した。

（比較例３） 実施例１において、カレンダー処理を行った後、潤滑剤
含浸工程を行い、その後ポリイソシアネート化合物のた
めの加熱硬化（キュア）を行ない、バーニッシュ工程、
次いで直径２インチの円盤状への打ち抜きを行い電子ス
チルビデオフロッピーを製造した。

（比較例４） 実施例１において、カレンダー処理を行った後、バーニ
ッシュ工程、潤滑剤含浸工程を行い、その後にポリイソ
シアネート化合物のための加熱硬化（キュア）を行ない
、次いで直径２インチの円盤状に打ち抜きを行い電子ス
チルビデ尤フロッピーを製造した。

（比較例５） 実施例１において、バーニッシュ工程を行わなかった以
外は同様にして、電子スチルビデオフロッピーを製造し
た。

上記の各ビデオフロッピーについて、以下の性能評価を
行い、結果を下記表に示した。

′−シーク 市販の電子スチルビデオフロッピーレコーダー（ＡＧ８
００、松下電器産業■製）を用いて、予め画像信号を５
０）ラックすべてに記録した電子スチルビデオフロッピ
ーのスチルモードで各トラック４秒の再生を１〜５０ト
ラツクまで連続して繰り返し、再生出力が初期値から３
ｄＢ低下する迄、若しくは再生画像にドロップアウト等
の画質低下が起こる迄の時間を測定した。結果を下記表
に示す。

なお、同表において、３００時間以上とは、３００時間
の再生によっても再生出力の低下が３ｄＢに至らず、か
つ画質低下が起こらなかったことを意味する。

且り良友 ソニー■製のＭ　Ｖ　Ｒ−５５００を用いて７ＭＨｚの
正弦波信号を記録し、再生ＲＦ出力を測定した。測定し
た再生ＲＦ出力を、ゴールドリファレンスの値に対する
相対値として下記表に記した。ＲＦ小出力値が大きい程
、良好な電子スチルビデオフロッピーであることを示す
。

この結果から、本発明に基いて打ち抜き→バーニッシュ
という順序で製造することによって、研磨を十分に行え
るためにＲＦ小出力大きく向上することが分かる。しか
も、耐久性も良好に維持できる。バーニッシュを行わな
いものは耐久性は良いがＲＦ小出力低下する。

抜き後にバーニッシュを行うので、ディスクはプレを生
じることなしに研磨手段に対して十分な圧力で押圧でき
、この結果、媒体の磁性層は十分に表面研磨され、目的
とする表面粗度を作業性良く得ることが、できる、従っ
て、電磁変換特性を向上ささせることができ、かつ、研
磨の効率も良好であって生産性も大きく向上する。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明を説明するためのものであって、第１図、
第２図、第３図１はディスク状媒体の製造工程の主要な
フローを示す各チャート、第４図はバーニッシュ時の概
略側面図、第５図はバーニッシュ時の概略平面図、第６
図は本発明によるディスク状媒体の一例の断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 １０・・・・・・・・・ディスク媒体 ２１・・・・・・・・・非磁性支持体 ２２・・・・・・・・・中間層 ２４・・・・・・・・・磁性層 ３０・・・・・・・・・研磨テープ ３１・・・・・・・・・エア である。 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、磁性層に対する潤滑剤含浸工程と、ディスク形状へ
   の打ち抜き工程と、前記磁性層に対するキュア工程と、
   バーニッシュ工程とを有し、前記打ち抜き工程の後に前
   記バーニッシュ工程を行うディスク状磁気記録媒体の製
   造方法。