JPH0444364U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0444364U JPH0444364U JP8727090U JP8727090U JPH0444364U JP H0444364 U JPH0444364 U JP H0444364U JP 8727090 U JP8727090 U JP 8727090U JP 8727090 U JP8727090 U JP 8727090U JP H0444364 U JPH0444364 U JP H0444364U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- electrode support
- plasma processing
- support rod
- insulator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
第１図は、この考案の一実施例に係るプラズマ
処理装置の電極板周りを拡大して部分的に示す図
である。第２図は、プラズマ処理装置の一例を示
す概略図である。第３図は、従来のプラズマ処理
装置の電極板周りを拡大して部分的に示す図であ
る。 ２……真空容器、４……電極支持棒、６……電
極板、８……基板、２４……絶縁碍子管。
処理装置の電極板周りを拡大して部分的に示す図
である。第２図は、プラズマ処理装置の一例を示
す概略図である。第３図は、従来のプラズマ処理
装置の電極板周りを拡大して部分的に示す図であ
る。 ２……真空容器、４……電極支持棒、６……電
極板、８……基板、２４……絶縁碍子管。
Claims (1)
- ガスが導入される真空容器内に、少なくとも２
本の電極支持棒を収納し、この電極支持棒に、複
数の電極板であつてその上に基板が載せられるも
のを交互にかつ多段状に取り付け、かつ各電極支
持棒の少なくとも電極板間の部分に絶縁碍子管を
被せた構造のプラズマ処理装置において、前記各
絶縁碍子管を半割れ構造にし、かつ当該絶縁碍子
管によつて電極支持棒の電極板取付け部以外を覆
つていることを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8727090U JPH0444364U (ja) | 1990-08-20 | 1990-08-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8727090U JPH0444364U (ja) | 1990-08-20 | 1990-08-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0444364U true JPH0444364U (ja) | 1992-04-15 |
Family
ID=31819479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8727090U Pending JPH0444364U (ja) | 1990-08-20 | 1990-08-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0444364U (ja) |
-
1990
- 1990-08-20 JP JP8727090U patent/JPH0444364U/ja active Pending
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