JPH0444612A - 薄膜磁気ヘッド装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ この発明は、薄膜磁気ディスク装置や光磁気ディスク装
置などで用いられる浮動型の薄膜磁気ヘッド装置の製造
方法に関するものである。

［従来の技術］ 磁気ディスク装置は多量の情報を記憶し、ランダムアク
セスが可能な外部メモリとして計算機システムの中心的
役割を果たしている。この磁気ディスク装置の中で、情
報を書き込んだり読み出したりする動作を行なうのが磁
気ディスク装置である。磁気ディスク装置にはその形状
によりいくつかの種類があるが、ヘッド素子がスライダ
の浮動面と平行な面に形成された薄膜磁気ヘッド装置は
その加工工程が簡単なことから、現在精力的に開発が進
められている。

この薄膜磁気ヘッド装置は、例えば文献（「＾Ｎｅｗ　
Ａｐｐｒｏａｃｈ　ｔｏ　ｍａｋｉｎｇ　ｔｈｉｎ　ｆ
ｉｌｍ　ｈｅａｄ−ｓｌＬｄｅｒｄｅｖｉｃｅｓＪ（Ｉ
ＥＥＥ　Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ　ｏｎ　Ｍａｇｎｅ
ｔｉｃｓ、Ｖｏｌ。

２５、　Ｎｏ、　５．　Ｓｅｐ、　１９８９　））　　
などに詳しく製造方法が述べられている。

第３図（ａ）は、この従来の製造方法により製造された
ＷＩＩ！ｌｌ！磁気ヘッド装置を、（ｂ）は（ａ）の磁
気ヘッド部を拡大して示す。図において、（１〉はスラ
イダ、り２）は磁気ヘッド、（３〉は下部磁極、（４）
はへ１ドギ１フブ、（５）はコイル、（６）　ｉｉ下１
ｉＦＩｓ磁極、＜７〉は保、！膜である。保護膜（７）
は磁気ヘッド（２〉を覆っているので、実際はへラドキ
ゴッフ（４）近傍の一部の上部磁極しか見えない。

第４図（ａ）〜（ｈ）　　に従来の磁気ヘッド装置の製
造方法を示す。図は断面図である。まず第４図（ａ）に
おいて、保持基板（８）上に保護膜（７〉と上部磁極（
３）を成膜し、ギャップ＜４）を形成する。

第４図（ｂ）では絶縁層（９）を、（ｃ）ではコイルく
５）を成膜する。第４図（ｄ）でコイル（５）のまわり
を絶縁層（９）で覆い、（ｅ）では下部磁極＜６）を成
膜し、（ｆ）で再び絶縁層（９〉で復う。（ｇ＞ではス
ライダク１）を接着剤（１０）で接着し、（ｈ）で最後
に保持基板〈釦を、溶解して外す。

通常、　１枚のスライダ材料のウェハ上に数十以上のヘ
ッド素子（２）を形成するので、第５図に示すように１
個ずつ切り出して、薄膜磁気ヘッド装置とする。

素子を保持基板の上に成膜し、あとで保持基板を取り外
す理由は、ギャップ（４〉が出ている面を、最終的に平
坦にしなければならないためである。

この面はスライダの浮動面となる面である。

［発明が解決しようとする課題］ 従来の薄膜磁気ヘッド装置は以上のような製造方法をと
っているため、スライダ材料は最後に接着剤で下部磁極
り９）に接着する必要があるが、接着時の下部磁極（９
）の表面は平面ではなく凹凸が大きいため、接着力が小
さくなり、歩留りが低下するという問題点があった。ま
た全工程（第４図（ａ）〜（ｈ））を同一ウェハ上に成
膜してい（ので、ある工程で不良が発生した場合、それ
までの工程が無駄になるという問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、スライダ材料の密着力を高め、なおかつ、歩
留りを良くする薄膜磁気ヘッド装置の製造方法を得るこ
とを目的とする。

口課題を解決するための手段］ この発明に係る薄膜磁気ヘッド装置の製造方法は、スラ
イダ基板と下部磁極と絶縁層とコイルとで構成される（
またはスライダ基板と下部磁極と絶縁層とで構成される
）甲部と保持基板と保護膜と上部磁極と絶縁層とギャッ
プ部とで構成される（または絶縁層とコイルと下部磁極
と保護膜とギャップ部と保持基板とで構成される）乙部
を別々に作った後、上記甲部と乙部とを貼り合わせて一
体化し、最後に上記乙部の保持基板を取り除き薄膜磁気
ヘッド装置とするものである。

［作用］ この発明における製造方法では、下部磁極を直接スライ
ダ材料に成膜するため、下部磁極とスライダの密着力は
高くなる。またヘッド素子を２つの部分に作り分けてい
くので、１つの部分〈例えば甲部）が不良であっても、
他の部分（例えば乙Ｂ）は別の部分（例えば甲部）との
組合せで使用できる。すなわち、危険分散ができる。そ
のため、歩留りが向上する。

［実施例］ 以下、この発明の一実施例を第１図（ａ）〜（ｃ＞をも
とに説明する。

第１図（ａ）は中部、第１図（ｂ）は乙部である。

甲部はスライダ材料（１）に下部磁極（６）、絶縁層（
９〉、コイル（５〉、絶縁層〈９〉の順で構成する。

乙部は、保持基板（８）の上に保護膜〈７〉、絶縁層〈
９）、上部磁極〈３〉の順に成膜する。次に甲部な乙部
の上にかぶせる要領で、甲・乙部を接着剤（１０）にて
接着して第１図＜ｃ＞を得る。最後に保持基板（８〉を
取り外すことにより、スライダ材料上に並んだヘッド素
子が得られる。この状態は第５図の状態と同じであり、
あとはスライダを１個づつ切断するだけである。

本実施例において、保持基板（８）はＳｉや５ｉ０２あ
るいはセラミクスあるいは金属材料であり、取り外し方
は、溶解や機械的な取り外しく例えば研磨）などでよい
。

この発明の他の実施例による薄膜磁気ヘッド装置の製造
方法を第２図（ａ）〜（ｃ）　　に示す。

第２図（ａ）は甲部、第２図（ｂ）は乙部である。

甲部は、スライダ材料（１〉に絶縁層（９）、下部磁極
（６）を形成したものである。乙部は、保持基板（８〉
の上に、保護膜〈７〉上部磁極〈３）、絶縁層（９）、
コイル〈５）及び絶縁層（９）を成膜したものである。

この状態で甲部を乙部にかぶせるようにして、甲部、乙
部を接着し第２図（ｃ）を得る。最後に、保持基板（８
）を取り外し、スライダを１個ずつ切り離せば出来上が
りである。

なお、保持基板（８）や接着剤に関してのことわりは第
１図の実施例と同じである。

また、接着剤はエポキシ系の接着剤などがあるが特に指
定はしない。また、陽極接合などの方法を用いることに
より、接着剤を用いない接合方法も考えられるが、この
ような方法でもよい。

［発明の効果］ 以上のように、この発明によれば、上記スライダ基板と
下部磁極と絶縁層とコイルとで構成される（またはスラ
イダ基板と下部磁極と絶縁層とで構成される）甲部と保
持基板と保護膜と上部磁極と絶縁層とギャップ部とで構
成される（または絶縁層とコイルと上部磁極と保護膜と
ギヤツブ託と保持基板とで構成される）乙部を別々に作
った後、上記甲部と乙部とを貼り合わせて一体化し、最
後に上記乙部の保持基板を取り除くので、下部磁極を直
接スライダに成膜するため、下部磁極とスライダの密着
力が高いこと、また、２つの部分に分けて作り進めてい
くので、１つの部分（例えば甲部）が不良であっても他
の部分（乙部）は生きるため、全体の不良率は下がるこ
と、などの長所があり、従来の製造方法より歩留りかゝ
向上する。

【図面の簡単な説明】

第１ｉＶ（ａ）〜（Ｃン　　はこの発明の一実施例によ
る薄膜磁気ヘッド装置の製造方法を示す断面図、第２図
（Ｑ）〜（ｃ）　　はこの発明の他の実施例による薄膜
磁気ヘッド装置の製造方法を示す断面図、第３図（ａ）
は従来の薄膜磁気ヘッドを示す斜視図、第３図（ｂ）は
その要部の拡大斜視図、第４図（ａ）〜（ｈ）　　は従
来の技術における薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す断面
図、第５図は従来の７９１Ｍ磁気ヘッド装置の製造方法
の一工程を説明する斜視図である。 図において、＜１〉はスライダ、（２）は磁気ヘッド、
〈３）は上部磁極、（４〉はギャップ、〈５〉はコイル
、（６）は下部磁極、（７）は保護膜、（８）は保持基
板、〈９〉は絶縁層、（１０）は接着剤である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 媒体表面に平行に対向する浮動面をもつスライダ基板、
   および下部磁極と絶縁層とコイルと上部磁極と保護膜と
   から構成され上記スライダ基板面上に形成された薄膜磁
   気ヘッドからなる薄膜磁気ヘッド装置の製造方法におい
   て、上記スライダ基板と下部磁極と絶縁層とコイルとで
   構成される（またはスライダ基板と下部磁極と絶縁層と
   で構成される）甲部と保持基板と保護膜と上部磁極と絶
   縁層とギャップ部とで構成される（または絶縁層とコイ
   ルと上部磁極と保護膜とギャップ部と保持基板とで構成
   される）乙部を別々に作つた後、上記甲部と乙部とを貼
   り合わせて一体化し、最後に上記乙部の保持基板を取り
   除くことを特徴とする薄膜磁気ヘツド装置の製造方法。