JPH0438709A - 薄膜磁気ヘッド装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野コ この発明は藩膜磁気ディスク装置、光磁気ディスク装置
などで用いられる浮動型の薄膜磁気ヘッド装置の製造方
法に関するものである。

［従来の技術］ 磁気ディスク装置は多量の情報を記録し、ランダムアク
セスが可能な外部メモリとして情報処理システムや計算
機システムのファイルメモリの中心的役割で、この磁気
ディスク装置においては、ヘッドとスライダからなるヘ
ッド装置系とディスク系が主要な役割を果たしている。

第３図及び第４図に代表的な磁気ヘッド装置を示す。

図において、（１）は矢印方向（ａ）に回転走行する磁
気記録媒体、（２）はスライダ、（３）は磁気ヘッド、
（４）はへラドギャップ、（５）はサスペンションであ
る。スライダ（２）はディスク回転による空気流（ｂ）
からの押し上げ力とサスペンション（５）から押し下げ
力の釣合により、サブミクロンのすきまｈで磁気ディス
ク（１）」二を浮４二する。磁気ヘッド（３）は先端の
へラドギャップ（４）からの漏れ磁束で記録を行い、ヘ
ッドギャップ（４）でディスクからの磁束を捕らえるこ
とにより読み出しを行う。

第３図に示す磁気ヘッド装置では、ディスク面に垂直に
位置する面にヘッド素子が製作されており、第４図に示
すヘッド素子ではディスク面に水平に位ｉ６する面にヘ
ッド素子が製作されている。

第３図、第４図に示す磁気ヘッド装置を以下、それぞれ
「コンベンショナル型」　「ホリゾンタル型Ｊと称する
ことにする。

ｍ　５　図（ａ　）にコンベンショナル型（■基板切断
、■浮動面形成、■ギャップ研磨）、第５図（ｂ）にホ
リゾンタル型（■浮動面形成、■基板切断、■完成）、
のスライダ加工の工程を示す。

原理的にはホリゾンタル型においては、浮動面形成の段
階を一括で行えるため、コンベンショナル型のようにス
ライダ切り出し後の個別の平坦化加工が不要となり、機
械加工工程が少なく価格が安くできるといわれている。

しかしながら、実際は素子形成後各々の素子の高さが異
なるため浮動面の一括平坦化加工を行うと、素子ごとに
スロートハイドが異なってしまい歩留りが低下する。そ
のため、結局は基板切断後に個別加工を行わなければな
らず、ホリゾンタル型にそればとのメリットはない。

第６図（ａ）から（ｉ）にホリゾンタル型ヘッド素子の
成膜プロセスを示す。図中（７）は下部磁極、（８）は
絶縁層、（９）はコイル、（１０）は−上部磁極、（１
１）は保護膜、（１２）は研磨で取り去る部分、（ｄ）
はスロートハイド、（ｅ）はヘッド素子の高さである。

なお、ホリゾンタル型ヘッドに関しては、例えば特開昭
６３−５３７０８号公報などの公知例がある。

［発明が解決しようとする課題］ 従来のホリゾンタル型のヘッド装置は以」二のような製
造方法をとっているので、第６図（ｈ）に示すように浮
動面部分の平面出しのため、最終的に（１２）の部分を
取り去る研磨が必要であり、このとき、各素子ごとに主
にウェハの中心部と端部で素子の高さ（ｅ）が異なるた
め、あらかじめ合わせておいたスロートハイド（ｄ）が
研磨によってばらついてしまい、そのため−個づつ個別
加工を行えばコンベンショナル型と同じ加工の時間が必
要であり、ホリゾンタル型のメリットがほとんどなくな
るという問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、平面出し研磨の工程をなくし量産性の良いホ
リゾンタル型の薄膜磁気ヘッド装置の製造方法を得るこ
とを目的とする。

［課題を解決するための手段］ この発明に係る薄膜磁気ヘッド装置の製造方法は、初め
に保持基板上に薄膜磁気ヘッドを形成し、その後、」二
部保持基板上に形成した薄膜磁気ヘッドを保持基板ごと
１個あるいは数個から数１０個単位に切り出し、ヘッド
ギャップ先端と浮動面が同一平面に位置するように、該
薄膜磁気ヘッドをスライダ成形用の型に保持し、スライ
ダ基板材料で」二部へラドギャップ先端以外の部分を包
み込み、上記スライダ基板を形成し、薄膜磁気ヘッド装
置とするようにしたものである。

［作用］ この発明における薄膜磁気ヘッド装置の製造方法では、
ヘッドギャップ先端と浮動面が同一平面に位置するよう
に薄膜磁気ヘッドを成膜した後にスライダを形成するの
で、平坦化研磨が不要であり、個別研磨も必要ない。そ
のため、量産性に優れており、薄膜磁気ヘッド装置のコ
ストが安くなる。

［実施例］ 以下、この発明の一実施例図について説明する。

第１図において、ヘッド素子を薄い保持基板（１３）の
上に数１０個以上成膜する。保持基板の厚みは例えば５
００μｍ以下、材料はＳｊウェハである。ヘッドの成膜
方法は、（ａ）から（ｅ）までは従来の方法と同様で、
まず、保持基板（１，３）　Ｊ：に下部磁極（７）を成
膜、次いで絶縁体（８）、コイル（９）及び上部磁極（
１０）の垂直部分を成膜。次に一ヒ部磁極（１０）の水
平部分を成膜し、次にギャップ（４）近傍を形成する。

従来はこの次に保護膜を形成したが、ここではしない。

（ｅ）の段階で保持基板には、ヘッド素子の行列が出来
る。　（実際は（ｆ）に示すよりずっと密に並んでいる
）次に（ｇ）の破線で示したようにヘッド素子をアレイ
状に切り出す。１アレイにはヘッドは数個から数１−○
個乗るように切る。　（図では３個乗っている）あまり
ヘッド素子が多いと、１アレイ−にで素子ごとのヘッド
高さ（ｅ）が揃わなくなるので注意する。場合によって
は、１個づつ切り離してもよい。　（つまり１アレイに
１個のヘッド素子） １アレイに乗ったヘッド素子を（ｈ）に示す。

（ｊ）において（１４）はスライダ形成用の型である。

これは、スライダ材料を入れて固めてスライダを作る型
である。この型（１４）のうち将来浮動面になる部分に
図（ｉ）に示すように、図（ｈ）のアレイをさかさまに
して入れる。この時、アレイ上のヘッド素子の上部磁極
（１０）が型（１４）にきちんと接触するように入れる
。

（ｊ）はこの」二にスライダ材料（１５）を入れ、図（
ｉ）のＡ方向からみた図である。スライダ材料は、熱硬
化性、光硬化性、低温硬化性などの流動性の硬化材料か
あるいは、例えばＡ　ｌ　２０３　Ｔ　ｊ、　Ｃ−Ｆ　
ｅｒｒｉｔｅ、ＺｒＯ２、Ｃａ　Ｔ　ｉ○２などのスラ
イダ材料の粉である。

（ｊ）のようにスライダ材料を入れてから固めて、取り
出して出来たのが（ｋ）である。これをスライダの大き
さに破線部で１個づつ切断すると、スライダ（２）の出
来上がりである。これを（１）に示した。

（ｍ）は図（ｉ）のＢ方向からみた図である。ヘッド材
料（１５）はヘッド素子を包み込むように入りこんでい
るのがわかる。

なお、本発明においては、コイルの引き出し線をスライ
ダ形成前に薄膜ヘッド素子に接続しておいても良い。こ
れを第２図にて説明する。第２図（ａ）は第１図（ｇ）
における状態と同じである。すなわち、ヘッド素子をア
レイ状に切り出した状態で引き出し線（１６）をコイル
の両端にボンディングしておく。その後（ｂ）で示すよ
うにスライダ形成用の型（１４）に入れてスライダ（２
）を形成すると、第２図（ｄ）のように薄膜磁気ヘッド
装置が出来た時点で引き出し線が出ている。スライダに
わざわざ穴をあけなくても良いので工程が少なくなる。

［発明の効果］ 以−１−にょうに、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
によれば薄膜磁気ヘッドを初めに保持基板上に形成し、
その後ヘツドギャップ位置を揃えて、スライダ形成する
ので、スライダ完成後浮動面の平坦化研磨が不用であり
、個別研磨も必要ない。

そのため、加工工程の減少、優れた量産性を実現でき薄
膜磁気ヘッド装置のコストが非常に安価になる。

【図面の簡単な説明】

第１−図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘッドの
製造工程を示す製造工程図、第２図は本発明の他の実施
例においてコイルの引き出し線形成工程を示す斜視図、
第３図は従来の技術におけるコンベンショナル型の薄膜
磁気ヘッド装置の動作状態を示す側面図、第４図は従来
の技術におけるホリゾンタル型の薄膜磁気ヘッド装置の
動作状態を示す側面図、第５図（ａ）は従来の技術にお
けるコンベンショナル型、第５図（ｂ）はホリゾンタル
型の薄膜磁気ヘッド装置の形成工程をそれぞれ示す斜視
図、第６図は従来の技術におけるホリゾンタル型の薄膜
磁気ヘッド装置の製造工程を示す製造工程図である。 図において、（１）は磁気記録媒体、（２）はスライダ
、（３）は磁気ヘッド、（４）はへラドギャップ、（５
）はサスペンション、（７）は下部磁極、（８）は絶縁
体、（９）はコイル、（１０）は上部磁極、（１１）は
保護膜、（１２）は研磨で取り去る部分、（１３）は保
持基板、（１４）はスライダ形成用の型、（１５）はス
ライダ材料、（１６）は引き出し線である。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 媒体表面に平行に対向する浮動面を持つスライダ基板、
   および下部磁極、絶縁層、コイル、上部磁極、ヘッドギ
   ャップから構成され上記スライダ基板面上に形成された
   薄膜磁気ヘッドからなる薄膜磁気ヘッド装置において、
   初めに保持基板上に薄膜磁気ヘッドを形成し、その後、
   上記保持基板上に形成した薄膜磁気ヘッドを保持基板ご
   と１個あるいは数個から数１０個単位に切り出し、上記
   ヘッドギャップ先端と上記エアベアリング平面が同一平
   面に位置するように、上記薄膜磁気ヘッドをスライダ成
   形用の型に保持し、スライダ基板材料で上記ヘッドギャ
   ップ先端以外の部分を包み込み固化し、上記スライダ基
   板を形成し、薄膜磁気ヘッド装置としたことを特徴とす
   る薄膜磁気ヘッド装置の製造方法。