JPH0449151Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案はガラス旋盤に係り、特に光フアイバ母
材を製造するためのガラス旋盤において反応ガス
供給系と反応管とを結合させる回転導入端子（ロ
ータリージヨイント）に関する。

［従来の技術］ 従来から光フアイバ母材を製造するガラス旋盤
においては、原料ガスや純酸素等の反応ガスを回
転する反応管内に導入するためにガス配管系と反
応管との間に回転導入端子が使用されている。こ
の回転導入端子はガス配管系に接続される固定系
と反応管に接続される回転系とを有し、これら両
者を回転シール部により連結するものである。

［考案が解決しようとする問題点］ しかしながら、原料ガスは一般にSiCl₄やGeCl₄
等の極めて腐食性の強いガスであるために、回転
シール部からの僅かな原料ガスの洩れがあつても
回転導入端子が著しく腐食されてしまう。また、
このような異常が発生すると、ガラス生成中に不
純物が混入して光フアイバ母材の品質劣化を招く
恐れがあつた。

さらに、原料ガスの洩れがなくても、この原料
ガス自身が反応系内に僅かに残留している空気や
水分等と反応して不純物を生成するために頻繁に
回転導入端子を解体洗浄する必要があり、作業効
率が低下すると共に回転導入端子の耐用寿命が短
いという問題があつた。

かくして本考案の目的は上記従来技術の問題点
を解消し、回転導入端子の解体洗浄を頻繁に行な
う必要がなく、さらに高品質の光フアイバ母材の
製造を可能とするガラス旋盤を提供することにあ
る。

［問題点を解決するための手段］ 本考案のガラス旋盤は上記目的を達成するため
に、反応管をその軸のまわりに回転させると共に
この反応管の開口端を回転導入端子により反応ガ
ス供給系に接続されたガス導入管に気密に結合さ
せるガラス旋盤において、上記ガス導入管の先端
部が上記反応管の内径より小さな外径を有して上
記反応管内に挿入されると共にこれらの管により
形成される間隙にシールガスを流すものである。

［作用］ このような構成とすることにより、ガス導入管
内を案内されてきた腐食性の強い原料ガスはガス
導入管の先端開口部から直接反応管内に供給され
る。そして、反応管内に挿入されたガス導入管先
端部と反応管との間に形成された間隙部にシール
ガスを流すことにより、反応管とガス導入管とを
気密に結合するための回転シール部に原料ガスが
接触することが防止される。従つて、回転シール
部が腐食したり、ここから原料ガスが洩れること
はなくなる。

なお、シールガスの流量はその目的がシール性
を得ることであるので必要最小限にすべきであ
り、例えば純酸素を用いる場合には反応に必要な
総純酸素量の10％程度以下とすることが好まし
い。

［実施例］ 以下、本考案の実施例を添付図面に従つて説明
する。

第３図は本考案の一実施例に係るガラス旋盤の
概略構成図である。基台１上に一対の回転支持台
２及び３が設けられると共にこれらこれら回転支
持台２及び３の間を移動し得るバーナ４が備えら
れている。各回転支持台２及び３はそれぞれ反応
管５を把持してこれを回転させるためのチヤツク
６及び７を備えている。また、回転支持台２の外
側にはチヤツク６に把持された反応管５の開口端
をガス供給装置８からのガス導入管に気密に結合
させる回転導入端子９が配置されている。

本考案の特徴はこの回転導入端子９にあり、第
１図に回転導入端子９の詳細な構成を示す。

ガス供給装置８には反応管５内に反応ガスを導
入するためのガス導入管１０が接続されている。
このガス導入管１０は反応管５の内径より小さな
外径を有し、その先端部の所定長さ分が反応管５
内に挿入されている。また、ガス導入管１０の根
元部分にはその外周部にコネクタ１１が設けられ
ており、このコネクタ１１を介して支持部１２上
のボデイ１３に固定されている。ボデイ１３はガ
ス導入管１０の外径より大きな内径の長い貫通孔
を有しており、この貫通孔内にガス導入管１０が
貫通されて固定されている。これによりボデイ１
３とガス導入管１０との間に空隙部１４が形成さ
れている。さらに、第２図に示すように、ボデイ
１３の側部には空隙部１４内にシールガスを導入
するためのシールガス供給管１５が設けられ、こ
のシールガス供給管１５がガス供給装置８に接続
されている。

また、ボデイ１３の前部にはその外周部にハウ
ジング１６が回転シール部１７を介して外嵌され
ており、ガス導入管１０の中心軸を中心として回
転し得るように構成されている。ここで、回転シ
ール部１７はフツ素ゴム等からなるオイルシール
１８、一対のベアリング１９及び２０、スペーサ
２１、ストツプリング２２から形成されている。
ハウジング１６の前面にはキヤツプ２３が取り付
けられ、このキヤツプ２３と反応管５の端部とが
フツ素ゴム製のチユーブ２４により気密に接続さ
れている。なお、図中、２５はホースバンドを示
している。

すなわち、ボデイ１３とガス導入管１０との間
に形成された空隙部１４は回転シール部１７のオ
イルシール１８及びチユーブ２４によりその気密
性を保持しつつガス導入管１０の外周部に沿つて
反応管５内に連絡しており、シールガス供給管１
５から空隙部１４を通してガス導入管１０と反応
管５との間の間隙２６にシールガスを流すことが
できるように構成されている。

次に、本実施例の作用を述べる。

まず、反応管５を回転支持台２及び３により所
定の回転数で回転させると共にバーナ４によりこ
れを加熱する。このとき、ハウジング１６は回転
シール部１７を介してボデイ１３に対し回転する
こととなる。

この状態でガス供給装置８内に配置されている
ベーパライザ（図示せず）等により原料ガス
（SiCl₄，GeCl₄等）をキヤリアガスやパージガス
と共にガス導入管１０内を通して反応管５内に供
給すると共にシールガス供給管１５から上記のキ
ヤリアガスあるいはパージガスをシールガスとし
て反応管５とガス導入管１０との間隙２６に送り
込む。

これにより、反応管５内においては、 SiCl₄＋O₂→SiO₂＋2Cl₂ 等の反応が進行しさらにSiO₂のガラス化が行な
われる。このとき、反応管５とガス導入管１０と
の間隙２６では反応管５内部に向かうシールガス
の流れがあるので、ガス導入管１０の先端開口部
から反応管５内に供給された原料ガスが間隙２６
を逆流して回転シール部１７へ至ることはない。
すなわち、回転シール部１７はシールガスにより
保護される。

このようにして、原料ガスによる回転シール部
の腐食及び不純物の生成を大幅に軽減しつつ、光
フアイバ母材の製造を行なうことができた。

［考案の効果］ 以上説明したように本考案によれば、次の如き
優れた効果が発揮される。

(1) シールガスにより回転シール部への原料ガス
の直接接触が回避されるので、この回転シール
部の腐食が防止される。

(2) 従つて、回転導入端子の長寿命化が達成され
ると共に解体洗浄の頻度が低減され作業効率の
向上を図ることができる。

(3) 腐食による不純物の発生やガスリークが防止
されるので、高品質の光フアイバ母材を安定し
て製造することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例に係るガラス旋盤に
用いられた回転導入端子の構成を示す断面図、第
２図は第１図の−線矢視図、第３図は実施例
の概略構成を示す全体図である。 図中、５は反応管、８はガス供給装置、１０は
ガス導入管、１３はボデイ、１５はシールガス供
給管、１６はハウジング、１７は回転シール部、
２６は間隙である。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 反応管をその軸のまわりに回転させると共にこ
   の反応管の開口端を回転導入端子により反応ガス
   供給系に接続されたガス導入管に気密に結合させ
   るガラス旋盤において、上記ガス導入管の先端部
   が上記反応管の内径より小さな外径を有して上記
   反応管内に挿入されると共にこれらの管により形
   成される間隙にシールガスを流すことを特徴とす
   るガラス旋盤。