JPH0455552B2 - - Google Patents

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JPH0455552B2
JPH0455552B2 JP62026929A JP2692987A JPH0455552B2 JP H0455552 B2 JPH0455552 B2 JP H0455552B2 JP 62026929 A JP62026929 A JP 62026929A JP 2692987 A JP2692987 A JP 2692987A JP H0455552 B2 JPH0455552 B2 JP H0455552B2
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JP
Japan
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circuit board
electronic circuit
film
resin
injection
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Hiroshi Hoshimi
Hitoshi Nakatsubo
Hitoshi Kikuchi
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DENSHI GIKEN KK
Original Assignee
DENSHI GIKEN KK
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は電子回路基板の被膜形成方法及びその
方法の実施に使用する装置に関し、より具体的に
は多数の電子回路部品が組込まれた回路基板上に
溶融樹脂を無気噴射して絶縁被膜を形成する方法
及び装置に関する。
(従来の技術) 従来、絶縁、防湿等のために電子回路基板上に
アクリル系樹脂を塗布して被膜を形成することが
行われており、その手法としてはフイルムコート
手法或いはエアスプレイ手法が用いられている。
フイルムコート手法では米国ノードソン社のノー
ドソンフイルムコート手法が良く知られている
が、この手法は第13図bに示す如く、溶融樹脂
をノズル200からフイルム状に噴射して電子回
路基板上にコーテイングするものである。またエ
アスプレイ手法は、第13図cに示す如く、圧縮
空気によつて溶融樹脂を霧化して噴射することに
よりコーテイングするものである。
(発明が解決しようとする問題点) 然しながら上記従来技術においては、フイルム
コート手法の場合溶融樹脂をフイルム状にしてコ
ーテイングするので、フイルムを形成するのに樹
脂を比較的大量に必要とする結果塗布膜(フイル
ムコート)が比較的厚くなつて、樹脂量の浪費が
生じると共に塗布後、いわゆる液ダレが生じる不
都合があつた。更に、フイルムの最大幅部が回路
部品面高さに合致する如くノズル200を高さz
方向に制御する必要があるため、z方向の移動量
を大きくとると噴射パターン幅が不均一となつて
塗布膜厚みが不均一になり、他方塗布膜の最小厚
みとなる領域を基準に他の領域の噴射量を管理す
ると塗布膜が過度に厚くなつてしまう不都合があ
つた。
又、樹脂はノズルよりフイルム状に吐出される
ため、第13図bに示す如く部品の凹凸部の境界
付近でフイルム膜の切れ201が生じたり気泡2
02を内包してしまう等、コーテイングが不十分
な領域が生じ易い不都合があつた。更に、フイル
ム状に塗布するためICピン若しくはリード線等
の中空支持部品の背面には十分塗布することが出
来ず、絶縁不良乃至は防湿不良を起こす原因を生
じていた。そのためこれ等不都合に対処するには
一層の塗布膜厚さを必要として更に大量の樹脂及
び溶剤が必要となり、その結果更に液ダレが発生
し易くなつて例えば基板の裏面をも直ちにコーテ
イングするために基板を裏返すことが出来ない不
都合もあり、他方膜切れを防ぐためにフイルム膜
の最大幅を小さくすると、作業時間が長くなる等
の不都合もあつた。
一方エアスプレイ手法の場合、圧縮空気で溶融
樹脂を霧化噴射するために溶融樹脂の粘度を極度
に下げる必要があり、その結果溶剤の消費量が多
くなると共に一回の噴射で塗布膜厚みが十分に得
られない場合も生じ、乾燥、噴射の各工程を何度
も繰返して所望の厚さを得ねばならない不都合が
あつた。更に、ノズル先端に付着した樹脂をエア
で吹きとばす際に、いわゆる糸引きを生じ易く、
塗布面に凹凸を生じて商品性が低下する等の不都
合もあつた。特に、エアスプレイ手法の場合霧化
噴射のためLED(発光ダイオード)等コーテイン
グをしてはならない箇所については予めマスク作
業をしておく必要があり、余分な作業工程を必要
とする問題があつた。
従つて本発明の目的は従来技術の上述の欠点を
解消することにあり、不均一なコーテイング乃至
は液ダレの発生がなく、樹脂と溶剤の最小限の消
費量で所望な厚さのコーテイングを行うことが出
来、又噴射パターンは拡散することがないためマ
スク作業の必要もない電子回路基板の被膜形成方
法及び装置を提供することにある。
(問題点を解決するための手段及び作用) 上記目的を達成するために、第1の発明に係る
電子回路基板の被膜形成方法は、電子回路基板を
所定位置に位置決めする工程と、絶縁樹脂剤を50
℃の温度条件下で粘度23〜44cpsに溶融し、圧力
3〜5Kg/cm2に調整しつつキヤツツアイ孔形を備
えた噴射ノズルに圧送し、前記位置決めされた電
子回路基板上に平面大略長円形状の噴射パターン
を描く様に、かつその長軸線が基板進行方向と大
略平行となる様に移動しつつ無気噴射する工程
と、及び、無気噴射後の電子回路基板を乾燥する
工程と、から成る如く構成した。
又、第2の発明に係る電子回路基板の被膜形成
装置は、電子回路基板を収受する搬送レール、前
記搬送レールに沿つて移動し、電子回路基板を噴
射位置とその後段の乾燥位置とに搬送する搬送
爪、前記噴射位置で電子回路基板を固定する突当
てクランプ、移動自在であつて大略キヤツツアイ
状のノズル孔形を備え、50℃の温度条件下で粘度
23〜44cpsに溶融され調整手段を介して圧力3〜
5Kg/cm2に保持された絶縁樹脂剤を前記基板上に
平面大略長円形状の噴射パターンを描く様に、か
つその長軸線が基板進行方向と大略平行となる様
に移動しつつ無気噴射するインジエクタ、及び、
無気噴射された前記搬送爪を介して乾燥位置に搬
送された電子回路基板を加熱して乾燥させるヒー
タ、とから成る如く構成した。
(実施例) 以下、添付図面に即して本発明の実施例を説明
する。理解の便宜上、第2発明たる装置を先に説
明する。
第1図に本装置の全体構成を示す。図示の如
く、本装置は搬送部A、機種判別部B、第1噴射
部C、反転部D、第2噴射部E、初期乾燥部F及
び第2乾燥部Gからなる。更に、本装置はコンピ
ユータよりなる制御ユニツト10を備えており、
本装置は該制御ユニツト10内に格納されたプロ
グラムに従つて各部が制御指令を受けて動作す
る。以下説明する。
搬送部Aは、レール12及び搬送爪14からな
り、自動車の電子制御ユニツト等の筺体に取付け
られた電子回路基板16(以下「基板」と略称す
る)を該レール12上に載置して搬送爪14で押
送する如く構成される。搬送爪14は後述の如く
制御ユニツト10の指令に応じて、レール12下
の休止位置から上昇してレール12上の基板16
を所定距離往動して押送し、次いで下降した後復
動して前記休止位置に復帰する如く構成される。
尚、この搬送爪14を駆動するモータ等の駆動手
段の図示は省略する。
機種判別部Bは光透過センサ部18よりなる。
図示の如く該センサ部18は、レール12の側方
に設置されており、光源(図示せず)よりの光を
受光する3個のフオトトランジスタ等の受光素子
18a,18b,18cより構成される。3個の
受光素子は基板進行方向に並列させられており、
基板を取付けた筺体の形状による透過光の遮断状
態によつて出力を相違させ、信号線(図示せず)
を介して制御ユニツト10に送出する。従つて、
制御ユニツト10は該出力より基板の種別を判別
することが出来る。
第1噴射部Cは、第3図bに良く示す如く、突
当てクランプ20及び抑えクランプ22を備え、
両クランプ20,22は、搬送爪14を介して移
送されて来た基板16をその両側から押圧して所
定位置に固定する如く構成される。第5図は突当
てクランプ20(抑えクランプ22)の詳細を示
しており、アウタケース20a,22a及びその
内部に収容されたインナーケース20b,22b
並びにインナーケースの先端に取着されたロツド
20c,22cよりなり、制御ユニツト10の指
令に応じて動力供給源(図示せず)より圧縮空気
乃至は油圧が送出されると、インナーケース20
b,22bを前進せしめてロツド20c,22c
を、基板16を取付けた筺体に当接させる如く構
成される。尚、第1図は図示の便宜のため簡略化
して示した。第1噴射部Cは更に噴射機構26を
備える。該噴射機構26は、基板進行方向に移動
自在なX軸アーム28及び該アーム28に直交す
る如く取着され横断方向に移動自在なY軸アーム
30並びに該Y軸アーム30に取着されたインジ
エクタ32からなる。インジエクタ32は第1図
に示す如く、圧送側パイプ34を介して樹脂タン
ク36に接続されており、樹脂タンク36には絶
縁用のアクリル樹脂及びトルエン/キシレンから
なる溶剤の混合液が収容されている。樹脂タンク
36とインジエクタ32を連結する圧送側パイプ
34には、駆動源38より圧縮空気等の駆動力を
得て動作するポンプ40が介挿され、樹脂タンク
36内の樹脂を所定圧力まで加圧してインジエク
タ32に圧送する。該圧送路にはサージタンク4
1が設けられ、前記ポンプ40で発生する液圧の
脈動を除去し、一定液圧の樹脂を供給する。更に
該圧送路にはヒータ42が介挿されて圧送樹脂の
温度、より具体的には粘度を設定値に管理すると
共に、レギユレータ44が介挿されて液圧を一定
に管理する。又、該圧送側パイプ34と平行して
インジエクタ32には戻り側パイプ46が接続さ
れており、溶融樹脂は両パイプライン34,46
を介してインジエクタ32を通つて循環する如く
構成される。尚、符号48はフイルタを、符号5
0は分配器を示す。又、レール12の下方には排
気ダクト52が設けられ、溶融樹脂に含まれるト
ルエン等を回収する。又、図示しないが、本装置
においてレール12の上部はハウジングをもつて
覆われ外気と遮断されているものである。
ここで、前記した噴射機構26について第6図
乃至第10図を参照して更に説明すると、X軸ア
ーム28は第7図に示す如く、ねじ棒28aにボ
ールねじ結合されたスライダ28bを備えてお
り、スライダ28bは、該ねじ棒がカツプリング
28cを介して連結されたサーボモータ28dの
回転により回転させられることによつて移動す
る。同図に想像線で示す如く、X軸アーム28の
スライダ28bにY軸アーム30が取着され、そ
のY軸アーム30のスライダ30b上に前記した
インジエクタ32が取付部材54を介して取着さ
れる。第8図はこのインジエクタ32の詳細を示
す断面図であり、その内部にはピストン・ロツド
32aが収容されており、その先端には弁32b
が設けられている。スプリング32cはピスト
ン・ロツド32aを介して弁32bを閉じ方向に
付勢しており、電磁弁32dが開いて空気供給源
32eより圧縮空気を供給すると弁32bは上方
に押し上げられて循環樹脂が通路32f内に導か
れ、ノズル32gのキヤツツアイ32hより噴射
される。第9図は該ノズル32gの、第8図にお
いて基板16側から見た正面図である。キヤツツ
アイ32hは図示の如く長孔状に穿設されると共
に、その幅方向は中央付近において微小に径大に
構成される。又、第10図は、その噴射パターン
を示す。
再び装置全体の説明に戻ると、反転部Dは、第
12図に示す如き反転機構60を備える(第1図
においては図示の便宜のため省略した)。該反転
機構60は、両側に対抗配置された板体62,6
2及びその内側に板体から回転自在で且つ同様に
対抗配置された回転円板64,64よりなる。板
体62及び回転円板64には図示の如く円形状及
びI字状の開口部が穿設され、回転円板側のI字
状開口部の適宜位置にはレール12aが架け渡さ
れる。尚、このレール12aは反転部Dの前後の
レール12とは切断されて別体とされている。更
に、該回転円板64の側方にはプーリ66が設け
られると共にベルト68が掛け渡され、モータ7
0の回転に応じてプーリ66が回転すると、それ
に従つてレール12a上の基板16を回転させる
如く構成される。尚、符号72はリミツトスイツ
チを、符号74,74は突起を示しており、回転
時に所定位置、即ち180度回転した位置で突起7
4がリミツトスイツチ72に接触して回転を停止
させる如くなつている。尚、回転時にはレール1
2a上の基板16は、抑え手段(図示せず)を介
して両側から固定される。
第2噴射部Eは、前記した第1噴射部Cと略同
一の構成を備える。即ち、同様に突当てクランプ
78、抑えクランプ80を備えると共に、X軸ア
ーム82及びY軸アーム84並びにインジエクタ
86を備え、インジエクタ86は圧送側パイプ8
8及び戻り側パイプ90に接続される。尚、符号
92はフイルタを、符号94は排気ダクトを示
す。ここで、樹脂の帰還路について更に説明する
と、両噴射部の戻り側パイプ46,90は分配器
50及びフイルタ92を介して三方弁87に接続
される。この三方弁87により、帰還樹脂は通常
時には分岐路89を通つてポンプ40に戻つて再
び送り出されると共に、作業停止等の液抜き時に
は分岐路91を通つて樹脂タンク36に戻る。
尚、装置休止時には、弁87は閉弁される。分岐
路89には背圧レギユレータ93が設けられ、帰
還樹脂の圧力を制御することにより、ノズルから
の噴射圧力を確保する。又、符号95は、第1噴
射部C用のレギユレータ44と同一構成で、設定
圧が3〜5Kg/cm2のレギユレータを示す。
初期乾燥部Fは、ヒータ96,96を備え、該
ヒータ96,96は基板16上の適宜位置に設置
されて、基板16に温風を吹き付け、塗布面を初
期硬化させるものである。又、ヒータ96,96
の背部にはフアン97,97が設けられて新気を
供給すると共に、温風はレール12の側方に設け
られたブロア(図示せず)を介して吸引される。
第2乾燥部Gは、ローラ100,100及びそ
の間に張設された無端ベルト102から構成され
るベルトコンベア104を備えており、該無端ベ
ルト102上には箱状のカツプ106が適宜個数
取着される。該カツプ106は、その内部に基板
16を部分的に収容してベルトコンベア上部にお
いて基板16を倒立位置に保持する如く構成され
る。尚、基板16を倒立せしめるのはその搬送方
向の占有スペースを減少させるためである。又、
ベルトコンベア104の上部には、その進行方向
に渡つてフアン108a,108b,108c,
108dが4個並列させられると共に、フアン1
08aの下部にはヒータ110が設けられる。
尚、符号112はヒータ110の温度を制御する
コントローラを、符号114は排気ダクトを示
す。
続いて、本装置の動作を説明しつつ第1発明た
る被膜形成方法について説明する。第2図は本装
置の動作を制御する制御ユニツト10のフロー・
チヤートであり、第3図は第1発明の実施例を示
す工程図である。
第2図フロー・チヤートに従つて本装置の動作
を説明すると、ステツプ130においてその部品
実装面側を上にしてレール上を搬送爪14によつ
て搬送されて来た基板16は、第3図aに示す如
く、最初に光透過センサ部18により機種判別を
受ける。この場合、3対の受光素子18a,18
b,18cの出力は、例えば第4図に示す如くに
なり、この出力結果から基板を3種類判別するこ
とが出来る。尚、図中“0”は受光素子の出力な
し、“1”は出力有りを示している。特に、受光
素子18aの出力は、基板16の有無を判別する
ことにも利用される。
機種判別が終わると、続いてステツプ132に
おいて基板16は、搬送爪14によつて第1噴射
部Cに押送される。第1噴射部Cにおいて基板1
6は、突当てクランプ20、抑えクランプ22に
よつて搬送路と直交する方向から押圧され、位置
決めされる(ステツプ134)。この場合、基板
16の後方には搬送爪が当接しているので、側方
より両クランプのロツド20c,22cによつて
押圧されることにより所定位置に固定される。
尚、突出クランプ20の突出圧力は比較的大に、
抑えクランプ22のそれは比較的に小に設定す
る。而してこの場合の固定位置は、ステツプ13
0で判別された基板機種に応じた制御ユニツト1
0の格納プログラムによつて決定される。
次にステツプ136において基板16は、その
部品面側に噴射機構26を介して溶融樹脂が噴射
される。この場合、前記した樹脂タンク36内に
はアクリル系樹脂と溶剤(トルエン又はキシレ
ン)が1対1の割合で混入され、ヒータ42の設
定温度を50℃とすることにより、その粘度が23〜
44cps、好ましくは36cps近傍に設定されると共
に、インジエクタ32からの噴射圧力は3〜5
Kg/cm2、好ましくは4Kg/cm2近傍に設定されてい
るので、インジエクタ32のキヤツツアイ32h
より吐出される溶融樹脂は、第13図aに示す如
く、霧化状となつて噴射される。本発明に係る形
式方法の場合、従来のエアスプレイ手法に比して
は圧縮空気の助けを借りることなく噴射するため
その噴射パターンは第10図に示した如く比較的
狭小であつてマスク作業する必要がなく、又従来
のフイルムコート手法に比しては塗布膜厚みを比
較的薄く出来ると共に中空支持部分の裏面側にも
噴霧の廻込みにより十分塗布することが出来る利
点を備える。ここで特徴的なことは、温度50℃で
23〜44cpsに溶融した樹脂をレギユレータ44,
95を介して3〜5Kg/cm2に調圧しつつインジエ
クタ32のキヤツツアイ32hから吐出する様に
したことから、キヤツツアイ32hの両端の絞り
部で圧力が高められて樹脂の粒子間に張力が生じ
て図示の如く噴射中の樹脂の回りにフイルムが形
成される様にしたことにある。このフイルムはキ
ヤツツアイ32hの出口付近で最も厚くなると共
に、下降するに従つて薄くなり、約40mm下降した
あたりで粒子間の張力が失われて拡散して霧化状
態となる。第13図aは第10図に示した噴射パ
ターンが形成される前の噴射中の状態をその長軸
に直交する方向、即ち横方向から見た説明断面図
であるが、フイルムは短軸方向に比して厚さが薄
くなるものの長軸方向にも回りこんで形成され、
その内部に霧化樹脂を包囲してその飛散を防止す
る。フイルムの厚さは約数百ミクロンである。こ
の場合、噴射機構26は制御ユニツト10の格納
プログラムに従つて移動し、インジエクタ32
(乃至ノズル32g)は第11図に示す如く、そ
のキヤツツアイ32hの長軸線を基板16の進行
方向と平行に保ちつつ、レール12と直交方向に
往復動しながら基板進行方向(乃至は後退方向)
に移動し、基板16に対し適宜設定された同一の
高さ、例えば40mm以上から溶融樹脂を噴射する。
尚、本実施例においてはノズルの高さ管理は行つ
ていないが、高さ方向を調節しても良いことは無
論である。この無気噴射の際には、ノズルの移動
速度とピツチ“p”(第11図)は、単位面積当
りの塗布量の大きさ、換言すればコーテイング実
効面積に応じて制御されると共に、折返し部12
0においては噴射を停止する。この様に噴射を停
止するのは、前記移動路において重ね塗りを回避
して樹脂の無駄乃至液ダレの発生等を防止するた
めである。又、ノズルの移動速度及び移動ピツチ
pは、部品の大きさ(高さ)が大きく及び集積密
度が高い、又はCPU、コネクタ等の如く絶縁、
防湿のリークに対する重要度が高い部品の有る位
置等では速度を遅く又はピツチpを狭くする。
続いて、第2図に示すステツプ138において
基板16の部品面側の塗布完了を確認した後、次
にステツプ140において両クランプのロツド2
0c,22cが基板16から離れて位置決め状態
が解除される。続いて基板16は搬送爪14によ
つて進行方向に移送され、反転部Dの反転機構6
0内に搬送されて半回転され、その半田面側を上
方に向けられる(ステツプ144,146)。第
3図cはこの状態を示す。即ち、無気噴射によつ
て必要最小限の厚みしかコーテイングしないの
で、塗布後直ちに反転させることが出来るもので
ある。
反転作業が終わると、反転機構60の停止に伴
つて搬送爪14が上昇し、基板16を反転機構6
0内から取り出して第2噴射部Eに移送する(ス
テツプ148)。この位置において、前記した第
1噴射部での動作と同一の動作が行われ、位置決
め及び噴射が行われる(ステツプ150,15
2)。第3図dはこの状態を示す。続いて、この
半田面側塗布完了が確認されると(ステツプ15
4)、両クランプ78,80が退避し、基板16
の位置決めが解除され(ステツプ156)、基板
16は初期乾燥部Fへ移送される(ステツプ15
8)。尚、塗布順序は半田面側を先に、部品面側
を後にしてもよい。
この初期乾燥部Fでは、第3図eに示す様に、
フアン97及びヒータ96による外気取込みによ
る加熱乾燥が行われて、塗布表面が初期硬化させ
られる。(ステツプ160)。
この初期乾燥が終わると、基板16は搬送爪1
4によつて第2乾燥部Gへ移送され、第3図fに
示すように、カツプ106内に其の先端を挿入さ
れ、次いでベルト102の移動により基板16は
縦方向に倒立される(ステツプ162)。この状
態において先ずヒータ110及びフアン108a
により加熱された空気が送風され、基板は加熱乾
燥される。次いで3個のフアン108b,108
c,108dにより順次常温乾燥させられる(ス
テツプ164)。尚、この第2乾燥部Gでの乾燥
時間は例えば13分間である。前述の如く、無気噴
射によつて必要最小限の厚みをもつてコーテイン
グするので、短時間の初期乾燥のみで長時間倒立
させても液ダレが生じないものである。第3図
g,hはこの状態を示す。最後に、第3図iに示
す如く、基板16をベルトコンベア上より取出し
て終了する(ステツプ166)。尚、カツプ10
6の側面には開口部を設けて通気性を上げると、
乾燥を促進できて便宜である。
尚、上記実施例では電子回路基板16の機種判
別を第1噴射部の前においてのみ行つたが、これ
に限られるものではなく位置決め終了後の位置で
実行しても良く、更には第2噴射部Eの前におい
て再度位置決め終了後に実行して良く、其れによ
り一時的に作業が中断された後の作業再開時にお
いて機種の再確認が可能となり、塗布が誤つてな
されることを回避できる。
(発明の効果) 本発明は上記の如く電子回路基板に樹脂剤を噴
射中に霧化樹脂を包囲して飛散を防止する様に回
りにフイルムが形成されることを可能としつつ無
気噴射する如く構成したので、液ダレ、塗布もれ
乃至は気泡の含有等の不都合が発生せず、樹脂と
溶剤の最小限の消費量で必要な厚さのコーテイン
グを行うことが出来、その作業時間も短縮するこ
とが出来る利点を有する。又、樹脂を噴霧化して
塗布するための部品実装面に凹凸があつてもその
側面部乃至はICピン等の中空支持部分の裏面に
も確実に塗布することが出来る利点を有し、又噴
射パターンが不要に拡散することがないからマス
ク作業が不要になつて塗布工程を簡略化すること
が出来る利点を有する。又、平面大略長円形状の
噴射パターンを描く様に、かつその長軸線が基板
進行方向と大略平行となる様に移動しつつ無気噴
射する如く構成したので、例えば短径と同程度の
直径からなる円形状の噴射パターンを描きつつ移
動噴射する場合に比して、塗布面積を基板進行方
向に対して広く取ることができると共に、第11
図に示した移動軌跡において行から行へ塗布する
場合にも塗布膜と塗布膜の重なりが少ないため、
塗布ムラを少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は第2発明に係る電子回路基板の被膜形
成装置の全体構成を示す説明斜視図、第2図は該
装置内の制御ユニツトの制御動作を示すフロー・
チヤート、第3図a乃至iは第1発明たる電子回
路基板の被膜形成方法の実施例を示す説明工程
図、第4図は機種判別動作を示す光透過センサの
出力図、第5図は突当てクランプ(抑えクラン
プ)の構造を示す説明断面図、第6図は噴射機構
の外形を示す説明斜視図、第7図はそのX軸(Y
軸)アームの説明断面図、第8図はインジエクタ
の説明断面図、第9図は該インジエクタのノズル
の正面図、第10図は噴射パターンの説明図、第
11図はノズルの移動軌跡を示す説明図、第12
図は反転機構の詳細を示す説明斜視図及び第13
図a乃至cは従来技術と比較した本発明における
無気噴射を示す説明図である。 10……制御ユニツト、12……レール、14
……搬送爪、16……電子回路基板、18……光
透過センサ部、26……噴射機構、32……イン
ジエクタ、32g……ノズル、36……樹脂タン
ク、86……インジエクタ、96……ヒータ、1
04……ベルトコンベア、106……カツプ、1
08a,108b,108c,108d……フア
ン、110……ヒータ、A……搬送部、B……機
種判別部、C……第1噴射部、D……反転部、E
……第2噴射部、F……初期乾燥部、G……第2
乾燥部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 a 電子回路基板を所定位置に位置決めする
    工程と、 b 絶縁樹脂剤を50℃の温度条件下で粘度23〜
    44cpsに溶融し、圧力3〜5Kg/cm2に調整しつ
    つキヤツツアイ孔形を備えた噴射ノズルに圧送
    し、前記位置決めされた電子回路基板上に平面
    大略長円形状の噴射パターンを描く様に、かつ
    その長軸線が基板進行方向と大略平行となる様
    に移動しつつ無気噴射する工程と、 及び、 c 無気噴射後の電子回路基板を乾燥する工程
    と、 から成ることを特徴とする電子回路基板の被膜形
    成方法。 2 a 電子回路基板を収受する搬送レール、 b 前記搬送レールに沿つて移動し、電子回路基
    板を噴射位置とその後段の乾燥位置とに搬送す
    る搬送爪、 c 前記噴射位置で電子回路基板を固定する突当
    てクランプ、 d 移動自在であつて大略キヤツツアイ状のノズ
    ル孔形を備え、50℃の温度条件下で粘度23〜
    44cpsに溶融され調整手段を介して圧力3〜5
    Kg/cm2に保持された絶縁樹脂剤を前記基板上に
    平面大略長円形状の噴射パターンを描く様に、
    かつその長軸線が基板進行方向と大略平行とな
    る様に移動しつつ無気噴射するインジエクタ、 及び、 e 無気噴射され前記搬送爪を介して乾燥位置に
    搬送された電子回路基板を加熱して乾燥させる
    ヒータ、 とから成ることを特徴とする電子回路基板の被膜
    形成装置。 3 前記噴射位置の前段に、電子回路基板の種類
    を判別する判別手段を設けたことを特徴とする特
    許請求の範囲第2項記載の電子回路基板の被膜形
    成装置。
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JPS6014517B2 (ja) * 1980-08-19 1985-04-13 ノ−ドソン株式会社 発泡型ホットメルトによって互いに固定されている電子部品と配線基板及びそれらの固定方法
JPS6034093A (ja) * 1983-08-05 1985-02-21 株式会社日立製作所 プリント回路板への液体ワニスの塗布方法

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