JPH0456848A - 感光材料 - Google Patents
感光材料Info
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- JPH0456848A JPH0456848A JP16427890A JP16427890A JPH0456848A JP H0456848 A JPH0456848 A JP H0456848A JP 16427890 A JP16427890 A JP 16427890A JP 16427890 A JP16427890 A JP 16427890A JP H0456848 A JPH0456848 A JP H0456848A
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- Japan
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- substituted
- unsubstituted
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、乾式法により画像を形成するための感光材料
に関する。
に関する。
〔従来の技術]
画像の形成あるいは記録に使われるエネルギーには、光
、音、電気 磁気、熱、粒子線(電子線、X線)、ある
いは化学エネルギーなどがあるが、そのうち特に、光、
電気 熱エネルギー、あるいはこれらの組合せが良く使
われている。
、音、電気 磁気、熱、粒子線(電子線、X線)、ある
いは化学エネルギーなどがあるが、そのうち特に、光、
電気 熱エネルギー、あるいはこれらの組合せが良く使
われている。
例えば、光エネルギーと化学エネルギーの組合せを用い
る画像形成方法には、銀塩写真法やジアゾ複写紙などを
用いる方法がある。また、光エネルギーと電気エネルギ
ーの組合せによる方法としては、電子写真システムがあ
る。さらに、熱エネルギーを利用する方法には、感熱記
録紙や転写記録紙などを用いた方法があり、一方、電気
エネルギーを利用するものとして静電記録紙 通電記録
紙 放電記録紙などを用いる方法が知られている。
る画像形成方法には、銀塩写真法やジアゾ複写紙などを
用いる方法がある。また、光エネルギーと電気エネルギ
ーの組合せによる方法としては、電子写真システムがあ
る。さらに、熱エネルギーを利用する方法には、感熱記
録紙や転写記録紙などを用いた方法があり、一方、電気
エネルギーを利用するものとして静電記録紙 通電記録
紙 放電記録紙などを用いる方法が知られている。
上述した画像形成方法のうち、高解像度の画像が得られ
るものに銀塩写真法がある。しかしながら、銀塩写真法
においては、煩雑な液剤を用いた現像・定着処理や画像
(プリント)の乾燥処理などが必要とされる。
るものに銀塩写真法がある。しかしながら、銀塩写真法
においては、煩雑な液剤を用いた現像・定着処理や画像
(プリント)の乾燥処理などが必要とされる。
これに対して、現像工程を乾式処理化した乾式銀塩感光
材料が知られている。これは、露光・加熱により露光部
が現像され、画像を形成するものである。このような乾
式銀塩感光材料の組成物として、有機銀塩、ハロゲン化
銀、還元剤、色調剤を含むものがある。
材料が知られている。これは、露光・加熱により露光部
が現像され、画像を形成するものである。このような乾
式銀塩感光材料の組成物として、有機銀塩、ハロゲン化
銀、還元剤、色調剤を含むものがある。
ここで、色調剤として用いられる化合物、としては、数
多くのものが知られており、例えば、2H−フタラジン
−1−オン、バルビッール酸、サッカリンと2−メルカ
プトベンゾオキサゾール、フタルイミド類及び2−アシ
ル−2H−フタラジン−1−オン類などがある。また、
特公昭56−26011号公報に記載されているような
複素環式化合物もある。
多くのものが知られており、例えば、2H−フタラジン
−1−オン、バルビッール酸、サッカリンと2−メルカ
プトベンゾオキサゾール、フタルイミド類及び2−アシ
ル−2H−フタラジン−1−オン類などがある。また、
特公昭56−26011号公報に記載されているような
複素環式化合物もある。
〔発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記色調剤を用いた感光材料では、画像
に良好なコントラストを得ることが難しく、また、感光
材料の生保存性が十分であるとはいい難かった。すなわ
ち、画像部の濃度が出すぎて画像にかぶりが生じたり、
感度が経時的に変化し安定していないなどの欠点を有し
ていた。
に良好なコントラストを得ることが難しく、また、感光
材料の生保存性が十分であるとはいい難かった。すなわ
ち、画像部の濃度が出すぎて画像にかぶりが生じたり、
感度が経時的に変化し安定していないなどの欠点を有し
ていた。
本発明の目的は、良好なコントラストを有する画像を、
より速く安定して形成し得る感光材料を提供するもので
ある。
より速く安定して形成し得る感光材料を提供するもので
ある。
[課題を解決するための手段]
本発明の上記課題は、支持体上に少なくとも有機銀塩、
ハロゲン化銀、還元剖及び色調剤を含む感光材料であっ
て、前記色rRMとして下記一般式[但し、式(I)中
、Rは炭素数2〜18のアルコキシアルキル基 炭素数
2〜18のアルコキシアルコキシル基、炭素数1〜18
のハロゲノアルキル基 炭素数1〜18のヒドロキシア
ルキル基 または炭素数1〜18のアミノアルキル基を
表す、〕 で表される化合物の少なくとも一種を用いることを特徴
とする感光材料により達成された。
ハロゲン化銀、還元剖及び色調剤を含む感光材料であっ
て、前記色rRMとして下記一般式[但し、式(I)中
、Rは炭素数2〜18のアルコキシアルキル基 炭素数
2〜18のアルコキシアルコキシル基、炭素数1〜18
のハロゲノアルキル基 炭素数1〜18のヒドロキシア
ルキル基 または炭素数1〜18のアミノアルキル基を
表す、〕 で表される化合物の少なくとも一種を用いることを特徴
とする感光材料により達成された。
即ち、一般式(I)で表される化合物を用いることによ
り、露光部で高い濃度を得、未露光部ではかぶりの少な
い、良好なコントラストを有する画像を安定して得るこ
とができるようになった。
り、露光部で高い濃度を得、未露光部ではかぶりの少な
い、良好なコントラストを有する画像を安定して得るこ
とができるようになった。
また、本発明によると、保存耐久性がよく、保存寿命の
長い感光材料を提供することができる。さらに、従来の
色調剤に比べて小量でもその効果があり、またγ(ガン
マ)が高くなり、重合画像への変換に好都合である等の
利点を有する。ここでγとは、感光体の分光特性曲線を
露光量を横軸、光学濃度を縦軸に取って表わしたときの
直線部の勾配をいう。
長い感光材料を提供することができる。さらに、従来の
色調剤に比べて小量でもその効果があり、またγ(ガン
マ)が高くなり、重合画像への変換に好都合である等の
利点を有する。ここでγとは、感光体の分光特性曲線を
露光量を横軸、光学濃度を縦軸に取って表わしたときの
直線部の勾配をいう。
以下、本発明の詳細な説明する。
一般式(1)中、Rで表される置換基としての炭素数2
〜18のアルコキシアルキル基としては、メトキシエチ
ル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピ
ル、エトキシブチル、プロポキシメチル、プロポキシブ
チル、■−プロポキシペンチル、t−ブトキシエチル、
ヘキシロキシブチルなどを挙げることができる。
〜18のアルコキシアルキル基としては、メトキシエチ
ル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピ
ル、エトキシブチル、プロポキシメチル、プロポキシブ
チル、■−プロポキシペンチル、t−ブトキシエチル、
ヘキシロキシブチルなどを挙げることができる。
炭素数2〜18のアルコキシアルコキシル基としては、
例えば、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、エトキ
シエトキシ、エトキシプロポキシ、i−プロポキシエト
キシ、メトキシブトキシ、エトキシブトキシ、エトキシ
へキシロキシなどを挙げることができる。
例えば、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、エトキ
シエトキシ、エトキシプロポキシ、i−プロポキシエト
キシ、メトキシブトキシ、エトキシブトキシ、エトキシ
へキシロキシなどを挙げることができる。
炭素数1〜18のハロゲノアルキル基としては、例えば
、クロロメチル、クロロエチル、ブロモエチル、クロロ
プロピル、クロロブチル、クロロヘキシル、クロロオク
チルなどを挙げることができる。
、クロロメチル、クロロエチル、ブロモエチル、クロロ
プロピル、クロロブチル、クロロヘキシル、クロロオク
チルなどを挙げることができる。
炭素数1〜18のヒドロキシアルキル基としては、例え
ば、 ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキ
シプロピル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペンチル、
ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシヘプチルなどを挙げる
ことができる。
ば、 ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキ
シプロピル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペンチル、
ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシヘプチルなどを挙げる
ことができる。
炭素数1〜18のアミノアルキル基としては、例えば、
アミノメチル、アセチルアミノメチル、ジメチルアミノ
メチル、アミノエチル、アセチルアミノエチル、ジメチ
ルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、モルホリノエ
チル、ピペリジノエチル、ジエチルアミノプロビル、ジ
プロピルアミノエチル、アセチルアミノプロピル、アミ
ノブチル、モルホリノブチル、などを挙げることができ
る。
アミノメチル、アセチルアミノメチル、ジメチルアミノ
メチル、アミノエチル、アセチルアミノエチル、ジメチ
ルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、モルホリノエ
チル、ピペリジノエチル、ジエチルアミノプロビル、ジ
プロピルアミノエチル、アセチルアミノプロピル、アミ
ノブチル、モルホリノブチル、などを挙げることができ
る。
一般式(I)で表される化合物の具体的な例としては、
7−メドキシエチルー1,3−ベンゾオキサジンジオン
、7−ニトキシエトキシー1.3−ベンゾオキサジンジ
オン、7−ブロボキシメチルー1.3−ベンゾオキサジ
ンジオン57−クロロプロピル−1,3−ベンゾオキサ
ジンジオンなどが挙げられる。
7−メドキシエチルー1,3−ベンゾオキサジンジオン
、7−ニトキシエトキシー1.3−ベンゾオキサジンジ
オン、7−ブロボキシメチルー1.3−ベンゾオキサジ
ンジオン57−クロロプロピル−1,3−ベンゾオキサ
ジンジオンなどが挙げられる。
本発明の感光材料に含まれるハロゲン化銀としては、塩
化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀などを
挙げることができ、これらは通常の写真裏側に対して行
なわれるような化学増感、光学増感処理が施されていて
もよい、つまり、化学増感としては、硫黄増感、貴金属
増感、還元増感などを用いることができ、光学増感とし
ては、従来よく知られている増感色素を用いた方法など
を適用できる。
化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀などを
挙げることができ、これらは通常の写真裏側に対して行
なわれるような化学増感、光学増感処理が施されていて
もよい、つまり、化学増感としては、硫黄増感、貴金属
増感、還元増感などを用いることができ、光学増感とし
ては、従来よく知られている増感色素を用いた方法など
を適用できる。
増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色素、
三核色素などが好ましく用いられる6例えば、3,3′
−ジカルボキシエチル−2,2′−チアカルボシアニン
アイオダイド、3,3′−ジエチル−2,2’−チアカ
ルボシアニンアイオダイド、3,3′−ジスルホエチル
−2,2°−チアジカルボシアニンアイオダイド、3,
3゛−ジエチル−2,2′−チアトリカルボシアニンア
イオダイド、さらに、下記構造式の色素が好ましく用い
られる。
三核色素などが好ましく用いられる6例えば、3,3′
−ジカルボキシエチル−2,2′−チアカルボシアニン
アイオダイド、3,3′−ジエチル−2,2’−チアカ
ルボシアニンアイオダイド、3,3′−ジスルホエチル
−2,2°−チアジカルボシアニンアイオダイド、3,
3゛−ジエチル−2,2′−チアトリカルボシアニンア
イオダイド、さらに、下記構造式の色素が好ましく用い
られる。
また、粒子内のハロゲン組成が均一あるいは異なった多
重構造を採っていても良い、ハロゲン組成、粒子サイズ
、粒子サイズ分布などが異なった二種以上のハロゲン化
銀を併用しても良い。
重構造を採っていても良い、ハロゲン組成、粒子サイズ
、粒子サイズ分布などが異なった二種以上のハロゲン化
銀を併用しても良い。
有機銀塩としては、 「写真工学の基礎」 (第1版、
1982年発行)非銀塩編、p247や、特開昭59−
55429号等に記載された有機酸銀やトリアゾール系
銀塩などを用いることができ、感光性の低い銀塩を用い
るのが好ましい6例えば、脂肪族カルボン酸、芳香族カ
ルボン酸、メルカプト基もしくはα−水素を有するチオ
カルボニル基化合物、およびイミノ基含有化合物などの
銀塩である。
1982年発行)非銀塩編、p247や、特開昭59−
55429号等に記載された有機酸銀やトリアゾール系
銀塩などを用いることができ、感光性の低い銀塩を用い
るのが好ましい6例えば、脂肪族カルボン酸、芳香族カ
ルボン酸、メルカプト基もしくはα−水素を有するチオ
カルボニル基化合物、およびイミノ基含有化合物などの
銀塩である。
脂肪族カルボン酸としては、酢酸、酪酸、コハク酸、セ
バシン酸、アジピン酸、オレイン酸、 リノール酸、
リルン酸、酒石酸、バルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、樟脳酸などがあるが、一般的に炭素数が少ないほ
ど銀塩としては不安定であるので適度な炭素数(例えば
、炭素数16〜26の範囲のもの)を有するものが好ま
しい。
バシン酸、アジピン酸、オレイン酸、 リノール酸、
リルン酸、酒石酸、バルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、樟脳酸などがあるが、一般的に炭素数が少ないほ
ど銀塩としては不安定であるので適度な炭素数(例えば
、炭素数16〜26の範囲のもの)を有するものが好ま
しい。
芳香族カルボン酸としては、安息香酸誘導体、キノリン
酸誘導体、ナフタレンカルボン酸誘導体、サリチル酸誘
導体、没食子酸、タンニン酸、フタル酸、フェニル酢酸
誘導体、ピロメリット酸等がある。
酸誘導体、ナフタレンカルボン酸誘導体、サリチル酸誘
導体、没食子酸、タンニン酸、フタル酸、フェニル酢酸
誘導体、ピロメリット酸等がある。
メルカプト基又はα−水素を有するチオカルボニル基化
合物としては、3−メルカプト−4−フェニル−1,2
,4−トリアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、2−メルカプト−5−アミノチアジアゾール、2−
メルカプトベンゾチアゾール、S−アルキルチオグリコ
ール酸(アルキル基炭素数12〜23)、ジチオ酢酸な
どジチオカルボン酸類、チオステアロアミドなどチオア
ミド類、5−カルボキシ−1−メチル−2−フェニル−
4−チオピリジン、メルカプトトリアジン、2−メルカ
プトベンゾオキサゾール、メルカプトオキサジアゾール
又は3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−トリ
アゾールなど、米国特許第4、123.274号記載の
メルカプト化合物が挙げられる。
合物としては、3−メルカプト−4−フェニル−1,2
,4−トリアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、2−メルカプト−5−アミノチアジアゾール、2−
メルカプトベンゾチアゾール、S−アルキルチオグリコ
ール酸(アルキル基炭素数12〜23)、ジチオ酢酸な
どジチオカルボン酸類、チオステアロアミドなどチオア
ミド類、5−カルボキシ−1−メチル−2−フェニル−
4−チオピリジン、メルカプトトリアジン、2−メルカ
プトベンゾオキサゾール、メルカプトオキサジアゾール
又は3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−トリ
アゾールなど、米国特許第4、123.274号記載の
メルカプト化合物が挙げられる。
イミノ基を含有する化合物としては、特公昭44−30
270号又は同45−18416号記載のベンゾトリア
ゾール若しくはその誘導体、例えばベンゾトリアゾール
、メチルベンゾトリアゾールなどアルキル置換ベンゾト
リアゾール類、5−クロロベンゾトリアゾール等、ハロ
ゲン置換ベンゾトリアゾール類、ブチルカルボイミドペ
ンシトリアゾ−、ルなどカルボイミドベンゾトリアゾー
ル類、特開昭58−118639号記載のニトロベンゾ
トリアゾール類、特開昭58−115638号記載のス
ルホベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾー
ルもしくはその塩、またはヒドロキシベンゾトリアゾー
ルなど、米国特許4,220,709号記載の1.2.
4−)リアゾールやIH−テトラゾール、カルバゾール
、サッカリン、イミダゾール及びその誘導体などが代表
例として挙げられる。
270号又は同45−18416号記載のベンゾトリア
ゾール若しくはその誘導体、例えばベンゾトリアゾール
、メチルベンゾトリアゾールなどアルキル置換ベンゾト
リアゾール類、5−クロロベンゾトリアゾール等、ハロ
ゲン置換ベンゾトリアゾール類、ブチルカルボイミドペ
ンシトリアゾ−、ルなどカルボイミドベンゾトリアゾー
ル類、特開昭58−118639号記載のニトロベンゾ
トリアゾール類、特開昭58−115638号記載のス
ルホベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾー
ルもしくはその塩、またはヒドロキシベンゾトリアゾー
ルなど、米国特許4,220,709号記載の1.2.
4−)リアゾールやIH−テトラゾール、カルバゾール
、サッカリン、イミダゾール及びその誘導体などが代表
例として挙げられる。
還元側としては、モノフェノール類、ビスフェノール類
、 トリスフェノール類、テトラキスフェノール類、モ
ノナフトール類、ビスナフトール類、ジヒドロキシナフ
タレン類、 トリヒドロキシナフタレン類、ジヒドロキ
シベンゼン類、 トリヒドロキシベンゼン類、テトラヒ
ドロキシベンゼン類、ヒドロキシアルキルモノエーテル
類、アルコルビン酸類、3−ピラゾリドン類、 ピラゾ
リン類、 ピラゾロン類、還元性糖類、フェニレンジア
ミン類、ヒドロキシアミン類、 レダクトン類、ヒドロ
オキサミン酸類、 ヒドラゾン類、アミドオキシム類、
N−ヒドロキシ尿素類を挙げることができる。
、 トリスフェノール類、テトラキスフェノール類、モ
ノナフトール類、ビスナフトール類、ジヒドロキシナフ
タレン類、 トリヒドロキシナフタレン類、ジヒドロキ
シベンゼン類、 トリヒドロキシベンゼン類、テトラヒ
ドロキシベンゼン類、ヒドロキシアルキルモノエーテル
類、アルコルビン酸類、3−ピラゾリドン類、 ピラゾ
リン類、 ピラゾロン類、還元性糖類、フェニレンジア
ミン類、ヒドロキシアミン類、 レダクトン類、ヒドロ
オキサミン酸類、 ヒドラゾン類、アミドオキシム類、
N−ヒドロキシ尿素類を挙げることができる。
さらに、本発明の感光材料において、重合パターンを得
るためには、還元剤として、下記一般式(II)、 (
m)及び(IV)で表される還元剤を用いるのが好まし
い。
るためには、還元剤として、下記一般式(II)、 (
m)及び(IV)で表される還元剤を用いるのが好まし
い。
一般式(n)中、R1およびR2は、各々独立に、水素
原子、ヒドロキシル基 ハロゲン原子、置換または無置
換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基 置
換または無置換のアルキニル幕置換または無置換のシク
ロアルキル基 もしくは置換または無置換のアラルキル
基 アルコキシル幕 置換または無置換のアミノ基を示
し、mは1〜3の整数を示し、Aは1価〜3価の基で、
置換または無置換のアラルキル基 置換または無置換の
アルキル基 置換アミノ基 2価のアルキリデン基 ア
ラルキリデン幕 3価のメチン基を示す。
原子、ヒドロキシル基 ハロゲン原子、置換または無置
換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基 置
換または無置換のアルキニル幕置換または無置換のシク
ロアルキル基 もしくは置換または無置換のアラルキル
基 アルコキシル幕 置換または無置換のアミノ基を示
し、mは1〜3の整数を示し、Aは1価〜3価の基で、
置換または無置換のアラルキル基 置換または無置換の
アルキル基 置換アミノ基 2価のアルキリデン基 ア
ラルキリデン幕 3価のメチン基を示す。
前記一般式(II)において、RIおよびR2の無置換
アルキル基は、好ましくは炭素数1から18の直鎖又は
分岐アルキルなどであり、例えば、メチル、エチル、
プロピル、 i−プロピル、 ブチル、 t−ブチル、
i−ブチル、 アミル、 i−アミル、 5ee−ア
ミル、テキシル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ
ル、 ドデシル、ステアリルなどを挙げることができる
。
アルキル基は、好ましくは炭素数1から18の直鎖又は
分岐アルキルなどであり、例えば、メチル、エチル、
プロピル、 i−プロピル、 ブチル、 t−ブチル、
i−ブチル、 アミル、 i−アミル、 5ee−ア
ミル、テキシル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ
ル、 ドデシル、ステアリルなどを挙げることができる
。
RIおよびR2の置換アルキル基は、好ましくは炭素数
2から18のアルコキシアルキル基、炭素数1から18
のハロゲノアルキル基 炭素数1から18のヒドロキシ
アルキル基 炭素数1から18のアミノアルキル基 な
どであり。
2から18のアルコキシアルキル基、炭素数1から18
のハロゲノアルキル基 炭素数1から18のヒドロキシ
アルキル基 炭素数1から18のアミノアルキル基 な
どであり。
例えば、アルコキシアルキル基としては、メトキシエチ
ル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピ
ル、エトキシブチル、プロポキシメチル、プロポキシブ
チル、i−プロポキシペンチル、t−ブトキシエチル、
ヘキシロキシブチルなどを挙げることができる。
ル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピ
ル、エトキシブチル、プロポキシメチル、プロポキシブ
チル、i−プロポキシペンチル、t−ブトキシエチル、
ヘキシロキシブチルなどを挙げることができる。
ハロゲノアルキル基としては、例えば、クロロメチル、
クロロエチル、ブロモエチル、クロロプロピル、クロロ
ブチル、クロロヘキシル、クロロオクチルなどを挙げる
ことができる。
クロロエチル、ブロモエチル、クロロプロピル、クロロ
ブチル、クロロヘキシル、クロロオクチルなどを挙げる
ことができる。
ヒドロキシアルキル基としては、例えば、ヒドロキシメ
チル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロ
キシブチル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル
、ヒドロキシへブチルなどを挙げることができる。
チル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロ
キシブチル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル
、ヒドロキシへブチルなどを挙げることができる。
アミノアルキル基としては、例えば、アミノメチル、ア
セチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、アミノエ
チル、アセチルアミノエチル、ジメチルアミノエチル、
ジエチルアミノエチル、モルホリノエチル、ピペリジノ
エチル、ジエチルアミノプロピル、ジプロピルアミノエ
チル、アセチルアミノプロピル、アミノブチル、モルホ
リノブチル、などを挙げることができる。
セチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、アミノエ
チル、アセチルアミノエチル、ジメチルアミノエチル、
ジエチルアミノエチル、モルホリノエチル、ピペリジノ
エチル、ジエチルアミノプロピル、ジプロピルアミノエ
チル、アセチルアミノプロピル、アミノブチル、モルホ
リノブチル、などを挙げることができる。
R1およびR2のアルケニル基としては、例えば、ビニ
ル、アリル、プレニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセ
ニル、ヘプテニル、オクテニル、などを挙げることがで
きる。
ル、アリル、プレニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセ
ニル、ヘプテニル、オクテニル、などを挙げることがで
きる。
アルキニル基としては、例えば、アセチル、プロパギル
、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプテニル、オ
クテニルなどを挙げることができる。
、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプテニル、オ
クテニルなどを挙げることができる。
シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチルである。
シクロヘキシル、シクロヘプチルである。
R1およびR2で表わされるアラルキル基としては、例
えば、ベンジル、フェネチル、 トリルメチルなどであ
る。
えば、ベンジル、フェネチル、 トリルメチルなどであ
る。
R1およびR2で表わされるアミノ基としては、例えば
、アセチルアミ人 ジメチルアミ人 ジエチルアミ人
アミノなどである。
、アセチルアミ人 ジメチルアミ人 ジエチルアミ人
アミノなどである。
R1およびR2で表わされるアルコキシル基としては、
例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシなどである。
例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシなどである。
以上のうち、R2として好ましい置換基は、塩素原子、
臭素原子、メチル、エチル、1−プロピル、t−ブチル
、5ee−アミル、テキシル、エトキシメチル、エトキ
シエチル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、アミノメ
チル、ジメチル−アミノメチル、ベンジルである。RI
として好ましい置換基は、塩素原子、 メチル、 エチ
ル、 i−プロピル、 t−ブチル、アミル、テキシル
、ヒドロキシル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、ベ
ンジル、シクロヘキシルである。
臭素原子、メチル、エチル、1−プロピル、t−ブチル
、5ee−アミル、テキシル、エトキシメチル、エトキ
シエチル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、アミノメ
チル、ジメチル−アミノメチル、ベンジルである。RI
として好ましい置換基は、塩素原子、 メチル、 エチ
ル、 i−プロピル、 t−ブチル、アミル、テキシル
、ヒドロキシル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、ベ
ンジル、シクロヘキシルである。
Aとして1価の基の置換もしくは無置換のアラルキル基
としては、例えば、ベンジル、p−メトキシベンジル、
p−N、 N−ジメチルアミノベンジル、p−ピロリジ
ノベンジル、p−メチルベンジル、p−ヒドロキシベン
ジル、p−クロロベンジル、3,5−ジクロロ−4−ヒ
ドロキシベンジル、3−メチル−5−t−ブチル−4−
ヒドロキシベンジル、o、p−ジメチルペンシル、3.
5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル、2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルベンジル、ナフチルメ
チル、などを挙げることができる。
としては、例えば、ベンジル、p−メトキシベンジル、
p−N、 N−ジメチルアミノベンジル、p−ピロリジ
ノベンジル、p−メチルベンジル、p−ヒドロキシベン
ジル、p−クロロベンジル、3,5−ジクロロ−4−ヒ
ドロキシベンジル、3−メチル−5−t−ブチル−4−
ヒドロキシベンジル、o、p−ジメチルペンシル、3.
5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル、2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルベンジル、ナフチルメ
チル、などを挙げることができる。
Aとして1価の基の置換もしくは無置換のアルキル基は
、例えば、メチル、エチル、i−プロピル、N、N−ジ
メチルアミノメチル、N−ベンジルアミノメチル、メト
キシメチル、エトキシメチル、 ヒドロキシメチル、メ
トキシカルボニルエチル、メトキシカルボニルメチル、
エトキシカルボニルエチル、などを挙げることができる
。
、例えば、メチル、エチル、i−プロピル、N、N−ジ
メチルアミノメチル、N−ベンジルアミノメチル、メト
キシメチル、エトキシメチル、 ヒドロキシメチル、メ
トキシカルボニルエチル、メトキシカルボニルメチル、
エトキシカルボニルエチル、などを挙げることができる
。
1価の基の置換アミノ基としては、メチルアミ人 ジメ
チルアミ人 ジエチルアミ人 アセチルアミノ、フェニ
ルアミノ、ジフェニルアミノ、 トリアジルアミ人 な
どを挙げることができる。
チルアミ人 ジエチルアミ人 アセチルアミノ、フェニ
ルアミノ、ジフェニルアミノ、 トリアジルアミ人 な
どを挙げることができる。
2価の基のアルキリデン基としては、例えば、メチレン
、エチリデン、プロピリデン、ブチリデン、などを挙げ
ることができる。
、エチリデン、プロピリデン、ブチリデン、などを挙げ
ることができる。
2価の基のアラルキリデン基としては、例えば、ベンジ
リデン、p−メチルベンジリデン、p−ジメチルアミノ
ベンジリデンなどを挙げることができる。
リデン、p−メチルベンジリデン、p−ジメチルアミノ
ベンジリデンなどを挙げることができる。
この中でAとして好ましい基としては、 1価のアラル
キル基、 2価のアルキリデン基、アラルキリデン基
3価のメチン基であり、 1価のアラルキル基及び2価
のアルキリデン基は、特に好ましい基である。
キル基、 2価のアルキリデン基、アラルキリデン基
3価のメチン基であり、 1価のアラルキル基及び2価
のアルキリデン基は、特に好ましい基である。
次に、一般式(II)で表わされる還元剤のうちで好ま
しい還元剤の具体例を挙げるが、これらに限定されない
。
しい還元剤の具体例を挙げるが、これらに限定されない
。
2.4−ジメチル−6−t−ブチルフェノール、2−メ
チル−4−1−プロピル−6−t−ブチルフェノール、
2,6−ジーt−ブチル−4−ジメチルアミノフェノー
ル、2,6−ジーt−ブチル−4−ヒドロキシメチルフ
ェノール、2−tブチル−6−ベンジル−4−メチルフ
ェノール、2.6−ジーt−ブチル−4−o−トリルメ
チルフェノール、2,6−ジt−ブチル−4−ベンジル
フェノール、2−t−ブチル−4−(p−メトキシベン
ジル)−5−メチルフェノール、2.6−シメチルー4
−(α−ナフチルメチル)フェノール、2.6−シーt
〜ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5
−メチルベンジル)フェノール、2−t−ブチル−4(
p−クロロベンジル)−6−シクロヘキジルフエノール
、2−t−ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルベンジル)−5−メチルフェノール、2−t−ブ
チル−4ベンジル−6−プロパギルフェノール、2,6
−ジーし一ブチルー4−(3,5−ジクロロ−4−ヒド
ロキシベンジル)フェノール、2,6−ジーし一ブチル
ー4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル)
フェノール、2,6−ジテキシルー4−(4−ヒドロキ
シベンジル)フェノール、2−テキシルー4−ベンジル
ー5−メチルフェノール、2−アリル−4−ベンジル−
5−メチルフェノール、2−テキシル−4−(p−クロ
ロベンジル)−5−アリルフェノール、2−クロロ−4
−ジメチルアミノメチルフェノール、2.6−ジーl−
プロピル−4−ジエチルアミノフェノール、2−t−ブ
チル−4−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メ
チルベンジル)フェノール、4,4′−メチレンビス(
2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4,4″−メチ
レンビス(2−t−ブチル−5−メチルフェノール)、
4,4″−メチレンビス(2−t−ブチル−6−メチル
フェノール)、4.4 −メチレンビス(2−テキシル
−6−メチルフェノール)、4.4′−メチレンビス(
2−シクロヘキシル−6−メチルフェノール)、4,4
゛−メチレンビス(2−ジクロロへキシル−6−t−ブ
チルフェノール)、4,4′エチリデンビス(2,6−
ジーt−ブチルフェノール)、4.4′−エチリデンビ
ス(2−t−ブチル−6−メチルフェノール)、4,4
′−エチリデンビス(2−シクロへキシル−6−メチル
フェノール)、4.4′−エチリデンビス(2−テキシ
ル−6−メチルフェノール)、4,4″−プロピリデン
ビス(2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4.4′
ブチリデンビス(2−t−ブチル−6−メチルフェノー
ル)、4.4″−ブチリデンビス(2−テキシルー6−
゛メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(2
−ジクロロへキシル−6−メチルフェノール)、ビス(
3,5−ジーを一ブチルー4−ヒドロキシフェニル)フ
ェニルメタン。
チル−4−1−プロピル−6−t−ブチルフェノール、
2,6−ジーt−ブチル−4−ジメチルアミノフェノー
ル、2,6−ジーt−ブチル−4−ヒドロキシメチルフ
ェノール、2−tブチル−6−ベンジル−4−メチルフ
ェノール、2.6−ジーt−ブチル−4−o−トリルメ
チルフェノール、2,6−ジt−ブチル−4−ベンジル
フェノール、2−t−ブチル−4−(p−メトキシベン
ジル)−5−メチルフェノール、2.6−シメチルー4
−(α−ナフチルメチル)フェノール、2.6−シーt
〜ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5
−メチルベンジル)フェノール、2−t−ブチル−4(
p−クロロベンジル)−6−シクロヘキジルフエノール
、2−t−ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルベンジル)−5−メチルフェノール、2−t−ブ
チル−4ベンジル−6−プロパギルフェノール、2,6
−ジーし一ブチルー4−(3,5−ジクロロ−4−ヒド
ロキシベンジル)フェノール、2,6−ジーし一ブチル
ー4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル)
フェノール、2,6−ジテキシルー4−(4−ヒドロキ
シベンジル)フェノール、2−テキシルー4−ベンジル
ー5−メチルフェノール、2−アリル−4−ベンジル−
5−メチルフェノール、2−テキシル−4−(p−クロ
ロベンジル)−5−アリルフェノール、2−クロロ−4
−ジメチルアミノメチルフェノール、2.6−ジーl−
プロピル−4−ジエチルアミノフェノール、2−t−ブ
チル−4−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メ
チルベンジル)フェノール、4,4′−メチレンビス(
2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4,4″−メチ
レンビス(2−t−ブチル−5−メチルフェノール)、
4,4″−メチレンビス(2−t−ブチル−6−メチル
フェノール)、4.4 −メチレンビス(2−テキシル
−6−メチルフェノール)、4.4′−メチレンビス(
2−シクロヘキシル−6−メチルフェノール)、4,4
゛−メチレンビス(2−ジクロロへキシル−6−t−ブ
チルフェノール)、4,4′エチリデンビス(2,6−
ジーt−ブチルフェノール)、4.4′−エチリデンビ
ス(2−t−ブチル−6−メチルフェノール)、4,4
′−エチリデンビス(2−シクロへキシル−6−メチル
フェノール)、4.4′−エチリデンビス(2−テキシ
ル−6−メチルフェノール)、4,4″−プロピリデン
ビス(2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4.4′
ブチリデンビス(2−t−ブチル−6−メチルフェノー
ル)、4.4″−ブチリデンビス(2−テキシルー6−
゛メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(2
−ジクロロへキシル−6−メチルフェノール)、ビス(
3,5−ジーを一ブチルー4−ヒドロキシフェニル)フ
ェニルメタン。
ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)(4−メトキシフェニル)メタン、ビス(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)(4−ジメ
チルアミノフェニル)メタン、 トリス(3,5−ジ−
t−ブチル−4〜ヒドロキシフエニル)メタン、ビス(
3−t−ブチル−4ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
フェニルメタン、などがある。
ル)(4−メトキシフェニル)メタン、ビス(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)(4−ジメ
チルアミノフェニル)メタン、 トリス(3,5−ジ−
t−ブチル−4〜ヒドロキシフエニル)メタン、ビス(
3−t−ブチル−4ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
フェニルメタン、などがある。
この中で特に好ましい還元剤としては、2,6−ジし一
ブチルー4−0− )リルメチルフェノール、2,6−
ジーt−ブチル−4−ベンジルフェノール、2,6−ジ
ーt−ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルベンジル)フェノール、2,6−ジーt−
ブチル−4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベン
ジル)フェノール、4.4’−メチレンビス(2,6−
ジーt−ブチルフェノール)、4.4″−メチレンビス
(2−t−ブチル−5−メチルフェノール)、4,4゛
−メチレンビス(2−t−ブチル−6−メチルフェノー
ル)、4,4″−エチリデンビス(2,6−ジーt−プ
チルフエノール)、4,4′−エチリデンビス(2−t
−ブチル−6−メチルフェノール)、4.4′−プロピ
リデンビス(2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4
,4′−ブチリデンビス(2−シクロへキシル−6−メ
チルフェノール)、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、 ビス(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)(4−
メトキシフェニル)メタン、ビス(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)(4−ジメチルアミノ
フェニル)メタン、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)メタンである。
ブチルー4−0− )リルメチルフェノール、2,6−
ジーt−ブチル−4−ベンジルフェノール、2,6−ジ
ーt−ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルベンジル)フェノール、2,6−ジーt−
ブチル−4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベン
ジル)フェノール、4.4’−メチレンビス(2,6−
ジーt−ブチルフェノール)、4.4″−メチレンビス
(2−t−ブチル−5−メチルフェノール)、4,4゛
−メチレンビス(2−t−ブチル−6−メチルフェノー
ル)、4,4″−エチリデンビス(2,6−ジーt−プ
チルフエノール)、4,4′−エチリデンビス(2−t
−ブチル−6−メチルフェノール)、4.4′−プロピ
リデンビス(2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4
,4′−ブチリデンビス(2−シクロへキシル−6−メ
チルフェノール)、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、 ビス(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)(4−
メトキシフェニル)メタン、ビス(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)(4−ジメチルアミノ
フェニル)メタン、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)メタンである。
酸化還元反応により光吸収性有機化合物となる還元剤と
しては、例えば下記一般式(m)の化合物が挙げられる
。
しては、例えば下記一般式(m)の化合物が挙げられる
。
H
一般式(m)式中、R5は、水素原子、アルキル基 シ
クロアルキル基 アラルキル基を表わし、f(2、R4
,およびR6は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基 アミノ基 アリール基 アラルキル基 アル
コキシル基 ニトロ基 アシル幕シアノ基を表わし、R
7は水素原子、置換または無置換のアルキル基 置換ま
たは無置換のアリール基を表わし、alは水素原子、ヒ
ドロキシル基 ハロゲン原子、置換または無置換のアル
キル基 シクロアルキル基 アルコキシル基 置換また
は無置換のアミノ基を表わす。
クロアルキル基 アラルキル基を表わし、f(2、R4
,およびR6は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基 アミノ基 アリール基 アラルキル基 アル
コキシル基 ニトロ基 アシル幕シアノ基を表わし、R
7は水素原子、置換または無置換のアルキル基 置換ま
たは無置換のアリール基を表わし、alは水素原子、ヒ
ドロキシル基 ハロゲン原子、置換または無置換のアル
キル基 シクロアルキル基 アルコキシル基 置換また
は無置換のアミノ基を表わす。
一般式(III)中、al 、 R3,R’およびR6
のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子が挙げられる。
のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子が挙げられる。
at 、 R” 、 R’ 、 R’ 、 R’および
R7ノアルキル基トシテハ、置換あるいは無置換の炭素
数1から18までの!鎖または分岐アルキル基が好まし
く、例えば、メチル、 エチル、 プロピル、 】−プ
ロピル、 ブチル、 t−ブチル、 l−ブチル、 ア
ミル、 l−アミル、 ヘキシル、テキシル、ヘプチル
、オクチル、ノニル、 ドデシル、ステアリル等の直鎖
又は分岐の炭化水素基メトキシエチル、エトキシエチル
、エトキシプロピル、エトキシブチル、プロポキシブチ
ル、1−プロポキシペンチル、t−ブトキシエチル、ヘ
キシロキシブチル等の直鎖又は分岐のアルコキシアルキ
ル幕 ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキ
シプロピル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペンチル、
ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシへブチル等のヒドロキ
シアルキル幕 アミノメチル、ジメチルアミノメチル、
アミノエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノ
エチル、モルホリノエチル、ピペリジノエチル、アミノ
プロピル、ジエチルアミノプロビル、ジプロピルアミノ
エチル、アミノブチル、モルホリノブチル等のアミノア
ルキル又はアルキルアミノアルキル基である。
R7ノアルキル基トシテハ、置換あるいは無置換の炭素
数1から18までの!鎖または分岐アルキル基が好まし
く、例えば、メチル、 エチル、 プロピル、 】−プ
ロピル、 ブチル、 t−ブチル、 l−ブチル、 ア
ミル、 l−アミル、 ヘキシル、テキシル、ヘプチル
、オクチル、ノニル、 ドデシル、ステアリル等の直鎖
又は分岐の炭化水素基メトキシエチル、エトキシエチル
、エトキシプロピル、エトキシブチル、プロポキシブチ
ル、1−プロポキシペンチル、t−ブトキシエチル、ヘ
キシロキシブチル等の直鎖又は分岐のアルコキシアルキ
ル幕 ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキ
シプロピル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペンチル、
ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシへブチル等のヒドロキ
シアルキル幕 アミノメチル、ジメチルアミノメチル、
アミノエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノ
エチル、モルホリノエチル、ピペリジノエチル、アミノ
プロピル、ジエチルアミノプロビル、ジプロピルアミノ
エチル、アミノブチル、モルホリノブチル等のアミノア
ルキル又はアルキルアミノアルキル基である。
a、およびR5のシクロアルキル基としては、置換また
は無置換のシクロアルキル基で、炭素数5から18のも
のが好ましく、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロへブチル、シクロオクチル、メチルシクロヘ
キシル、ジメチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキシ
ル基等である。
は無置換のシクロアルキル基で、炭素数5から18のも
のが好ましく、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロへブチル、シクロオクチル、メチルシクロヘ
キシル、ジメチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキシ
ル基等である。
a、 、 R” 、 R’およびR6のアミノ基として
は、置換または無置換のアミノ基で、例えば、アミ人
アセチルアミ人 メチルアミ人 ジメチルアミ人 ジエ
チルアミ人 ビロリジ人 モルホリ人 ベンゼンスルホ
ンアミド、 トルエンスルホンアミド、ジプロピルアミ
人 ジブチルアミノ基などである。
は、置換または無置換のアミノ基で、例えば、アミ人
アセチルアミ人 メチルアミ人 ジメチルアミ人 ジエ
チルアミ人 ビロリジ人 モルホリ人 ベンゼンスルホ
ンアミド、 トルエンスルホンアミド、ジプロピルアミ
人 ジブチルアミノ基などである。
R2、R4、R6およびR7のアリール基としては、置
換または無置換の炭素数6から16のアリール基が好ま
しく、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェ
ナントリル、 トリル、キシリル、クメニル、メシチル
、クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオロフェニ
ル基等である。
換または無置換の炭素数6から16のアリール基が好ま
しく、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェ
ナントリル、 トリル、キシリル、クメニル、メシチル
、クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオロフェニ
ル基等である。
a、 、 R’ 、 R’およびR6のアルコキシル基
としては、炭素数1から18の置換または無置換のアル
コキシル基が好ましく、例えば、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、i−プロポキシ、ブトキシ等である。
としては、炭素数1から18の置換または無置換のアル
コキシル基が好ましく、例えば、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、i−プロポキシ、ブトキシ等である。
R3、R4、R6およびR6のアラルキル基としては、
置換または無置換の炭素数7から19のアラルキル基が
好ましく、 例えば、ベンジル、フェネチル、ベンズヒ
ドリル、 トリチル、フェニルプロピル、ナフチルメチ
ル、クロロベンジル、ジクロロベンジル、メトキシベン
ジル、メチルベンジル基等である。
置換または無置換の炭素数7から19のアラルキル基が
好ましく、 例えば、ベンジル、フェネチル、ベンズヒ
ドリル、 トリチル、フェニルプロピル、ナフチルメチ
ル、クロロベンジル、ジクロロベンジル、メトキシベン
ジル、メチルベンジル基等である。
R’a 、 RaおよびR6のアシル基としては、アセ
チル、プロピオニルなどが挙げられる。
チル、プロピオニルなどが挙げられる。
上記置換基を有する一般式(m)で表わされる化合物の
具体例をあげると、 4.4′−メチレンビス(2−メチル−1−ナフトール
)、4.4″−メチレンビス(2−エチル−1−ナフト
ール)、4.4°−メチレンビス(2−t−ブチル−1
−ナフトール)、4.4′〜メチレンビス(2−シクロ
へキシル−1−ナフトール)、4,4′−メチレンビス
(2−t−ブチル−6−メチル−■−ナフトール)、4
.4’−メチレンビス(2,6−シエチルー■−ナフト
ール)、4,4′−メチレンビス(2−ベンジル−1−
ナフトール)、4.4′−メチレンビス(2−t−ブチ
ル−8−メチル−l−ナフトール)、4.4”−メチレ
ンビス(2−メチル−5−クロロ−1−ナフトール)、
4,4′−メチレンビス(2−メチル−8−ジメチル
アミノ−1−ナフトール)、4,4″−メチレンビス(
2−メチル−5−ベンジルナフトール)、4,4′−メ
チレンビス(2−メチル−5−メトキシ−1−ナフトー
ル)、4,4′−メチレンビス(2−メチル−5−フェ
ニル−1−ナフトール)、4−(3’−シクロへキシル
−4′−ヒドロキシナフチル)メチル−2−メチル−1
−ナフトール、4−(3°−t−ブチル−4′−ヒドロ
キシナフチル)メチル−2−メチル−1−ナフトール。
具体例をあげると、 4.4′−メチレンビス(2−メチル−1−ナフトール
)、4.4″−メチレンビス(2−エチル−1−ナフト
ール)、4.4°−メチレンビス(2−t−ブチル−1
−ナフトール)、4.4′〜メチレンビス(2−シクロ
へキシル−1−ナフトール)、4,4′−メチレンビス
(2−t−ブチル−6−メチル−■−ナフトール)、4
.4’−メチレンビス(2,6−シエチルー■−ナフト
ール)、4,4′−メチレンビス(2−ベンジル−1−
ナフトール)、4.4′−メチレンビス(2−t−ブチ
ル−8−メチル−l−ナフトール)、4.4”−メチレ
ンビス(2−メチル−5−クロロ−1−ナフトール)、
4,4′−メチレンビス(2−メチル−8−ジメチル
アミノ−1−ナフトール)、4,4″−メチレンビス(
2−メチル−5−ベンジルナフトール)、4,4′−メ
チレンビス(2−メチル−5−メトキシ−1−ナフトー
ル)、4,4′−メチレンビス(2−メチル−5−フェ
ニル−1−ナフトール)、4−(3’−シクロへキシル
−4′−ヒドロキシナフチル)メチル−2−メチル−1
−ナフトール、4−(3°−t−ブチル−4′−ヒドロ
キシナフチル)メチル−2−メチル−1−ナフトール。
4−(3’−シクロヘキシル−4″〜ヒドロキシナフチ
ル)メチル−2−t−ブチル−1−ナフトール、4,4
′−ベンジリデンビス(2−メチル−1−ナフトール)
4.4’−ベンジリデンビス(2−メチル−1〜ナ
フトール)、4,4′−ベンジリデンビス(2−t−ブ
チル−1−ナフトール)、4.4′−エチリデンビス(
2−メチル−1−ナフトール)、4.4”−エチリデン
ビス(2−t−ブチル−1−ナフトール)、ビス(4−
ヒドロキシ−3−メチルナフチル)トリルメタンなどで
ある。
ル)メチル−2−t−ブチル−1−ナフトール、4,4
′−ベンジリデンビス(2−メチル−1−ナフトール)
4.4’−ベンジリデンビス(2−メチル−1〜ナ
フトール)、4,4′−ベンジリデンビス(2−t−ブ
チル−1−ナフトール)、4.4′−エチリデンビス(
2−メチル−1−ナフトール)、4.4”−エチリデン
ビス(2−t−ブチル−1−ナフトール)、ビス(4−
ヒドロキシ−3−メチルナフチル)トリルメタンなどで
ある。
酸化還元反応により光吸収性有機化合物となる更に他の
還元剖として、下記一般式(rV)の化合物が挙げられ
る。
還元剖として、下記一般式(rV)の化合物が挙げられ
る。
一般式(IV)中、RI 、 RQ 、 RI lおよ
びR1+は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、置
換または無置換のアルキル基 シクロアルキル基 アル
コキシル基 置換または無置換のアラルキル基 置換ま
たは無置換のアリール基 置換または無置換のアミノ基
ニトロ基 アシル基を示し、Zは2価のL agお
よびa3は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、
置換または無置換のアルキル基、アルコキシル基 置換
または無置換のアミノ基を表わし、−少なくともa2お
よびa3のどちらかはヒドロキシル基である。
びR1+は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、置
換または無置換のアルキル基 シクロアルキル基 アル
コキシル基 置換または無置換のアラルキル基 置換ま
たは無置換のアリール基 置換または無置換のアミノ基
ニトロ基 アシル基を示し、Zは2価のL agお
よびa3は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、
置換または無置換のアルキル基、アルコキシル基 置換
または無置換のアミノ基を表わし、−少なくともa2お
よびa3のどちらかはヒドロキシル基である。
前記一般式(IV)において、RI 、 R’ 、 l
i I @ 、 R11、a2およびa、が表わすハロ
ゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素である
。
i I @ 、 R11、a2およびa、が表わすハロ
ゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素である
。
前記一般式(IV)において、R11J9JIQ、RI
、a、。
、a、。
およびa、が表わすアルキル基としては、好ましくは炭
素数1から18の直鎖又は分岐アルキルなどであり、例
えば、メチル、エチル、プロピル、 i−プロピル、ブ
チル、t−ブチル、i−ブチル、アミル、i−アミル、
5ec−アミル、テキシル、ヘキシル、 ヘプチル、オ
クチル、ノニル、 ドデシル、ステアリルなどであり、
また置換アルキル基は、好ましくは炭素数2から18の
アルコキシアルキル基 炭素数1から18のハロゲノア
ルキル基 炭素数1から18のヒドロキシアルキル基
炭素数1から18のアミノアルキル基などであり、例え
ば、メトキシエチル、エトキシメチル、エトキシエチル
、エトキシプロピル、エトキシブチル、プロポキシブチ
ル、l−プロポキシペンチル、t−ブトキシエチル、ヘ
キシロキシブチル、クロロメチル、クロロエチル、ブロ
モエチル、クロロプロピル、クロロブチル、クロロヘキ
シル、クロロオクチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシ
エチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル、ヒド
ロキシペンチル、 ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシへ
ブチル、アミノメチル、アセチルアミノメチル、ジメチ
ルアミノメチル、アミノエチル、アセチルアミノエチル
、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、モル
ホリノエチル、ピペリジノエチル、ジエチルアミノプロ
ビル、ジプロピルアミノエチル、アミノプロピル、アセ
チルアミノプロピル、アミノブチル、モルホリノブチル
などを挙げることができる。
素数1から18の直鎖又は分岐アルキルなどであり、例
えば、メチル、エチル、プロピル、 i−プロピル、ブ
チル、t−ブチル、i−ブチル、アミル、i−アミル、
5ec−アミル、テキシル、ヘキシル、 ヘプチル、オ
クチル、ノニル、 ドデシル、ステアリルなどであり、
また置換アルキル基は、好ましくは炭素数2から18の
アルコキシアルキル基 炭素数1から18のハロゲノア
ルキル基 炭素数1から18のヒドロキシアルキル基
炭素数1から18のアミノアルキル基などであり、例え
ば、メトキシエチル、エトキシメチル、エトキシエチル
、エトキシプロピル、エトキシブチル、プロポキシブチ
ル、l−プロポキシペンチル、t−ブトキシエチル、ヘ
キシロキシブチル、クロロメチル、クロロエチル、ブロ
モエチル、クロロプロピル、クロロブチル、クロロヘキ
シル、クロロオクチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシ
エチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル、ヒド
ロキシペンチル、 ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシへ
ブチル、アミノメチル、アセチルアミノメチル、ジメチ
ルアミノメチル、アミノエチル、アセチルアミノエチル
、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、モル
ホリノエチル、ピペリジノエチル、ジエチルアミノプロ
ビル、ジプロピルアミノエチル、アミノプロピル、アセ
チルアミノプロピル、アミノブチル、モルホリノブチル
などを挙げることができる。
RI 、 R11、R1@およびR11が表わすアリー
ル基としては、例えば、フェニル、ナフチル、アントリ
ル、フェナントリルであり、置換アリール基としては、
例えば、 トリル、キシリル、 クメニル、メシチル、
クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオロフェニル
基等である。
ル基としては、例えば、フェニル、ナフチル、アントリ
ル、フェナントリルであり、置換アリール基としては、
例えば、 トリル、キシリル、 クメニル、メシチル、
クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオロフェニル
基等である。
R11、RQ、 RI 8およびRI+が表わすアラル
キル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、ベン
ズヒドリル、 トリチル、フェニルプロピル、ナフチル
メチルなど、置換アラルキル基としては、例えば、クロ
ロベンジル、ジクロロベンジル、メトキシベンジル、メ
チルベンジルなどである。
キル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、ベン
ズヒドリル、 トリチル、フェニルプロピル、ナフチル
メチルなど、置換アラルキル基としては、例えば、クロ
ロベンジル、ジクロロベンジル、メトキシベンジル、メ
チルベンジルなどである。
RI 、 RI 、 RI 11 、 RI I 、
a2およびa3が表わすシクロアルキル基としては、例
えば、 5員環、 6員環、 7員環のシクロアルキル
基で、アルキル基で置換されてもよい。
a2およびa3が表わすシクロアルキル基としては、例
えば、 5員環、 6員環、 7員環のシクロアルキル
基で、アルキル基で置換されてもよい。
RI 、 IQ 、 R1m 、 R11、@、および
a3が表わすアルコキシル基としては1例えば、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、i−プロポキシ
、ベンジロキシ、2−フェニルエトキシなどである。
a3が表わすアルコキシル基としては1例えば、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、i−プロポキシ
、ベンジロキシ、2−フェニルエトキシなどである。
al!およびa3が表わす置換または無置換のアミノ基
としては、例えば、アミ人 アセチルアミノ、メチルア
ミ人 イソプロピルアミ人 ジメチルアミノ、フェニル
アミノ、ジエチルアミノ、シクロペンチルアミノ、シク
ロペンチルメチルアミノ、シクロヘキシルアミ人 ピペ
リジ人 ピロリジノなどである。
としては、例えば、アミ人 アセチルアミノ、メチルア
ミ人 イソプロピルアミ人 ジメチルアミノ、フェニル
アミノ、ジエチルアミノ、シクロペンチルアミノ、シク
ロペンチルメチルアミノ、シクロヘキシルアミ人 ピペ
リジ人 ピロリジノなどである。
2は2価の基を表わし、例えば、アルキリデン基 アラ
ルキリデン基であり、具体的にはメチレン、エチリデン
、プロピリデン、ベンジリデン、シンナミリデン、p−
ヒドロキシベンジリデン、p−メチルベンジリデン、p
−ジメチルアミノベンジリデンなどが好ましい。
ルキリデン基であり、具体的にはメチレン、エチリデン
、プロピリデン、ベンジリデン、シンナミリデン、p−
ヒドロキシベンジリデン、p−メチルベンジリデン、p
−ジメチルアミノベンジリデンなどが好ましい。
以下に、上記一般式(IV)で表わされる化合物のうち
、特に好ましいものの具体例を挙げるが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
、特に好ましいものの具体例を挙げるが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
一般式(IV)で表わされる化合物の具体例として、2
−メチル−4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチル−4−(
3,5−ジー1−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メ
チル−1−ナフトール、2−メチル−4−(4−ヒドロ
キシフェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチル−
4−p−トリルメチル−1−ナフトール、2−メチル−
4−ベンジル−1−ナフトール、2−t−ブチル−4−
(4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフトール、
2〜メチル−4−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシ
フェニル)メチル−1−ナフトール。
−メチル−4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチル−4−(
3,5−ジー1−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メ
チル−1−ナフトール、2−メチル−4−(4−ヒドロ
キシフェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチル−
4−p−トリルメチル−1−ナフトール、2−メチル−
4−ベンジル−1−ナフトール、2−t−ブチル−4−
(4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフトール、
2〜メチル−4−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシ
フェニル)メチル−1−ナフトール。
2−エチル−4−(3,5−ジーも一ブチルー4−ヒド
ロキシフェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチル
−4−(3,5−ジメトキシ−4−ヒドロキシフェニル
)メチル−1−ナフトール、2−メチル−4−(3−メ
チル−4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフトー
ル、2−t−ブチル−4−(3−tブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)メチル−1−ナフトール、2,6−ジー
t−ブチル−4−α−ナフチルメチルフェノール、2,
6−ジーt−ブチル−4−メトキシナフチルメチルフェ
ノール、2−メチル−4−(3−クロロ−4−ヒドロキ
シフェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチル−4
−(4−ジメチルアミノフェニル)メチル−1−ナフト
ール、2−エチル−4−ジフェニルメチル−1−ナフト
ール、2−メチル−4−(3−シクロへキシル−4−ヒ
ドロキシフェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチ
ル−4(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)メチ
ル−1−ナフトール、2−メチル−4−(3−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)メチル−1
−ナフトール、2メチル−4−ベンジル−6−メチル−
1−ナフトールなどである。
ロキシフェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチル
−4−(3,5−ジメトキシ−4−ヒドロキシフェニル
)メチル−1−ナフトール、2−メチル−4−(3−メ
チル−4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフトー
ル、2−t−ブチル−4−(3−tブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)メチル−1−ナフトール、2,6−ジー
t−ブチル−4−α−ナフチルメチルフェノール、2,
6−ジーt−ブチル−4−メトキシナフチルメチルフェ
ノール、2−メチル−4−(3−クロロ−4−ヒドロキ
シフェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチル−4
−(4−ジメチルアミノフェニル)メチル−1−ナフト
ール、2−エチル−4−ジフェニルメチル−1−ナフト
ール、2−メチル−4−(3−シクロへキシル−4−ヒ
ドロキシフェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチ
ル−4(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)メチ
ル−1−ナフトール、2−メチル−4−(3−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)メチル−1
−ナフトール、2メチル−4−ベンジル−6−メチル−
1−ナフトールなどである。
なお、上記還元剤(一般式(II)、(I[[)、(■
))のうち、 2種以上を併用しても良い。
))のうち、 2種以上を併用しても良い。
また、上記還元側以外の従来の還元剤と併用しても良い
。
。
本発明の感光材料を用いて重合画像を得る場合には、光
重合開始剤および重合性ポリマー前駆体を用いればよい
。
重合開始剤および重合性ポリマー前駆体を用いればよい
。
光重合開始剤としては、例えばカルボニル化合物、イオ
ウ化合物、ハロゲン化合物、レドックス系光重合開始剤
、ビリリウム等の染料で増感される過酸化物系開始剤な
どを挙げることができる。
ウ化合物、ハロゲン化合物、レドックス系光重合開始剤
、ビリリウム等の染料で増感される過酸化物系開始剤な
どを挙げることができる。
具体的には、カルボニル化合物としては、例えば、ベン
ジル、4,4′−ジメトキシベンジル、ジアセチル、カ
ンファーキノンなどのジケトン類;例えば4,4″−ビ
ス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4.4′−ジメ
トキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類; 例え
ばアセトフェノン、4−メトキシアセトフェノンなどの
アセトフェノン類:ベンゾインアルキルエーテル類;例
えば2−クロロチオキサントン、2,4−シクロロチオ
キサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、チオキ
サントン−3−カルボン酸−β−メトキシエチルエステ
ルなどのチオキサントン類; ジアルキルアミノ基を有
するカルコン類およびスチリルケトン類;3,3”−カ
ルボニルビス(7−メドキシクマリン)、3,3′−カ
ルボニルビス(7−ジニチルアミノクマリン)などのク
マリン類などが挙げられる。
ジル、4,4′−ジメトキシベンジル、ジアセチル、カ
ンファーキノンなどのジケトン類;例えば4,4″−ビ
ス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4.4′−ジメ
トキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類; 例え
ばアセトフェノン、4−メトキシアセトフェノンなどの
アセトフェノン類:ベンゾインアルキルエーテル類;例
えば2−クロロチオキサントン、2,4−シクロロチオ
キサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、チオキ
サントン−3−カルボン酸−β−メトキシエチルエステ
ルなどのチオキサントン類; ジアルキルアミノ基を有
するカルコン類およびスチリルケトン類;3,3”−カ
ルボニルビス(7−メドキシクマリン)、3,3′−カ
ルボニルビス(7−ジニチルアミノクマリン)などのク
マリン類などが挙げられる。
イオウ化合物としては、例えばジペンゾチアゾリルスル
フィド、デシルフェニルスルフィド、ジスルフィド類な
どが挙げられる。
フィド、デシルフェニルスルフィド、ジスルフィド類な
どが挙げられる。
ハロゲン化合物としては、例えば四臭化炭素、キノリン
スルホニルクロライド、 トリハロメチル基を有するS
−トリアジン類などが挙げられる。
スルホニルクロライド、 トリハロメチル基を有するS
−トリアジン類などが挙げられる。
レドックス系の光重合開始剤としては、3価の鉄イオン
化合物(例えばクエン酸第2鉄アンモニウム)と過酸化
物などを組み合せて用いるものや、リボフラビン、メチ
レンブルーなどの光還元性色素とトリエタノールアミン
、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せて用いるもの
などが挙げられまた以上に述べた光重合開始剤(増感剤
も含む)において、 2種以上の光重合開始剤を組み合
せてより効率の良い光重合を行なうこともできる。
化合物(例えばクエン酸第2鉄アンモニウム)と過酸化
物などを組み合せて用いるものや、リボフラビン、メチ
レンブルーなどの光還元性色素とトリエタノールアミン
、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せて用いるもの
などが挙げられまた以上に述べた光重合開始剤(増感剤
も含む)において、 2種以上の光重合開始剤を組み合
せてより効率の良い光重合を行なうこともできる。
この様な光重合開始剤の組み合せとしては、ジアルキル
アミノ基を有するカルコンおよびスチリルケトン類やク
マリン類と、 トリハロメチル基を有するS−トリアジ
ン類やカンファーキノンとの組み合せなどが挙げられる
。
アミノ基を有するカルコンおよびスチリルケトン類やク
マリン類と、 トリハロメチル基を有するS−トリアジ
ン類やカンファーキノンとの組み合せなどが挙げられる
。
本発明の感光材料では、感光波長域が370〜520n
mの光重合開始剤が好ましく用いられる。
mの光重合開始剤が好ましく用いられる。
本発明では、還元剤の酸化還元反応によって生じた光吸
収性有機化合物の光吸収特性によって、使用する光重合
開始剤を適宜選択する必要がある。
収性有機化合物の光吸収特性によって、使用する光重合
開始剤を適宜選択する必要がある。
このような還元剤と光重合開始剤の組合わせの一例を以
下に挙げる。
下に挙げる。
例えば、還元剤として、4.4′−プロピリデンビス(
2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4,4′−ブチ
リデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)
、4.4’−メチレンビス(2,6−ジーt−ブチルフ
ェノール)、4.4′−メチレンビス(2−t−ブチル
−6−メチルフェノール)、2.6−ジーも一ブチルー
4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メ
チルフェノール、2−メチル−4(3,5〜ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)メチル−1ナフトールなどを
使用した場合は、380nm〜420nmに感度を有す
る光重合開始剤、例えば、2−クロロチオキサントン、
2−メチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサ
ントン、2,4−ジエチルチオキサントン、3,3′−
カルニルビス(7−メドキシクマリン)、2.4.6−
ドリメチルベンゾイルジフエニルホスフインオキサイド
、ベンジルなどが好ましい。
2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4,4′−ブチ
リデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)
、4.4’−メチレンビス(2,6−ジーt−ブチルフ
ェノール)、4.4′−メチレンビス(2−t−ブチル
−6−メチルフェノール)、2.6−ジーも一ブチルー
4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メ
チルフェノール、2−メチル−4(3,5〜ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)メチル−1ナフトールなどを
使用した場合は、380nm〜420nmに感度を有す
る光重合開始剤、例えば、2−クロロチオキサントン、
2−メチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサ
ントン、2,4−ジエチルチオキサントン、3,3′−
カルニルビス(7−メドキシクマリン)、2.4.6−
ドリメチルベンゾイルジフエニルホスフインオキサイド
、ベンジルなどが好ましい。
また、還元剤として、2,6−ジーt−ブチル−4−(
2−ヒドロキシ−3−1−ブチル−5−メチルベンジル
)フェノール、2,6−ジーt−ブチル−4−ベンジル
フェノール。
2−ヒドロキシ−3−1−ブチル−5−メチルベンジル
)フェノール、2,6−ジーt−ブチル−4−ベンジル
フェノール。
2.6−ジーt−ブチル−4−0−トリルメチルフェノ
ールなどを用いる場合には、300〜380nmに感度
を有する光重合開始剤、例えば、1−フェニル−2−ヒ
ドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、l−ヒドロ
キシシクロへキシルフェニルケトン、ベンジルジメチル
ケタール、ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4′−メ
チル−ジフェニルサルファイドなどが好ましい。
ールなどを用いる場合には、300〜380nmに感度
を有する光重合開始剤、例えば、1−フェニル−2−ヒ
ドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、l−ヒドロ
キシシクロへキシルフェニルケトン、ベンジルジメチル
ケタール、ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4′−メ
チル−ジフェニルサルファイドなどが好ましい。
また還元剤として、例えば、 ビス(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)(4−ジメチルアミ
ノフェニル)メタダン、4.4°−メチレンビス(2−
メチル−1−ナフトール)、4,4′−メチレンビス(
2−エチル−1=ナフトール)、4,4′−メチレンビ
ス(2−シクロヘキシル−1−ナフトール)、4,4°
−メチレンビス(2−t−ブチル−1−ナフトール)な
どを用いる場合には、400〜520nmに感度を有す
る光重合開始剤1例えば。
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)(4−ジメチルアミ
ノフェニル)メタダン、4.4°−メチレンビス(2−
メチル−1−ナフトール)、4,4′−メチレンビス(
2−エチル−1=ナフトール)、4,4′−メチレンビ
ス(2−シクロヘキシル−1−ナフトール)、4,4°
−メチレンビス(2−t−ブチル−1−ナフトール)な
どを用いる場合には、400〜520nmに感度を有す
る光重合開始剤1例えば。
3.3′−カルボニルビス(7−シメチルアミノクマリ
ン)やりボフラビンテトラブチレート、あるいはメロシ
アニン色素と、トリクロロメチル−5−トリアジン系化
合物との組合わせなどが好ましい。
ン)やりボフラビンテトラブチレート、あるいはメロシ
アニン色素と、トリクロロメチル−5−トリアジン系化
合物との組合わせなどが好ましい。
また、重合性ポリマー前駆体としては、−分子中に反応
性ビニル基を少なくとも1個持つ化合物が利用できる。
性ビニル基を少なくとも1個持つ化合物が利用できる。
これら化合物の反応性ビニル基としては、スチレン系ビ
ニル基 アクリル酸系ビニル基 メタクリル酸ビニル基
アリル系ビニル基 ビニルエーテルなどの他に酢酸ビ
ニルなどのエステル系ビニル基など重合反応性を有する
置換もしくは無置換のビニル基が挙げられる。
ニル基 アクリル酸系ビニル基 メタクリル酸ビニル基
アリル系ビニル基 ビニルエーテルなどの他に酢酸ビ
ニルなどのエステル系ビニル基など重合反応性を有する
置換もしくは無置換のビニル基が挙げられる。
このような条件を満たす重合性ポリマー前駆体の具体例
は次の通りである。
は次の通りである。
例えば、スチレン、メチルスチレン、クロルスレン、ブ
ロモスチレン、メトキシスチレン、ジメチルアミノスチ
レン、シアノスチレン、ニトロスチレン、ヒドロキシス
チレン、アミノスチレン、カルボキシスチレン、アクリ
ル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸シクロヘキシル、アクリルアミド、メタクリル酸、メ
タクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸
プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸フェニル
、メタクリル酸シクロヘキシル、ビニルピリジン、N−
ビニルピロリドン、N−ビニルイミダゾール、2−ビニ
ルイミダゾール、N−メチル−2−ビニルイミダゾール
、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イ
ソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエー
テル、フェニルビニルエーテル、p−メチルフェニルビ
ニルエーテル、p−クロルフェニルビニルエーテルなど
の一価の単量体; ジビニルベンゼン、シュウ酸ジスチリル、マロン酸ジス
チリル、コハク酸ジスチリル、グルタル酸ジスチリル、
アジピン酸ジスチリル、マレイン酸ジスチリル、フマル
酸ジスチリル、β、β′−ジメチルグルタル酸ジスチリ
ル、2−ブロモグルタル酸ジスチリル、α、α −ジク
ロログルタル酸ジスチリル、テレフタル酸ジスチリル、
シュウ酸ジ(エチルアクリレート)、シュウ酸ジ(メチ
ルアクリレート)、マロン酸ジ(エチルアクリレート)
、マロン酸ジ(メチルエチルアクリレート)、コハク酸
ジ(エチルアクリレート)、グリタル酸ジ(エチルアク
リレート)、アジピン酸ジ(エチルアクリレート)、マ
レイン酸ジ(エチルアクリレート)、フマル酸ジ(エチ
ルアクリレート)、β、β′−ジメチルグルタル酸ジ(
エチルアクリレート)、エチレンジアクリルアミド、プ
ロピレンジアクリルアミド、1.4−フ二二レンジアク
リルアミド、1.4−フェニレンビス(オキシェチルア
クリレート)、1.4−フェニレンビス(オキシメチル
エチルアクリレート)、1.4−ビス(アクリロイルオ
キシエトキシ)シクロヘキサン、1、4−ビス(アクリ
ロイルオキシメチルエトキシ)シクロヘキサン、1.4
−ビス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイル)ベ
ンゼン、1.4−ビス(アクリロイルオキシメチルエト
キシカルバモイル)ベンゼン、1.4−ビス(アクリロ
イルオキシエトキシカルバモイル)シクロヘキサン、ビ
ス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイルシクロヘ
キシル)メタン、シュウ酸ジ(エチルメタクリレート)
、シュウ酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、マロン
酸ジ(エチルメタクリレート)、マロン酸ジ(メチルエ
チルメタクリレート)、 コハク酸ジ(エチルメタクリ
レート)、コハク酸ジ(メチルエチルメタクリレート)
、グルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、アジピン酸
ジ(エチルメタクリレート)、マレイン酸ジ(エチルメ
タクリレート)、フマル酸ジ(エチルメタクリレート)
、フマル酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、β、β
′−ジメチルグルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、
1.4−フェニレンビス(オキシエチルメタクリレート
)、1,4−ビス(メタクリロイルオキシエトキシ)シ
クロヘキサンアクリロイルオキシエトキシエチルビニル
エーテルなどの2価の単量体;ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ(ヒドロキシスチレン
)、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、シア
ヌル酸トリアクリレート、シアヌル酸トリメタクリレー
ト、1,1.1−トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、1. l、 l−トリメチロールプロパントリメ
タクリレート、シアヌル酸トリ(エチルアクリレート)
、1,1.1−トリメチロールプロパントリ(エチルア
クリレート)、シアヌル酸トリ(エチルビニルエーテル
)、1,1.1−トリメチロールプロパントリ(トルエ
ンジイソシアネート)とヒドロキシエチルアクリレート
との縮合物、1.1.1−トリメチロールプロパントリ
(ヘキサンジイソシアネート)とp−ヒドロキシスチレ
ンとの縮合物などの3価の単量体; エチレンテトラアクリルアミド、プロピレンテトラアク
リルアミドなどの4価の単量体、ポリマーの側鎖に重合
性官能基を有するものなどを挙げることができる。
ロモスチレン、メトキシスチレン、ジメチルアミノスチ
レン、シアノスチレン、ニトロスチレン、ヒドロキシス
チレン、アミノスチレン、カルボキシスチレン、アクリ
ル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸シクロヘキシル、アクリルアミド、メタクリル酸、メ
タクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸
プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸フェニル
、メタクリル酸シクロヘキシル、ビニルピリジン、N−
ビニルピロリドン、N−ビニルイミダゾール、2−ビニ
ルイミダゾール、N−メチル−2−ビニルイミダゾール
、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イ
ソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエー
テル、フェニルビニルエーテル、p−メチルフェニルビ
ニルエーテル、p−クロルフェニルビニルエーテルなど
の一価の単量体; ジビニルベンゼン、シュウ酸ジスチリル、マロン酸ジス
チリル、コハク酸ジスチリル、グルタル酸ジスチリル、
アジピン酸ジスチリル、マレイン酸ジスチリル、フマル
酸ジスチリル、β、β′−ジメチルグルタル酸ジスチリ
ル、2−ブロモグルタル酸ジスチリル、α、α −ジク
ロログルタル酸ジスチリル、テレフタル酸ジスチリル、
シュウ酸ジ(エチルアクリレート)、シュウ酸ジ(メチ
ルアクリレート)、マロン酸ジ(エチルアクリレート)
、マロン酸ジ(メチルエチルアクリレート)、コハク酸
ジ(エチルアクリレート)、グリタル酸ジ(エチルアク
リレート)、アジピン酸ジ(エチルアクリレート)、マ
レイン酸ジ(エチルアクリレート)、フマル酸ジ(エチ
ルアクリレート)、β、β′−ジメチルグルタル酸ジ(
エチルアクリレート)、エチレンジアクリルアミド、プ
ロピレンジアクリルアミド、1.4−フ二二レンジアク
リルアミド、1.4−フェニレンビス(オキシェチルア
クリレート)、1.4−フェニレンビス(オキシメチル
エチルアクリレート)、1.4−ビス(アクリロイルオ
キシエトキシ)シクロヘキサン、1、4−ビス(アクリ
ロイルオキシメチルエトキシ)シクロヘキサン、1.4
−ビス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイル)ベ
ンゼン、1.4−ビス(アクリロイルオキシメチルエト
キシカルバモイル)ベンゼン、1.4−ビス(アクリロ
イルオキシエトキシカルバモイル)シクロヘキサン、ビ
ス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイルシクロヘ
キシル)メタン、シュウ酸ジ(エチルメタクリレート)
、シュウ酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、マロン
酸ジ(エチルメタクリレート)、マロン酸ジ(メチルエ
チルメタクリレート)、 コハク酸ジ(エチルメタクリ
レート)、コハク酸ジ(メチルエチルメタクリレート)
、グルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、アジピン酸
ジ(エチルメタクリレート)、マレイン酸ジ(エチルメ
タクリレート)、フマル酸ジ(エチルメタクリレート)
、フマル酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、β、β
′−ジメチルグルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、
1.4−フェニレンビス(オキシエチルメタクリレート
)、1,4−ビス(メタクリロイルオキシエトキシ)シ
クロヘキサンアクリロイルオキシエトキシエチルビニル
エーテルなどの2価の単量体;ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ(ヒドロキシスチレン
)、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、シア
ヌル酸トリアクリレート、シアヌル酸トリメタクリレー
ト、1,1.1−トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、1. l、 l−トリメチロールプロパントリメ
タクリレート、シアヌル酸トリ(エチルアクリレート)
、1,1.1−トリメチロールプロパントリ(エチルア
クリレート)、シアヌル酸トリ(エチルビニルエーテル
)、1,1.1−トリメチロールプロパントリ(トルエ
ンジイソシアネート)とヒドロキシエチルアクリレート
との縮合物、1.1.1−トリメチロールプロパントリ
(ヘキサンジイソシアネート)とp−ヒドロキシスチレ
ンとの縮合物などの3価の単量体; エチレンテトラアクリルアミド、プロピレンテトラアク
リルアミドなどの4価の単量体、ポリマーの側鎖に重合
性官能基を有するものなどを挙げることができる。
なお、前述のようにこれらの重合性ポリマー前駆体を二
種以上用いてもよい。
種以上用いてもよい。
画像形成媒体を形成する場合、これの皮膜性、分散性を
改善する目的で適宜バインダーを含有させるのが好まし
い。
改善する目的で適宜バインダーを含有させるのが好まし
い。
バインダーとしては、例えば、ニトロセルロース、 リ
ン酸セルロース 硫酸セルロース、酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース、酪酸セルロース ミリスチン酸
セルロース、パルミチン酸セルロース、酢酸・プロピオ
ン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロースなどのセルロー
スエステル類; メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロ
ース、ブチルセルロースなどのセルロースエーテル類; ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹脂類
; スチレン−ブタジェンコポリマー、スチレン−アクリロ
ニトリルコポリマー、スチレン−ブタジェン−アクリロ
ニトリルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマ
ーなどの共重合樹脂類:ポリメチルメタクリレート、ポ
リメチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ
アクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、
ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹脂類:ポリエチ
レンテレフタレートなどのポリエステル類;例えば、ポ
リ(4,4−イソプロピリデン、ジフェニレン−ニー1
.4−シクロヘキシレンジメチレンカーボネート)、ポ
リ(エチレンジオキシ−3,3°−フェニレンチオカー
ボネート)、ポリ(4,4’−イソブロビリデンジフェ
ニレンカーボネートーコーテレフタレート)、ポリ(4
,4″−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート)
、ポリ(4,4’−5ec−ブチリデンジフェニレンカ
ーボネート)、ポリ(4,4″イソプロピリデンジフエ
ニレンカーボネート−ブロック−オキシエチレン)など
のポリアクレート樹脂類; ポリアミド類;ポリイミド類;エポキシ樹脂類;フェノ
ール樹脂類; ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンな
どのポリオレフィン類; およびゼラチンなどの天然高分子などが挙げられる。
ン酸セルロース 硫酸セルロース、酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース、酪酸セルロース ミリスチン酸
セルロース、パルミチン酸セルロース、酢酸・プロピオ
ン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロースなどのセルロー
スエステル類; メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロ
ース、ブチルセルロースなどのセルロースエーテル類; ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹脂類
; スチレン−ブタジェンコポリマー、スチレン−アクリロ
ニトリルコポリマー、スチレン−ブタジェン−アクリロ
ニトリルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマ
ーなどの共重合樹脂類:ポリメチルメタクリレート、ポ
リメチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ
アクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、
ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹脂類:ポリエチ
レンテレフタレートなどのポリエステル類;例えば、ポ
リ(4,4−イソプロピリデン、ジフェニレン−ニー1
.4−シクロヘキシレンジメチレンカーボネート)、ポ
リ(エチレンジオキシ−3,3°−フェニレンチオカー
ボネート)、ポリ(4,4’−イソブロビリデンジフェ
ニレンカーボネートーコーテレフタレート)、ポリ(4
,4″−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート)
、ポリ(4,4’−5ec−ブチリデンジフェニレンカ
ーボネート)、ポリ(4,4″イソプロピリデンジフエ
ニレンカーボネート−ブロック−オキシエチレン)など
のポリアクレート樹脂類; ポリアミド類;ポリイミド類;エポキシ樹脂類;フェノ
ール樹脂類; ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンな
どのポリオレフィン類; およびゼラチンなどの天然高分子などが挙げられる。
この他に、必要に応じて、色調側、カブリ防止剖、アル
カリ発生剤、自動酸化荊などを本発明の感光材料に添加
しても良い。
カリ発生剤、自動酸化荊などを本発明の感光材料に添加
しても良い。
本発明の感光材料における上記成分の好ましい配合比は
っぎの通りである。
っぎの通りである。
色調側は有機銀塩に対して0.01モル〜5モル。
好ましくは0.05モル〜2モル、さらに好ましくは0
.08モル〜1モル含有させるのが良い。
.08モル〜1モル含有させるのが良い。
含有される有機銀塩の量は、0.3〜30g/m2 、
特に0.7〜15g/#、更には1.2〜8g/m2が
好ましい。
特に0.7〜15g/#、更には1.2〜8g/m2が
好ましい。
また、有機銀塩1モルに対して、ハロゲン化銀を好まし
くは0.001〜2モル、 より好ましくは0.05〜
1モル含有させるのが望ましい、また、有機銀塩1モル
に対して還元側を好ましくは0.05〜3モル、より好
ましくは0.2〜1.3モル含有させるのが望ましい。
くは0.001〜2モル、 より好ましくは0.05〜
1モル含有させるのが望ましい、また、有機銀塩1モル
に対して還元側を好ましくは0.05〜3モル、より好
ましくは0.2〜1.3モル含有させるのが望ましい。
更に、重合画像を形成するために含有される光重合開始
剤としては、重合性ポリマー前駆体100重量部に対し
て好ましくは0.1〜30重量部、より好ましくは0.
5〜10重量部用いるのが望ましい。
剤としては、重合性ポリマー前駆体100重量部に対し
て好ましくは0.1〜30重量部、より好ましくは0.
5〜10重量部用いるのが望ましい。
また、還元m1モルに対して光重合開始剤を好ましくは
0.01モル〜10モル、 より好ましくは0.5〜3
モル用いるのが望ましい。
0.01モル〜10モル、 より好ましくは0.5〜3
モル用いるのが望ましい。
必要に応じ含有されるバインダーの量は、有機銀塩1重
量部に対し、0〜lO重量部、更には0.5〜5重量部
の割合が好ましい0重合層に含まれるバンイダーの量は
、重合性ポリマー前駆体1重量部に対し、 0〜lO重
量部の割合が好ましい。
量部に対し、0〜lO重量部、更には0.5〜5重量部
の割合が好ましい0重合層に含まれるバンイダーの量は
、重合性ポリマー前駆体1重量部に対し、 0〜lO重
量部の割合が好ましい。
本発明の感光材料は、上記成分を、適宜用いられるバイ
ンダーとともに溶剤に溶解して金属箔、プラスチックフ
ィルム、級 バライタ級 合成紙などの支持体上に塗布
乾燥して、あるいはバインダー自身で強度が保たれる場
合は支持体を用いずにバインダーで形成されるフィルム
又はシート状物中に上記必須成分を含有させて画像形成
媒体を形成することができる。
ンダーとともに溶剤に溶解して金属箔、プラスチックフ
ィルム、級 バライタ級 合成紙などの支持体上に塗布
乾燥して、あるいはバインダー自身で強度が保たれる場
合は支持体を用いずにバインダーで形成されるフィルム
又はシート状物中に上記必須成分を含有させて画像形成
媒体を形成することができる。
〔実施例J
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらのみに限定されるものではない、尚、以下の
記述において部は重量部を表す。
明はこれらのみに限定されるものではない、尚、以下の
記述において部は重量部を表す。
合成例
7−メドキシエチルー1,3−ベンゾオキサジンジオン
の合成 下記反応スキームに沿って合成を行った。
の合成 下記反応スキームに沿って合成を行った。
1リツトルのコルベンに4−メトキシエチルサリチル酸
50.0g、 T HF 300m1を加え、撹拌溶
解し、水冷下、 トリエチルアミン91.6mlを加え
反応系を5℃以下に冷却した。これにクロル炭酸エチル
71.4gを反応系が5℃以上とならないように注意し
ながら、約1時間かけて滴下した。さらに5℃で20分
間撹拌した後、20℃以下の温度で28%アンモニア水
601を徐々に添加した。添加終了後、20分間撹拌し
、反応液を4.512の水に注入し、撹拌を持続し結晶
化させた。約2時間撹拌した後、−夜装置した。結晶を
濾過して、水洗を繰り返した後乾燥した。得られた結晶
は1.5ρのエタノールにて再結晶した。収量41.7
g (収率74.0%)。
50.0g、 T HF 300m1を加え、撹拌溶
解し、水冷下、 トリエチルアミン91.6mlを加え
反応系を5℃以下に冷却した。これにクロル炭酸エチル
71.4gを反応系が5℃以上とならないように注意し
ながら、約1時間かけて滴下した。さらに5℃で20分
間撹拌した後、20℃以下の温度で28%アンモニア水
601を徐々に添加した。添加終了後、20分間撹拌し
、反応液を4.512の水に注入し、撹拌を持続し結晶
化させた。約2時間撹拌した後、−夜装置した。結晶を
濾過して、水洗を繰り返した後乾燥した。得られた結晶
は1.5ρのエタノールにて再結晶した。収量41.7
g (収率74.0%)。
実施例1
〈感光材料の調製〉
以下の組成よりなる感光材料をホモミキサーを用いて一
安全光下調製した。
安全光下調製した。
・臭化銀 0.7部、ベヘ
ン酸 2.5部・ベヘン酸銀
4・5部・ポリビニルブチラ
ール l000部・2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6t−ブチルフェノール)3.4部 ・7−メドキシエチルー1.3−ベンゾオキサジンジオ
ン 0.7部 ・トルエン 60部・
n−プロパツール 70部上記感
光材料を6μsのポリエチレンテレフタレートフィルム
(PETフィルム)に乾燥膜厚5輿となるよう塗布し、
その上にポリビニルアルコール層(PVA層)を乾燥膜
厚2Ijnになるように塗布し、感光体Aを形成した。
ン酸 2.5部・ベヘン酸銀
4・5部・ポリビニルブチラ
ール l000部・2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6t−ブチルフェノール)3.4部 ・7−メドキシエチルー1.3−ベンゾオキサジンジオ
ン 0.7部 ・トルエン 60部・
n−プロパツール 70部上記感
光材料を6μsのポリエチレンテレフタレートフィルム
(PETフィルム)に乾燥膜厚5輿となるよう塗布し、
その上にポリビニルアルコール層(PVA層)を乾燥膜
厚2Ijnになるように塗布し、感光体Aを形成した。
感光体Aにマスクフィルムを重ね、1000 luxの
光(光源: タングステンランプ)で10秒間像露光し
た。ついで、115℃に調節した熱現像機に10秒間で
感光体を通過させた。これにより、像露光部が熱現像さ
れ、画像が形成された。
光(光源: タングステンランプ)で10秒間像露光し
た。ついで、115℃に調節した熱現像機に10秒間で
感光体を通過させた。これにより、像露光部が熱現像さ
れ、画像が形成された。
最大光学濃度(0,D、 wax) = 1.75かぶ
り濃度(0,D、 win) = 0.10が得られた
。
り濃度(0,D、 win) = 0.10が得られた
。
比較例1
実施例1で調製した感光材料のうち、色調剤である7−
メドキシエチルー1.3−ベンゾオキサジンジオン0.
7部の代わりに1.3−ベンゾオキサジンジオン部を用
いて感光体Bを作製した。これを実施例1同様にして評
価したところ、 最大光学濃度(0,D、 wax) = 1.60かぶ
り濃度(0,0,win) = 0.30が得られた。
メドキシエチルー1.3−ベンゾオキサジンジオン0.
7部の代わりに1.3−ベンゾオキサジンジオン部を用
いて感光体Bを作製した。これを実施例1同様にして評
価したところ、 最大光学濃度(0,D、 wax) = 1.60かぶ
り濃度(0,0,win) = 0.30が得られた。
実施例1に比較して、最大光学濃度は低く、かぶり濃度
は高くなっており、本発明において使用される色調剤に
効果があることがわがる。
は高くなっており、本発明において使用される色調剤に
効果があることがわがる。
実施例2
第1図に示すような画像形成媒体1を作製した。
実施例1において、還元剤である2、2′−メチレンビ
ス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)3.4部
の代わりに2,6−ジーt−ブチル−4−(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール3.4部
を、色調剤の7−メドキシエチルー1.3−ベンゾオキ
サジンジオン0.7部の代わりに7−ニトキシエチルー
1,3−ベンゾオキサジンジオン0.8部を添加して感
光材料を調製し、これを実施例1同様にしてPETフィ
ルム3上に感光層411布し、その上にPVA層5を形
成して感光体C(図中、 2)を作製した。
ス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)3.4部
の代わりに2,6−ジーt−ブチル−4−(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール3.4部
を、色調剤の7−メドキシエチルー1.3−ベンゾオキ
サジンジオン0.7部の代わりに7−ニトキシエチルー
1,3−ベンゾオキサジンジオン0.8部を添加して感
光材料を調製し、これを実施例1同様にしてPETフィ
ルム3上に感光層411布し、その上にPVA層5を形
成して感光体C(図中、 2)を作製した。
これとは別に、以下の組成よりなる分散液を暗室内で調
製した。
製した。
・トリメチロールプロパン
トリアクリレ−) 10.0部
(NK x X f ルA−TMPr、新中村化学製)
・4−ジメチルアミノ安息香酸エチル 0.6部(Ka
yacure EPA、日本化薬製)・2.4−ジエチ
ルチオキサントン 0.4部(Kayacure
DETX、 日本化薬製)・ポリメチルメタクリレー
ト10.0部・メチルエチルケトン 60
部上記分散液を6輿のPETフィルム7上に乾燥膜厚5
Jj11になるように塗布し、重合層6を設け、さらに
前記感光体CのPVA層5を重合層6に相対するように
ラミネートして、画像形成媒体lを作製した。
・4−ジメチルアミノ安息香酸エチル 0.6部(Ka
yacure EPA、日本化薬製)・2.4−ジエチ
ルチオキサントン 0.4部(Kayacure
DETX、 日本化薬製)・ポリメチルメタクリレー
ト10.0部・メチルエチルケトン 60
部上記分散液を6輿のPETフィルム7上に乾燥膜厚5
Jj11になるように塗布し、重合層6を設け、さらに
前記感光体CのPVA層5を重合層6に相対するように
ラミネートして、画像形成媒体lを作製した。
以上のようにして作製した画像形成媒体1に、マスクを
重ね、 400t+m以下の光をカットするカットフィ
ルターを介して、消費電力500Wの超高圧水銀灯を用
いて、媒体から60cm離れたところから10秒間、感
光体CのPETフィルム側から像露光した。その後、マ
スクをはずし、 135℃に調節した熱現像機で15秒
間加熱した8次にカットフィルターを外した上記超高圧
水銀灯を用いて媒体から60cm離れたところから5秒
間感光体C側より全面露光することにより、ポリマー像
が形成された。
重ね、 400t+m以下の光をカットするカットフィ
ルターを介して、消費電力500Wの超高圧水銀灯を用
いて、媒体から60cm離れたところから10秒間、感
光体CのPETフィルム側から像露光した。その後、マ
スクをはずし、 135℃に調節した熱現像機で15秒
間加熱した8次にカットフィルターを外した上記超高圧
水銀灯を用いて媒体から60cm離れたところから5秒
間感光体C側より全面露光することにより、ポリマー像
が形成された。
次にPVA層と感光層とを剥離し、重合層上に残ったP
VAを水洗除去し、重合層をエタノールでエツチング処
理したところ、ポリマー像がPETフィルム上に残った
。
VAを水洗除去し、重合層をエタノールでエツチング処
理したところ、ポリマー像がPETフィルム上に残った
。
実施例3
実施例2において、2,6−ジーt−ブチル−4−(3
,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール
3.4部の代わりに4,4′−メチレンビス(2−メチ
ル−1−ナフトール)3.3部を、7−ニトキシエチル
ー1.3−ベンゾオキサジンジオン0.8部の代わりに
7−ヒドロキシプロピル−1,3−ベンゾオキサジンジ
オン0.7部を用いて感光材料を調製し感光体りを作製
した。また、重合層に実施例2の2,4−ジエチルチオ
キサントン0.4部の代わりに、ビス(4−ジメチルア
ミノスチリル)ケトン0.5部を添加して、感光体りの
PVA層と相対するようにラミネートして画像形成媒体
を作製した。実施例2同様に処理したところ、鮮明な重
合画像を得ることができた。
,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール
3.4部の代わりに4,4′−メチレンビス(2−メチ
ル−1−ナフトール)3.3部を、7−ニトキシエチル
ー1.3−ベンゾオキサジンジオン0.8部の代わりに
7−ヒドロキシプロピル−1,3−ベンゾオキサジンジ
オン0.7部を用いて感光材料を調製し感光体りを作製
した。また、重合層に実施例2の2,4−ジエチルチオ
キサントン0.4部の代わりに、ビス(4−ジメチルア
ミノスチリル)ケトン0.5部を添加して、感光体りの
PVA層と相対するようにラミネートして画像形成媒体
を作製した。実施例2同様に処理したところ、鮮明な重
合画像を得ることができた。
実施例4
実施例2において、2,6−ジーt−ブチル−4−(3
,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール
3.4部の代わりに、2,6−ジーt−ブチル−4−(
3−メチル−4−ヒドロキシナフチル)メチルフェノー
ル3.7部添加して感光体Eを作製し、重合層を設けた
PETフィルムと重ね合わせて画像形成媒体を得た。実
施例2同様に処理したところ、鮮明な重合画像を得るこ
とができた。
,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール
3.4部の代わりに、2,6−ジーt−ブチル−4−(
3−メチル−4−ヒドロキシナフチル)メチルフェノー
ル3.7部添加して感光体Eを作製し、重合層を設けた
PETフィルムと重ね合わせて画像形成媒体を得た。実
施例2同様に処理したところ、鮮明な重合画像を得るこ
とができた。
実施例5
実施例2において、7−ニトキシエチルー1.3−ベン
ゾオキサジンジオン0.8部の代わりに、7−ニトキシ
エトキシー1.3−ベンゾオキサジンジオン0.8部を
用いて感光材料を調製し、画像形成媒体を得た。
ゾオキサジンジオン0.8部の代わりに、7−ニトキシ
エトキシー1.3−ベンゾオキサジンジオン0.8部を
用いて感光材料を調製し、画像形成媒体を得た。
実施例2と同様に処理したところ、鮮明な重合画像を得
ることができた。
ることができた。
比較例2
実施例2において、7−ニトキシエチルー1,3−ベン
ゾオキサジンジオン0.8部の代わりに、フタラジンジ
オン0.6部を用いて感光材料を調製し、感光体Fを得
た。これに実施例2と同様に像露光、加熱を行った。
ゾオキサジンジオン0.8部の代わりに、フタラジンジ
オン0.6部を用いて感光材料を調製し、感光体Fを得
た。これに実施例2と同様に像露光、加熱を行った。
実施例2における感光体Cと、感光体Fの分光特性曲線
を第2図に示す、縦軸のODは400nm+こおける値
を示した。第2図より、感光体Cのγの方が大きいこと
がわかる。
を第2図に示す、縦軸のODは400nm+こおける値
を示した。第2図より、感光体Cのγの方が大きいこと
がわかる。
以上説明したように、本発明で用いられる一般式(I)
で表される色調剤は、少量で酸化還元反応を促進し、ま
た、安定した感光材料を提供できるため、本発明の感光
材料を用いることにより、安定した、コントラストのよ
い画像を得ることが可能となった。
で表される色調剤は、少量で酸化還元反応を促進し、ま
た、安定した感光材料を提供できるため、本発明の感光
材料を用いることにより、安定した、コントラストのよ
い画像を得ることが可能となった。
第1図は本発明の感光材料を用いた画像形成媒体の一例
を示す模式断面図、第2図は感光体C及び感光体Fの分
光特性曲線を示すグラフである。 1・・・画像形成媒体 2・・・感光体C 3、7・・・PETフィルム 4・・・感光層 5・・・PVA層 6・・・重合層 特許出願人 オリエンタル写真工業株式会社キャノン株
式会社
を示す模式断面図、第2図は感光体C及び感光体Fの分
光特性曲線を示すグラフである。 1・・・画像形成媒体 2・・・感光体C 3、7・・・PETフィルム 4・・・感光層 5・・・PVA層 6・・・重合層 特許出願人 オリエンタル写真工業株式会社キャノン株
式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、少なくとも有機銀塩、ハロゲン化銀、還元剤及び色
調剤を含む感光材料であって、前記色調剤として下記一
般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔但し、式( I )中、Rは炭素数2〜18のアルコキ
シアルキル基、炭素数2〜18のアルコキシアルコキシ
ル基、炭素数1〜18のハロゲノアルキル基、炭素数1
〜18のヒドロキシアルキル基、または炭素数1〜18
のアミノアルキル基を表す。〕 で表される化合物の少なくとも1種を用いることを特徴
とする感光材料。 2、還元剤が下記一般式(II)、(III)および(IV)
で表される化合物の少なくとも1種であることを特徴と
する請求項1記載の感光材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔一般式(II)中、R^1およびR^2は、各々独立に
、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、置換また
は無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル
基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置
換のシクロアルキル基、もしくは置換または無置換のア
ラルキル基、アルコキシル基、置換または無置換のアミ
ノ基を示し、mは1〜3の整数を示し、Aは1価〜3価
の基で、置換または無置換のアラルキル基、置換または
無置換のアルキル基、置換アミノ基2価のアルキリデン
基、アラルキリデン基、3価のメチン基を示す。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔一般式(III)式中、R^5は、水素原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アラルキル基を表わし、R^3
、R^4、およびR^6は各々独立に水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アミノ基、アリール基、アラルキ
ル基、アルコキシル基、ニトロ基、アシル基、シアノ基
を表わし、R^7は水素原子、置換または無置換のアル
キル基、置換または無置換のアリール基を表わし、a_
1は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、置換ま
たは無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アルコキ
シル基、置換または無置換のアミノ基を表わす。〕▲数
式、化学式、表等があります▼(IV) 〔一般式(IV)中、R^8、R^9、R^1^0および
R^1^1は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、
置換または無置換のアルキル基、シクロアルキル基、ア
ルコキシル基、置換または無置換のアラルキル基、置換
または無置換のアリール基、置換または無置換のアミノ
基、ニトロ基、アシル基を示し、Zは2価の基、a_2
およびa_3は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原
子、置換または無置換のアルキル基、アルコキシル基、
置換または無置換のアミノ基を表わし、少なくともa_
2およびa_3のどちらかはヒドロキシル基である。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16427890A JPH0456848A (ja) | 1990-06-25 | 1990-06-25 | 感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16427890A JPH0456848A (ja) | 1990-06-25 | 1990-06-25 | 感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0456848A true JPH0456848A (ja) | 1992-02-24 |
Family
ID=15790054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16427890A Pending JPH0456848A (ja) | 1990-06-25 | 1990-06-25 | 感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0456848A (ja) |
-
1990
- 1990-06-25 JP JP16427890A patent/JPH0456848A/ja active Pending
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