JPH043063A - 感光体及び画像形成方法 - Google Patents
感光体及び画像形成方法Info
- Publication number
- JPH043063A JPH043063A JP10298190A JP10298190A JPH043063A JP H043063 A JPH043063 A JP H043063A JP 10298190 A JP10298190 A JP 10298190A JP 10298190 A JP10298190 A JP 10298190A JP H043063 A JPH043063 A JP H043063A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- heating
- photoreceptor
- layer
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[産業上の利用分野]
本発明は、乾式銀塩系の感光体に関し、また、乾式銀塩
系の感光体を用いた画像形成方法に関する。 [従来の技術] ベヘン酸銀やラウリン酸銀などの非感光性銀塩を用いた
熱現像性感光体はすでに広く知られている。これは、併
用する重金属塩上に像露光で生じる潜像を触媒として加
熱下、前記銀塩と還元剤とで酸化還元反応を起こさせ、
銀像を形成する感光体である。 このような熱現像性感光体を用いて、重合画像を形成す
る方法は、例えば、特開昭61−69062号公報、同
61−70836号公報、同61−75342号公報に
記載されている。 前二者は、加熱時に重合反応を起こさせる方法であるが
、重合速度が遅い、あるいは重合反応と酸化還元反応が
競争反応となり、像露光部と像未露光部での重合度の差
が小さいなどの問題がある。 また、特開昭61−75342号公報は、加熱後に全面
露光することにより、像露光部に重合を起こさせるもの
であるが、重合部と金属銀の析出部が同一であり、重合
画像としてコントラストに劣る画像となっていた。 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明は、上記問題点を克服し、かつコントラストのよ
い重合画像を形成し得る、生保存安定性に優れた感光体
を提供することを目的とする。また、本発明は上記感光
体を用いた画像形成方法を提供することを目的とするも
のである。特に現像促進剤の量を増やすことによる像未
露光部での地かぶりの発生、生保存性の劣化、あるいは
、現像促進剤の量が少ない場合の加熱後のコントラスト
の不足などの問題をなくし、現像促進剤と地かぶりの発
生、生保存性の劣化、コントラストの不足のトレードオ
フの関係をなくした感光体であり、画像形成方法を提供
するものである。また、現像促進剤を光重合性要素を含
む層に含有させた場合、光重合性要素の自然重合を押え
、生保存性の優れた感光体を提供し、従来得られなかっ
た階調性のあるIii像を得ることができる感光体1画
像形成方法を提供することを目的とする。 〔課題を解決するための手段〕 本発明の上記課題は、酸化還元反応を補助する現像促進
剤を少なくとも感光性かつ熱現像性要素を含有する層と
異なる層に含有させることにより達成された。 すなわち、本発明は感光性かつ熱現像性要素、光重合性
要素が同一層中あるいは異なる層中に形成されてなる感
光体であって、熱現像性を促進する現像促進剤が少なく
とも感光性かつ熱現像性要素を含む層重外に含有された
ことを特徴とする感光体であり、像露光と同時あるいは
前に加熱(第1の加熱)により現像促進剤を感光性かつ
熱現像性要素を含有する層に移行させ、像露光部で酸化
還元反応を起こさせた後、全面露光(−様露光)を施す
ことにより重合画像を形成するものである。 本発明の感光体について説明する。 本発明で用いられる現像促進剤は、下記一般式(1)お
よび(I])で表わされる化合物が使用する還元剤との
組合せから好ましい。 一般式(1)、 <IT)中、rl、 r2は各々水
素原子、アルキル基 アルコキシル基であり、アルキル
基としては、メチル基 エチル幕 プロピル幕1−プロ
ピルit−ブチル基であり、アルコキシル基としては、
メトキシ基 エトキシ基 プロポキシル基である。 具体的な例としては、フタラジン、6−メチルフタラジ
ン、5−メチルフタラゾン、6−メドキシフタラゾン、
5−メトキシフタラジン、ベンゾオキサジンジオン、ナ
フトオキサジンジオン、7−メチルベンゾオキサジンジ
オン、6−t−ブチルベンゾオキサジンジオン、8〜メ
チルベンゾオキサジンジオン、7−メドキシベンゾオキ
サジンジオン、6−メドキシベンゾオキサジンジオンな
どが挙げられる。 本発明の感光体は、少なくとも感光性金属塩、有機金属
塩、還元剤を含む感光性かつ熱現像性要素と、少なくと
も重合性ポリマー前駆体および光重合開始剤を含む光重
合性要素とが同一層あるいは異なる層に形成されてなる
感光体であって、前記光重合開始剤が感度を有する波長
の光を吸収する光吸収性有機化合物を露光および加熱に
よって生成し得る感光体である。 感光性金属塩としては、銀塩、銅塩、鉛塩などが使用で
きるが感度などの点で銀塩が好ましい。 銀塩としては、フェニル銀・硝酸銀の錯体、フェニルエ
チニル銀トリエチルホスフィン錯体。 過塩素酸銀、クロム酸銀、タングステン酸銀などの他に
、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀。 塩沃臭化銀などのハロゲン化銀などがあるが、 感光性
、安定性の点からハロゲン化銀が好ましい。 これらは通常の写真乳剤に対して行なわれるような化学
増感、光学増感処理が施されていてもよい。 つまり、化学増感としては、硫黄増感、貴金属増感、還
元増感などを用いることができ、光学増感としては、従
来よく知られている増感色素を用いた方法などを適用で
きる。 増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色素、
三核色素などが好ましく用いられる6例えば、3,3′
−ジカルボキシエチル−2,2′−チアカルボシアニン
アイオダイド、3.3′−ジエチル−2,2″−チアカ
ルボシアニンアイオダイド、3.3′−ジスルホエチル
−2,2′−チアジカルボシアニンアイオダイド、3.
3′〜ジエチル−2,2′−チアトリカルボシアニンア
イオダイド、さらに、下記構造式の色素が好ましく用い
られる。 C)l、 C00H CH2CH3CO0)] また、粒子内のハロゲン組成が均一あるいは異なった多
重構造を採っていても良い、ハロゲン組成、粒子サイズ
、粒子サイズ分布などが異なった二種以上のハロゲン化
銀を併用しても良い。 有機金属塩としては、有機銀塩が好ましく、有機銀塩と
しては、 F写真工学の基礎ノ (第1版91982年
発行)非銀塩編、p247や、特開昭59−55429
号等に記載された有機酸銀やトリアゾール系銀塩などを
用いることができ、感光性の低い銀塩を用いるのが好ま
しい5例えば、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、
メルカプト基もしくはα−水素を有するチオカルボニル
基化合物、およびイミノ基含有化合物などの銀塩である
。 脂肪族カルボン酸としては、酢酸、酪酸、コハク酸、セ
バシン酸、アジピン酸、オレイン酸、 リノール酸、
リルン酸、酒石酸、バルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、樟脳酸などがあるが、−船釣に炭素数が少ないほ
ど銀塩としては不安定であるので適度な炭素数(例えば
、炭素数I6〜26の範囲のもの)を有するものが好ま
しい。 芳香族カルボン酸としては、安息香酸誘導体、キノリン
酸誘導体、ナフタレンカルボン酸誘導体、サリチル酸誘
導体、没食子酸、タンニン酸、フタル酸、フェニル酢酸
誘導体、ピロメリット酸等がある。 メルカプト基又はα−水素を有するチオカルボニル基化
合物としては、3−メルカプト−4−フェニル−1,2
,4−トリアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、2−メルカプト−5−アミノチアジアゾール、2−
メルカプトベンゾチアゾール、S−アルキルチオグリコ
ール酸(アルキル基炭素数12〜23)、ジチオ酢酸な
どジチオカルボン酸類、チオステアロアミドなどチオア
ミド類、5−カルボキシ−1−メチル−2−フェニル−
4−チオピリジン、メルカプトトリアジン、2−メルカ
プトベンゾオキサゾール、メルカプトオキサジアゾール
又は3−アミノ−5〜ベンジルチオ−12,44リアゾ
ールなど、米国特許第4.123.274号記載のメル
カプト化合物が挙げられる。 イミノ基を含有する化合物としては、特公昭44−30
270号又は同45−18416号記載のベンゾトリア
ゾール若しくはその誘導体、例えばベンゾトリアゾール
、メチルベンゾトリアゾールなどアルキル置換ベンゾト
リアゾール類、5−クロロベンゾトリアゾール等、ハロ
ゲン置換ベンゾトリアゾール類、ブチルカルボイミドベ
ンゾトリアゾールなどカルボイミドベンゾトリアゾール
類、特開昭58−118639号記載のニトロベンゾト
リアゾール類、特開昭58−115638号記載のスル
ホベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール
もしくはその塩、またはヒドロキシベンゾトリアゾール
など、米国特許4,220,709号記載の1.2.4
−トリアゾールやIH−テトラゾール、 カルバゾール
、サッカリン、イミダゾール及びその誘導体などが代表
例として挙げられる。 還元副としては、例えば下記一般式(m)のものが挙げ
られる。 一般式(m)中 I+およびR2は、各々独立に、水素
原子、ヒドロキシル基 ハロゲン原子、置換または無置
換のアルキル基 置換または無置換のアルケニル基 置
換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のシ
クロアルキル基 もしくは置換または無置換のアラルキ
ル基 アルコキシル基 置換または無置換のアミノ基を
示し、mは1〜3の整数を示し、Aは1価〜3価の基で
、置換または無置換のアラルキル基 置換または無置換
のアルキル基 置換アミノ基 2価のアルキリデン基
アラルキリデン基 3価のメチン基を示す。 前記一般式(m)において、R1およびR2の無置換ア
ルキル基は、好ましくは炭素数1から18の直鎖又は分
岐アルキルなどであ番バ 例えば、メチル、エチル、
プロピル、 i−プロピル、 ブチル、 t−ブチル、
i−ブチル、 アミル、 i−アミル、 5ec−ア
ミル。 テキシル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、
ドデシル、ステアリルなどを挙げることができる。 RIおよびR2の置換アルキル基は、好ましくは炭素数
2から18のアルコキシアルキル基 炭素数1から18
のハロゲノアルキル基 炭素数1から18のヒドロキシ
アルキル基 炭素数1から18のアミノアルキル基 な
どであり、 例えば、アルコキシアルキル基としては、メトキシエチ
ル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピ
ル、エトキシブチル、プロポキシメチル、プロポキシブ
チル、i−プロポキシペンチル、t−ブトキシエチル、
ヘキシロキシブチルなどを挙げることができる。 ハロゲノアルキル基としては、例えば、クロロメチル、
クロロエチル、ブロモエチル、クロロプロピル、クロロ
ブチル、クロロヘキシル、クロロオクチルなどを挙げる
ことができる。 ヒドロキシアルキル基としては、例えば、ヒドロキシメ
チル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、 ヒド
ロキシブチル、 ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキ
シル、ヒドロキシへブチルなどを挙げることができる。 アミノアルキル基としては、例えば、アミノメチル、ア
セチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、アミノエ
チル、アセチルアミノエチル、ジメチルアミノエチル、
ジエチルアミノエチル、モルホリノエチル、ピペリジノ
エチル、ジエチルアミノプロビル、ジプロピルアミノエ
チル、アセチルアミノプロピル、アミノブチル、モルホ
リノブチル、などを挙げることができる。 R1およびR2のアルケニル基としては、例えば、ビニ
ル、アリル、プレニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセ
ニル、ヘプテニル、オクテニル、などを挙げることがで
きる。 アルキニル基としては、例えば、アセチル、プロパギル
、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプテニル、オ
クテニルなどを挙げることができる。 シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチルである。 R1およびR2で表わされるアラルキル基としては、例
えば、ベンジル、フェネチル、 トリルメチルなどであ
る。 R1およびR2で表わされるアミノ基としては、例えば
、アセチルアミ人 ジメチルアミ人 ジエチルアミ人
アミノなどである。 R1およびR2で表わされるアルコキシル基としては、
例えば、 メトキシ、エトキシ、プロポキシなどである
。 以上のうち、R2として好ましい置換基は、塩素原子、
臭素原子、メチル、エチル、i−プロピル、t−ブチル
、5ec−アミル、テキシル、エトキシメチル、エトキ
シエチル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、アミノメ
チル、ジメチル−アミノメチル、ベンジルである R1
として好ましい置換基は、塩素原子、 メチル、 エチ
ル、 i−プロピル、t−ブチル、アミル、テキシル、
ヒドロキシル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、ベン
ジル、シクロヘキシルである。 Aとして1価の基の置換もしくは無置換のアラルキル基
としては、例えば、ベンジル、p−メトキシベンジル、
p−N、N−ジメチルアミノベンジル、p−ビロリ
ジノベンジル、p−メチルベンジル、p−ヒドロキシベ
ンジル、p−クロロベンジル、3,5−ジクロロ−4−
ヒドロキシベンジル、3〜メチル−5−t−ブチル−4
−ヒドロキシベンジル、0.p−ジメチルペンシル、3
.5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル、2−ヒドロ
キシ−3−1−ブチル−5−メチルベンジル、ナフチル
メチル、などを挙げることができる。 Aとして1価の基の置換もしくは無置換のアルキル基は
1例えば、メチル、エチル、i−プロピル、N、N−ジ
メチルアミノメチル、N−ベンジルアミノメチル、メト
キシメチル、エトキシメチル、ヒドロキシメチル、メト
キシカルボニルエチル、メトキシカルボニルメチル、エ
トキシカルボニルエチル、などを挙げることができる。 1価の基の置換アミノ基としては、メチルアミ人 ジメ
チルアミノ、ジエチルアミ人 アセチルアミ人 フェニ
ルアミノ、ジフェニルアミ人 トリアジルアミ人 など
を挙げることができる。 2価の基のアルキリデン基としては、例えば、メチレン
、エチリデン、プロピリデン、ブチリデン、などを挙げ
ることができる。 2価の基のアラルキリデン基としては、例えば、 ベン
ジリデン、p−メチルベンジリデン、p−ジメチルアミ
ノベンジリデンなどを挙げることができる。 この中でAとして好ましい基としては、 1価のアラル
キル基 2価のアルキリデン基 アラルキリデン基 3
価のメチン基であり、 1価のアラルキル基及び2価の
アルキリデン基は、特に好ましい基である。 次に、一般式(m)で表わされる還元剤のうちで好まし
い還元剤の具体例を挙げるが、これらに限定されない。 2.4−ジメチル−6−t−ブチルフェノール、2−メ
チル−4−i−プロピル−6−t−ブチルフェノール、
2,6−ジt−ブチル−4−ジメチルアミノフェノール
、2,6−ジーt−ブチル−4−ヒドロキシメチルフェ
ノール、2−t−ブチル−6−ベンジル−4−メチルフ
ェノール、26−ジーt−ブチル−4−o−トリルメチ
ルフェノール、2,6−ジーt−ブチル−4−ベンジル
フェノール、2−t−ブチル−4−(p−メトキシベン
ジル)−5−メチルフェノール、2.6−シメチルー4
−(α−ナフチルメチル)フェノール、2.6−ジーt
−ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3−1〜ブチル5−
メチルベンジル)フェノール、2−1−ブチル−4−(
p−クロロベンジル)−6−シクロヘキジルフエノール
、2−t−ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルベンジル)−5−メチルフェノール、2−t−ブ
チル−4−ベンジルー6−プロパギルフェノール、2,
6−ジーt−ブチル−4−(3,5−ジクロロ−4−ヒ
ドロキシベンジル)フェノール、2.6−ジーt−ブチ
ル−4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル
)フェノール、2,6−ジテキシルー4−(4−ヒドロ
キシベンジル)フェノール、2テキシル−4−ベンジル
−5−メチルフェノール、2−アリル−4−ベンジル−
5−メチルフェノール、2−テキシル−4−(p−クロ
ロベンジル)−5−アリルフェノール、2−クロロ−4
−ジメチルアミノメチルフェノール、2.6−ジーi−
プロピル−4〜ジエチルアミノフエノール、2−t−ブ
チル−4−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メ
チルベンジル)フェノール、4.4″−メチレンビス(
2,6−ジーも一ブチルフェノール)、4,4′−メチ
レンビス(2−t−ブチル−5−メチルフェノール)、
4.4′−メチレンビス(2−t−ブチル−6−メチル
フェノール)、4.4′−メチレンビス(2−テキシル
−6−メチルフェノール)、4,4′−メチレンビス(
2−シクロへキシル−6−メチルフェノール)、4.4
′−メチレンビス(2−ジクロロへキシル−5−t−ブ
チルフェノール)、 4.4’−エチリデンビス(2
,6−ジーt−ブチルフェノール)、4.4′−エチリ
デンビス(2−t−ブチル−6−メチルフェノール)、
4,4′−エチリデンビス(2−シクロヘキシル−6−
メチルフェノール)、4.4′−エチリデンビス(2−
テキシル−6−メチルフェノール)、4.4′−プロピ
リデンビス(2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4
.4’−ブチリデンビス(2−t−ブチル−6−メチル
フェノール)、4,4′−ブチリデンビス(2−テキシ
ル−6−メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビ
ス(2−ジクロロへキシル−6−メチルフェノール)、
ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)フェニルメタン、ビス(35−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)(4−メトキシフェニル)メタ
ン、 ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)(4−ジメチルアミノフェニル)メタン、
トリス(3,5−ジルt−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、ビス(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ
−5−メチルフェニル)フェニルメタン。 などがある。 この中で特に好ましい還元剤としては、2,6−ジーt
−ブチル−4−o−トリルメチルフェノール、2,6−
ジーt−ブチル−4−ベンジルフェノール、2.6−ジ
ーt−ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルベンジル)フェノール、2.6−ジーt−
ブチル−4−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシベン
ジル)フェノール、4.4−メチレンビス(2,6−ジ
ーt−ブチルフェノール)、4.4′−メチレンビス(
2−t−ブチル−5−メチルフェノール)、 4.4
’−メチレンビス(2−t−ブチル−6−メチルフェノ
ール)、4,4′−エチリデンビス(26−ジーt−プ
チルフエノール)、4,4′−エチリデンビス(2−t
−ブチル−6−メチルフェノール)、 4.4’−プロ
ピリデンビス(2,6−ジーt−ブチルフェノール)、
4,4′−ブチリデンビス(2−シクロへキシル−6−
メチルフェノール)、ビス(3,5−ジーt−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、 ビス(3
,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)(4
−メトキシフェニル)メタン、ビス(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)(4−ジメチルアミ
ノフェニル)メタン、トリス(35−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)メタンである。 酸化還元反応により光吸収性有機化合物となる還元剤と
しては、例えば下記一般式(rV)のちのも本発明の媒
体に使用できる。 H 一般式(IV)式中、R5は、水素原子、アルキル基
シクロアルキル幕 アラルキル基を表わし、R3、R4
,およびR6は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基 アミノ基 アリール基、アラルキル基 アル
コキシル基 ニトロ基 アシル幕シアノ基を表わし、R
丁は水素原子、置換または無置換のアルキル基 置換ま
たは無置換のアリール基を表わし、a、は水素原子、ヒ
ドロキシル基 ハロゲン原子、置換または無置換のアル
キル基、シクロアルキル基 アルコキシル基 置換また
は無置換のアミノ基を表わす。 一般式(IV)中、a、 、 R’ 、 R’およびR
6のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 a、 、 R’ 、 R’ 、 R’ 、 R’および
R7のアルキル基としては、置換あるいは無置換の炭素
数1から18までの直鎖または分岐アルキル基が好まし
く、例えば、メチル、 エチル、 プロピル21−プロ
ピル、 ブチル、 t−ブチル、 i−ブチル、 アミ
ル、 i〜ルアミルヘキシル、テキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、 ドデシル、ステアリル等の直鎖又は
分岐の炭化氷素幕メトキシエチル、エトキシエチル、エ
トキシプロピル、エトキシブチル、プロポキシブチル、
i−ブロボキシベンチル、t−ブトキシエチル、ヘキシ
ロキシブチル等の直鎖又は分岐のアルコキシアルキル基
ヒドロキシメチル、 ヒドロキシエチル、ヒドロキシ
プロピル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペンチル、ヒ
ドロキシヘキシル、ヒドロキシへブチル等のヒドロキシ
アルキル基 アミノメチル、ジメチルアミノメチル、ア
ミノエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエ
チル、モルホリノエチル、 ピペリジノエチル、アミノ
プロピル、ジエチルアミノプロビル、ジプロピルアミノ
エチル、アミノブチル、モルホリノブチル等のアミノア
ルキル又はアルキルアミノアルキル基である。 alおよびR5のシクロアルキル基としては、置換また
は無置換のシクロアルキル基で、炭素数5から18のも
のが好ましく、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロへブチル、シクロオクチル、メチルシクロヘ
キシル、ジメチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキシ
ル基等である。 a+、R”、RaおよびR6のアミノ基としては、置換
または無置換のアミノ基で、例えば、アミ人 アセチル
アミ人 メチルアミ人 ジメチルアミ人 ジエチルアミ
人 ビロリジ人 モルホリ人 ベンゼンスルホンアミド
、 トルエンスルホンアミド、ジプロピルアミ人 ジブ
チルアミノ基などである。 R3、R7、R6およびR7のアリール基としては、置
換または無置換の炭素数6から16のアリール基が好ま
しく、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェ
ナントリル、 トリル、キシリル、 クメニル、メシチ
ル、クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオロフェ
ニル基等である。 a4. R3,R’およびR6のアルコキシル基として
は、炭素数1から18の置換または無置換のアルコキシ
ル基が好ましく、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、i−プロポキシ、ブトキシ等である。 R3、R4、lJ6およびR6のアラルキル基としては
、置換または無置換の炭素数7から19のアラルキル基
が好ましく、例えば、ベンジル、フェネチル、ベンズヒ
ドリル、 トリチル、フェニルプロピル、ナフチルメチ
ル、クロロベンジル、ジクロロベンジル、メトキシベン
ジル、メチルベンジル基等であR1R4およびRaのア
シル基としては、アセチル、プロピオニルなどが挙げら
れる。 上記置換基を有する一般式(IV)で表わされる化合物
の具体例をあげると、 4.4′−メチレンビス(2−メチル−1−ナフトール
)、4.4″−メチレンビス(2−エチル−1−ナフト
ール)、4.4′−メチレンビス(2−t−ブチル−1
−ナフトール)、4.4′−メチレンビス(2−シクロ
へキシル−1−ナフトール)、4,4″−メチレンビス
(2−t−ブチル−6〜メチル〜1−ナフトール)、4
,4′−メチレンビス(2,6−ジエチル−1−ナフト
ール)、4,4′−メチレンビス(2−ベンジル−1−
ナフトール)、4,4′−メチレンビス(2−t−ブチ
ル−8−メチル−1−ナフトール)、 4.4’−メ
チレンビス(2−メチル−5−クロロ−1−ナフトール
)、 4,4′−メチレンビス(2−メチル−8−ジメ
チルアミノ−1−ナフトール)、4,4′−メチレンビ
ス(2−メチル−5−ベンジルナフトール)、4,4′
−メチレンビス(2−メチル−5−メトキシ−1−ナフ
トール)、4.4′−メチレンビス(2−メチル−5−
フェニル−1−ナフトール)、4−(3’−シクロへキ
シル−4′−ヒドロキシナフチル)メチル−2−メチル
−1−ナフトール、4−(3”−t〜ジブチル4゛−ヒ
ドロキシナフチル)メチル−2−メチル−1−ナフトー
ル、4−(3°−シクロヘキシル−4″−ヒドロキシナ
フチル)メチル−2−t−ブチル−1−ナフトール、4
,4′−ベンジリデンビス(2−メチル−1−ナフトー
ル) 4.4’−ベンジリデンビス(2−メチル−]
−ナフトール)、4.4″−ベンジリデンビス(2−t
−ブチル−l−ナフトール)、4.4′−エチリデンビ
ス(2−メチル−1−ナフトール)、4.4′−エチリ
デンビス(2−t−ブチル−1−ナフトール)、ビス(
4−ヒドロキシ−3−メチルナフチル)トリルメタンな
どである。 酸化還元反応により光吸収性有機化合物となる更に他の
還元荊として、下記一般式(V)のものも使用できる。 一般式(V)中、RI、R9,R1@オヨびR111!
、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換または無
置換のアルキル基 シクロアルキル基 アルコキシル基
置換または無置換のアラルキル基 置換または無置換
のアリール基 置換または無置換のアミノ基 ニトロ基
アシル基を示し、Zは2価のL R2およびR3は
水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、置換または
無置換のアルキル基、アルコキシル基 置換または無置
換のアミノ基を表わし、少なくともR2およびa、のど
ちらかはヒドロキシル基である。 前記一般式(V)において、R1、R9、Rl l 、
RI I 、 aeおよびa?が表わすハロゲン原子
としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素である。 前記一般式(V)において、R8,R9,RIilJl
l、R2およびa、が表わすアルキル基としては、好ま
しくは炭素数1から18の直鎖又は分岐アルキルなどで
あり、例えば、メチル、エチル、プロピル、 i−プロ
ピル、 ブチル、t−ブチル、i−ブチル、アミル、i
−アミル、5ec−アミル、テキシル、ヘキシル、 へ
ブチル、オクチル、 ノニル、 ドデシル、ステアリル
などであり、また置換アルキル基は、好ましくは炭素数
2から18のアルコキシアルキル基 炭素数1から18
のハロゲノアルキルL 炭素数1から18のヒドロキシ
アルキル基 炭素数1から18のアミノアルキル基など
であり、例えば、メトキシエチル、エトキシメチル、エ
トキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチル、プ
ロポキシブチル、i−プロポキシペンチル、t−ブトキ
シエチル、ヘキシロキシブチル、クロロメチル、クロロ
エチル、ブロモエチル、クロロプロピル、クロロブチル
、クロロヘキシル、クロロオクチル、ヒドロキシメチル
、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシ
ブチル、 ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、
ヒドロキシへブチル、アミノメチル、アセチルアミノメ
チル、ジメチルアミノメチル、アミノエチル、アセチル
アミノエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノ
エチル、モルホリノエチル、ピペリジノエチル、ジエチ
ルアミノプロピル、ジプロピルアミノエチル、アミノプ
ロピル、アセチルアミノプロピル アミノブチル、モル
ホリノブチルなどを挙げることができる。 RI、)(o、R+@およびRIが表わすアリール基と
しては、例えば、 フェニル、ナフチル、アントリル、
フェナントリルであり、置換アリール基としては、例え
ば、 トリル、キシリル、 クメニル、メシチル。 クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオロフェニル
基等である。 RI、R@J+@およびRIIが表わすアラルキル基と
しては、例えば、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリ
ル、 トリチル、フェニルプロピル、ナフチルメチルな
ど、置換アラルキル基としては、 例えば、クロロベン
ジル、ジクロロベンジル、メトキシベンジル、メチルベ
ンジルなどである。 R” 、 R’ 、 RI l 、 R’ l 、 R
2およびR3が表わすシクロアルキル基としては、例え
ば、 5員環、6員環、 7員環のシクロアルキル基で
、アルキル基で置換されてもよい。 RII 、 RI 、 RI @、 RI + 、 1
12およびR3が表わすアルコキシル基としては、例え
ば、メトキシ、エトキシ、 プロポキシ、ブトキシ、1
−プロポキシ、ベンジロキシ、2−フェニルエトキシな
どである。 R2およびR3が表わす置換または無置換のアミノ基と
しては、例えば、アミ人 アセチルアミノ。 メチルアミ人 イソプロピルアミ人 ジメチルアミ人
フェニルアミ人 ジエチルアミ人 シクロペンチルアミ
人 シクロペンチルメチルアミノ、シクロへキシルアミ
人 ピペリジ人 ピロリジノなどである。 Zは2価の基を表わし、例えば、アルキリデン基 アラ
ルキリデン基であり、具体的にはメチレン、エチリデン
、プロピリデン、ベンジリデン、シンナミリデン、p−
ヒドロキシベンジリデン、p−メチルベンジリデン、p
−ジメチルアミノベンジリデンなどが好ましい。 以下に、上記一般式(V)で表わされる化合物のうち、
特に好ましいものの具体例を挙げるが1本発明はこれら
に限定されるものではない。 一般式(V)で表わされる化合物の具体例として、2−
メチル−4−(3,5−ジメチル−4−とドロキシフェ
ニル)メチル−1〜ナフトール、2−メチル−4−(3
,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メチ
ル−1−ナフトール、2−メチル−4−(4−ヒドロキ
シフェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチル−4
−p−トリルメチル−1−ナフトール、2〜メチル−4
−ベンジル−1−ナフトール、2−t−ブチル−4−(
4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフトール、2
−メチル−4−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)メチル−1−ナフトール、2−エチル−4−(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メ
チル−1−ナフトール、2−メチル−4−(3,5−ジ
メトキシ−4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフ
トール、2−メチル−4−(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)メチル−1−ナフトール、2−t−ブチル
−4−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メ
チル−1−ナフトール、2,6−ジーt−ブチル−4−
α−ナフチルメチルフェノール、2,6−ジーt−ブチ
ル−4〜メトキシナフチルメチルフエノール、2−メチ
ル−4−(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)メチ
ル−1−ナフトール、2−メチル−4−(4−ジメチル
アミノフェニル)メチル−1−ナフトール、2−エチル
−4−ジフェニルメチル−1−ナフトール、2−メチル
−4〜(3−シクロへキシル−4−ヒドロキシフェニル
)メチル−1−ナフトール、2−メチル−4(3−フェ
ニル−4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフトー
ル、2−メチル−4−(3−t−ブチル−4−ヒドロキ
シ−5−メチルフェニル)メチル−1−ナフトール、2
−メチル−4−ベンジル−6−メチル−1−ナフトール
などである。 なお、上記還元躬(一般式(1111)、(■)、(V
〕)のうち、 2種以上を併用しても良い。 また、上記還元剤のほかに、酸化還元反応により生成し
た酸化体がさらにカプラーと反応して光吸収性化合物を
生じる還元剤としては2例えば、二次発色現像主薬を挙
げることができる。好ましい二次発色主薬としては、例
えば、p−フェニレンジアミン類などがある。 本発明の画像形成媒体に、酸化還元反応により光吸収性
有機化合物とはならない還元剤を本発明の目的を妨げな
い程度において含有させることも可能である。 本発明の感光体に使用する光重合開始剤とじては1例え
ばカルボニル化合物、イオウ化合物、ハロゲン化合物、
レドックス系光重合開始剤、ビリリウム等の染料で増感
される過酸化物系開始剤などを挙げることができる。 具体的には、カルボニル化合物としては、例えば、ベン
ジル、4,4′−ジメトキシベンジル、ジアセチル、カ
ンファーキノンなどのジケトン類;例えば4,4′−ビ
ス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4.4″−ジメ
トキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類;例えば
アセトフェノン、4−メトキシアセトフェノンなどのア
セトフェノン類; ベンゾインアルキルエーテル類;例
えば2−クロロチオキサントン、2,4−シクロロチオ
キサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、チオキ
サントン−3−カルボン酸−β−メトキシエチルエステ
ルなどのチオキサントン類; ジアルキルアミノ基を有
するカルコン類およびスチリルケトン類;3,3″−カ
ルボニルビス(7−メドキシクマリン)、3,3′−カ
ルボニルビス(7−ジニチルアミノクマリン)などのク
マリン類などが挙げられる。 イオウ化合物としては、例えばジペンゾチアゾリルスル
フィド、デシルフェニルスルフィド、 ジスルフィド類
などが挙げられる。 ハロゲン化合物としては、例えば四臭化炭素、キノリン
スルホニルクロライド、 トリハロメチル基を有するs
−トリアジン類などが挙げられる。 レドックス系の光重合開始剤としては、3価の鉄イオン
化合物(例えばクエン酸第2鉄アンモニウム)と過酸化
物などを組み合せて用いるものや、リボフラビン、メチ
レンブルーなどの光還元性色素とトリエタノールアミン
、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せて用いるもの
などが挙げられる。 また以上に述べた光重合開始剤(増感副も含む)におい
て、2種以上の光重合開始剤を組み合せてより効率の良
い光重合を行なうこともできる。 この様な光重合開始剤の組み合せとしては、ジアルキル
アミノ基を有するカルコンおよびスチリルケトン類やク
マリン類と、 トリハロメチル基を有する5−)−リア
ジン類やカンファーキノンとの組み合せなどが挙げられ
る。 本発明の感光体では、感光波長域が370〜520nc
aの光重合開始剤が好ましく用いられる。 本発明では、還元剤の酸化還元反応によって生じた光吸
収性有機化合物の光吸収特性によって、使用する光重合
開始剤を適宜選択する必要がある。 このような還元剤と光重合開始剤の組合わせの一例を以
下に挙げる。 例えば、還元剤として、4.4′−プロピリデンビス(
2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4,4′−ブチ
リデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)
、4,4′〜メチレンビス(2,6−ジーt−ブチルフ
ェノール)、4.4′−メチレンビス(2−t−ブチル
−6−メチルフェノール)、 2.6−ジーt−ブチル
−4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
メチルフェノール、2−メチル−4−(3,5−ジメチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフトール
などを使用した場合は、380nm〜420nmに感度
を有する光重合開始剤、例えば、2−クロロチオキサン
トン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジメチルチ
オキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、3,
3′−カルニルビス(7−メドキシクマリン)、2,4
.6−ドリメチルベンゾイルジフエニルホスフインオキ
サイド、ベンジルなどが好ましい。 また、還元剤として、2,6−ジーt−ブチル−4−(
2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルベンジル
)フェノール、2,6−ジーt−ブチル−4−ベンジル
フェノール、2.6−ジーt−ブチル−4−0−)リル
メチルフェノールなどを用いる場合には、300〜38
0nmに感度を有する光重合開始剤、例えば、l−フェ
ニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン
、■−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、ベン
ジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、4−ベンゾイ
ル−4−メチル−ジフェニルサルファイドなどが好まし
い。 また還元剤として、例えば、 ビス(3,5−ジーも一
ブチルー4−ヒドロキシフェニル)(4−ジメチルアミ
ノフェニル)メタン、4.4°−メチレンビス(2−メ
チル−1−ナフトール)、4,4″−メチレンビス(2
−エチル−1−ナフトール)、4,4″−メチレンビス
(2−シクロへキシル−1−ナフトール)、4.4″−
メチレンビス(2−t−ブチル−1−ナフトール)など
を用いる場合には、400〜520nmに感度を有する
光重合開始剤、例えば、3.3′−カルボニルビス(7
−シメチルアミノクマリン)やりボフラビンテトラブチ
レート、あるいはメロシアニン色素と、トリクロロメチ
ル−3−トリアジン系化合物との組合わせなどが好まし
い。 本発明の感光体に使用する重合性ポリマー前駆体として
は、−分子中に反応性ビニル基を少なくとも1個持つ化
合物が利用できる。 これら化合物の反応性ビニル基としては、スチレン系ビ
ニル基 アクリル酸系ビニル基 メタクリル酸ビニル基
アリル系ビニル基 ビニルエーテルなどの他に酢酸ビ
ニルなどのエステル系ビニル基など重合反応性を有する
置換もしくは無置換のビニル基が挙げられる。 このような条件を満たす重合性ポリマー前駆体の具体例
は次の通りである。 例えば、スチレン、メチルスチレン、クロルスレン、ブ
ロモスチレン、メトキシスチレン、ジメチルアミノスチ
レン、シアノスチレン、ニトロスチレン、ヒドロキシス
チレン、アミノスチレン。 カルボキシスチレン、アクリル酸、アクリル酸メチル、
アクリル酸エチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ルアミド、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブ
チル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、ビニルピリジン、N−ビニルピロリドン、N−ビ
ニルイミダゾール、2−ビニルイミダゾール、N−メチ
ル−2−ビニルイミダゾール、プロピルビニルエーテル
、ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、
β−クロロエチルビニルエーテル、フェニルビニルエー
テル、p−メチルフェニルビニルエーテル。 p−クロルフェニルビニルエーテルなどの一価の単量体
ニ ジビニルベンゼン、シュウ酸ジスチリル、マロン酸ジス
チリル、コハク酸ジスチリル、グルタル酸ジスチリル、
アジピン酸ジスチリル、マレイン酸ジスチリル、フマル
酸ジスチリル、β、β′−ジメチルグルタル酸ジスチリ
ル、2−ブロモグルタル酸ジスチリル、α、α′−ジク
ロログルタル酸ジスチリル、テレフタル酸ジスチリル、
シュウ酸ジ(エチルアクリレート)、シュウ酸ジ(メチ
ルアクリレート)、マロン酸ジ(エチルアクリレート)
、マロン酸ジ(メチルエチルアクリレート)、コハク酸
ジ(エチルアクリレート)、グリタル酸ジ(エチルアク
リレート)、アジピン酸ジ(エチルアクリレート)、マ
レイン酸ジ(エチルアクリレート)、フマル酸ジ(エチ
ルアクリレート)、β、β′−ジメチルグルタル酸ジ(
エチルアクリレート)、エチレンジアクリルアミド、プ
ロピレンジアクリルアミド、1.4−フェニレンジアク
リルアミド、1.4−フェニレンビス(オキシエチルア
クリレート)、1,4−フェニレンビス(オキシメチル
エチルアクリレート)、1.4−ビス(アクリロイルオ
キシエトキシ)シクロヘキサン、1,4−ビス(アクリ
ロイルオキシメチルエトキシ)シクロヘキサン、1.4
−ビス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイル)ベ
ンゼン、1.4−ビス(アクリロイルオキシメチルエト
キシカルバモイル)ベンゼン、1.4−ビス(アクリロ
イルオキシエトキシカルバモイル)シクロヘキサン、ビ
ス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイルシクロヘ
キシル)メタン、シュウ酸ジ(エチルメタクリレート)
、シュウ酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、マロン
酸ジ(エチルメタクリレート)、マロン酸ジ(メチルエ
チルメタクリレート)、コハク酸ジ(エチルメタクリレ
ート)、コハク酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、
グルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、アジピン酸ジ
(エチルメタクリレート)、マレイン酸ジ(エチルメタ
クリレート)、フマル酸ジ(エチルメタクリレート)、
フマル酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、β、β′
−ジメチルグルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、1
.4−フェニレンビス(オキシエチルメタクリレート)
、1,4−ビス(メタクリロイルオキシエトキシ)シク
ロヘキサンアクリロイルオキシエトキシエチルビニルエ
ーテルなどの2価の単量体;ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(ヒドロキシスチレン)
、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、シアヌ
ル酸トリアクリレート、シアヌル酸トリメタクリレート
、l、 1. l−トリメチロールプロパントリアクリ
レート、1,1.1−トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、シアヌル酸トリ(エチルアクリレート)、
l、l、1−トリメチロールプロパントリ(エチルアク
リレート)、シアヌル酸トリ(エチルビニルエーテル)
、1,1.1−トリメチロールプロパントリ(トルエン
ジイソシアネート)とヒドロキシエチルアクリレートと
の縮合物、1,1.1−トリメチロールプロパントリ(
ヘキサンジイソシアネート)とp−ヒドロキシスチレン
との縮合物などの3価の単量体; エチレンテトラアクリルアミド、プロピレンテトラアク
リルアミドなどの4価の単量体などを挙げることができ
る。 なお、前述のようにこれらの重合性ポリマー前駆体を二
種以上用いてもよい。 感光層、重合層に皮膜性、分散性を改善する目的で適宜
バインダーを含有させるのが好ましい。 バインダーとしては、例えば、ニトロセルロー人 リン
酸セルロース、硫酸セルロース、酢酸セルロース、 プ
ロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、 ミリスチン
酸セルロース、バルミチン酸セルロース、酢酸・プロピ
オン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロースなどのセルロ
ースエステル類メチルセルロース、エチルセルロース、
プロピルセルロー人 ブチルセルロースなどのセルロー
スエーテル類: ボリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹脂類
; スチレン−ブタジェンコポリマー、スチレン−アクリロ
ニトリルコポリマー、スチレン−ブタジェン−アクリロ
ニトリルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマ
ーなどの共重合樹脂類;ポリメチルメタクリレート、ポ
リメチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ
アクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、
ボIJ 7クリロニトリルなどのアクリル樹脂類;ポリ
エチレンテレフタレートなどのポリエステル類;例えば
、ポリ(4,4−イソプロピリデン、ジフェニレン−ニ
ー1.4−シクロヘキシレンジメチレンカーボネート)
、ポリ(エチレンジオキシ−3,3−フェニレンチオカ
ーボネート)、ポリ(4,4”−イソブロビリデンジフ
ェニレンカーボネートーコーテレフタレート)、ポリ(
4,4’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート
)、ポリ(4,4’−5ee−ブチリデンジフェニレン
カーボネート)、ポリ(4,4″−イソプロピリデンジ
フェニレンカーボネート−ブロック−オキシエチレン)
などのポリアクレート樹脂類; ポリアミド類;ポリイミド類;エポキシ樹脂類;フェノ
ール樹脂類; ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンな
どのポリオレフィン類; およびゼラチンなどの天然高分子などが挙げられる。 この他に、必要に応じて、色gIl剤、カブリ防止剤、
アルカリ発生剤、自動酸化削などを本発明の感光体に添
加しても良い。 本発明の感光体における上記成分の好ましい配合比はつ
ぎの通りである。 含有される有機銀塩の量は、0.3〜30g/m2、特
に0.7〜15g/m2. 更には1.2〜8g7m
2が好ましい。 また、有機銀塩1モルに対して、ハロゲン化銀を好まし
くは0.001〜2モル、 より好ましくは0.05〜
1モル含有させるのが望ましい、また、有機銀塩1モル
に対して還元剤を好ましくは0.05〜3モル、より好
ましくは0.2〜1.3モル含有させるのが望ましい、
更に、重合性ポリマー前駆体100重量部に対して光重
合開始剤を好ましくは0.1〜30重量部、より好まし
くは0.5〜10重量部用いるのが望ましい、また、還
元剤1モルに対して光重合開始剤を好ましくは0.01
モル〜10モル、より好ましくは0.5〜3モル用いる
のが望ましい。 感光層あるいは感光重合層に現像促進剤を含有していて
も構わないが、その場合、有機銀塩10重量部に対して
、1.0重量部以下にするのが好まし現像促進剤層に含
まれる現像促進剤の量は、感光層の有機銀塩10重量部
に対して、2重量部から40重量部、好ましくは5重量
部から201i量部である。 本発明において現像促進剤層は、現像促進剤をバインダ
ー中に溶解させた状態 あるいはカプセル状態で塗布し
て形成することができる。 必要に応じ感光層、感光重合層に含有されるバインダー
の量は、有機銀塩1重量部に対し、0.1〜10重量部
、更には0.5〜5重量部の割合が好ましい0重合層に
含まれるバンイダーの量は、重合性ポリマー前駆体1重
量部に対し、0.1−10重量部の割合が好ましい。 本発明の感光体は、上記成分を、適宜用いられるバイン
ダーとともに溶剤に溶解して金属箔、プラスチックフィ
ルム、敏 バライタ紙 合成紙などの支持体上に塗布乾
燥して、あるいはバインダー自身で強度が保たれる場合
は支持体を用いずにバインダーで形成されるフィルム又
はシート状物中に上記必須成分を含有させて形成するこ
とができる。 画像形成層1の厚さは、0.11jTI〜2a11、更
には、11jTl−0,1ma+が好ましい、また、支
持体2の厚さは、 2Ln〜3mm程度が好ましい。 熱拡散性色素の含有量は、ハロゲン化銀、有機銀塩、還
元剤、重合性ポリマー前駆体、光重合開始剤および適宜
含有されるバインダーの総和100重量部に対して、好
ましくは5〜200重量部、より好ましくは10〜10
0重量部である。 重合層12に熱拡散性色素を含有する場合には、熱拡散
性色素の含有量は重合層12に対し5〜60重量%程度
が適当である。また色材層を設ける場合、熱拡散性色素
の含有量は、色材層に対して5%以上が好ましい1色材
層は熱拡散性色素だけで構成することもできる。 本発明に使用する熱拡散性色素としては、例えばモノア
ゾ染料、チアゾール染料、アントラキノン染料、 トリ
アリルメタン染料、 ローダミン染料、ナフトール染料
などを挙げることができる。熱拡散性色素は、一般に分
子量が小さいほど熱拡散性は大きく、また、例えばカル
ボキシル幕 アミノ基 水酸基 ニトロ基 スルホン基
などの極性基が多くついている染料はど熱拡散性が小さ
い、したがって、本発明の媒体における重合度や架橋密
度、加熱条件などに応じて、所望の熱拡散性を有する色
素を分子量、極性基を目安にして適宜選択すればよい。 本発明の画像形成方法を説明する。 第1図及び第2図に本発明の基本プロセスを図示した。 第1図中、 l、 4はフィルムベースであり、その間
に現像促進剤5が含有された現像促進剤層2と感光性重
合層3が挟まれている。感光重合層3に像露光すること
により感光重合層3に含まれた感光性金属塩上に金属核
の潜像6が形成される(第1図(a)) 。 次に上記(a)の過程と同時あるいは後に第2の加熱を
行ない、現像促進剤5を感光性重合層3に移行させ、潜
像6を触媒として酸化還元反応を起させ酸化体像7を形
成させる(第1図(b)) 、この酸化体像7は光重合
開始M(増感剤を含む)の感光波長を効率よく吸収する
ため第1図(c)の過程で光重合開始剤の感光波長光を
一様露光することによって酸化体像7の部分では重合は
起こらず、像未露光部では重合が起こり重合部8が形成
される。この重合部8はエツチング処理、ビールアパー
ト処理などにより取り出すことができる(第1図(d)
) 。 また、第2図は本発明の別の基本プロセスである。第2
図(a)で像露光前に第1の加熱を行ない。 現像促進剤5を現像促進剤層2より感光性重合層3に移
行させる6次に像露光を行ない潜像6を形成させ(第2
図(b)) 、像露光と同時あるいは後に第2の加熱を
行ない像露光部で酸化還元反応を起こさせて酸化体像を
形成させる(第2図(C)) 。 次に一様露光を行なうことにより像未露光部に重合部8
を形成させることができる(第2図(d)) 。 第1図、第2図では感光性かつ熱現像性要素と光重合性
要素とを同一の層中に含有させた感光性重合層3として
図示したが、感光性かつ熱現像性要素を含む感光層と、
光重合性要素を含む重合層とに分けることも可能である
。その場合、現像促進剤層と重合層が同一層となってい
ても良く、重合層の生保存性の点でその形態が好ましい
。 次に本発明の重合画像形成方法を利用した色画像形成に
ついて第3図を参照して説明する。 第3図(a)は、熱拡散性色素12を含む色材層9を有
する感光体に対し、上記いずれかのプロセスにより重合
部8を形成させた状態を示すものである。該感光体のト
ップ層IOと受像体11とを重ね合わせた後加熱すると
、像露光部(未重合部)では熱拡散性色素12が感光性
重合層3を通過して受像体11に到達する。この時トッ
プ層10がPETフィルムなどの熱拡散性色素を透過さ
せないものの場合は、 トップ層10を剥離した後、受
像体11と重ね合わせて加熱する。一方、像未露光部(
重合部)では重合部の架橋密度の高さにより熱拡散性色
素12が感光性重合層を通過できず、受像体へ到達でき
ない(第3図(b)) 、こうして受像体ll上に像露
光部に対応した色画像13が形成され(第3図(c))
、熱拡散性色素をイエロー、マゼンタ、シアンと3種
類用い、同プロセスを3回繰り返すことにより受像体上
にフルカラー画像を得ることができる。この場合も感光
性重合層が前述のように同一層でなくてもよく、また、
色材層と重合層が同一層となっていても良いが、受像体
の色カブリの点から少なくとも重合層は色材層とは分け
られることが好ましい。 本発明の画像形成方法においては、第4図に示すように
現像促進剤5を感光体とは別の現像促進材シート14中
に含有させ、感光性かつ熱現像性要素と光重合性要素(
第4図では同一層としたが。 各要素を別の層中に含有させて感光体としても良い)を
含む感光体と重ね合わせ(第4図(a)) 、第1の加
熱を行なった後、像露光(第4図(b)) 、第2の加
熱(第4図(C))、全面露光(第4図(d))により
重合画像を得ることもできる。 また、第1の加熱(現像促進剤の移行)を画像情報に応
じて行なうことにより、第2の加熱によるカブリを抑え
ることができる1例えば、第5図に示す画像形成装置を
用いることによりコントラストの高い重合画像を形成す
ることができる。 第5図に示す装置では、画像処理系23により画像部の
領域をサーマルヘッド22により第1の加熱を行ない、
さらにレーザー21よりレーザー光をポリゴンミラー
24を通して給紙ロール25から給紙された感光体に照
射する2 ついで面状発熱体26で第2の加熱を行ない
、蛍光灯27により一様露光(全面露光)する1図中2
8は遮光板である1重合画像の形成された感光体はくさ
び29によりビールアパートされ、重合部と未重合部の
それぞれの画像に分離される。 本発明の画像形成方法において、像露光は感光性金属塩
(主に感光性銀塩)が感度を有する波長を用いて行なう
、−船釣に400nm〜900na+の任意の波長光を
用いることが好ましい、光源としては太陽光、キセノン
ランプ、水銀灯、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲ
ンランプ、LED、レーザーなどを使用することができ
る。像露光方法としては、マスクを用いた密着露光、原
画、ネガなどからの反射を利用した反射露光、画像を電
気信号から入力するデジタル露光などの方法がある。 像露光と同時あるいは後に行なう加熱(a露光部で酸化
還元反応を起こす加熱)は、80℃〜160℃、好まし
くは110℃〜140℃で、0.5秒から200秒、好
ましくは3秒から60秒間行なう、加熱手段としては、
ヒートローラーによる加熱、通電加熱、誘電加熱5 銹
導加熱、サーマルヘッドによる加熱などがある。 第1図に示すプロセスでは、上記加熱過程で現像促進剤
を移行させる必要があるため、現像促進剤の移行加熱条
件が酸化還元反応の起こる加熱条件よりも穏やかである
。第2図に示すプロセスでは、最初に現像促進剤を移行
させるため、第1図のプロセスより強い加熱条件を選択
することができ、好ましい。 現像促進剤を移行させるための加熱条件はプロセス、材
料により異なるが、おおよそ、60℃〜200℃、好ま
しくは80℃〜160℃であり、加熱時間としては1秒
から60秒、好ましくは2秒から40秒間である。加熱
手段は上記加熱手段と同じであっても異なっていてもよ
い。 第1図(C)及び第2図(d)における−様露光とは、
光重合開始剤(増感剤を含む)の感光波長を含む光で行
ない、重合反応を起こさせるのに十分な強度で行なうこ
とが必要である。波長としては250nmから600n
mの光が利用できる。光源としては前記像露光と同じ光
源を使用することが可能であるが、好ましくは、水銀灯
、蛍光灯、 レーザーである。−様露光時に重合反応の
促進を図る目的で熱バイアスをかけてもよい。 第3図に示す色画像を形成する時の熱拡散性色素の転写
過程について説明する。加熱条件としては80℃〜20
0℃、好ましくは100℃〜180℃で、0.1秒〜8
0秒、好ましくは0.5秒〜50秒間である。尚、この
色画像化のためのプロセスをとる場合の酸化還元反応を
生起する加熱は熱拡散性色素の移行をより少なくするた
めにトップ層10側から行なうのがよい、加熱手段は前
述のものと同じであっても異なっていてもよい。
系の感光体を用いた画像形成方法に関する。 [従来の技術] ベヘン酸銀やラウリン酸銀などの非感光性銀塩を用いた
熱現像性感光体はすでに広く知られている。これは、併
用する重金属塩上に像露光で生じる潜像を触媒として加
熱下、前記銀塩と還元剤とで酸化還元反応を起こさせ、
銀像を形成する感光体である。 このような熱現像性感光体を用いて、重合画像を形成す
る方法は、例えば、特開昭61−69062号公報、同
61−70836号公報、同61−75342号公報に
記載されている。 前二者は、加熱時に重合反応を起こさせる方法であるが
、重合速度が遅い、あるいは重合反応と酸化還元反応が
競争反応となり、像露光部と像未露光部での重合度の差
が小さいなどの問題がある。 また、特開昭61−75342号公報は、加熱後に全面
露光することにより、像露光部に重合を起こさせるもの
であるが、重合部と金属銀の析出部が同一であり、重合
画像としてコントラストに劣る画像となっていた。 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明は、上記問題点を克服し、かつコントラストのよ
い重合画像を形成し得る、生保存安定性に優れた感光体
を提供することを目的とする。また、本発明は上記感光
体を用いた画像形成方法を提供することを目的とするも
のである。特に現像促進剤の量を増やすことによる像未
露光部での地かぶりの発生、生保存性の劣化、あるいは
、現像促進剤の量が少ない場合の加熱後のコントラスト
の不足などの問題をなくし、現像促進剤と地かぶりの発
生、生保存性の劣化、コントラストの不足のトレードオ
フの関係をなくした感光体であり、画像形成方法を提供
するものである。また、現像促進剤を光重合性要素を含
む層に含有させた場合、光重合性要素の自然重合を押え
、生保存性の優れた感光体を提供し、従来得られなかっ
た階調性のあるIii像を得ることができる感光体1画
像形成方法を提供することを目的とする。 〔課題を解決するための手段〕 本発明の上記課題は、酸化還元反応を補助する現像促進
剤を少なくとも感光性かつ熱現像性要素を含有する層と
異なる層に含有させることにより達成された。 すなわち、本発明は感光性かつ熱現像性要素、光重合性
要素が同一層中あるいは異なる層中に形成されてなる感
光体であって、熱現像性を促進する現像促進剤が少なく
とも感光性かつ熱現像性要素を含む層重外に含有された
ことを特徴とする感光体であり、像露光と同時あるいは
前に加熱(第1の加熱)により現像促進剤を感光性かつ
熱現像性要素を含有する層に移行させ、像露光部で酸化
還元反応を起こさせた後、全面露光(−様露光)を施す
ことにより重合画像を形成するものである。 本発明の感光体について説明する。 本発明で用いられる現像促進剤は、下記一般式(1)お
よび(I])で表わされる化合物が使用する還元剤との
組合せから好ましい。 一般式(1)、 <IT)中、rl、 r2は各々水
素原子、アルキル基 アルコキシル基であり、アルキル
基としては、メチル基 エチル幕 プロピル幕1−プロ
ピルit−ブチル基であり、アルコキシル基としては、
メトキシ基 エトキシ基 プロポキシル基である。 具体的な例としては、フタラジン、6−メチルフタラジ
ン、5−メチルフタラゾン、6−メドキシフタラゾン、
5−メトキシフタラジン、ベンゾオキサジンジオン、ナ
フトオキサジンジオン、7−メチルベンゾオキサジンジ
オン、6−t−ブチルベンゾオキサジンジオン、8〜メ
チルベンゾオキサジンジオン、7−メドキシベンゾオキ
サジンジオン、6−メドキシベンゾオキサジンジオンな
どが挙げられる。 本発明の感光体は、少なくとも感光性金属塩、有機金属
塩、還元剤を含む感光性かつ熱現像性要素と、少なくと
も重合性ポリマー前駆体および光重合開始剤を含む光重
合性要素とが同一層あるいは異なる層に形成されてなる
感光体であって、前記光重合開始剤が感度を有する波長
の光を吸収する光吸収性有機化合物を露光および加熱に
よって生成し得る感光体である。 感光性金属塩としては、銀塩、銅塩、鉛塩などが使用で
きるが感度などの点で銀塩が好ましい。 銀塩としては、フェニル銀・硝酸銀の錯体、フェニルエ
チニル銀トリエチルホスフィン錯体。 過塩素酸銀、クロム酸銀、タングステン酸銀などの他に
、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀。 塩沃臭化銀などのハロゲン化銀などがあるが、 感光性
、安定性の点からハロゲン化銀が好ましい。 これらは通常の写真乳剤に対して行なわれるような化学
増感、光学増感処理が施されていてもよい。 つまり、化学増感としては、硫黄増感、貴金属増感、還
元増感などを用いることができ、光学増感としては、従
来よく知られている増感色素を用いた方法などを適用で
きる。 増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色素、
三核色素などが好ましく用いられる6例えば、3,3′
−ジカルボキシエチル−2,2′−チアカルボシアニン
アイオダイド、3.3′−ジエチル−2,2″−チアカ
ルボシアニンアイオダイド、3.3′−ジスルホエチル
−2,2′−チアジカルボシアニンアイオダイド、3.
3′〜ジエチル−2,2′−チアトリカルボシアニンア
イオダイド、さらに、下記構造式の色素が好ましく用い
られる。 C)l、 C00H CH2CH3CO0)] また、粒子内のハロゲン組成が均一あるいは異なった多
重構造を採っていても良い、ハロゲン組成、粒子サイズ
、粒子サイズ分布などが異なった二種以上のハロゲン化
銀を併用しても良い。 有機金属塩としては、有機銀塩が好ましく、有機銀塩と
しては、 F写真工学の基礎ノ (第1版91982年
発行)非銀塩編、p247や、特開昭59−55429
号等に記載された有機酸銀やトリアゾール系銀塩などを
用いることができ、感光性の低い銀塩を用いるのが好ま
しい5例えば、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、
メルカプト基もしくはα−水素を有するチオカルボニル
基化合物、およびイミノ基含有化合物などの銀塩である
。 脂肪族カルボン酸としては、酢酸、酪酸、コハク酸、セ
バシン酸、アジピン酸、オレイン酸、 リノール酸、
リルン酸、酒石酸、バルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、樟脳酸などがあるが、−船釣に炭素数が少ないほ
ど銀塩としては不安定であるので適度な炭素数(例えば
、炭素数I6〜26の範囲のもの)を有するものが好ま
しい。 芳香族カルボン酸としては、安息香酸誘導体、キノリン
酸誘導体、ナフタレンカルボン酸誘導体、サリチル酸誘
導体、没食子酸、タンニン酸、フタル酸、フェニル酢酸
誘導体、ピロメリット酸等がある。 メルカプト基又はα−水素を有するチオカルボニル基化
合物としては、3−メルカプト−4−フェニル−1,2
,4−トリアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、2−メルカプト−5−アミノチアジアゾール、2−
メルカプトベンゾチアゾール、S−アルキルチオグリコ
ール酸(アルキル基炭素数12〜23)、ジチオ酢酸な
どジチオカルボン酸類、チオステアロアミドなどチオア
ミド類、5−カルボキシ−1−メチル−2−フェニル−
4−チオピリジン、メルカプトトリアジン、2−メルカ
プトベンゾオキサゾール、メルカプトオキサジアゾール
又は3−アミノ−5〜ベンジルチオ−12,44リアゾ
ールなど、米国特許第4.123.274号記載のメル
カプト化合物が挙げられる。 イミノ基を含有する化合物としては、特公昭44−30
270号又は同45−18416号記載のベンゾトリア
ゾール若しくはその誘導体、例えばベンゾトリアゾール
、メチルベンゾトリアゾールなどアルキル置換ベンゾト
リアゾール類、5−クロロベンゾトリアゾール等、ハロ
ゲン置換ベンゾトリアゾール類、ブチルカルボイミドベ
ンゾトリアゾールなどカルボイミドベンゾトリアゾール
類、特開昭58−118639号記載のニトロベンゾト
リアゾール類、特開昭58−115638号記載のスル
ホベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール
もしくはその塩、またはヒドロキシベンゾトリアゾール
など、米国特許4,220,709号記載の1.2.4
−トリアゾールやIH−テトラゾール、 カルバゾール
、サッカリン、イミダゾール及びその誘導体などが代表
例として挙げられる。 還元副としては、例えば下記一般式(m)のものが挙げ
られる。 一般式(m)中 I+およびR2は、各々独立に、水素
原子、ヒドロキシル基 ハロゲン原子、置換または無置
換のアルキル基 置換または無置換のアルケニル基 置
換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のシ
クロアルキル基 もしくは置換または無置換のアラルキ
ル基 アルコキシル基 置換または無置換のアミノ基を
示し、mは1〜3の整数を示し、Aは1価〜3価の基で
、置換または無置換のアラルキル基 置換または無置換
のアルキル基 置換アミノ基 2価のアルキリデン基
アラルキリデン基 3価のメチン基を示す。 前記一般式(m)において、R1およびR2の無置換ア
ルキル基は、好ましくは炭素数1から18の直鎖又は分
岐アルキルなどであ番バ 例えば、メチル、エチル、
プロピル、 i−プロピル、 ブチル、 t−ブチル、
i−ブチル、 アミル、 i−アミル、 5ec−ア
ミル。 テキシル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、
ドデシル、ステアリルなどを挙げることができる。 RIおよびR2の置換アルキル基は、好ましくは炭素数
2から18のアルコキシアルキル基 炭素数1から18
のハロゲノアルキル基 炭素数1から18のヒドロキシ
アルキル基 炭素数1から18のアミノアルキル基 な
どであり、 例えば、アルコキシアルキル基としては、メトキシエチ
ル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピ
ル、エトキシブチル、プロポキシメチル、プロポキシブ
チル、i−プロポキシペンチル、t−ブトキシエチル、
ヘキシロキシブチルなどを挙げることができる。 ハロゲノアルキル基としては、例えば、クロロメチル、
クロロエチル、ブロモエチル、クロロプロピル、クロロ
ブチル、クロロヘキシル、クロロオクチルなどを挙げる
ことができる。 ヒドロキシアルキル基としては、例えば、ヒドロキシメ
チル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、 ヒド
ロキシブチル、 ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキ
シル、ヒドロキシへブチルなどを挙げることができる。 アミノアルキル基としては、例えば、アミノメチル、ア
セチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、アミノエ
チル、アセチルアミノエチル、ジメチルアミノエチル、
ジエチルアミノエチル、モルホリノエチル、ピペリジノ
エチル、ジエチルアミノプロビル、ジプロピルアミノエ
チル、アセチルアミノプロピル、アミノブチル、モルホ
リノブチル、などを挙げることができる。 R1およびR2のアルケニル基としては、例えば、ビニ
ル、アリル、プレニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセ
ニル、ヘプテニル、オクテニル、などを挙げることがで
きる。 アルキニル基としては、例えば、アセチル、プロパギル
、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプテニル、オ
クテニルなどを挙げることができる。 シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチルである。 R1およびR2で表わされるアラルキル基としては、例
えば、ベンジル、フェネチル、 トリルメチルなどであ
る。 R1およびR2で表わされるアミノ基としては、例えば
、アセチルアミ人 ジメチルアミ人 ジエチルアミ人
アミノなどである。 R1およびR2で表わされるアルコキシル基としては、
例えば、 メトキシ、エトキシ、プロポキシなどである
。 以上のうち、R2として好ましい置換基は、塩素原子、
臭素原子、メチル、エチル、i−プロピル、t−ブチル
、5ec−アミル、テキシル、エトキシメチル、エトキ
シエチル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、アミノメ
チル、ジメチル−アミノメチル、ベンジルである R1
として好ましい置換基は、塩素原子、 メチル、 エチ
ル、 i−プロピル、t−ブチル、アミル、テキシル、
ヒドロキシル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、ベン
ジル、シクロヘキシルである。 Aとして1価の基の置換もしくは無置換のアラルキル基
としては、例えば、ベンジル、p−メトキシベンジル、
p−N、N−ジメチルアミノベンジル、p−ビロリ
ジノベンジル、p−メチルベンジル、p−ヒドロキシベ
ンジル、p−クロロベンジル、3,5−ジクロロ−4−
ヒドロキシベンジル、3〜メチル−5−t−ブチル−4
−ヒドロキシベンジル、0.p−ジメチルペンシル、3
.5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル、2−ヒドロ
キシ−3−1−ブチル−5−メチルベンジル、ナフチル
メチル、などを挙げることができる。 Aとして1価の基の置換もしくは無置換のアルキル基は
1例えば、メチル、エチル、i−プロピル、N、N−ジ
メチルアミノメチル、N−ベンジルアミノメチル、メト
キシメチル、エトキシメチル、ヒドロキシメチル、メト
キシカルボニルエチル、メトキシカルボニルメチル、エ
トキシカルボニルエチル、などを挙げることができる。 1価の基の置換アミノ基としては、メチルアミ人 ジメ
チルアミノ、ジエチルアミ人 アセチルアミ人 フェニ
ルアミノ、ジフェニルアミ人 トリアジルアミ人 など
を挙げることができる。 2価の基のアルキリデン基としては、例えば、メチレン
、エチリデン、プロピリデン、ブチリデン、などを挙げ
ることができる。 2価の基のアラルキリデン基としては、例えば、 ベン
ジリデン、p−メチルベンジリデン、p−ジメチルアミ
ノベンジリデンなどを挙げることができる。 この中でAとして好ましい基としては、 1価のアラル
キル基 2価のアルキリデン基 アラルキリデン基 3
価のメチン基であり、 1価のアラルキル基及び2価の
アルキリデン基は、特に好ましい基である。 次に、一般式(m)で表わされる還元剤のうちで好まし
い還元剤の具体例を挙げるが、これらに限定されない。 2.4−ジメチル−6−t−ブチルフェノール、2−メ
チル−4−i−プロピル−6−t−ブチルフェノール、
2,6−ジt−ブチル−4−ジメチルアミノフェノール
、2,6−ジーt−ブチル−4−ヒドロキシメチルフェ
ノール、2−t−ブチル−6−ベンジル−4−メチルフ
ェノール、26−ジーt−ブチル−4−o−トリルメチ
ルフェノール、2,6−ジーt−ブチル−4−ベンジル
フェノール、2−t−ブチル−4−(p−メトキシベン
ジル)−5−メチルフェノール、2.6−シメチルー4
−(α−ナフチルメチル)フェノール、2.6−ジーt
−ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3−1〜ブチル5−
メチルベンジル)フェノール、2−1−ブチル−4−(
p−クロロベンジル)−6−シクロヘキジルフエノール
、2−t−ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルベンジル)−5−メチルフェノール、2−t−ブ
チル−4−ベンジルー6−プロパギルフェノール、2,
6−ジーt−ブチル−4−(3,5−ジクロロ−4−ヒ
ドロキシベンジル)フェノール、2.6−ジーt−ブチ
ル−4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル
)フェノール、2,6−ジテキシルー4−(4−ヒドロ
キシベンジル)フェノール、2テキシル−4−ベンジル
−5−メチルフェノール、2−アリル−4−ベンジル−
5−メチルフェノール、2−テキシル−4−(p−クロ
ロベンジル)−5−アリルフェノール、2−クロロ−4
−ジメチルアミノメチルフェノール、2.6−ジーi−
プロピル−4〜ジエチルアミノフエノール、2−t−ブ
チル−4−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メ
チルベンジル)フェノール、4.4″−メチレンビス(
2,6−ジーも一ブチルフェノール)、4,4′−メチ
レンビス(2−t−ブチル−5−メチルフェノール)、
4.4′−メチレンビス(2−t−ブチル−6−メチル
フェノール)、4.4′−メチレンビス(2−テキシル
−6−メチルフェノール)、4,4′−メチレンビス(
2−シクロへキシル−6−メチルフェノール)、4.4
′−メチレンビス(2−ジクロロへキシル−5−t−ブ
チルフェノール)、 4.4’−エチリデンビス(2
,6−ジーt−ブチルフェノール)、4.4′−エチリ
デンビス(2−t−ブチル−6−メチルフェノール)、
4,4′−エチリデンビス(2−シクロヘキシル−6−
メチルフェノール)、4.4′−エチリデンビス(2−
テキシル−6−メチルフェノール)、4.4′−プロピ
リデンビス(2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4
.4’−ブチリデンビス(2−t−ブチル−6−メチル
フェノール)、4,4′−ブチリデンビス(2−テキシ
ル−6−メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビ
ス(2−ジクロロへキシル−6−メチルフェノール)、
ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)フェニルメタン、ビス(35−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)(4−メトキシフェニル)メタ
ン、 ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)(4−ジメチルアミノフェニル)メタン、
トリス(3,5−ジルt−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、ビス(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ
−5−メチルフェニル)フェニルメタン。 などがある。 この中で特に好ましい還元剤としては、2,6−ジーt
−ブチル−4−o−トリルメチルフェノール、2,6−
ジーt−ブチル−4−ベンジルフェノール、2.6−ジ
ーt−ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルベンジル)フェノール、2.6−ジーt−
ブチル−4−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシベン
ジル)フェノール、4.4−メチレンビス(2,6−ジ
ーt−ブチルフェノール)、4.4′−メチレンビス(
2−t−ブチル−5−メチルフェノール)、 4.4
’−メチレンビス(2−t−ブチル−6−メチルフェノ
ール)、4,4′−エチリデンビス(26−ジーt−プ
チルフエノール)、4,4′−エチリデンビス(2−t
−ブチル−6−メチルフェノール)、 4.4’−プロ
ピリデンビス(2,6−ジーt−ブチルフェノール)、
4,4′−ブチリデンビス(2−シクロへキシル−6−
メチルフェノール)、ビス(3,5−ジーt−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、 ビス(3
,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)(4
−メトキシフェニル)メタン、ビス(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)(4−ジメチルアミ
ノフェニル)メタン、トリス(35−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)メタンである。 酸化還元反応により光吸収性有機化合物となる還元剤と
しては、例えば下記一般式(rV)のちのも本発明の媒
体に使用できる。 H 一般式(IV)式中、R5は、水素原子、アルキル基
シクロアルキル幕 アラルキル基を表わし、R3、R4
,およびR6は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基 アミノ基 アリール基、アラルキル基 アル
コキシル基 ニトロ基 アシル幕シアノ基を表わし、R
丁は水素原子、置換または無置換のアルキル基 置換ま
たは無置換のアリール基を表わし、a、は水素原子、ヒ
ドロキシル基 ハロゲン原子、置換または無置換のアル
キル基、シクロアルキル基 アルコキシル基 置換また
は無置換のアミノ基を表わす。 一般式(IV)中、a、 、 R’ 、 R’およびR
6のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 a、 、 R’ 、 R’ 、 R’ 、 R’および
R7のアルキル基としては、置換あるいは無置換の炭素
数1から18までの直鎖または分岐アルキル基が好まし
く、例えば、メチル、 エチル、 プロピル21−プロ
ピル、 ブチル、 t−ブチル、 i−ブチル、 アミ
ル、 i〜ルアミルヘキシル、テキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、 ドデシル、ステアリル等の直鎖又は
分岐の炭化氷素幕メトキシエチル、エトキシエチル、エ
トキシプロピル、エトキシブチル、プロポキシブチル、
i−ブロボキシベンチル、t−ブトキシエチル、ヘキシ
ロキシブチル等の直鎖又は分岐のアルコキシアルキル基
ヒドロキシメチル、 ヒドロキシエチル、ヒドロキシ
プロピル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペンチル、ヒ
ドロキシヘキシル、ヒドロキシへブチル等のヒドロキシ
アルキル基 アミノメチル、ジメチルアミノメチル、ア
ミノエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエ
チル、モルホリノエチル、 ピペリジノエチル、アミノ
プロピル、ジエチルアミノプロビル、ジプロピルアミノ
エチル、アミノブチル、モルホリノブチル等のアミノア
ルキル又はアルキルアミノアルキル基である。 alおよびR5のシクロアルキル基としては、置換また
は無置換のシクロアルキル基で、炭素数5から18のも
のが好ましく、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロへブチル、シクロオクチル、メチルシクロヘ
キシル、ジメチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキシ
ル基等である。 a+、R”、RaおよびR6のアミノ基としては、置換
または無置換のアミノ基で、例えば、アミ人 アセチル
アミ人 メチルアミ人 ジメチルアミ人 ジエチルアミ
人 ビロリジ人 モルホリ人 ベンゼンスルホンアミド
、 トルエンスルホンアミド、ジプロピルアミ人 ジブ
チルアミノ基などである。 R3、R7、R6およびR7のアリール基としては、置
換または無置換の炭素数6から16のアリール基が好ま
しく、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェ
ナントリル、 トリル、キシリル、 クメニル、メシチ
ル、クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオロフェ
ニル基等である。 a4. R3,R’およびR6のアルコキシル基として
は、炭素数1から18の置換または無置換のアルコキシ
ル基が好ましく、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、i−プロポキシ、ブトキシ等である。 R3、R4、lJ6およびR6のアラルキル基としては
、置換または無置換の炭素数7から19のアラルキル基
が好ましく、例えば、ベンジル、フェネチル、ベンズヒ
ドリル、 トリチル、フェニルプロピル、ナフチルメチ
ル、クロロベンジル、ジクロロベンジル、メトキシベン
ジル、メチルベンジル基等であR1R4およびRaのア
シル基としては、アセチル、プロピオニルなどが挙げら
れる。 上記置換基を有する一般式(IV)で表わされる化合物
の具体例をあげると、 4.4′−メチレンビス(2−メチル−1−ナフトール
)、4.4″−メチレンビス(2−エチル−1−ナフト
ール)、4.4′−メチレンビス(2−t−ブチル−1
−ナフトール)、4.4′−メチレンビス(2−シクロ
へキシル−1−ナフトール)、4,4″−メチレンビス
(2−t−ブチル−6〜メチル〜1−ナフトール)、4
,4′−メチレンビス(2,6−ジエチル−1−ナフト
ール)、4,4′−メチレンビス(2−ベンジル−1−
ナフトール)、4,4′−メチレンビス(2−t−ブチ
ル−8−メチル−1−ナフトール)、 4.4’−メ
チレンビス(2−メチル−5−クロロ−1−ナフトール
)、 4,4′−メチレンビス(2−メチル−8−ジメ
チルアミノ−1−ナフトール)、4,4′−メチレンビ
ス(2−メチル−5−ベンジルナフトール)、4,4′
−メチレンビス(2−メチル−5−メトキシ−1−ナフ
トール)、4.4′−メチレンビス(2−メチル−5−
フェニル−1−ナフトール)、4−(3’−シクロへキ
シル−4′−ヒドロキシナフチル)メチル−2−メチル
−1−ナフトール、4−(3”−t〜ジブチル4゛−ヒ
ドロキシナフチル)メチル−2−メチル−1−ナフトー
ル、4−(3°−シクロヘキシル−4″−ヒドロキシナ
フチル)メチル−2−t−ブチル−1−ナフトール、4
,4′−ベンジリデンビス(2−メチル−1−ナフトー
ル) 4.4’−ベンジリデンビス(2−メチル−]
−ナフトール)、4.4″−ベンジリデンビス(2−t
−ブチル−l−ナフトール)、4.4′−エチリデンビ
ス(2−メチル−1−ナフトール)、4.4′−エチリ
デンビス(2−t−ブチル−1−ナフトール)、ビス(
4−ヒドロキシ−3−メチルナフチル)トリルメタンな
どである。 酸化還元反応により光吸収性有機化合物となる更に他の
還元荊として、下記一般式(V)のものも使用できる。 一般式(V)中、RI、R9,R1@オヨびR111!
、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換または無
置換のアルキル基 シクロアルキル基 アルコキシル基
置換または無置換のアラルキル基 置換または無置換
のアリール基 置換または無置換のアミノ基 ニトロ基
アシル基を示し、Zは2価のL R2およびR3は
水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、置換または
無置換のアルキル基、アルコキシル基 置換または無置
換のアミノ基を表わし、少なくともR2およびa、のど
ちらかはヒドロキシル基である。 前記一般式(V)において、R1、R9、Rl l 、
RI I 、 aeおよびa?が表わすハロゲン原子
としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素である。 前記一般式(V)において、R8,R9,RIilJl
l、R2およびa、が表わすアルキル基としては、好ま
しくは炭素数1から18の直鎖又は分岐アルキルなどで
あり、例えば、メチル、エチル、プロピル、 i−プロ
ピル、 ブチル、t−ブチル、i−ブチル、アミル、i
−アミル、5ec−アミル、テキシル、ヘキシル、 へ
ブチル、オクチル、 ノニル、 ドデシル、ステアリル
などであり、また置換アルキル基は、好ましくは炭素数
2から18のアルコキシアルキル基 炭素数1から18
のハロゲノアルキルL 炭素数1から18のヒドロキシ
アルキル基 炭素数1から18のアミノアルキル基など
であり、例えば、メトキシエチル、エトキシメチル、エ
トキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチル、プ
ロポキシブチル、i−プロポキシペンチル、t−ブトキ
シエチル、ヘキシロキシブチル、クロロメチル、クロロ
エチル、ブロモエチル、クロロプロピル、クロロブチル
、クロロヘキシル、クロロオクチル、ヒドロキシメチル
、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシ
ブチル、 ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、
ヒドロキシへブチル、アミノメチル、アセチルアミノメ
チル、ジメチルアミノメチル、アミノエチル、アセチル
アミノエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノ
エチル、モルホリノエチル、ピペリジノエチル、ジエチ
ルアミノプロピル、ジプロピルアミノエチル、アミノプ
ロピル、アセチルアミノプロピル アミノブチル、モル
ホリノブチルなどを挙げることができる。 RI、)(o、R+@およびRIが表わすアリール基と
しては、例えば、 フェニル、ナフチル、アントリル、
フェナントリルであり、置換アリール基としては、例え
ば、 トリル、キシリル、 クメニル、メシチル。 クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオロフェニル
基等である。 RI、R@J+@およびRIIが表わすアラルキル基と
しては、例えば、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリ
ル、 トリチル、フェニルプロピル、ナフチルメチルな
ど、置換アラルキル基としては、 例えば、クロロベン
ジル、ジクロロベンジル、メトキシベンジル、メチルベ
ンジルなどである。 R” 、 R’ 、 RI l 、 R’ l 、 R
2およびR3が表わすシクロアルキル基としては、例え
ば、 5員環、6員環、 7員環のシクロアルキル基で
、アルキル基で置換されてもよい。 RII 、 RI 、 RI @、 RI + 、 1
12およびR3が表わすアルコキシル基としては、例え
ば、メトキシ、エトキシ、 プロポキシ、ブトキシ、1
−プロポキシ、ベンジロキシ、2−フェニルエトキシな
どである。 R2およびR3が表わす置換または無置換のアミノ基と
しては、例えば、アミ人 アセチルアミノ。 メチルアミ人 イソプロピルアミ人 ジメチルアミ人
フェニルアミ人 ジエチルアミ人 シクロペンチルアミ
人 シクロペンチルメチルアミノ、シクロへキシルアミ
人 ピペリジ人 ピロリジノなどである。 Zは2価の基を表わし、例えば、アルキリデン基 アラ
ルキリデン基であり、具体的にはメチレン、エチリデン
、プロピリデン、ベンジリデン、シンナミリデン、p−
ヒドロキシベンジリデン、p−メチルベンジリデン、p
−ジメチルアミノベンジリデンなどが好ましい。 以下に、上記一般式(V)で表わされる化合物のうち、
特に好ましいものの具体例を挙げるが1本発明はこれら
に限定されるものではない。 一般式(V)で表わされる化合物の具体例として、2−
メチル−4−(3,5−ジメチル−4−とドロキシフェ
ニル)メチル−1〜ナフトール、2−メチル−4−(3
,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メチ
ル−1−ナフトール、2−メチル−4−(4−ヒドロキ
シフェニル)メチル−1−ナフトール、2−メチル−4
−p−トリルメチル−1−ナフトール、2〜メチル−4
−ベンジル−1−ナフトール、2−t−ブチル−4−(
4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフトール、2
−メチル−4−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)メチル−1−ナフトール、2−エチル−4−(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メ
チル−1−ナフトール、2−メチル−4−(3,5−ジ
メトキシ−4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフ
トール、2−メチル−4−(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)メチル−1−ナフトール、2−t−ブチル
−4−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メ
チル−1−ナフトール、2,6−ジーt−ブチル−4−
α−ナフチルメチルフェノール、2,6−ジーt−ブチ
ル−4〜メトキシナフチルメチルフエノール、2−メチ
ル−4−(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)メチ
ル−1−ナフトール、2−メチル−4−(4−ジメチル
アミノフェニル)メチル−1−ナフトール、2−エチル
−4−ジフェニルメチル−1−ナフトール、2−メチル
−4〜(3−シクロへキシル−4−ヒドロキシフェニル
)メチル−1−ナフトール、2−メチル−4(3−フェ
ニル−4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフトー
ル、2−メチル−4−(3−t−ブチル−4−ヒドロキ
シ−5−メチルフェニル)メチル−1−ナフトール、2
−メチル−4−ベンジル−6−メチル−1−ナフトール
などである。 なお、上記還元躬(一般式(1111)、(■)、(V
〕)のうち、 2種以上を併用しても良い。 また、上記還元剤のほかに、酸化還元反応により生成し
た酸化体がさらにカプラーと反応して光吸収性化合物を
生じる還元剤としては2例えば、二次発色現像主薬を挙
げることができる。好ましい二次発色主薬としては、例
えば、p−フェニレンジアミン類などがある。 本発明の画像形成媒体に、酸化還元反応により光吸収性
有機化合物とはならない還元剤を本発明の目的を妨げな
い程度において含有させることも可能である。 本発明の感光体に使用する光重合開始剤とじては1例え
ばカルボニル化合物、イオウ化合物、ハロゲン化合物、
レドックス系光重合開始剤、ビリリウム等の染料で増感
される過酸化物系開始剤などを挙げることができる。 具体的には、カルボニル化合物としては、例えば、ベン
ジル、4,4′−ジメトキシベンジル、ジアセチル、カ
ンファーキノンなどのジケトン類;例えば4,4′−ビ
ス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4.4″−ジメ
トキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類;例えば
アセトフェノン、4−メトキシアセトフェノンなどのア
セトフェノン類; ベンゾインアルキルエーテル類;例
えば2−クロロチオキサントン、2,4−シクロロチオ
キサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、チオキ
サントン−3−カルボン酸−β−メトキシエチルエステ
ルなどのチオキサントン類; ジアルキルアミノ基を有
するカルコン類およびスチリルケトン類;3,3″−カ
ルボニルビス(7−メドキシクマリン)、3,3′−カ
ルボニルビス(7−ジニチルアミノクマリン)などのク
マリン類などが挙げられる。 イオウ化合物としては、例えばジペンゾチアゾリルスル
フィド、デシルフェニルスルフィド、 ジスルフィド類
などが挙げられる。 ハロゲン化合物としては、例えば四臭化炭素、キノリン
スルホニルクロライド、 トリハロメチル基を有するs
−トリアジン類などが挙げられる。 レドックス系の光重合開始剤としては、3価の鉄イオン
化合物(例えばクエン酸第2鉄アンモニウム)と過酸化
物などを組み合せて用いるものや、リボフラビン、メチ
レンブルーなどの光還元性色素とトリエタノールアミン
、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せて用いるもの
などが挙げられる。 また以上に述べた光重合開始剤(増感副も含む)におい
て、2種以上の光重合開始剤を組み合せてより効率の良
い光重合を行なうこともできる。 この様な光重合開始剤の組み合せとしては、ジアルキル
アミノ基を有するカルコンおよびスチリルケトン類やク
マリン類と、 トリハロメチル基を有する5−)−リア
ジン類やカンファーキノンとの組み合せなどが挙げられ
る。 本発明の感光体では、感光波長域が370〜520nc
aの光重合開始剤が好ましく用いられる。 本発明では、還元剤の酸化還元反応によって生じた光吸
収性有機化合物の光吸収特性によって、使用する光重合
開始剤を適宜選択する必要がある。 このような還元剤と光重合開始剤の組合わせの一例を以
下に挙げる。 例えば、還元剤として、4.4′−プロピリデンビス(
2,6−ジーt−ブチルフェノール)、4,4′−ブチ
リデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)
、4,4′〜メチレンビス(2,6−ジーt−ブチルフ
ェノール)、4.4′−メチレンビス(2−t−ブチル
−6−メチルフェノール)、 2.6−ジーt−ブチル
−4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
メチルフェノール、2−メチル−4−(3,5−ジメチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)メチル−1−ナフトール
などを使用した場合は、380nm〜420nmに感度
を有する光重合開始剤、例えば、2−クロロチオキサン
トン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジメチルチ
オキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、3,
3′−カルニルビス(7−メドキシクマリン)、2,4
.6−ドリメチルベンゾイルジフエニルホスフインオキ
サイド、ベンジルなどが好ましい。 また、還元剤として、2,6−ジーt−ブチル−4−(
2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルベンジル
)フェノール、2,6−ジーt−ブチル−4−ベンジル
フェノール、2.6−ジーt−ブチル−4−0−)リル
メチルフェノールなどを用いる場合には、300〜38
0nmに感度を有する光重合開始剤、例えば、l−フェ
ニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン
、■−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、ベン
ジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、4−ベンゾイ
ル−4−メチル−ジフェニルサルファイドなどが好まし
い。 また還元剤として、例えば、 ビス(3,5−ジーも一
ブチルー4−ヒドロキシフェニル)(4−ジメチルアミ
ノフェニル)メタン、4.4°−メチレンビス(2−メ
チル−1−ナフトール)、4,4″−メチレンビス(2
−エチル−1−ナフトール)、4,4″−メチレンビス
(2−シクロへキシル−1−ナフトール)、4.4″−
メチレンビス(2−t−ブチル−1−ナフトール)など
を用いる場合には、400〜520nmに感度を有する
光重合開始剤、例えば、3.3′−カルボニルビス(7
−シメチルアミノクマリン)やりボフラビンテトラブチ
レート、あるいはメロシアニン色素と、トリクロロメチ
ル−3−トリアジン系化合物との組合わせなどが好まし
い。 本発明の感光体に使用する重合性ポリマー前駆体として
は、−分子中に反応性ビニル基を少なくとも1個持つ化
合物が利用できる。 これら化合物の反応性ビニル基としては、スチレン系ビ
ニル基 アクリル酸系ビニル基 メタクリル酸ビニル基
アリル系ビニル基 ビニルエーテルなどの他に酢酸ビ
ニルなどのエステル系ビニル基など重合反応性を有する
置換もしくは無置換のビニル基が挙げられる。 このような条件を満たす重合性ポリマー前駆体の具体例
は次の通りである。 例えば、スチレン、メチルスチレン、クロルスレン、ブ
ロモスチレン、メトキシスチレン、ジメチルアミノスチ
レン、シアノスチレン、ニトロスチレン、ヒドロキシス
チレン、アミノスチレン。 カルボキシスチレン、アクリル酸、アクリル酸メチル、
アクリル酸エチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ルアミド、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブ
チル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、ビニルピリジン、N−ビニルピロリドン、N−ビ
ニルイミダゾール、2−ビニルイミダゾール、N−メチ
ル−2−ビニルイミダゾール、プロピルビニルエーテル
、ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、
β−クロロエチルビニルエーテル、フェニルビニルエー
テル、p−メチルフェニルビニルエーテル。 p−クロルフェニルビニルエーテルなどの一価の単量体
ニ ジビニルベンゼン、シュウ酸ジスチリル、マロン酸ジス
チリル、コハク酸ジスチリル、グルタル酸ジスチリル、
アジピン酸ジスチリル、マレイン酸ジスチリル、フマル
酸ジスチリル、β、β′−ジメチルグルタル酸ジスチリ
ル、2−ブロモグルタル酸ジスチリル、α、α′−ジク
ロログルタル酸ジスチリル、テレフタル酸ジスチリル、
シュウ酸ジ(エチルアクリレート)、シュウ酸ジ(メチ
ルアクリレート)、マロン酸ジ(エチルアクリレート)
、マロン酸ジ(メチルエチルアクリレート)、コハク酸
ジ(エチルアクリレート)、グリタル酸ジ(エチルアク
リレート)、アジピン酸ジ(エチルアクリレート)、マ
レイン酸ジ(エチルアクリレート)、フマル酸ジ(エチ
ルアクリレート)、β、β′−ジメチルグルタル酸ジ(
エチルアクリレート)、エチレンジアクリルアミド、プ
ロピレンジアクリルアミド、1.4−フェニレンジアク
リルアミド、1.4−フェニレンビス(オキシエチルア
クリレート)、1,4−フェニレンビス(オキシメチル
エチルアクリレート)、1.4−ビス(アクリロイルオ
キシエトキシ)シクロヘキサン、1,4−ビス(アクリ
ロイルオキシメチルエトキシ)シクロヘキサン、1.4
−ビス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイル)ベ
ンゼン、1.4−ビス(アクリロイルオキシメチルエト
キシカルバモイル)ベンゼン、1.4−ビス(アクリロ
イルオキシエトキシカルバモイル)シクロヘキサン、ビ
ス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイルシクロヘ
キシル)メタン、シュウ酸ジ(エチルメタクリレート)
、シュウ酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、マロン
酸ジ(エチルメタクリレート)、マロン酸ジ(メチルエ
チルメタクリレート)、コハク酸ジ(エチルメタクリレ
ート)、コハク酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、
グルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、アジピン酸ジ
(エチルメタクリレート)、マレイン酸ジ(エチルメタ
クリレート)、フマル酸ジ(エチルメタクリレート)、
フマル酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、β、β′
−ジメチルグルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、1
.4−フェニレンビス(オキシエチルメタクリレート)
、1,4−ビス(メタクリロイルオキシエトキシ)シク
ロヘキサンアクリロイルオキシエトキシエチルビニルエ
ーテルなどの2価の単量体;ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(ヒドロキシスチレン)
、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、シアヌ
ル酸トリアクリレート、シアヌル酸トリメタクリレート
、l、 1. l−トリメチロールプロパントリアクリ
レート、1,1.1−トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、シアヌル酸トリ(エチルアクリレート)、
l、l、1−トリメチロールプロパントリ(エチルアク
リレート)、シアヌル酸トリ(エチルビニルエーテル)
、1,1.1−トリメチロールプロパントリ(トルエン
ジイソシアネート)とヒドロキシエチルアクリレートと
の縮合物、1,1.1−トリメチロールプロパントリ(
ヘキサンジイソシアネート)とp−ヒドロキシスチレン
との縮合物などの3価の単量体; エチレンテトラアクリルアミド、プロピレンテトラアク
リルアミドなどの4価の単量体などを挙げることができ
る。 なお、前述のようにこれらの重合性ポリマー前駆体を二
種以上用いてもよい。 感光層、重合層に皮膜性、分散性を改善する目的で適宜
バインダーを含有させるのが好ましい。 バインダーとしては、例えば、ニトロセルロー人 リン
酸セルロース、硫酸セルロース、酢酸セルロース、 プ
ロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、 ミリスチン
酸セルロース、バルミチン酸セルロース、酢酸・プロピ
オン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロースなどのセルロ
ースエステル類メチルセルロース、エチルセルロース、
プロピルセルロー人 ブチルセルロースなどのセルロー
スエーテル類: ボリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹脂類
; スチレン−ブタジェンコポリマー、スチレン−アクリロ
ニトリルコポリマー、スチレン−ブタジェン−アクリロ
ニトリルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマ
ーなどの共重合樹脂類;ポリメチルメタクリレート、ポ
リメチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ
アクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、
ボIJ 7クリロニトリルなどのアクリル樹脂類;ポリ
エチレンテレフタレートなどのポリエステル類;例えば
、ポリ(4,4−イソプロピリデン、ジフェニレン−ニ
ー1.4−シクロヘキシレンジメチレンカーボネート)
、ポリ(エチレンジオキシ−3,3−フェニレンチオカ
ーボネート)、ポリ(4,4”−イソブロビリデンジフ
ェニレンカーボネートーコーテレフタレート)、ポリ(
4,4’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート
)、ポリ(4,4’−5ee−ブチリデンジフェニレン
カーボネート)、ポリ(4,4″−イソプロピリデンジ
フェニレンカーボネート−ブロック−オキシエチレン)
などのポリアクレート樹脂類; ポリアミド類;ポリイミド類;エポキシ樹脂類;フェノ
ール樹脂類; ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンな
どのポリオレフィン類; およびゼラチンなどの天然高分子などが挙げられる。 この他に、必要に応じて、色gIl剤、カブリ防止剤、
アルカリ発生剤、自動酸化削などを本発明の感光体に添
加しても良い。 本発明の感光体における上記成分の好ましい配合比はつ
ぎの通りである。 含有される有機銀塩の量は、0.3〜30g/m2、特
に0.7〜15g/m2. 更には1.2〜8g7m
2が好ましい。 また、有機銀塩1モルに対して、ハロゲン化銀を好まし
くは0.001〜2モル、 より好ましくは0.05〜
1モル含有させるのが望ましい、また、有機銀塩1モル
に対して還元剤を好ましくは0.05〜3モル、より好
ましくは0.2〜1.3モル含有させるのが望ましい、
更に、重合性ポリマー前駆体100重量部に対して光重
合開始剤を好ましくは0.1〜30重量部、より好まし
くは0.5〜10重量部用いるのが望ましい、また、還
元剤1モルに対して光重合開始剤を好ましくは0.01
モル〜10モル、より好ましくは0.5〜3モル用いる
のが望ましい。 感光層あるいは感光重合層に現像促進剤を含有していて
も構わないが、その場合、有機銀塩10重量部に対して
、1.0重量部以下にするのが好まし現像促進剤層に含
まれる現像促進剤の量は、感光層の有機銀塩10重量部
に対して、2重量部から40重量部、好ましくは5重量
部から201i量部である。 本発明において現像促進剤層は、現像促進剤をバインダ
ー中に溶解させた状態 あるいはカプセル状態で塗布し
て形成することができる。 必要に応じ感光層、感光重合層に含有されるバインダー
の量は、有機銀塩1重量部に対し、0.1〜10重量部
、更には0.5〜5重量部の割合が好ましい0重合層に
含まれるバンイダーの量は、重合性ポリマー前駆体1重
量部に対し、0.1−10重量部の割合が好ましい。 本発明の感光体は、上記成分を、適宜用いられるバイン
ダーとともに溶剤に溶解して金属箔、プラスチックフィ
ルム、敏 バライタ紙 合成紙などの支持体上に塗布乾
燥して、あるいはバインダー自身で強度が保たれる場合
は支持体を用いずにバインダーで形成されるフィルム又
はシート状物中に上記必須成分を含有させて形成するこ
とができる。 画像形成層1の厚さは、0.11jTI〜2a11、更
には、11jTl−0,1ma+が好ましい、また、支
持体2の厚さは、 2Ln〜3mm程度が好ましい。 熱拡散性色素の含有量は、ハロゲン化銀、有機銀塩、還
元剤、重合性ポリマー前駆体、光重合開始剤および適宜
含有されるバインダーの総和100重量部に対して、好
ましくは5〜200重量部、より好ましくは10〜10
0重量部である。 重合層12に熱拡散性色素を含有する場合には、熱拡散
性色素の含有量は重合層12に対し5〜60重量%程度
が適当である。また色材層を設ける場合、熱拡散性色素
の含有量は、色材層に対して5%以上が好ましい1色材
層は熱拡散性色素だけで構成することもできる。 本発明に使用する熱拡散性色素としては、例えばモノア
ゾ染料、チアゾール染料、アントラキノン染料、 トリ
アリルメタン染料、 ローダミン染料、ナフトール染料
などを挙げることができる。熱拡散性色素は、一般に分
子量が小さいほど熱拡散性は大きく、また、例えばカル
ボキシル幕 アミノ基 水酸基 ニトロ基 スルホン基
などの極性基が多くついている染料はど熱拡散性が小さ
い、したがって、本発明の媒体における重合度や架橋密
度、加熱条件などに応じて、所望の熱拡散性を有する色
素を分子量、極性基を目安にして適宜選択すればよい。 本発明の画像形成方法を説明する。 第1図及び第2図に本発明の基本プロセスを図示した。 第1図中、 l、 4はフィルムベースであり、その間
に現像促進剤5が含有された現像促進剤層2と感光性重
合層3が挟まれている。感光重合層3に像露光すること
により感光重合層3に含まれた感光性金属塩上に金属核
の潜像6が形成される(第1図(a)) 。 次に上記(a)の過程と同時あるいは後に第2の加熱を
行ない、現像促進剤5を感光性重合層3に移行させ、潜
像6を触媒として酸化還元反応を起させ酸化体像7を形
成させる(第1図(b)) 、この酸化体像7は光重合
開始M(増感剤を含む)の感光波長を効率よく吸収する
ため第1図(c)の過程で光重合開始剤の感光波長光を
一様露光することによって酸化体像7の部分では重合は
起こらず、像未露光部では重合が起こり重合部8が形成
される。この重合部8はエツチング処理、ビールアパー
ト処理などにより取り出すことができる(第1図(d)
) 。 また、第2図は本発明の別の基本プロセスである。第2
図(a)で像露光前に第1の加熱を行ない。 現像促進剤5を現像促進剤層2より感光性重合層3に移
行させる6次に像露光を行ない潜像6を形成させ(第2
図(b)) 、像露光と同時あるいは後に第2の加熱を
行ない像露光部で酸化還元反応を起こさせて酸化体像を
形成させる(第2図(C)) 。 次に一様露光を行なうことにより像未露光部に重合部8
を形成させることができる(第2図(d)) 。 第1図、第2図では感光性かつ熱現像性要素と光重合性
要素とを同一の層中に含有させた感光性重合層3として
図示したが、感光性かつ熱現像性要素を含む感光層と、
光重合性要素を含む重合層とに分けることも可能である
。その場合、現像促進剤層と重合層が同一層となってい
ても良く、重合層の生保存性の点でその形態が好ましい
。 次に本発明の重合画像形成方法を利用した色画像形成に
ついて第3図を参照して説明する。 第3図(a)は、熱拡散性色素12を含む色材層9を有
する感光体に対し、上記いずれかのプロセスにより重合
部8を形成させた状態を示すものである。該感光体のト
ップ層IOと受像体11とを重ね合わせた後加熱すると
、像露光部(未重合部)では熱拡散性色素12が感光性
重合層3を通過して受像体11に到達する。この時トッ
プ層10がPETフィルムなどの熱拡散性色素を透過さ
せないものの場合は、 トップ層10を剥離した後、受
像体11と重ね合わせて加熱する。一方、像未露光部(
重合部)では重合部の架橋密度の高さにより熱拡散性色
素12が感光性重合層を通過できず、受像体へ到達でき
ない(第3図(b)) 、こうして受像体ll上に像露
光部に対応した色画像13が形成され(第3図(c))
、熱拡散性色素をイエロー、マゼンタ、シアンと3種
類用い、同プロセスを3回繰り返すことにより受像体上
にフルカラー画像を得ることができる。この場合も感光
性重合層が前述のように同一層でなくてもよく、また、
色材層と重合層が同一層となっていても良いが、受像体
の色カブリの点から少なくとも重合層は色材層とは分け
られることが好ましい。 本発明の画像形成方法においては、第4図に示すように
現像促進剤5を感光体とは別の現像促進材シート14中
に含有させ、感光性かつ熱現像性要素と光重合性要素(
第4図では同一層としたが。 各要素を別の層中に含有させて感光体としても良い)を
含む感光体と重ね合わせ(第4図(a)) 、第1の加
熱を行なった後、像露光(第4図(b)) 、第2の加
熱(第4図(C))、全面露光(第4図(d))により
重合画像を得ることもできる。 また、第1の加熱(現像促進剤の移行)を画像情報に応
じて行なうことにより、第2の加熱によるカブリを抑え
ることができる1例えば、第5図に示す画像形成装置を
用いることによりコントラストの高い重合画像を形成す
ることができる。 第5図に示す装置では、画像処理系23により画像部の
領域をサーマルヘッド22により第1の加熱を行ない、
さらにレーザー21よりレーザー光をポリゴンミラー
24を通して給紙ロール25から給紙された感光体に照
射する2 ついで面状発熱体26で第2の加熱を行ない
、蛍光灯27により一様露光(全面露光)する1図中2
8は遮光板である1重合画像の形成された感光体はくさ
び29によりビールアパートされ、重合部と未重合部の
それぞれの画像に分離される。 本発明の画像形成方法において、像露光は感光性金属塩
(主に感光性銀塩)が感度を有する波長を用いて行なう
、−船釣に400nm〜900na+の任意の波長光を
用いることが好ましい、光源としては太陽光、キセノン
ランプ、水銀灯、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲ
ンランプ、LED、レーザーなどを使用することができ
る。像露光方法としては、マスクを用いた密着露光、原
画、ネガなどからの反射を利用した反射露光、画像を電
気信号から入力するデジタル露光などの方法がある。 像露光と同時あるいは後に行なう加熱(a露光部で酸化
還元反応を起こす加熱)は、80℃〜160℃、好まし
くは110℃〜140℃で、0.5秒から200秒、好
ましくは3秒から60秒間行なう、加熱手段としては、
ヒートローラーによる加熱、通電加熱、誘電加熱5 銹
導加熱、サーマルヘッドによる加熱などがある。 第1図に示すプロセスでは、上記加熱過程で現像促進剤
を移行させる必要があるため、現像促進剤の移行加熱条
件が酸化還元反応の起こる加熱条件よりも穏やかである
。第2図に示すプロセスでは、最初に現像促進剤を移行
させるため、第1図のプロセスより強い加熱条件を選択
することができ、好ましい。 現像促進剤を移行させるための加熱条件はプロセス、材
料により異なるが、おおよそ、60℃〜200℃、好ま
しくは80℃〜160℃であり、加熱時間としては1秒
から60秒、好ましくは2秒から40秒間である。加熱
手段は上記加熱手段と同じであっても異なっていてもよ
い。 第1図(C)及び第2図(d)における−様露光とは、
光重合開始剤(増感剤を含む)の感光波長を含む光で行
ない、重合反応を起こさせるのに十分な強度で行なうこ
とが必要である。波長としては250nmから600n
mの光が利用できる。光源としては前記像露光と同じ光
源を使用することが可能であるが、好ましくは、水銀灯
、蛍光灯、 レーザーである。−様露光時に重合反応の
促進を図る目的で熱バイアスをかけてもよい。 第3図に示す色画像を形成する時の熱拡散性色素の転写
過程について説明する。加熱条件としては80℃〜20
0℃、好ましくは100℃〜180℃で、0.1秒〜8
0秒、好ましくは0.5秒〜50秒間である。尚、この
色画像化のためのプロセスをとる場合の酸化還元反応を
生起する加熱は熱拡散性色素の移行をより少なくするた
めにトップ層10側から行なうのがよい、加熱手段は前
述のものと同じであっても異なっていてもよい。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらのみに限定されるものではない 実施例1 く感光体Aの作製〉 ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに下記
溶液Aを乾燥膜厚2輿になるように塗布し、現像促進剤
層を形成した。 溶液A ・ポリブチルメタクリレート I(ill・7
−メチルベンゾオキサジンジオン 3部・フタラジン
1部・メチルエチルケトン
60部続いて形成された現像促進剤層
の上に下記分散液Bを乾燥膜厚5埠となるように塗布し
、感光性重合層を設け、さらにその上に薄膜PETフィ
ルムの保護層をラミネートし感光体Aを得た。 分散液Bの調製 ベヘン酸4.5部をキシレン60部、n−ブタノール6
0部に溶解させた後、ホモミキサーを用し1てベヘン酸
銀4.8部を分散させた。これに臭化銀1.0部を加え
、続いてポリビニルブチラール4部を加え撹拌を1時間
行なった。さらに、ジペンタエリスリトールへキサアク
リレ−510部、2,4−ジエチルチオキサントン1.
2部、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル0.8部、2
,6−ジーt−ブチル−4−(3,5−ジメチル−4−
ヒドロキシフ゛エニル)メチルフェノール3.7部、フ
タラブ20.4部、 1重量%の臭化第2水銀のメタノ
ール溶液1部、下記構造式の増感色素を1重量%溶かし
たN、N−ジメチルホルムアミド(DMF)溶液3部を
加えた。 〈感光体Bの作製〉 PETフィルム上に下記分散液Cを乾燥膜厚3輿になる
ように塗布し、現像促進剤層を形成した6分散液Cの調
製 ポリメチルメタクリレート18部、ポリブチルメタクリ
レート5部と、7−メチルベンゾオキサジンジオン4部
をクロロホルム60部に溶解した。これとは別に水50
部にアミノ変性シリカ4部、0. IN塩酸20部を加
えた液を調製し、この液に上記クロロホルム溶液を加え
ホモミキサーにて乳化を行なった。続いて50℃に昇温
し、10時間拡販した後、 PVAの6%水水溶液l部
を加え、分散液Cの調製を終えた。 上記現像促進剤層の上に前記分散液Bを乾燥膜厚5圃に
なるように塗布した後、PETフィルムをラミネートし
て感光体Bを得た。 く感光体Cの作製〉 分散液Bのフタラブ20.4部を2部に代え、分散液B
と同様の手順により分散液りを調製し、PETフィルム
上に乾燥膜厚5IJnとなるように塗布した後、薄膜P
ETフィルムをラミネートし感光体Cを得た。 〈感光体A、 B、 Cの評価〉 上記で得られた感光体A、 B、 Cを 145℃
に調節した熱現像機に10秒間で通した後、ドラムスキ
ャン型レーザープリンター(He−Neレーザー出力5
mW)を用いて像露光を行なった。 ついで135℃に調節した熱現像機に8秒間で感光体を
通した後、500Wの超高圧水銀灯を60cmの距離か
ら10秒間−様露光した。 ラミネートした薄膜PETフィルムを剥した後、エタノ
ールでエツチング処理を行なったところ、像露光部が除
去され、フィルム上に重合像が残った。 次に感光体A、 B、 Cを暗室下60℃のオーブ
ンに入れ、耐熱耐久試験を行なった後、上記条件で重合
像が得られる耐久時間を測定した。結果を第1表に示す
。 第1表 ○は重合像が得られたことを示し、×は得られ無かった
ことを示す。 第1表かられかるように、本発明の感光体は生保存性に
優れたものである。 実施例2 く感光体り、 Hの作製〉 色材層用溶液を以下の手順で調製した。 ポリブチルメタクリレート7部をメチルエチルケトン6
3部に溶解させ、これに熱拡散性色素MS−マゼンタ−
■P(三井東圧化学■製)1.0部を加えて溶かした。 これとは別に重合要用溶液を以下のようにして調製した
。 n−ブタノール80部にポリビニルブチラール4部。 ジペンタエリスリトールへキサアクリレート6部、2.
4−ジエチルチオキサントン1.2部、p−ジメチルア
ミノ安息香酸エチル1.2部、7−メチルベンゾオキサ
ジンジオン1.5部を溶かした。 さらに下記組成より成る分散液Eを調製した。 ・キシレン 60部・n〜ブタ
ノール 60部・ベヘン酸
4.0部・ベヘン酸銀
4.5部・臭化銀
0.9部・ポリビニルブチラール 10部
・2,6−ジーt−ブチル−4−(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)メチルフェノール 3.7部
・分散液Bで用いた増感色素の lvt%DMF溶液 2.0部まず、PET
フィルム上に上記色材層用溶液を塗布し、乾燥膜厚2I
J11の色材層を設けた。その上に、上記重合要用溶液
を塗布し、乾燥膜厚5−の重合層を設け、さらに分散液
Eを重合層上に塗布して乾燥膜厚4輿の感光層を設けた
。最後に1out%のPVA水溶液により感光層上に乾
燥膜厚2JJT+のトップ層を形成し感光体りを得た。 上記重合要用溶液に7−メチルベンゾオキサジンジオン
1.5部を用いずに、上記分散液Eに7−メチルベンゾ
オキサジンジオン1.0部を溶解させて分散液Fを調製
し、層構成、膜厚を感光体りと同様にして感光体Eを作
製した。 〈感光体り、 Hの評価〉 ドラムスキャン型レーザープリンター(tie−Neレ
ーザー、出力5d)を用いて上記で得られた感光体り、
Hに像露光を行なった後、125℃に調節した熱現像機
で30秒間加熱した。 ついで感光体を60℃に加熱しながら380nmに蛍光
ピークを有する蛍光灯(出力10W) 4本を用いて1
cmの距離から30秒間−様露光した。 トップ層を水洗除去した後、ポリエステル樹脂の受像層
が塗設された受像体と重ね合わせ、 135℃のヒート
ローラーにツブ幅2mm)に1mm/secの速度で通
過させた。受像体を感光体から剥離したところ像露光に
応じたマゼンタ像が受像体の受像層上に形成されていt
;、この時、感光体りを用いて作成した画像は感光体E
で作成した画像より階調性及び色カブリにおいて優れて
いた。 次に感光体A、 B、 C場合と同様に感光体り。 Eに対して耐熱耐久試駿を行なった後、上記条件で重合
像が得られる耐久時間を測定した。結果を第2表に示す
。 第 2 表 表中Oは画像の最大光学濃度と最小光学濃度の差が1,
0以上ある場合であり、×はそれ以下の場合である。 第2表かられかるように、感光体Eは耐久時間60時間
以上では最大光学濃度の低下がみられた。 実施例3 く感光体Fの作成〉 下記組成よりなる分散液Gを用い、PETフィルム上に
乾燥膜厚5μsの感光層を形成し、さらにその上にポリ
ビニルブチラールの保護層(2部m)を設けて感光体F
を作製した。 ・キシレン 60部・n−ブタ
ノール 60部・ベヘン酸
3.5部・ベヘン酸銀
4,8部・臭化銀
1.2部・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 5.
Oil・2,6−ジーt−ブチル−4−(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)メチルフェノール
3,2部・トリメチロールプロパン トリアクリレート 7.0部 ・ジペンタエリスリトール ヘキサアクリレート 8.0部 ・2,4−シクロロチオキサントン 1,6部・p
−ジメチルアミノ安息香酸エチル 1.0部・分散液B
で用いた増感色素の 1wt%DMF溶液 2.0部これとは別に、
下記組成よりなる溶液をPETフィルムに乾燥膜厚3罰
となるように塗布し、現像促進剤シートを作製した。 ・ポリビニルメタクリレート 10部・7−メ
ドキシベンゾオキサジンジオン 4部・メチルエチルケ
トン 40部〈感光体Fの評価〉 感光体Fと現像促進副シートを重ね合わせ、140℃で
8秒間加熱した後、感光体Fに実施例1と同様に像露光
、加熱、−様露光を行なった。 エタノールでエツチング処理を行なったところ、PET
フィルム上に重合像が残った。 実施例4 第5図の装置を用い、感光体Aに像領域のみ第1の加熱
、He−Neレーザーによる像露光、第2の加熱及び−
様露光を行なった。 第xのmsはサーマルヘッドの表面温度を200℃に設
定し、0.05秒のパルス発熱で行ない、像露光は0N
−OFFの2値の露光で、感光体表面で18μJ/am
2のエネルギー量で行なった。また、第2の加熱は13
0℃で12秒間、−様露光は感光体より4mmの距離か
ら IOWの蛍光灯27を用いて行なった。 最終的に感光体はくさび29によってビールアパートさ
れ、排紙トレイ30に排出されたPETフィルム上には
重合像が形成されていた。 [発明の効果〕 以上説明したように、本発明の感光体は、生保存性が良
好で、地力ブリの少ない感光体であり、該感光体を用い
た本発明の画像形成方法はコントラストのよい重合画像
を与える方法である。また。 本発明の方法を実施することにより、階調性のある色画
像を得ることができる。
明はこれらのみに限定されるものではない 実施例1 く感光体Aの作製〉 ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに下記
溶液Aを乾燥膜厚2輿になるように塗布し、現像促進剤
層を形成した。 溶液A ・ポリブチルメタクリレート I(ill・7
−メチルベンゾオキサジンジオン 3部・フタラジン
1部・メチルエチルケトン
60部続いて形成された現像促進剤層
の上に下記分散液Bを乾燥膜厚5埠となるように塗布し
、感光性重合層を設け、さらにその上に薄膜PETフィ
ルムの保護層をラミネートし感光体Aを得た。 分散液Bの調製 ベヘン酸4.5部をキシレン60部、n−ブタノール6
0部に溶解させた後、ホモミキサーを用し1てベヘン酸
銀4.8部を分散させた。これに臭化銀1.0部を加え
、続いてポリビニルブチラール4部を加え撹拌を1時間
行なった。さらに、ジペンタエリスリトールへキサアク
リレ−510部、2,4−ジエチルチオキサントン1.
2部、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル0.8部、2
,6−ジーt−ブチル−4−(3,5−ジメチル−4−
ヒドロキシフ゛エニル)メチルフェノール3.7部、フ
タラブ20.4部、 1重量%の臭化第2水銀のメタノ
ール溶液1部、下記構造式の増感色素を1重量%溶かし
たN、N−ジメチルホルムアミド(DMF)溶液3部を
加えた。 〈感光体Bの作製〉 PETフィルム上に下記分散液Cを乾燥膜厚3輿になる
ように塗布し、現像促進剤層を形成した6分散液Cの調
製 ポリメチルメタクリレート18部、ポリブチルメタクリ
レート5部と、7−メチルベンゾオキサジンジオン4部
をクロロホルム60部に溶解した。これとは別に水50
部にアミノ変性シリカ4部、0. IN塩酸20部を加
えた液を調製し、この液に上記クロロホルム溶液を加え
ホモミキサーにて乳化を行なった。続いて50℃に昇温
し、10時間拡販した後、 PVAの6%水水溶液l部
を加え、分散液Cの調製を終えた。 上記現像促進剤層の上に前記分散液Bを乾燥膜厚5圃に
なるように塗布した後、PETフィルムをラミネートし
て感光体Bを得た。 く感光体Cの作製〉 分散液Bのフタラブ20.4部を2部に代え、分散液B
と同様の手順により分散液りを調製し、PETフィルム
上に乾燥膜厚5IJnとなるように塗布した後、薄膜P
ETフィルムをラミネートし感光体Cを得た。 〈感光体A、 B、 Cの評価〉 上記で得られた感光体A、 B、 Cを 145℃
に調節した熱現像機に10秒間で通した後、ドラムスキ
ャン型レーザープリンター(He−Neレーザー出力5
mW)を用いて像露光を行なった。 ついで135℃に調節した熱現像機に8秒間で感光体を
通した後、500Wの超高圧水銀灯を60cmの距離か
ら10秒間−様露光した。 ラミネートした薄膜PETフィルムを剥した後、エタノ
ールでエツチング処理を行なったところ、像露光部が除
去され、フィルム上に重合像が残った。 次に感光体A、 B、 Cを暗室下60℃のオーブ
ンに入れ、耐熱耐久試験を行なった後、上記条件で重合
像が得られる耐久時間を測定した。結果を第1表に示す
。 第1表 ○は重合像が得られたことを示し、×は得られ無かった
ことを示す。 第1表かられかるように、本発明の感光体は生保存性に
優れたものである。 実施例2 く感光体り、 Hの作製〉 色材層用溶液を以下の手順で調製した。 ポリブチルメタクリレート7部をメチルエチルケトン6
3部に溶解させ、これに熱拡散性色素MS−マゼンタ−
■P(三井東圧化学■製)1.0部を加えて溶かした。 これとは別に重合要用溶液を以下のようにして調製した
。 n−ブタノール80部にポリビニルブチラール4部。 ジペンタエリスリトールへキサアクリレート6部、2.
4−ジエチルチオキサントン1.2部、p−ジメチルア
ミノ安息香酸エチル1.2部、7−メチルベンゾオキサ
ジンジオン1.5部を溶かした。 さらに下記組成より成る分散液Eを調製した。 ・キシレン 60部・n〜ブタ
ノール 60部・ベヘン酸
4.0部・ベヘン酸銀
4.5部・臭化銀
0.9部・ポリビニルブチラール 10部
・2,6−ジーt−ブチル−4−(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)メチルフェノール 3.7部
・分散液Bで用いた増感色素の lvt%DMF溶液 2.0部まず、PET
フィルム上に上記色材層用溶液を塗布し、乾燥膜厚2I
J11の色材層を設けた。その上に、上記重合要用溶液
を塗布し、乾燥膜厚5−の重合層を設け、さらに分散液
Eを重合層上に塗布して乾燥膜厚4輿の感光層を設けた
。最後に1out%のPVA水溶液により感光層上に乾
燥膜厚2JJT+のトップ層を形成し感光体りを得た。 上記重合要用溶液に7−メチルベンゾオキサジンジオン
1.5部を用いずに、上記分散液Eに7−メチルベンゾ
オキサジンジオン1.0部を溶解させて分散液Fを調製
し、層構成、膜厚を感光体りと同様にして感光体Eを作
製した。 〈感光体り、 Hの評価〉 ドラムスキャン型レーザープリンター(tie−Neレ
ーザー、出力5d)を用いて上記で得られた感光体り、
Hに像露光を行なった後、125℃に調節した熱現像機
で30秒間加熱した。 ついで感光体を60℃に加熱しながら380nmに蛍光
ピークを有する蛍光灯(出力10W) 4本を用いて1
cmの距離から30秒間−様露光した。 トップ層を水洗除去した後、ポリエステル樹脂の受像層
が塗設された受像体と重ね合わせ、 135℃のヒート
ローラーにツブ幅2mm)に1mm/secの速度で通
過させた。受像体を感光体から剥離したところ像露光に
応じたマゼンタ像が受像体の受像層上に形成されていt
;、この時、感光体りを用いて作成した画像は感光体E
で作成した画像より階調性及び色カブリにおいて優れて
いた。 次に感光体A、 B、 C場合と同様に感光体り。 Eに対して耐熱耐久試駿を行なった後、上記条件で重合
像が得られる耐久時間を測定した。結果を第2表に示す
。 第 2 表 表中Oは画像の最大光学濃度と最小光学濃度の差が1,
0以上ある場合であり、×はそれ以下の場合である。 第2表かられかるように、感光体Eは耐久時間60時間
以上では最大光学濃度の低下がみられた。 実施例3 く感光体Fの作成〉 下記組成よりなる分散液Gを用い、PETフィルム上に
乾燥膜厚5μsの感光層を形成し、さらにその上にポリ
ビニルブチラールの保護層(2部m)を設けて感光体F
を作製した。 ・キシレン 60部・n−ブタ
ノール 60部・ベヘン酸
3.5部・ベヘン酸銀
4,8部・臭化銀
1.2部・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 5.
Oil・2,6−ジーt−ブチル−4−(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)メチルフェノール
3,2部・トリメチロールプロパン トリアクリレート 7.0部 ・ジペンタエリスリトール ヘキサアクリレート 8.0部 ・2,4−シクロロチオキサントン 1,6部・p
−ジメチルアミノ安息香酸エチル 1.0部・分散液B
で用いた増感色素の 1wt%DMF溶液 2.0部これとは別に、
下記組成よりなる溶液をPETフィルムに乾燥膜厚3罰
となるように塗布し、現像促進剤シートを作製した。 ・ポリビニルメタクリレート 10部・7−メ
ドキシベンゾオキサジンジオン 4部・メチルエチルケ
トン 40部〈感光体Fの評価〉 感光体Fと現像促進副シートを重ね合わせ、140℃で
8秒間加熱した後、感光体Fに実施例1と同様に像露光
、加熱、−様露光を行なった。 エタノールでエツチング処理を行なったところ、PET
フィルム上に重合像が残った。 実施例4 第5図の装置を用い、感光体Aに像領域のみ第1の加熱
、He−Neレーザーによる像露光、第2の加熱及び−
様露光を行なった。 第xのmsはサーマルヘッドの表面温度を200℃に設
定し、0.05秒のパルス発熱で行ない、像露光は0N
−OFFの2値の露光で、感光体表面で18μJ/am
2のエネルギー量で行なった。また、第2の加熱は13
0℃で12秒間、−様露光は感光体より4mmの距離か
ら IOWの蛍光灯27を用いて行なった。 最終的に感光体はくさび29によってビールアパートさ
れ、排紙トレイ30に排出されたPETフィルム上には
重合像が形成されていた。 [発明の効果〕 以上説明したように、本発明の感光体は、生保存性が良
好で、地力ブリの少ない感光体であり、該感光体を用い
た本発明の画像形成方法はコントラストのよい重合画像
を与える方法である。また。 本発明の方法を実施することにより、階調性のある色画
像を得ることができる。
第1図及び第2図は本発明の感光体を用いた画像形成方
法、第3図は本発明の色画像形成方法、第4図は現像促
進剤シートを用いた本発明の画像形成方法の工程を示す
概略断面図であり、第5図は本発明に用いることのでき
る装置の概略図である。 1.4・・・フィルムベース 2・・・現像促進副層 3・・・感光性重合層5・
・・現像促進剤 6・・・潜像7・・・酸化体像
8・・・重合部9・・・色材層
10・・・トップ層11・・・受像体 12
・・・熱拡散性色素13・・・色画像 14
・・・現像促進副シート21・・・レーザー 23・・・画像処理系 25・・・給紙ロール 27・・・蛍光灯 29・・・くさび 31・・・排紙トレイ 22・・・サーマルヘッド 24・・・ポリゴンミラー 26・・・面状発熱体 28・・・遮光板 30・・・巻き取りロール △ 5現像促進剤 特許出願人 オリエンタル写真工業株式会社キャノン株
式会社 代 理 人 弁理士 若 林 忠 第1図 第 図 第 図
法、第3図は本発明の色画像形成方法、第4図は現像促
進剤シートを用いた本発明の画像形成方法の工程を示す
概略断面図であり、第5図は本発明に用いることのでき
る装置の概略図である。 1.4・・・フィルムベース 2・・・現像促進副層 3・・・感光性重合層5・
・・現像促進剤 6・・・潜像7・・・酸化体像
8・・・重合部9・・・色材層
10・・・トップ層11・・・受像体 12
・・・熱拡散性色素13・・・色画像 14
・・・現像促進副シート21・・・レーザー 23・・・画像処理系 25・・・給紙ロール 27・・・蛍光灯 29・・・くさび 31・・・排紙トレイ 22・・・サーマルヘッド 24・・・ポリゴンミラー 26・・・面状発熱体 28・・・遮光板 30・・・巻き取りロール △ 5現像促進剤 特許出願人 オリエンタル写真工業株式会社キャノン株
式会社 代 理 人 弁理士 若 林 忠 第1図 第 図 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、感光性かつ熱現像性要素、光重合性要素が同一層中
あるいは異なる層中に形成されてなる感光体であって、
熱現像性を促進する現像促進剤が少なくとも感光性かつ
熱現像性要素を含む層以外に含有されたことを特徴とす
る感光体。 2、熱拡散性色素を含むことを特徴とする請求項1記載
の感光体 3、請求項1の感光体に第1の加熱を行なうと同時ある
いはした後に、像露光を行ない、その後第2の加熱、全
面露光を行なうことにより重合画像を形成することを特
徴とする画像形成方法。 4、請求項2の感光体に第1の加熱を行なうと同時ある
いはした後に、像露光を行ない、その後第2の加熱、全
面露光を行ない、受像体と重ね合わせて加熱することに
より熱拡散性色素を受像体上に転写させることを特徴と
する画像形成方法。 5、相異なる色調の熱拡散性色素を含む請求項2の複数
種の感光体に、第1の加熱を行なうと同時あるいはした
後に、各色調の画像情報に応じて像露光を行ない、その
後第2の加熱、全面露光を行なった後、受像体と重ね合
わせて加熱し受像体上に熱拡散性色素を転写する工程を
複数回繰り返し、受像体上にマルチカラー画像あるいは
フルカラー画像を形成することを特徴とする画像形成方
法。 6、現像促進剤を含む現像促進フィルムを感光性熱現像
性要素及び光重合性要素を含む感光体と重ね合わせて第
1の加熱を行なうと同時あるいはした後に、像露光を行
ない、その後第2の加熱、全面露光を行なうことにより
重合画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 7、請求項3、4、5、または6に記載の画像形成方法
において、第1の加熱を画像情報に応じて画像部あるい
は非画像部のみに行なうことを特徴とする画像形成方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10298190A JPH043063A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | 感光体及び画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10298190A JPH043063A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | 感光体及び画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH043063A true JPH043063A (ja) | 1992-01-08 |
Family
ID=14341906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10298190A Pending JPH043063A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | 感光体及び画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH043063A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022111005A (ja) * | 2021-01-18 | 2022-07-29 | 朗色林科技股▲フン▼有限公司 | ピコスコピックスケール/ナノスコピックスケールの回路パターンを作製する方法 |
-
1990
- 1990-04-20 JP JP10298190A patent/JPH043063A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022111005A (ja) * | 2021-01-18 | 2022-07-29 | 朗色林科技股▲フン▼有限公司 | ピコスコピックスケール/ナノスコピックスケールの回路パターンを作製する方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5001032A (en) | Photosensitive material containing a photosensitive and heat developable element and a polymerizable layer and image-forming method utilizing the same | |
| US5663032A (en) | Photosensitive composition containing photosensitive and heat developable element and polymer element and image-forming method utilizing the same | |
| EP0412851B1 (en) | Photosensitive member and multi-color image forming method | |
| US5262295A (en) | Heat-developable photosensitive material and image forming method making use of the heat-developable photosensitive material | |
| US5171657A (en) | Light sensitive image forming medium | |
| US5187041A (en) | Image forming method and image forming apparatus | |
| EP0363790B1 (en) | Image forming method and image forming medium | |
| JPH03135564A (ja) | 画像形成方法および画像形成媒体 | |
| JPH043063A (ja) | 感光体及び画像形成方法 | |
| EP0461621B1 (en) | Image forming method | |
| US5374496A (en) | Image forming method | |
| JPH063793A (ja) | 熱現像性感光体 | |
| JPH0368947A (ja) | 感光性材料、感光体および画像形成方法 | |
| JPH02210353A (ja) | 画像形成媒体及び画像形成方法 | |
| EP0453317A2 (en) | Image forming medium | |
| JPH03252660A (ja) | 感光体および画像形成方法 | |
| JPH0365951A (ja) | 感光体及び画像形成方法 | |
| JPH04218045A (ja) | 画像形成方法及び画像形成装置 | |
| JPH0389248A (ja) | 感光体および画像形成方法 | |
| JPH0456848A (ja) | 感光材料 | |
| JPH08305026A (ja) | 画像記録方法 | |
| JPH02309357A (ja) | 感光体と画像形成方法 | |
| JPH02151864A (ja) | 画像形成媒体 | |
| JPH0456862A (ja) | 感光体および画像形成方法 | |
| JPH0325443A (ja) | 感光体および画像形成方法 |