JPH0458957U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0458957U JPH0458957U JP10037590U JP10037590U JPH0458957U JP H0458957 U JPH0458957 U JP H0458957U JP 10037590 U JP10037590 U JP 10037590U JP 10037590 U JP10037590 U JP 10037590U JP H0458957 U JPH0458957 U JP H0458957U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- scanning
- target
- mask
- upper base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第1図は、この考案の一実施例に係るイオン注
入装置を示す図である。第2図は、第1図中のマ
スクおよびターゲツトを上流側から見た拡大図で
ある。第3図AないしCは、それぞれ、ターゲツ
ト上でのY方向走査のビーム電流波形を示す図で
ある。第4図は、従来のイオン注入装置の一例を
示す図である。第5図は、マススペクトルの一例
を示す図である。 2……イオン源、4……イオンビーム、6……
分析電磁石、8……分析電磁石電源、10,14
……走査電極、18……マスク、20……ターゲ
ツト、30……マスチユーニング補正装置、32
……計測手段、34……補正手段。
入装置を示す図である。第2図は、第1図中のマ
スクおよびターゲツトを上流側から見た拡大図で
ある。第3図AないしCは、それぞれ、ターゲツ
ト上でのY方向走査のビーム電流波形を示す図で
ある。第4図は、従来のイオン注入装置の一例を
示す図である。第5図は、マススペクトルの一例
を示す図である。 2……イオン源、4……イオンビーム、6……
分析電磁石、8……分析電磁石電源、10,14
……走査電極、18……マスク、20……ターゲ
ツト、30……マスチユーニング補正装置、32
……計測手段、34……補正手段。
Claims (1)
- イオン源から引き出されたイオンビームを、分
析電磁石電源によつて励磁される分析電磁石でX
方向に偏向させて質量分析し、更に走査手段で前
記X方向およびそれと実質的に直交するY方向に
走査し、そしてマスクを通してターゲツトに入射
させるよう構成されたイオン注入装置において、
前記イオンビームのX方向の走査位置がターゲツ
ト中心を0として±x(xは、0<|x|<前記
マスクの穴の半径、を満たす任意の値)のときの
ターゲツト上でのY方向走査のビーム電流波形の
上底幅をそれぞれ計測する計測手段と、この±x
のときの前記上底幅が互いに同じ値になるように
前記分析電磁石電源の出力電流を補正する補正手
段とを備えるマスチユーニング補正装置を設けた
ことを特徴とするイオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10037590U JPH0458957U (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10037590U JPH0458957U (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0458957U true JPH0458957U (ja) | 1992-05-20 |
Family
ID=31842980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10037590U Pending JPH0458957U (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0458957U (ja) |
-
1990
- 1990-09-25 JP JP10037590U patent/JPH0458957U/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0458957U (ja) | ||
| JPH01160653U (ja) | ||
| JPH0246360U (ja) | ||
| JPS62169458U (ja) | ||
| JPH0299558U (ja) | ||
| JPH0383937U (ja) | ||
| JPS6119774U (ja) | 走査電子顕微鏡を用いた電位測定装置 | |
| JPS61104960U (ja) | ||
| JPS62201456U (ja) | ||
| JPH01154489U (ja) | ||
| JPH0474437U (ja) | ||
| JPH01112554U (ja) | ||
| JPH01115152U (ja) | ||
| JPS5486262A (en) | Electron beam device | |
| JPS6160568U (ja) | ||
| JPS61140670U (ja) | ||
| JPH0250952U (ja) | ||
| JPH0181857U (ja) | ||
| JPH0355651U (ja) | ||
| JPH0231125U (ja) | ||
| JPS62197252U (ja) | ||
| JPH0292658U (ja) | ||
| JPS5842936U (ja) | 荷電粒子線描画装置 | |
| JPS62157968U (ja) | ||
| JPS63167655U (ja) |