JPH0459650A - 非磁性セラミック組成物 - Google Patents
非磁性セラミック組成物Info
- Publication number
- JPH0459650A JPH0459650A JP2171744A JP17174490A JPH0459650A JP H0459650 A JPH0459650 A JP H0459650A JP 2171744 A JP2171744 A JP 2171744A JP 17174490 A JP17174490 A JP 17174490A JP H0459650 A JPH0459650 A JP H0459650A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thermal expansion
- ceramic composition
- mno
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野]
本発明は薄膜磁気ヘッド用セラミック基板および各種磁
気ヘッド用スライダーやスペーサー等に使用される非磁
性セラミック組成物に関するものである。
気ヘッド用スライダーやスペーサー等に使用される非磁
性セラミック組成物に関するものである。
[従来の技術1
近年、磁気記録の高密度化は急速な進歩を遂げているが
、この高密度化に伴い、8mmVTR,電子スチールカ
メラ、ビデオフロッピーやデジタルオーディオ等の高保
磁力媒体の記録再生用磁気ヘットとして、従来のフェラ
イトやセンダスト等を使用した磁気ヘッドに代わって、
磁性薄膜を利用した磁気記録の高密度化に好適な薄膜磁
気ヘッドが注目されており、前記磁性薄膜を利用した薄
膜磁気ヘッドとして、チタン酸バリウム、チタン酸カル
シウム、アルミナ系複合材料等を非磁性セラミック基板
材料として用い、該非磁性セラミンク基板材料を鏡面加
工し、次いでトリクレンやアセトン等の有機溶媒で洗浄
した後、この基板上にFeN1、Fe−Al−3i、、
Co−Nb−Zr等の金属磁性膜を真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンブレーティング法等の公知の物理的
蒸着法により数μm〜数十μm被着形成したものが特開
平1−108711号公報に開示されている。
、この高密度化に伴い、8mmVTR,電子スチールカ
メラ、ビデオフロッピーやデジタルオーディオ等の高保
磁力媒体の記録再生用磁気ヘットとして、従来のフェラ
イトやセンダスト等を使用した磁気ヘッドに代わって、
磁性薄膜を利用した磁気記録の高密度化に好適な薄膜磁
気ヘッドが注目されており、前記磁性薄膜を利用した薄
膜磁気ヘッドとして、チタン酸バリウム、チタン酸カル
シウム、アルミナ系複合材料等を非磁性セラミック基板
材料として用い、該非磁性セラミンク基板材料を鏡面加
工し、次いでトリクレンやアセトン等の有機溶媒で洗浄
した後、この基板上にFeN1、Fe−Al−3i、、
Co−Nb−Zr等の金属磁性膜を真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンブレーティング法等の公知の物理的
蒸着法により数μm〜数十μm被着形成したものが特開
平1−108711号公報に開示されている。
一方、フロッピーディスクやハードディスク等の各種磁
気ヘット用スライダーやスペーサー等の非磁性材料から
成る構造部品は、Mn−ZnフェライトやNi−Znフ
ェライトの磁性材料から成るコア部品とガラス溶着する
ことにより前記各種磁気ヘッドを構成するものであり、
前記スライダーやスペーサ用の非磁性セラミック材料と
しては、チタン酸バリウムやチタン酸カルシウムを使用
することが特公昭61−58429号公報に開示されて
いる。
気ヘット用スライダーやスペーサー等の非磁性材料から
成る構造部品は、Mn−ZnフェライトやNi−Znフ
ェライトの磁性材料から成るコア部品とガラス溶着する
ことにより前記各種磁気ヘッドを構成するものであり、
前記スライダーやスペーサ用の非磁性セラミック材料と
しては、チタン酸バリウムやチタン酸カルシウムを使用
することが特公昭61−58429号公報に開示されて
いる。
[発明が解決しようとする課題1
しかしながら、前記薄膜磁気へ・ノドは非磁性セラミッ
ク基板上に金属磁性膜を被着した後、該金属磁性膜の歪
みを除去し、磁気特性を回復させるために熱処理を施し
ているが、前記非磁性セラミック基板材料はその熱膨張
係数が金属磁性膜の熱膨張係数より小さいため、熱処理
により金属磁性膜が非磁性セラミック基板より剥離して
しまうという欠点があった。
ク基板上に金属磁性膜を被着した後、該金属磁性膜の歪
みを除去し、磁気特性を回復させるために熱処理を施し
ているが、前記非磁性セラミック基板材料はその熱膨張
係数が金属磁性膜の熱膨張係数より小さいため、熱処理
により金属磁性膜が非磁性セラミック基板より剥離して
しまうという欠点があった。
一方、前記各種セラミックにはコア材料として、磁気記
録の高密度化の要求に応えるためNiZnフェライトに
代えて、飽和磁束密度および透磁率が高いMn−Znフ
ェライトが使用されているが、該M1−Znフェライト
はその熱膨張係数が一般に105〜135 xlO−7
/”Cと大であり、スライダーやスペーサー等の非磁性
材料から成る構造部品の熱膨張係数と大きく異なり、前
記ガラス溶着する際の熱処理によりフェライトコアに応
力がかかり、磁気特性の劣化を引き起こすのみならず、
前記コアにクランクを生したり、剥離を生じる等、磁気
ヘッドの組み立てに問題があった。また、前記薄膜磁気
ヘット用セラミ・ツク基板や各種磁気ヘッド用スライダ
ー及びスペーサーに使用される非磁性材料には、直径が
5μmを越えるボアが存在し、摺動特性が劣るという課
題もあった。
録の高密度化の要求に応えるためNiZnフェライトに
代えて、飽和磁束密度および透磁率が高いMn−Znフ
ェライトが使用されているが、該M1−Znフェライト
はその熱膨張係数が一般に105〜135 xlO−7
/”Cと大であり、スライダーやスペーサー等の非磁性
材料から成る構造部品の熱膨張係数と大きく異なり、前
記ガラス溶着する際の熱処理によりフェライトコアに応
力がかかり、磁気特性の劣化を引き起こすのみならず、
前記コアにクランクを生したり、剥離を生じる等、磁気
ヘッドの組み立てに問題があった。また、前記薄膜磁気
ヘット用セラミ・ツク基板や各種磁気ヘッド用スライダ
ー及びスペーサーに使用される非磁性材料には、直径が
5μmを越えるボアが存在し、摺動特性が劣るという課
題もあった。
1発明の目的1
本発明はこのような課題に鑑みて成されたもので、その
目的はMn−Znフェライトの磁性材料の熱膨張係数と
一致するように、その熱膨張係数を制御した、ボアの極
めて少ない薄膜磁気へ・7ド用セラミンク基板及び各種
磁気ヘッド用スライダーやスペーサー等に好適な非磁性
セラミ・ツク組成物を提供することにある。
目的はMn−Znフェライトの磁性材料の熱膨張係数と
一致するように、その熱膨張係数を制御した、ボアの極
めて少ない薄膜磁気へ・7ド用セラミンク基板及び各種
磁気ヘッド用スライダーやスペーサー等に好適な非磁性
セラミ・ツク組成物を提供することにある。
[課題を解決するための手段j
本発明の非磁性セラミック組成物は、MnOが77〜9
8モル%、T i 02が2〜23モル%からなること
を特徴とするものである。
8モル%、T i 02が2〜23モル%からなること
を特徴とするものである。
本発明においてM n Oの組成が77モル%未満であ
ると非磁性セラミック組成物の熱膨張係数が100XI
O−7/ ’C未満となり、該熱膨張係数の値を金属磁
性膜やMn−Znフェライトより成るコア材料の熱膨張
係数と一致させることができない。また、逆にMnOの
組成が98モル%を越えると直径5μmを越えるボアが
存在すること、MnOは高い熱膨張係数を有するものの
それ自体は焼結性が悪いため、TiO2を添加すること
により焼結性を向上させているが、TiO2の組成が2
モル%未満であると焼結性が悪く、高密度な非磁性セラ
ミック組成物が得られない。由って、MnOの組成は7
7〜98モル%、TiO□の組成は2〜23モル%の範
囲に限定される。
ると非磁性セラミック組成物の熱膨張係数が100XI
O−7/ ’C未満となり、該熱膨張係数の値を金属磁
性膜やMn−Znフェライトより成るコア材料の熱膨張
係数と一致させることができない。また、逆にMnOの
組成が98モル%を越えると直径5μmを越えるボアが
存在すること、MnOは高い熱膨張係数を有するものの
それ自体は焼結性が悪いため、TiO2を添加すること
により焼結性を向上させているが、TiO2の組成が2
モル%未満であると焼結性が悪く、高密度な非磁性セラ
ミック組成物が得られない。由って、MnOの組成は7
7〜98モル%、TiO□の組成は2〜23モル%の範
囲に限定される。
更に、ボアのない高密度な非磁性セラミック組成物を得
るためには、成形方法としてプレス成形方法、押し出し
成形方法、射出成形方法やドクターブレード法が好適に
用いられ、成形体は窒素ガス中、1200〜1400°
Cの温度範囲で焼成し、更に、1500〜1350 ’
Cの温度範囲で、1000〜2000 kg/dのアル
ゴンガス雰囲気中、熱間静水圧加圧処理を行うことが望
ましい。
るためには、成形方法としてプレス成形方法、押し出し
成形方法、射出成形方法やドクターブレード法が好適に
用いられ、成形体は窒素ガス中、1200〜1400°
Cの温度範囲で焼成し、更に、1500〜1350 ’
Cの温度範囲で、1000〜2000 kg/dのアル
ゴンガス雰囲気中、熱間静水圧加圧処理を行うことが望
ましい。
また、係る非磁性セラミ・7り組成物の結晶相は、X線
回折試験からT i O2が固溶したM n O相とM
n:104相であり、MnOに対するMn、04の結晶
相の第一ピーク強度比は1,7未満が望ましい。
回折試験からT i O2が固溶したM n O相とM
n:104相であり、MnOに対するMn、04の結晶
相の第一ピーク強度比は1,7未満が望ましい。
尚、前記非磁性セラミック組成物には、A1□03とS
iO2が合計して2重量%以下含有しても良い。
iO2が合計して2重量%以下含有しても良い。
[作用l
Mn0は約136 Xl0−7/ ”Cと高い熱膨張係
数を有するため、非磁性セラミック組成物の熱膨張係数
を、M n Qに添加した熱膨張係数が71X10−7
/°C程度と低いTiO□の割合にて、前記磁性材料の
熱膨張係数にほぼ合致する100〜135 Xl0−’
/°Cの範囲に制御することができるとともに、非磁性
セラミック組成物の焼結性を向上させて緻密化できる。
数を有するため、非磁性セラミック組成物の熱膨張係数
を、M n Qに添加した熱膨張係数が71X10−7
/°C程度と低いTiO□の割合にて、前記磁性材料の
熱膨張係数にほぼ合致する100〜135 Xl0−’
/°Cの範囲に制御することができるとともに、非磁性
セラミック組成物の焼結性を向上させて緻密化できる。
[実施例1
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
純度99%以上のMnO,TiO□を用いて、第1表に
示す組成となるように秤量し、該原料粉末とメタノール
をボールミルにより20時間、湿式混合し、乾燥した後
、501/Hr、の流量の窒素ガス中で900〜100
0°C仮焼を行った。その後、前記仮焼原料を再度、メ
タノールを加えてボールミルにより40時間、湿式粉砕
し、該粉砕原料粉末を乾燥後、PVA等のバインダーを
添加して造粒する。
示す組成となるように秤量し、該原料粉末とメタノール
をボールミルにより20時間、湿式混合し、乾燥した後
、501/Hr、の流量の窒素ガス中で900〜100
0°C仮焼を行った。その後、前記仮焼原料を再度、メ
タノールを加えてボールミルにより40時間、湿式粉砕
し、該粉砕原料粉末を乾燥後、PVA等のバインダーを
添加して造粒する。
それを1〜2 ton、’cniの圧力でプレス形成し
、該成形体を501/Hr、の流量の窒素ガス中、13
00〜1350°Cの温度で焼成後、緻密化のため、2
000kg /crKの圧力下、アルゴンガス雰囲気中
、1250〜1300°Cの温度で1〜2時間の熱間静
水圧加圧処理を行った。
、該成形体を501/Hr、の流量の窒素ガス中、13
00〜1350°Cの温度で焼成後、緻密化のため、2
000kg /crKの圧力下、アルゴンガス雰囲気中
、1250〜1300°Cの温度で1〜2時間の熱間静
水圧加圧処理を行った。
かくして得られた試料を用いて、示差膨張方式により4
0〜400°Cの平均線熱膨張係数を測定した。また、
前記試料の研磨面をSEM観察し、ボアの直径が0.3
μm以下のものを◎、0′、3μmを越え1.0μm以
下のものを○、1.0μmを越え5.0μm以下のもの
を△、5.0μmを越えるものを×と表示してボアの評
価を行った。更に、前記試料の相対密度が99%以上の
ものを◎、95%以上99%未満のものを○、95%未
満のものを×と表示して焼結性を評価した。また、X線
回折試験を行い試料の結晶相を同定し、M n Oに対
するMn3O4の結晶相の第一ピーク強度比を求めた。
0〜400°Cの平均線熱膨張係数を測定した。また、
前記試料の研磨面をSEM観察し、ボアの直径が0.3
μm以下のものを◎、0′、3μmを越え1.0μm以
下のものを○、1.0μmを越え5.0μm以下のもの
を△、5.0μmを越えるものを×と表示してボアの評
価を行った。更に、前記試料の相対密度が99%以上の
ものを◎、95%以上99%未満のものを○、95%未
満のものを×と表示して焼結性を評価した。また、X線
回折試験を行い試料の結晶相を同定し、M n Oに対
するMn3O4の結晶相の第一ピーク強度比を求めた。
以上の結果を第1表に示す。
(以下、余白)
尚、実施例では原料としてMnOを利用したが、純度9
9%以上のM n 30 aを使用しても同様な結果が
得られることを確認している。
9%以上のM n 30 aを使用しても同様な結果が
得られることを確認している。
[発明の効果1
叙上のように、本発明の非磁性セラミ7・り組成物はM
nOが77〜98モル%、T i 02が2〜23モル
%より成ることから、M n Oの熱膨張係数を′Fi
○2の添加割合にて制御し、金属磁性膜やMnZnフェ
ライトより成るコア材料の熱膨張係数とほぼ合致する熱
膨張係数を有する緻密な非磁性セラミック組成物を得る
ことができる。
nOが77〜98モル%、T i 02が2〜23モル
%より成ることから、M n Oの熱膨張係数を′Fi
○2の添加割合にて制御し、金属磁性膜やMnZnフェ
ライトより成るコア材料の熱膨張係数とほぼ合致する熱
膨張係数を有する緻密な非磁性セラミック組成物を得る
ことができる。
特許出願人(663)京セラ株式会社
Claims (1)
- MnOが77〜98モル%、TiO_2が2〜23モ
ル%からなる非磁性セラミック組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2171744A JPH0459650A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 非磁性セラミック組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2171744A JPH0459650A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 非磁性セラミック組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0459650A true JPH0459650A (ja) | 1992-02-26 |
Family
ID=15928883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2171744A Pending JPH0459650A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 非磁性セラミック組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0459650A (ja) |
-
1990
- 1990-06-28 JP JP2171744A patent/JPH0459650A/ja active Pending
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