JPS60200853A - 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 - Google Patents
磁気ヘツド用セラミツク基板材料Info
- Publication number
- JPS60200853A JPS60200853A JP59055797A JP5579784A JPS60200853A JP S60200853 A JPS60200853 A JP S60200853A JP 59055797 A JP59055797 A JP 59055797A JP 5579784 A JP5579784 A JP 5579784A JP S60200853 A JPS60200853 A JP S60200853A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic substrate
- ions
- substrate material
- magnetic head
- thermal expansion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 19
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 6
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 5
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 5
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 5
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011656 manganese carbonate Substances 0.000 description 3
- 235000006748 manganese carbonate Nutrition 0.000 description 3
- 229940093474 manganese carbonate Drugs 0.000 description 3
- 229910000016 manganese(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L manganese(ii) carbonate Chemical compound [Mn+2].[O-]C([O-])=O XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 235000001270 Allium sibiricum Nutrition 0.000 description 1
- 241000272201 Columbiformes Species 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000018936 Vitellaria paradoxa Nutrition 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000008358 core component Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001272 pressureless sintering Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属磁性薄膜を蒸着あるいはスパッタリング等
をするための薄膜磁気ヘッド用の非磁性セラミック基板
材料に関するものである。
をするための薄膜磁気ヘッド用の非磁性セラミック基板
材料に関するものである。
磁気ヘッドはＶ Ｔ Ｒ（Ｖｉｄｅｏ Ｔａｐｅ Ｒｅ
ｃｏｒｄｅｒ ） 。
ｃｏｒｄｅｒ ） 。
コンピュータ、オーディオ機器の心臓部品として近年需
要が急拡大している。
要が急拡大している。
ＶＴＲやコンピュータ等の高密度記録が一段と進むにつ
れ２次世代の磁気ヘッドとして薄膜で構成する薄膜磁気
ヘッドの研究が最近活発に行われている。
れ２次世代の磁気ヘッドとして薄膜で構成する薄膜磁気
ヘッドの研究が最近活発に行われている。
薄膜ヘッドは記録、再生機能をパーマロイ（Ｆｅ−Ｎｉ
） ＋センダスト（Ｆｅ ｋｌｌ−８ｉ）等の金属磁性
薄膜に持たせ、耐摩耗性等の摺動性能を非磁性基板に持
たせる複合ヘッドであシ、基板自体にも重要な特性が要
求される。
） ＋センダスト（Ｆｅ ｋｌｌ−８ｉ）等の金属磁性
薄膜に持たせ、耐摩耗性等の摺動性能を非磁性基板に持
たせる複合ヘッドであシ、基板自体にも重要な特性が要
求される。
従来、この種の非磁性セラミック基板としては。
ガラスあるいはチタン酸カルシウムＣａＴ ｒ Ｏｓ
＋アルミナ・炭化チタンＭ、０３・ＴｉＯ等のセラミッ
ク材料が提案されていた。
＋アルミナ・炭化チタンＭ、０３・ＴｉＯ等のセラミッ
ク材料が提案されていた。
ところがこのような材料で構成されたセラミック基板に
は次の如き問題があった。
は次の如き問題があった。
すなわち、金属磁性薄膜の特性を引き出すための蒸着、
スパッタリング等の膜形成の際およびその後の熱処理や
、ギャップ部のガラスボンディング時に後述するように
基板との熱膨張率の相異から薄膜が剥離するという難点
があった。
スパッタリング等の膜形成の際およびその後の熱処理や
、ギャップ部のガラスボンディング時に後述するように
基板との熱膨張率の相異から薄膜が剥離するという難点
があった。
また従来提案されていた前記セラミック基板はその熱膨
張係数が高々１０ Ｘ １０−’／’ｃ程度と小さく。
張係数が高々１０ Ｘ １０−’／’ｃ程度と小さく。
又熱膨張率が金属磁性薄膜と一致するガラスの場合には
硬度が低く磁気テープとの摺動時の摩耗が大きい欠点が
あった。
硬度が低く磁気テープとの摺動時の摩耗が大きい欠点が
あった。
このためパーマロイ等の金属磁性薄膜の熱膨張率１２〜
１５ Ｘ １０−６／”ｃに合致し、フェライト並みの
耐摩耗性を有する非磁性基板の出現が強く要望されてい
た。
１５ Ｘ １０−６／”ｃに合致し、フェライト並みの
耐摩耗性を有する非磁性基板の出現が強く要望されてい
た。
本発明者は、かかる点に鑑み鋭意研究を進めた結果、
Ｃａイオン、Ｍｎイオンを含む特定組成の複合酸化物が
かかる目的に合致することを見出したが、さらにその改
良を進めた結果、Ｃａイオンを当イオン及びＮｉイオン
又は鳩イオンの少なくとも１種を含む複合酸化物よシな
るセラミック基板がさらに好ましい耐摩耗性、高熱膨張
率を有することを見出し９本発明をなすに至った。
Ｃａイオン、Ｍｎイオンを含む特定組成の複合酸化物が
かかる目的に合致することを見出したが、さらにその改
良を進めた結果、Ｃａイオンを当イオン及びＮｉイオン
又は鳩イオンの少なくとも１種を含む複合酸化物よシな
るセラミック基板がさらに好ましい耐摩耗性、高熱膨張
率を有することを見出し９本発明をなすに至った。
即ち２本発明は前記各イオンがＣａＯ、ＭｎｔＯｓ 。
ＮｉＯ、ＭｇＯ酸化物換算で。
である複合酸化物よシなる磁気ヘッド用の非磁性セラミ
ック基板材料を提供するものである。
ック基板材料を提供するものである。
本発明の磁気ヘッド用セラミック基板材料で形成された
非磁性基板の特徴は、 Ｃａイオン、Ｍｎイオン及びＮ
ｉイオン又は淘イオンの少なくとも１種を含む特定組成
の複合酸化物よ構成る点にあシ。
非磁性基板の特徴は、 Ｃａイオン、Ｍｎイオン及びＮ
ｉイオン又は淘イオンの少なくとも１種を含む特定組成
の複合酸化物よ構成る点にあシ。
熱膨張率が１３Ｘ１０４．／’Ｃ以上と金属磁性膜の熱
膨“張車に合致し、フェライト以上の耐摩耗性を有する
点にある。
膨“張車に合致し、フェライト以上の耐摩耗性を有する
点にある。
本発明の基板材料において、 Ｃａ 、Ｍｎ 、Ｎｉ
、Ｍｇ各イオンの含有量はＣａＯ、Ｍｎ、ｏ８． Ｎｉ
Ｏ、ＭｇＯ酸化物換１００が６０重量鴨以下であること
が必要である。
、Ｍｇ各イオンの含有量はＣａＯ、Ｍｎ、ｏ８． Ｎｉ
Ｏ、ＭｇＯ酸化物換１００が６０重量鴨以下であること
が必要である。
では複合酸化物の過剰のＣａイオンの存在によるものと
思われる耐摩耗性の低下をきたし、７５重量％を超える
と熱膨張率が小さくなる。又。
思われる耐摩耗性の低下をきたし、７５重量％を超える
と熱膨張率が小さくなる。又。
ると摩耗量が大きくなる。
本発明の磁気ヘッド用セラミック基板材料にょシセラミ
ック基板を製造する方法について１例を示す。
ック基板を製造する方法について１例を示す。
所定量の酸化カルシウム、酸化マンガンあるいは焼成に
よシこれらの酸化物に変換しうる化合物をボールミル等
の混合機を用いて充分混合したのち、この混合物を８０
０〜１２００’Ｃの温度で仮焼する。次にとの仮焼粉末
に酸化ニッケル又は酸化マグネシウムの少なくとも１種
の粉末あるいは焼成によシ酸化物に変換しうる化合物を
ボールミル等の混合機を用いて充分に混合したのちこの
混合粉末を乾燥後プレスバインダーを混ぜて成形し。
よシこれらの酸化物に変換しうる化合物をボールミル等
の混合機を用いて充分混合したのち、この混合物を８０
０〜１２００’Ｃの温度で仮焼する。次にとの仮焼粉末
に酸化ニッケル又は酸化マグネシウムの少なくとも１種
の粉末あるいは焼成によシ酸化物に変換しうる化合物を
ボールミル等の混合機を用いて充分に混合したのちこの
混合粉末を乾燥後プレスバインダーを混ぜて成形し。
１２５０〜１４００℃の温度範囲で焼成する。
この場合、各原料を独立粉末として用いてもよい１．あ
るいは共沈法やコロイド添加法等の公知の手段によって
調製した複合酸化物粉末として用いてもよい。又、成形
後の焼成においては、常圧焼結法以外に、ホットプレス
法などの高密度化焼成法を利用してもよい。
るいは共沈法やコロイド添加法等の公知の手段によって
調製した複合酸化物粉末として用いてもよい。又、成形
後の焼成においては、常圧焼結法以外に、ホットプレス
法などの高密度化焼成法を利用してもよい。
次に具体的な実施例によシ本発明をさらに詳しく説明す
る。
る。
なお熱膨張率はＪＩＳ法に準じ室温よ、！１）５００℃
における平均線膨張よ請求めた。又、耐摩耗性は。
における平均線膨張よ請求めた。又、耐摩耗性は。
ビン−円板式摩耗試験機を使用し、荷重５０Ｋｇ／、Ｊ
。
。
周速１５ Ｑ ｃｍ／ｓｅｅの条件で１００時間運転し
、試験片の長さの変化にょ請求めた。なおピンにサンプ
ル、円板には鉄を用いた。
、試験片の長さの変化にょ請求めた。なおピンにサンプ
ル、円板には鉄を用いた。
実施例１
炭酸カルシウムおよび炭酸マンガンの比率を表１に示す
如く変え、ボールミルで２４時時間式混合し、乾燥後大
気中で１０００℃で焼成し、各種の仮焼粉末を作成した
。
如く変え、ボールミルで２４時時間式混合し、乾燥後大
気中で１０００℃で焼成し、各種の仮焼粉末を作成した
。
次に得られた各種仮焼粉末に一定量の酸化ニラｉＯ
ケル（ＣａＯ＋Ｍｎ、Ｏｓ＋ＮｉＯ×１００＝５０重量
％）を加え。
％）を加え。
ボールミルで２４時時間式混合し、乾燥後プレスバイン
ダーとしてＰＶＡ（ポリビニルアルコール１重量％）を
加え、 ２ｔｏｎ／ｃＪ で成形し１３００℃で１時間
焼成して表１に示すサンプル１〜９を作成した。このよ
うにして得られた焼結体のＣａＯ。
ダーとしてＰＶＡ（ポリビニルアルコール１重量％）を
加え、 ２ｔｏｎ／ｃＪ で成形し１３００℃で１時間
焼成して表１に示すサンプル１〜９を作成した。このよ
うにして得られた焼結体のＣａＯ。
ＭｒＩ２０ｓ換算の組成比率と熱膨張率及び耐摩耗性の
結果を表１に示す。なおこの表１には従来のｚｎフェラ
イトの特性をも示しである。
結果を表１に示す。なおこの表１には従来のｚｎフェラ
イトの特性をも示しである。
以下余白
表 １
この表１においてサンプル２〜６が本発明の範囲内のも
のである０サンプル１は摩耗量が犬であシアサンプル７
〜９は熱膨張率が小である。これ場合には耐摩耗性が悪
く、また７５％を超えた場合には熱膨張率が小であるこ
とがわかる。
のである０サンプル１は摩耗量が犬であシアサンプル７
〜９は熱膨張率が小である。これ場合には耐摩耗性が悪
く、また７５％を超えた場合には熱膨張率が小であるこ
とがわかる。
実施例２
炭酸カルシウムおよび炭酸マンガンの比率を変えボール
ミルで２４時時間式混合し、乾燥後大気中１０００℃で
焼成して各種仮焼粉末を作成した。
ミルで２４時時間式混合し、乾燥後大気中１０００℃で
焼成して各種仮焼粉末を作成した。
次に得られた各種仮焼粉末に酸化ニッケルを加えボール
ミルで２４時時間式混合し、乾燥後プレスバインダーと
してＰＶＡを加えこれを前記の如（２ｔｏｎ成形して表
２に示すサンプル１０〜２５を作成し、それらの各特性
を測定し９表２に示す結果が得られた。
ミルで２４時時間式混合し、乾燥後プレスバインダーと
してＰＶＡを加えこれを前記の如（２ｔｏｎ成形して表
２に示すサンプル１０〜２５を作成し、それらの各特性
を測定し９表２に示す結果が得られた。
以下余白
表 ２
閣
表２においてサンプル１０〜１３．１？、 ２１．２２
〜２５が本発明の範囲外のものであシアサンプル１４〜
１６．１８〜２０が本発明の範囲内のものである０ 耐摩耗性が悪く、７５％を超えると熱膨張率が小超える
と摩耗量が大きいことがわかる。
〜２５が本発明の範囲外のものであシアサンプル１４〜
１６．１８〜２０が本発明の範囲内のものである０ 耐摩耗性が悪く、７５％を超えると熱膨張率が小超える
と摩耗量が大きいことがわかる。
実施例３
炭酸カルシウムおよび炭酸マンガンの比率を変えボール
ミルで２４時時間式混合し、乾燥後大気中１０００℃で
焼成して各種仮焼粉末を作成した。
ミルで２４時時間式混合し、乾燥後大気中１０００℃で
焼成して各種仮焼粉末を作成した。
次に得られた各種仮焼粉末に酸化ニッケルおよび酸化マ
グネシウム（重量比１／、）を加え、ボールミルで２４
時時間式混合し、乾燥後プレスバインダとしてＰＶＡを
加え２ ｔｏｎ／ｃ＋４で成形し。
グネシウム（重量比１／、）を加え、ボールミルで２４
時時間式混合し、乾燥後プレスバインダとしてＰＶＡを
加え２ ｔｏｎ／ｃ＋４で成形し。
１３００℃で１時間焼成して９表３に示すサンプル２６
〜４１を作成し、それらの各特性を測定し２表３に示す
結果が得られた。
〜４１を作成し、それらの各特性を測定し２表３に示す
結果が得られた。
以下余白
表 ３
表３においてサンプル２６〜２９．３３．３７．３８〜
４１が本発明の範囲外のものであシ、サンプル３０〜３
２．３４〜３６が本発明の範囲内のものである０ 耐摩耗性が悪く、７０％を超えると熱膨張率が小６０％
を超えると摩耗量が大きいことがわかる。
４１が本発明の範囲外のものであシ、サンプル３０〜３
２．３４〜３６が本発明の範囲内のものである０ 耐摩耗性が悪く、７０％を超えると熱膨張率が小６０％
を超えると摩耗量が大きいことがわかる。
実施例４
前記実施例２において酸化ニッケルの代シに酸化マグネ
シウムを使用し、他は同様にしてサンプルを作成した。
シウムを使用し、他は同様にしてサンプルを作成した。
その特性測定結果は前記実施例２゜３の場合とほぼ同じ
結果が得られた。
結果が得られた。
本発明によれば熱膨張係数もパーマロイ等の金属磁性薄
膜に合致し、摩耗量が小さい非磁性の薄膜ヘッド用セラ
ミック基板として好適なものを得ることができる。
膜に合致し、摩耗量が小さい非磁性の薄膜ヘッド用セラ
ミック基板として好適なものを得ることができる。
特許出願人 ティーディークイ株式会社代理人弁理士
山 谷 皓 榮
山 谷 皓 榮
Claims (1)
- Ｃａイオン、Ｍｎイオン及びＮｉイオン又はＭｇイオン
の少なくとも１種を含む複合酸化物よりなる磁気ヘッド
用基板材料であって、前記イオンがＣａＯ、Ｍｎ、 ０
３． ＮｉＯ、ＭｇＯ酸化物換算でであることを特徴と
する磁気ヘッド用セラミック基板材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59055797A JPS60200853A (ja) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59055797A JPS60200853A (ja) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60200853A true JPS60200853A (ja) | 1985-10-11 |
Family
ID=13008900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59055797A Pending JPS60200853A (ja) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60200853A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5057374A (en) * | 1985-07-22 | 1991-10-15 | Hitachi Metals, Ltd. | Mno/nio-based nonmagnetic substrate material |
-
1984
- 1984-03-23 JP JP59055797A patent/JPS60200853A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5057374A (en) * | 1985-07-22 | 1991-10-15 | Hitachi Metals, Ltd. | Mno/nio-based nonmagnetic substrate material |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS60200853A (ja) | 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 | |
| JPH0459263B2 (ja) | ||
| JPS60194507A (ja) | 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 | |
| JPH0459264B2 (ja) | ||
| JPS60194506A (ja) | 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 | |
| KR0142702B1 (ko) | 자기헤드용 비자성 세라믹기판 및 그 제조방법 | |
| JPS60200854A (ja) | 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 | |
| JPS60246259A (ja) | 磁気ヘツド用非磁性セラミツク材料 | |
| JPS60264363A (ja) | 磁気ヘツド用非磁性セラミツク材料 | |
| JPS60264362A (ja) | 磁気ヘツド用非磁性セラミツク材料 | |
| JPS6140869A (ja) | 磁気ヘッド補強材用磁器組成物 | |
| JP3353379B2 (ja) | 磁気ヘッド用非磁性セラミック材料 | |
| JPS6217841B2 (ja) | ||
| JPH0522665B2 (ja) | ||
| JPH03141611A (ja) | 微粒組織Ｍｎ―Ｚｎフェライト材料及びその製造方法 | |
| US2987481A (en) | Manganese-zinc ferrite | |
| JPH0628607A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性材料 | |
| JP3052668B2 (ja) | 高い飽和磁化を有する低キュリー点磁気記録粉末 | |
| JPS6029669B2 (ja) | 磁気ヘッド用非磁性セラミックス | |
| JP3085619B2 (ja) | 非磁性セラミックス | |
| JPH06316462A (ja) | 構造用非磁性セラミック材料 | |
| JPS6259069B2 (ja) | ||
| JPH08208323A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性セラミックスの製造方法 | |
| JPH05270901A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性セラミックスおよびその製造方法 | |
| JPH05315121A (ja) | フェライトの製造方法 |