JPH0459782A - 含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法 - Google Patents
含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法Info
- Publication number
- JPH0459782A JPH0459782A JP2168038A JP16803890A JPH0459782A JP H0459782 A JPH0459782 A JP H0459782A JP 2168038 A JP2168038 A JP 2168038A JP 16803890 A JP16803890 A JP 16803890A JP H0459782 A JPH0459782 A JP H0459782A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dimethylchlorosilane
- fluorine
- compound
- reaction
- organic group
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、含フッ素有機基を有するエチレン化合物とジ
メチルクロロシランとの反応により、高収率で含フッ素
ジメチルクロロシランを製造する方法に関する。
メチルクロロシランとの反応により、高収率で含フッ素
ジメチルクロロシランを製造する方法に関する。
（従来技術）
含フッ素アルキルエチレンとジメチルクロロシランを反
応させることによって含フッ素ジメチルクロロシランが
得られることは知られている。この反応式は次式で示さ
れる。
応させることによって含フッ素ジメチルクロロシランが
得られることは知られている。この反応式は次式で示さ
れる。
ＣＢ。
ＲｆＣＨ＝ＣＨｚ ＋ Ｈ−５ｉ−ＣｊＩＣＢ。
ＣＢ。
ＲｆＣＨｚＣＨｌ ５ｉ−Ｃ１
Ｃｌ。
（式中、Ｒｆは含フッ素有機基を示す）（発明が解決し
ようとする課Ｈ） 上記反応は、白金錯体或いはパーオキサイドを触媒とし
て行われているが、その収率が低いのが問題となってい
る。
ようとする課Ｈ） 上記反応は、白金錯体或いはパーオキサイドを触媒とし
て行われているが、その収率が低いのが問題となってい
る。
従って本発明は、含フッ素アルキルエチレン等の含フッ
素有機基を有するエチレン化合物とジメチルクロロシラ
ンとの反応により、含フッ素ジンチルクロロシランを高
収率で製造することを目的とする。
素有機基を有するエチレン化合物とジメチルクロロシラ
ンとの反応により、含フッ素ジンチルクロロシランを高
収率で製造することを目的とする。
（課題を達成するための手段）
本発明の含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法は、
含フッ素有機基を有するエチレン化合物とジメチルクロ
ロシランとの反応を、ロジウム錯体の存在下で行なうも
のである。
含フッ素有機基を有するエチレン化合物とジメチルクロ
ロシランとの反応を、ロジウム錯体の存在下で行なうも
のである。
即ち、反応触媒としてロジウム錯体を用いることによっ
て従来より短時間で且つ高収率で含フッ素ジメチルクロ
ロシランを得ることに成功したものである。
て従来より短時間で且つ高収率で含フッ素ジメチルクロ
ロシランを得ることに成功したものである。
２１±上レゴ【１隻
本発明において出発原料として使用されるエチレン化合
物は、置換基として１価または２価の含フッ素有機基が
、エチレンから水素原子１個を除いたビニル残基に結合
しているものであり、この含フッ素有機基としては、例
えば ＣＩＦ！ｔやｌ ＋ Ｃ＠Ｐ！ＩＩ（１１ｍはそ
れぞれ１以上、好ましくは１〜１０の整数） 等で示されるパーフルオロアルキル基、パーフルオロア
ルキレン基、 Ｃ３Ｆ、０（−ＣＦＣＦＺＯ−）−ＣＦ−ＣＦ、
ＣＦ３ （ｎ、ｐ、ｑはそれぞれ０以上の整数、好ましくはｎ、
ｐ＋ｑはそれぞれ０〜１ｏの整数）等で示されるパーフ
ルオロアルキルエーテル基、パーフルオロアルキレンエ
ーテル基等のパーフルオロカーボンの他、これらの基の
フッ素原子の一部が水素原子で置換されたポリフルオロ
カーボンであってもよい。
物は、置換基として１価または２価の含フッ素有機基が
、エチレンから水素原子１個を除いたビニル残基に結合
しているものであり、この含フッ素有機基としては、例
えば ＣＩＦ！ｔやｌ ＋ Ｃ＠Ｐ！ＩＩ（１１ｍはそ
れぞれ１以上、好ましくは１〜１０の整数） 等で示されるパーフルオロアルキル基、パーフルオロア
ルキレン基、 Ｃ３Ｆ、０（−ＣＦＣＦＺＯ−）−ＣＦ−ＣＦ、
ＣＦ３ （ｎ、ｐ、ｑはそれぞれ０以上の整数、好ましくはｎ、
ｐ＋ｑはそれぞれ０〜１ｏの整数）等で示されるパーフ
ルオロアルキルエーテル基、パーフルオロアルキレンエ
ーテル基等のパーフルオロカーボンの他、これらの基の
フッ素原子の一部が水素原子で置換されたポリフルオロ
カーボンであってもよい。
この、１価または２価の含フッ素有機基で置換されたエ
チレン化合物としては、これに限定されるものではない
が、代表例として以下のものを例示することができる。
チレン化合物としては、これに限定されるものではない
が、代表例として以下のものを例示することができる。
ＣＦｓＣＴｏＣＴｏ 、ＣｔＦｓＣＨ＝Ｃ１ｈ 、
ＣＪｔＣＨ＝ＣＨｚ 。
ＣＪｔＣＨ＝ＣＨｚ 。
ＣａＦ＊ＣＨ＝ＣＨｚ ｌ Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ！
、 Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ！ 。
、 Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ！ 。
ＣＨｚ＝ＣＨＣｂＰ＋ｚＣＨ＝ＣＨｚ 。
Ｐ２２〜」１生
本発明において反応触媒として用いられるロジウム錯体
としては、例えばＲｈＣｆ （ＰＰｂｓ）３゜ＲｈＣｆ
（ＣＯ）（ＰＰｂｓ）ｚ 、［Ｒｈ（ＣＨｓＣＯＯ）
ｚ］ｚ 。
としては、例えばＲｈＣｆ （ＰＰｂｓ）３゜ＲｈＣｆ
（ＣＯ）（ＰＰｂｓ）ｚ 、［Ｒｈ（ＣＨｓＣＯＯ）
ｚ］ｚ 。
［ＲｈＣｌ （Ｃｚｌｌａ） ｚ］□、 ［ＲｈＣｊ
！ （ＣＪｓ）］ｚ （ここでＣ？ＨＩは２価配位子；
ノルボルナジェンを示す）、Ｒｈ（Ｃ１（＋Ｃ０ＣＨｚ
ＣＯＣＨｓ）ｓ （式中、ｐｈはフェニル基を示す）等
の錯体が好適である。これらのロジウム錯体は、前記エ
チレン化合物１モル当たり１．０Ｘ１０−’〜１．０Ｘ
１０−’モル、特に１．０Ｘ１０−’〜１．０Ｘ１０−
３モルの範囲で使用されることが好適である。
！ （ＣＪｓ）］ｚ （ここでＣ？ＨＩは２価配位子；
ノルボルナジェンを示す）、Ｒｈ（Ｃ１（＋Ｃ０ＣＨｚ
ＣＯＣＨｓ）ｓ （式中、ｐｈはフェニル基を示す）等
の錯体が好適である。これらのロジウム錯体は、前記エ
チレン化合物１モル当たり１．０Ｘ１０−’〜１．０Ｘ
１０−’モル、特に１．０Ｘ１０−’〜１．０Ｘ１０−
３モルの範囲で使用されることが好適である。
反−息
含フッ素有機基を有するエチレン化合物とジメチルクロ
ロシランとの反応は、上記のロジウム錯体の存在下にお
いて、例えばオートクレーブ中、５０〜２５０℃、好ま
しくは７０〜１５０℃の範囲で行われる。上記エチレン
化合物とジメチルクロロシランとの配合比は、一般にジ
メチルクロロシランを該エチレン化合物中のエチレン量
の１．０〜５．０倍モル、好ましくは１．１〜２．０倍
モルとすることが望ましい。
ロシランとの反応は、上記のロジウム錯体の存在下にお
いて、例えばオートクレーブ中、５０〜２５０℃、好ま
しくは７０〜１５０℃の範囲で行われる。上記エチレン
化合物とジメチルクロロシランとの配合比は、一般にジ
メチルクロロシランを該エチレン化合物中のエチレン量
の１．０〜５．０倍モル、好ましくは１．１〜２．０倍
モルとすることが望ましい。
この反応は、前述した反応式に従って進行し、例えば上
記エチレン化合物として１官能性のものを使用した場合
には、下記一般式（Ｉ）ＣＩ。
記エチレン化合物として１官能性のものを使用した場合
には、下記一般式（Ｉ）ＣＩ。
ＲｆＣＨｚＣＨｚ Ｓｉ Ｃ１（１）ＣＦ３
式中、Ｒｆは１価の含フッ素有機基を示す、で表わされ
る含フッ素ジメチルクロロシ、ランが高収率で得られる
。この含フッ素ジメチルクロロシランは、シリル化剤、
シリカ処理剤及び界面活性剤原料等として有用である。
る含フッ素ジメチルクロロシ、ランが高収率で得られる
。この含フッ素ジメチルクロロシランは、シリル化剤、
シリカ処理剤及び界面活性剤原料等として有用である。
また上記エチレン化合物として２官能性のものを使用し
た場合には、下記一般式（Ｉｆ）、式中、Ｒｆ’ は２
価の含フッ素有機基である、で表わされるジメチルクロ
ロシランが得られる。
た場合には、下記一般式（Ｉｆ）、式中、Ｒｆ’ は２
価の含フッ素有機基である、で表わされるジメチルクロ
ロシランが得られる。
このジメチルクロロシランは、主鎖フッ素変性ハイブリ
ッドフロロシリコーン用原料として有用である。
ッドフロロシリコーン用原料として有用である。
（実施例）
裏蓋■上
撹拌器、内温温度針を備えた３００ＩＩ＋７！オートク
レーブに、 ｎ Ｃ４ＦｑＣＨ＝ＣＨ２１７９ｇ ジメチルクロロシラン ９８ｇＲｈ （、ｅ
（ＰＰｂｓ）ａ （ウィルキンソン錯体）０．１１
ｇ を仕込み、１００℃で４時間、加熱攪拌を行なった。
レーブに、 ｎ Ｃ４ＦｑＣＨ＝ＣＨ２１７９ｇ ジメチルクロロシラン ９８ｇＲｈ （、ｅ
（ＰＰｂｓ）ａ （ウィルキンソン錯体）０．１１
ｇ を仕込み、１００℃で４時間、加熱攪拌を行なった。
反応後、２５℃に冷却し、反応生成物を取出し、ガスク
ロマトグラフィーにより定量したところ、ｎ−Ｃ４Ｆｑ
ＣＨ＝ＣＨ２の転化率９３％であり、下記式、ＩＩ ＣａＦｑＣＨｚＣＨｚＳｉ Ｃ１ ＣＯ。
ロマトグラフィーにより定量したところ、ｎ−Ｃ４Ｆｑ
ＣＨ＝ＣＨ２の転化率９３％であり、下記式、ＩＩ ＣａＦｑＣＨｚＣＨｚＳｉ Ｃ１ ＣＯ。
で表わされるジメチルクロロシランの選択率９３％であ
った。
った。
１蓋１
実施例１で使用した３００ｍ ｌオートクレーブに、Ｃ
Ｈｚ＝ＣＨＣ６Ｆ＋ ｚｃＨ＝ｃＩｈ
１７７ ｇジメチルクロロシラン １２２ｇＲ
ｈ Ｃ１（ＰＰｈ３） ｓ Ｏ，０８
ｇを仕込み、１１０℃で６時間、加熱攪拌した。
Ｈｚ＝ＣＨＣ６Ｆ＋ ｚｃＨ＝ｃＩｈ
１７７ ｇジメチルクロロシラン １２２ｇＲ
ｈ Ｃ１（ＰＰｈ３） ｓ Ｏ，０８
ｇを仕込み、１１０℃で６時間、加熱攪拌した。
反応後、実施例１と同様にして反応生成物の定量を行な
ったところ、ＣＵｔ・ＣＨＣｉＦ＋ｚＣＨ＝ＣＨｚの転
化率９９％であり、下記式、 ＣＢ、 Ｃｆ１３で示され
る付加反応生成物の選択率７９％であった。
ったところ、ＣＵｔ・ＣＨＣｉＦ＋ｚＣＨ＝ＣＨｚの転
化率９９％であり、下記式、 ＣＢ、 Ｃｆ１３で示され
る付加反応生成物の選択率７９％であった。
裏施■主
実施例１で用いた３００ｍ ｌオートクレーブに、（Ｈ
ＦＰＯ３量体エチレン） ジメチルクロロシラン ６１ｇＲｈ Ｃｌ
（ＰＰｈｘ） ３ ０．０９ ｇを仕込
み、１００°Ｃで６時間、加熱攪拌した。
ＦＰＯ３量体エチレン） ジメチルクロロシラン ６１ｇＲｈ Ｃｌ
（ＰＰｈｘ） ３ ０．０９ ｇを仕込
み、１００°Ｃで６時間、加熱攪拌した。
反応後、実施例１と同様にして反応生成物の定量を行な
ったところ、ＨＦＰＯＳ量体エチレンの転化率８６％、
下記式、 比較例１〜８ 実施例１と同様の反応をＲｈ Ｃｆ （ＰＰｈ３）３の
代わりに各種触媒を使用して反応を行った。付加反応生
成物の選択率等の結果を表−２に示す。
ったところ、ＨＦＰＯＳ量体エチレンの転化率８６％、
下記式、 比較例１〜８ 実施例１と同様の反応をＲｈ Ｃｆ （ＰＰｈ３）３の
代わりに各種触媒を使用して反応を行った。付加反応生
成物の選択率等の結果を表−２に示す。
表−２
で表わされる付加反応生成物の選択率８８％であった。
実施例３〜６
実施例１と同様の反応をＲｈ Ｃ１（ＰＰｈｓ）ｓの代
わりに各種ロジウム触媒０．１ｇを使用して反応を行な
った。その結果を表−１に示す。
わりに各種ロジウム触媒０．１ｇを使用して反応を行な
った。その結果を表−１に示す。
表−１
ＲｈＣｌ （ＣＯ） （ＰＰｈｓ） ｚ［ＲｈＣ１（Ｃ
２Ｈ４） ！］ ！ Ｒｈ （ＣＨｓＣＯＣＨｚＣＯＣＨｚ） ３（発明の効
果） 本発明によれば、 従来低数率でしか得られなが った含フッ素ジメチルクロロシランを高収率で得ること
が可能となった。
２Ｈ４） ！］ ！ Ｒｈ （ＣＨｓＣＯＣＨｚＣＯＣＨｚ） ３（発明の効
果） 本発明によれば、 従来低数率でしか得られなが った含フッ素ジメチルクロロシランを高収率で得ること
が可能となった。
Claims (1)
- （１）含フッ素有機基を有するエチレン化合物とジメチ
ルクロロシランとをロジウム錯体の存在下において反応
させることを特徴とする含フッ素ジメチルクロロシラン
の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2168038A JPH0459782A (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法 |
| US07/720,705 US5196560A (en) | 1990-06-26 | 1991-06-25 | Process for preparing fluorine-containing dimethylchlorosilanes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2168038A JPH0459782A (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0459782A true JPH0459782A (ja) | 1992-02-26 |
Family
ID=15860670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2168038A Pending JPH0459782A (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5196560A (ja) |
| JP (1) | JPH0459782A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5250490A (en) * | 1991-12-24 | 1993-10-05 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Noble metal supported on a base metal catalyst |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5017718A (en) * | 1983-01-26 | 1991-05-21 | Sagami Chemical Research Center | Process for preparing polyfluoroalkyl-substituted compounds |
| JPS61148184A (ja) * | 1984-12-22 | 1986-07-05 | Chisso Corp | 片末端カルボキシル基含有シロキサン化合物 |
| JP2739211B2 (ja) * | 1988-08-01 | 1998-04-15 | チッソ株式会社 | オルガノシロキサン化合物 |
-
1990
- 1990-06-26 JP JP2168038A patent/JPH0459782A/ja active Pending
-
1991
- 1991-06-25 US US07/720,705 patent/US5196560A/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| J.ORGANOMET.CHEM.=1984 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5196560A (en) | 1993-03-23 |
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