JPH046548A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
(従来技術)
写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。
方、カタログや、大型ポスターの製版には、網写真の拡
大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広く行なわれ、
網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなりボケた
点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに線数/インキ
が大きく細い点の撮影になる。従って網階調の再現性を
維持するためより一層広いラチチュードを有する画像形
成方法が要求されている。
大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広く行なわれ、
網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなりボケた
点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに線数/インキ
が大きく細い点の撮影になる。従って網階調の再現性を
維持するためより一層広いラチチュードを有する画像形
成方法が要求されている。
製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるいは
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
広いラチチュードの要望に応えるシステムとして塩臭化
銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃
度をきわめて低くした(通常0.1モル/1以下)ハイ
ドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非画
像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒化
濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られて
いる。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低い
ため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、液
活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなされ
て使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、作業
効率を低下させているのが現状であった。
銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃
度をきわめて低くした(通常0.1モル/1以下)ハイ
ドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非画
像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒化
濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られて
いる。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低い
ため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、液
活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなされ
て使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、作業
効率を低下させているのが現状であった。
このため、上記のような現像方法(リス現像システム)
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4.168.977号、同4
.221,857号、同4,224,401号、同4.
243739号、同4,272,606号、同4.31
1.781号にみられるように、特定のアシルヒドラジ
ン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感光材
料を、pH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0.1
5モル/1以上含み、良好な保存安定性を有する現像液
で処理して、Tが10を越える超硬調のネガ画像を形成
するシステムが捉案された。この新しい画像形成システ
ムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率の高い
塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭化銀や
塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4.168.977号、同4
.221,857号、同4,224,401号、同4.
243739号、同4,272,606号、同4.31
1.781号にみられるように、特定のアシルヒドラジ
ン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感光材
料を、pH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0.1
5モル/1以上含み、良好な保存安定性を有する現像液
で処理して、Tが10を越える超硬調のネガ画像を形成
するシステムが捉案された。この新しい画像形成システ
ムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率の高い
塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭化銀や
塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。
上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定性、
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。
特開昭56−153,336号、同61−156.04
3号、同61−230,135号および同62−296
,138号に酸化により写真有用基を放出するレドック
ス化合物を含む感光材料が示され、階調再現域を広げる
試みが示されている。
3号、同61−230,135号および同62−296
,138号に酸化により写真有用基を放出するレドック
ス化合物を含む感光材料が示され、階調再現域を広げる
試みが示されている。
しかしながら、ヒドラジン誘導体を用いた超硬調処理シ
ステムではこれらのレドックス化合物は硬調化を阻害す
る弊害があり、その特性を活すことができなかった。
ステムではこれらのレドックス化合物は硬調化を阻害す
る弊害があり、その特性を活すことができなかった。
(発明の目的)
本発明の目的は、安定性の高い硬調画像作成法において
網階調再現域の広い製版用感光材料を提供することにあ
る。
網階調再現域の広い製版用感光材料を提供することにあ
る。
第2に、網階調再現域が広く、かつ、硬調な製版用感光
材料を提供することにある。
材料を提供することにある。
(発明の目的)
本発明の目的は、支持体上に、少なくとも一種のハロゲ
ン化銀乳剤を含む第一のハロゲン化銀乳剤層を有し、該
乳剤層又は他の非感光性親水性コロイド層にヒドラジン
誘導体を含み、かつ第2のハロゲン化銀乳剤層を有し、
該第2の乳剤層に一般式(1)で表わされる化合物を含
むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって
達成された。
ン化銀乳剤を含む第一のハロゲン化銀乳剤層を有し、該
乳剤層又は他の非感光性親水性コロイド層にヒドラジン
誘導体を含み、かつ第2のハロゲン化銀乳剤層を有し、
該第2の乳剤層に一般式(1)で表わされる化合物を含
むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって
達成された。
一般式[Iコ
^
式(1)において、Ql は少なくとも1個のへテロ原
子を含み結合する炭素原子とともに5員環以上の複素環
を形成するに必要な原子群を表わし、R+ はハイドロ
キノン母核に置換可能な基を表わし、Bは、ハイドロキ
ノン母核より脱離後PUGを放出する基を表わし、PU
Gは現像抑制剤を表わし、lは0またはlを表わし、A
およびA′は水素原子または、アルカリで除去されうる
基を表わす。
子を含み結合する炭素原子とともに5員環以上の複素環
を形成するに必要な原子群を表わし、R+ はハイドロ
キノン母核に置換可能な基を表わし、Bは、ハイドロキ
ノン母核より脱離後PUGを放出する基を表わし、PU
Gは現像抑制剤を表わし、lは0またはlを表わし、A
およびA′は水素原子または、アルカリで除去されうる
基を表わす。
以下式(1)について説明する。
以下式(1)について詳しく説明する。
Qlは、少なくとも1個のへテロ原子を含む2価の基で
あり、それらの例としては、アミド結合、二価のアミノ
基、エーテル結合、チオエーテル結合、イミノ結合、ス
ルホニル基、カルボニル基アルキレン基、アルケニレン
基などが挙げられ、これらのうちの複数を組み合せた基
でもよく、これらは更に置換基を有していてもよい、た
だし、Qlにエーテル結合を含む場合は、5員環である
ことはない。
あり、それらの例としては、アミド結合、二価のアミノ
基、エーテル結合、チオエーテル結合、イミノ結合、ス
ルホニル基、カルボニル基アルキレン基、アルケニレン
基などが挙げられ、これらのうちの複数を組み合せた基
でもよく、これらは更に置換基を有していてもよい、た
だし、Qlにエーテル結合を含む場合は、5員環である
ことはない。
R1にハイドロキノン母俵に置換可能な基であるが、具
体的には、水素原子、1換、無置換のアルキル基(好ま
しくは炭素数/〜30であり、例としてはメチル、エチ
ル、t−ブチル、t−オクチル、ジメチルアミンメチル
、n−はンタデンルなど)、置換、無置換のアリール基
(好ましくは炭素数t〜30であり、フェニル、p−ト
リルなど)、置換・無置換のアルキルチオ基(好ましく
は炭素数/〜30であり、例とじてにn−ブチルチオ、
n−オクチルチオ、5ec−オクチルチオ、テトラデン
ルチオ、λ−ジメチルアミノエチルチオなど)、1換、
無置換のアリールチオ基(好ましくは炭素ばt〜30で
あり、汐りとしてはフェニルチオ、2−力ルホキンフェ
ニルチオ、p−クロロフェニルチオ、コーフ゛トキンー
1−1−オクチルフェニル+、t、 j−メトキ/カ
ルボニルフェニルチオなどン、ハロゲン澹子(F、Q!
、Br、I)、ヒドロキンル基、置換、無置換のアルコ
キノ暴(好ましくは炭素数/〜30であり、Fllとし
てにメトキン、エトキン、ペンジルオキン、オクチルオ
キシ、ドデンルオキンなど)、置換、無置換のアリール
オキ/基(好ましくは炭素数A〜30であり、例とじて
に7二ノキシ、グーカルぞキノフェノキンなど)、置換
、無置換のア/ル基(好ましくは炭素数7〜30であり
、例とじてにアセチル、フロヒオニル、〈ンソイル、ク
ロロアセチル、3−カルボキンプロピオニル、オクタデ
シロイルなど)、置換、無置換のアルコキンカルビニル
基(好ましくは炭素数2〜30であり、例としてはメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、フェノキンカル
ボ′ニル、オクタデンロキン力ルボニル、メトキシエト
キ7カルボ゛ニルなと)、置換、無置換のアミド基(好
ましくに炭素数/〜30であり、例としてはアセタミド
、プロピオナミド、3−カルボ゛キシプロピオナミド基
、ラウロイルアミドなど)、置換、無置換のスルホンア
ミド基(好1しくに炭素数7〜30であり、例とじてに
メタンスルホンアミド、p−トルエンスルホンアミド7
”j ト)、置換、無置換のカル・ぐモイル基(好まし
くは炭素数/〜30であ(ハ例としてにカル・ζモイル
、N−ブチルカル/ζモイル、N−(r−メトモノエチ
ル)カルバモイル、N−オクチル刀ルノξモイル、ピコ
リジノカルボ゛ニル、モルホリノカルボニル、N−へキ
サデンルカル・ぐモイルなと)、1妃無置換のスルファ
モイル基(好ましく(″:炭素数O〜30であり、例と
じてにスルファモイル、ジブチルスルファモイルなど)
、置換、無WPOスルホニル基(好ましくは炭素は/〜
30であり、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、
p−ドデンルベンゼンスルホニルなど)、へf Ca
5fl 基f 例とじてによ一テトラノ゛リル、−一ベ
ンノ万キ7ノリルなど)?表わす。
体的には、水素原子、1換、無置換のアルキル基(好ま
しくは炭素数/〜30であり、例としてはメチル、エチ
ル、t−ブチル、t−オクチル、ジメチルアミンメチル
、n−はンタデンルなど)、置換、無置換のアリール基
(好ましくは炭素数t〜30であり、フェニル、p−ト
リルなど)、置換・無置換のアルキルチオ基(好ましく
は炭素数/〜30であり、例とじてにn−ブチルチオ、
n−オクチルチオ、5ec−オクチルチオ、テトラデン
ルチオ、λ−ジメチルアミノエチルチオなど)、1換、
無置換のアリールチオ基(好ましくは炭素ばt〜30で
あり、汐りとしてはフェニルチオ、2−力ルホキンフェ
ニルチオ、p−クロロフェニルチオ、コーフ゛トキンー
1−1−オクチルフェニル+、t、 j−メトキ/カ
ルボニルフェニルチオなどン、ハロゲン澹子(F、Q!
、Br、I)、ヒドロキンル基、置換、無置換のアルコ
キノ暴(好ましくは炭素数/〜30であり、Fllとし
てにメトキン、エトキン、ペンジルオキン、オクチルオ
キシ、ドデンルオキンなど)、置換、無置換のアリール
オキ/基(好ましくは炭素数A〜30であり、例とじて
に7二ノキシ、グーカルぞキノフェノキンなど)、置換
、無置換のア/ル基(好ましくは炭素数7〜30であり
、例とじてにアセチル、フロヒオニル、〈ンソイル、ク
ロロアセチル、3−カルボキンプロピオニル、オクタデ
シロイルなど)、置換、無置換のアルコキンカルビニル
基(好ましくは炭素数2〜30であり、例としてはメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、フェノキンカル
ボ′ニル、オクタデンロキン力ルボニル、メトキシエト
キ7カルボ゛ニルなと)、置換、無置換のアミド基(好
ましくに炭素数/〜30であり、例としてはアセタミド
、プロピオナミド、3−カルボ゛キシプロピオナミド基
、ラウロイルアミドなど)、置換、無置換のスルホンア
ミド基(好1しくに炭素数7〜30であり、例とじてに
メタンスルホンアミド、p−トルエンスルホンアミド7
”j ト)、置換、無置換のカル・ぐモイル基(好まし
くは炭素数/〜30であ(ハ例としてにカル・ζモイル
、N−ブチルカル/ζモイル、N−(r−メトモノエチ
ル)カルバモイル、N−オクチル刀ルノξモイル、ピコ
リジノカルボ゛ニル、モルホリノカルボニル、N−へキ
サデンルカル・ぐモイルなと)、1妃無置換のスルファ
モイル基(好ましく(″:炭素数O〜30であり、例と
じてにスルファモイル、ジブチルスルファモイルなど)
、置換、無WPOスルホニル基(好ましくは炭素は/〜
30であり、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、
p−ドデンルベンゼンスルホニルなど)、へf Ca
5fl 基f 例とじてによ一テトラノ゛リル、−一ベ
ンノ万キ7ノリルなど)?表わす。
式CI)において、
AおよびA′がアルカリ(でより除去さnうる基(以下
、プレカーサー基という)?表r)丁とき、好ましくに
アンル基、アルニヤ/カルボニル基、アリールオキンカ
ルiニル話、カルバモイル基、イミドイル基、オキサノ
リル基、スル丁ニル基7−。
、プレカーサー基という)?表r)丁とき、好ましくに
アンル基、アルニヤ/カルボニル基、アリールオキンカ
ルiニル話、カルバモイル基、イミドイル基、オキサノ
リル基、スル丁ニル基7−。
どの刃口水分解されうる基、米国特許舅弘、009゜0
2り号に記載の逆マイケル反応?利用した型のゾレカー
サー基、米国特許第≠、310,612号に記載の環開
裂反応の後発生したアニオンを分子内求核基として利用
する型のプレカーサー基、米国特許第3.6714,1
Atr号、同J、932゜グ10号もしくは同3.タタ
3.tt1号に記載のアニオンが共役系を介して電子移
動しそれにより開裂反応を起こさせるプレカーサー基、
米国特許第≠、336,200号に記載の環開裂後反応
したアニオンの電子移動により開裂反応を起こさせるプ
レカーサー基またに米国特訂第≠、3t3゜rtr号、
同a、<ilo、tie号に記Vのイミドメチル基?利
用したプレカーす一基が挙げられる。
2り号に記載の逆マイケル反応?利用した型のゾレカー
サー基、米国特許第≠、310,612号に記載の環開
裂反応の後発生したアニオンを分子内求核基として利用
する型のプレカーサー基、米国特許第3.6714,1
Atr号、同J、932゜グ10号もしくは同3.タタ
3.tt1号に記載のアニオンが共役系を介して電子移
動しそれにより開裂反応を起こさせるプレカーサー基、
米国特許第≠、336,200号に記載の環開裂後反応
したアニオンの電子移動により開裂反応を起こさせるプ
レカーサー基またに米国特訂第≠、3t3゜rtr号、
同a、<ilo、tie号に記Vのイミドメチル基?利
用したプレカーす一基が挙げられる。
式〔I〕、において
Bで表わされる基に、ハイドロキノン母核が現像時に現
像主薬酸化体により、欧化されキノ7体となった後、0
+B+、PUG k放出し、さらにその後PUGk放
出しうる2価の基?表わし、タイミング調節機能を有し
ていてもよく、また、もう−分子の現像生薬酸化体と反
応してPUGi放出する −″ 酸化還
元基であってもよい。ここで、lがOの場合に、PUG
が直接、ハイドロキノン母核に結合している場合を意味
し、lが2以上の場合には、同じあるいに異なるBの2
つ以上の組合せを表わす。
像主薬酸化体により、欧化されキノ7体となった後、0
+B+、PUG k放出し、さらにその後PUGk放
出しうる2価の基?表わし、タイミング調節機能を有し
ていてもよく、また、もう−分子の現像生薬酸化体と反
応してPUGi放出する −″ 酸化還
元基であってもよい。ここで、lがOの場合に、PUG
が直接、ハイドロキノン母核に結合している場合を意味
し、lが2以上の場合には、同じあるいに異なるBの2
つ以上の組合せを表わす。
Bがタイミング調節機能ヲ有する二価の連結基である場
合、それらの例とじてに、以下のものが挙げられる。
合、それらの例とじてに、以下のものが挙げられる。
(1)ヘミアセタールの開裂反応を利用する基例えば米
国特評第≠、/4Z4.39を号、特開昭6o−21,
tyit、tr号オヨび同10−14’ 9 /≠り号
に記載があり下記一般式で表わさnる基である。ここに
*印に式〔I〕において左側に結合する位置を表わし、
**印に式CI)に2いて右側に結合する位!を表わす
。
国特評第≠、/4Z4.39を号、特開昭6o−21,
tyit、tr号オヨび同10−14’ 9 /≠り号
に記載があり下記一般式で表わさnる基である。ここに
*印に式〔I〕において左側に結合する位置を表わし、
**印に式CI)に2いて右側に結合する位!を表わす
。
一般式(T−/)
式中、Wにば素原子、イオウ原子またIrXN−R67
基を表わし、R65およびR66は水素原子または置換
基を表わし、R67に置換基全表わし、tに/またに、
2を表わ丁。tが2のとき2つの−W−C−に同じもの
もしくに異なるもの全表わす。R65およびR66が置
換基を表わすときおよびR67の代表的な例に各々R6
9基、R69C〇−基、R69So2−基、R69N
G O−基またにR69NS02−基などR70R70 が掌げられる。ここでR69に脂肪族基、芳香族基また
に複素環基を表わし、R70ぼ脂肪原基、芳香涙基、複
素環基寸た(グ水素原子を表わ丁。R65、’Rssお
よびR67の各々に一価基全表わし、連結し、環状構造
を形成する場合も包含される。一般式(T−/)で表わ
される基の具体昨夕りとしては以下のような基が挙げら
れる。
基を表わし、R67に置換基全表わし、tに/またに、
2を表わ丁。tが2のとき2つの−W−C−に同じもの
もしくに異なるもの全表わす。R65およびR66が置
換基を表わすときおよびR67の代表的な例に各々R6
9基、R69C〇−基、R69So2−基、R69N
G O−基またにR69NS02−基などR70R70 が掌げられる。ここでR69に脂肪族基、芳香族基また
に複素環基を表わし、R70ぼ脂肪原基、芳香涙基、複
素環基寸た(グ水素原子を表わ丁。R65、’Rssお
よびR67の各々に一価基全表わし、連結し、環状構造
を形成する場合も包含される。一般式(T−/)で表わ
される基の具体昨夕りとしては以下のような基が挙げら
れる。
H3
(2) 分子内求核置換反応を利用して開裂反応を起
こさせる基 例えば米国特許第ダ1.2≠♂、り62号に記載のある
タイミング基が挙げられる。下記一般式で表わすことが
できる。
こさせる基 例えば米国特許第ダ1.2≠♂、り62号に記載のある
タイミング基が挙げられる。下記一般式で表わすことが
できる。
一般式(T−λン
*−O
*−Nu−L i n k−E −**式中、*印は式
CI)において左側に結合する位置全表わし、**印は
式CI)において右ツリに結合する位置を表わし、Nu
に求杉基を表わし、酸素原子またにイオウ原子が求核種
の例であり、Eに求電子基金表わし、Nuより求核攻撃
を受けて**印との結合を開裂できる基でありLink
にNuとEとが分子内求核置換反応することができるよ
うに立体的に関係づける連紹基を表わす。
CI)において左側に結合する位置全表わし、**印は
式CI)において右ツリに結合する位置を表わし、Nu
に求杉基を表わし、酸素原子またにイオウ原子が求核種
の例であり、Eに求電子基金表わし、Nuより求核攻撃
を受けて**印との結合を開裂できる基でありLink
にNuとEとが分子内求核置換反応することができるよ
うに立体的に関係づける連紹基を表わす。
一般式(T−2)で表わされる基の具体yllとじてに
例えば以下のものである。
例えば以下のものである。
*−〇
*−0
(3)共役系に沿った電子移動反応を利用して開裂反応
を起こさせる基。
を起こさせる基。
例えば、米国特旺第グ、≠Oり、3−3号またに同≠、
≠27.t≠!号に記載があり下記一般式で表わされる
基である。
≠27.t≠!号に記載があり下記一般式で表わされる
基である。
一般式CI−j )
式中、*印、**印、W、 R65、R66およびtに
(T−/)について説明したのと同じ意味を表わす。具
体的には以下のような基が挙げられる。
(T−/)について説明したのと同じ意味を表わす。具
体的には以下のような基が挙げられる。
(4)エステルの加水分解による開裂反応を利用する基
。
。
例えば西独公開特杆第j、Aコz、3/よ号に記載のあ
る連結基であり以下の基が挙げられる。
る連結基であり以下の基が挙げられる。
式中*印および**印に式(T−/)について説明した
のと同じ意味である。
のと同じ意味である。
一般式(T−弘) 一般式(T−j)S
I II*−o−c
−** *−5−c−**(5) イミ7
ヶタールの開裂反応を利用する基。
−** *−5−c−**(5) イミ7
ヶタールの開裂反応を利用する基。
例えば米国特許第1t 、!4t 、073号に記載の
ある連結基であり、以下の式で表わされる基である。
ある連結基であり、以下の式で表わされる基である。
一般式(T−A)
式中、*印、**印およびWは式(T−/)において説
明したのと同じ意味であり、Ft6aにR67と同じ意
味を表わす。式(T−&)で表わされる基の具体例とじ
てに以下の基が挙げられる。
明したのと同じ意味であり、Ft6aにR67と同じ意
味を表わす。式(T−&)で表わされる基の具体例とじ
てに以下の基が挙げられる。
一般式(1)においてBで表わされる基がハイドロキノ
ン母核より開裂して酸化還元基となる基を表わすとき、
好ましくは下記一般式(R−1)で表わされる。
ン母核より開裂して酸化還元基となる基を表わすとき、
好ましくは下記一般式(R−1)で表わされる。
一般式(R−1>
*−P−(X=Y)、−Q−A
式中、PおよびQはそれぞれ独立に酸素原子または置換
もしくは無置換のイミノ基を表わし、n個のXおよびY
の少なくとも1個は−PUGを置換基として有するメチ
ン基を表わし、その他のXおよびYは置換もしくは無置
換のメチン基または窒素原子を表わし、nは1ないし3
の整数を表わしくn個のX、n個のYは同じものもしく
は異なるものを表わす)、Aは水素原子またはアルカリ
により除去されうる基を表わし、式(1)におけるAと
同じ意味を持つ、ここでP、X、Y、QおよびAのいず
れか2つの置換基が2価基となって連結し環状構造を形
成する場合も包含される0例えば(X=Y)、がベンゼ
ン環、ピリジン環などを形成する場合である。
もしくは無置換のイミノ基を表わし、n個のXおよびY
の少なくとも1個は−PUGを置換基として有するメチ
ン基を表わし、その他のXおよびYは置換もしくは無置
換のメチン基または窒素原子を表わし、nは1ないし3
の整数を表わしくn個のX、n個のYは同じものもしく
は異なるものを表わす)、Aは水素原子またはアルカリ
により除去されうる基を表わし、式(1)におけるAと
同じ意味を持つ、ここでP、X、Y、QおよびAのいず
れか2つの置換基が2価基となって連結し環状構造を形
成する場合も包含される0例えば(X=Y)、がベンゼ
ン環、ピリジン環などを形成する場合である。
PおよびQが置換または無置換のイミノ基を表わすとき
、好ましくはスルホニル基またはアシル基で置換された
イミノ基であるときである。
、好ましくはスルホニル基またはアシル基で置換された
イミノ基であるときである。
このときPおよびQは下記のように表わされる。
一般式(N−1) 一般式(N−2)sow
−c o−G ここに*印はAと結合する位置を表わし、**印は−(
X=Y)、−の自由結合手の一方と結合する位置を表わ
す。
−c o−G ここに*印はAと結合する位置を表わし、**印は−(
X=Y)、−の自由結合手の一方と結合する位置を表わ
す。
式中、Gで表わされる基は炭素数1〜32、好ましくは
1〜22の直鎖または分岐、鎖状または環状、飽和また
は不飽和、置換または無置換の脂肪族基(例えばメチル
、エチル、ベンジル、フェノキシブチル、イソプロピル
)、炭素数6〜10の置換または無置換の芳香族基(例
えばフェニル基、4−メチルフェニル基、1−ナフチル
基、4ドデシルオキシフエニル基など)、またはへテロ
原子として窒素原子、イオウ原子もしくは酸素原子より
選ばれる4員ないし7員環の複素環基(例えば2−ピリ
ジル基、1−フェニル−4−イミダゾリル基、2−フリ
ル基、ベンゾチエニル基など)が好ましい例である。
1〜22の直鎖または分岐、鎖状または環状、飽和また
は不飽和、置換または無置換の脂肪族基(例えばメチル
、エチル、ベンジル、フェノキシブチル、イソプロピル
)、炭素数6〜10の置換または無置換の芳香族基(例
えばフェニル基、4−メチルフェニル基、1−ナフチル
基、4ドデシルオキシフエニル基など)、またはへテロ
原子として窒素原子、イオウ原子もしくは酸素原子より
選ばれる4員ないし7員環の複素環基(例えば2−ピリ
ジル基、1−フェニル−4−イミダゾリル基、2−フリ
ル基、ベンゾチエニル基など)が好ましい例である。
−a式(R−1)においてPおよびQは好ましくはそれ
ぞれ独立に酸素原子または一般式(Nl)で表わされる
基である。
ぞれ独立に酸素原子または一般式(Nl)で表わされる
基である。
一般式(R−1)において好ましくはPが酸素原子を表
わし、Aが水素原子を表わすときである。
わし、Aが水素原子を表わすときである。
一般式(R−1)においてさらに好ましくは、Xおよび
Yが、置換基としてPUGを有するメチン基である場合
を除いて他のXおよびYが置換もしくは無置換のメチン
基であるときである。
Yが、置換基としてPUGを有するメチン基である場合
を除いて他のXおよびYが置換もしくは無置換のメチン
基であるときである。
一般式(R−1)で表わされる基において特に好ましい
基は下記一般式(R−2)または(R−3)で表わされ
るものである。
基は下記一般式(R−2)または(R−3)で表わされ
るものである。
一般式(R−2)
一般式(R−3)
式中、本印はハイドロキノン母核と結合する位置を表わ
し、本本印はPUGと結合する位置を表わす。
し、本本印はPUGと結合する位置を表わす。
R44は置換基を表わし、qは0、lないし3の整数を
表わす、qが2以上のとき2つ以上のRa4は同じでも
異なっていてもよく、また2つのRh4が隣接する炭素
上の置換基であるときにはそれぞれ2価基となって連結
し環上構造を表わす場合も包含する。そのときはベンゼ
ン縮合環となり例えばナフタレン類、ベンゾノルボルネ
ン類、クロマン類、インドール類、ベンゾチオフェン類
、キノリン類、ベンゾフランl[,2,3−ジヒドロベ
ンゾフラン類、インダン類、またはインデン類などの環
構造となり、これらはさらに1個以上の置換基を有して
もよい、これらの縮合環に置換基を有するときの好まし
い置換基の例、およびRbaが縮合環を形成していない
ときのRbaの好ましい例は以下に挙げるものである。
表わす、qが2以上のとき2つ以上のRa4は同じでも
異なっていてもよく、また2つのRh4が隣接する炭素
上の置換基であるときにはそれぞれ2価基となって連結
し環上構造を表わす場合も包含する。そのときはベンゼ
ン縮合環となり例えばナフタレン類、ベンゾノルボルネ
ン類、クロマン類、インドール類、ベンゾチオフェン類
、キノリン類、ベンゾフランl[,2,3−ジヒドロベ
ンゾフラン類、インダン類、またはインデン類などの環
構造となり、これらはさらに1個以上の置換基を有して
もよい、これらの縮合環に置換基を有するときの好まし
い置換基の例、およびRbaが縮合環を形成していない
ときのRbaの好ましい例は以下に挙げるものである。
すなわち、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基など)、アシルアミノ基(例えばアセドアミド基、ベ
ンズアミド基など)、スルホンアミド基(例えばメタン
スルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基など)、
アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基な
ど)、カルバモイル基(例えばN−プロピルカルバモイ
ル基、N−t−ブチルカルバモイル基、N−1−プロピ
ルカルバモイル基など)、アルコキシカルボニル基(例
えばメトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、
など)、脂肪族基(例えばメチル基、t−ブチル基など
)、ハロゲン原子(例えばフルオロ基、クロロ基など)
、スルファモイル基(例えばN−プロピルスルファモイ
ル基、スルファモイル基など)、アシル基(例えばアセ
チル基、ベンゾイル基など)、ヒドロキシル基、カルボ
キシル基、またはへテロ環チオ基(例えば1−フェニル
テトラゾリル−5−チオ基、1〜エチルテトラゾリル−
5−チオ基など後述のPUGで表わされる基)が挙げら
れる。またR64が2つ連結し環状構造を形成する場合
の代表的な例としては本−〇 (本印および**印は一般式(R−3)で説明したのと
同じ意味を表わす)が挙げられる。
基など)、アシルアミノ基(例えばアセドアミド基、ベ
ンズアミド基など)、スルホンアミド基(例えばメタン
スルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基など)、
アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基な
ど)、カルバモイル基(例えばN−プロピルカルバモイ
ル基、N−t−ブチルカルバモイル基、N−1−プロピ
ルカルバモイル基など)、アルコキシカルボニル基(例
えばメトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、
など)、脂肪族基(例えばメチル基、t−ブチル基など
)、ハロゲン原子(例えばフルオロ基、クロロ基など)
、スルファモイル基(例えばN−プロピルスルファモイ
ル基、スルファモイル基など)、アシル基(例えばアセ
チル基、ベンゾイル基など)、ヒドロキシル基、カルボ
キシル基、またはへテロ環チオ基(例えば1−フェニル
テトラゾリル−5−チオ基、1〜エチルテトラゾリル−
5−チオ基など後述のPUGで表わされる基)が挙げら
れる。またR64が2つ連結し環状構造を形成する場合
の代表的な例としては本−〇 (本印および**印は一般式(R−3)で説明したのと
同じ意味を表わす)が挙げられる。
一般式(1)においてPLIGで表わされる基は現像抑
制剤を表わす、詳しくはテトラゾリルチオ基、ベンゾイ
ミダゾリルチオ基、ベンゾチアジアゾリルチオ基、ヘン
ジオキサゾリルチオ基、ヘンシトリアゾリル基、ペンゾ
インダゾリル基、トリアゾリルチオ基、オキサジアゾリ
ルチオ基、イミダゾリルチオ基、チアジアゾリルチオ基
、チオエーテル置換トリアゾリル基(例えば米国特許第
4579.816号に記載のある現像抑制剤)またはオ
キサゾリルチオ基などでありこれらは適宜、置換基を有
してもよく、好ましい置換基としては以下のものが挙げ
られる。すなわち、R7を基、RyeO−基、R7q
S−基、R,,0CO−基、R? ?OS Oを−基、
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、R着SO!−基、
RtmCO−基、RvyCOO−基、RytSOgN−
基、ts Ry*NSOg−基、RtsNCO−基、R?雫
R’9R7! R?f RtmNCON−基、Rt、So、o−基、またはRy
* Rs。
制剤を表わす、詳しくはテトラゾリルチオ基、ベンゾイ
ミダゾリルチオ基、ベンゾチアジアゾリルチオ基、ヘン
ジオキサゾリルチオ基、ヘンシトリアゾリル基、ペンゾ
インダゾリル基、トリアゾリルチオ基、オキサジアゾリ
ルチオ基、イミダゾリルチオ基、チアジアゾリルチオ基
、チオエーテル置換トリアゾリル基(例えば米国特許第
4579.816号に記載のある現像抑制剤)またはオ
キサゾリルチオ基などでありこれらは適宜、置換基を有
してもよく、好ましい置換基としては以下のものが挙げ
られる。すなわち、R7を基、RyeO−基、R7q
S−基、R,,0CO−基、R? ?OS Oを−基、
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、R着SO!−基、
RtmCO−基、RvyCOO−基、RytSOgN−
基、ts Ry*NSOg−基、RtsNCO−基、R?雫
R’9R7! R?f RtmNCON−基、Rt、So、o−基、またはRy
* Rs。
脂肪族基、芳香族基または複素環基を表わし、R□、R
??およびR,。は脂肪族基、芳香族基、複素環基また
は水素原子を表わす。−分子中にRffff、R’a、
R??およびR8゜が2個以上あるときこれらが連結し
て環(例えばベンゼン環)を形成してもよい、ここで脂
肪族基とは炭素数1〜20、好ましくは1〜10の飽和
もしくは不飽和、分岐もしくは直鎖、鎖状もしくは環状
、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基である。芳香
族基とは炭素数6〜20、好ましくは6〜10の置換も
しくは無置換のフェニル基または置換もしくは無置換の
ナフチル基である。複素環基とは炭素数1〜18、好ま
しくは1〜7の、複素原子として窒素原子、イオウ原子
もしくは酸素原子より選ばれる。飽和もしくは不飽和の
、置換もしくは無置換の複素環基であり、好ましくは4
員ないし8員環の複素環基である。これらの脂肪族基、
芳香族基および複素環基が置換基を有するとき、置換基
の例としては前記現像抑制剤の例として挙げた複素環チ
オ基または複素環基の有してもよい置換基として列挙し
た置換基が挙げられる。
??およびR,。は脂肪族基、芳香族基、複素環基また
は水素原子を表わす。−分子中にRffff、R’a、
R??およびR8゜が2個以上あるときこれらが連結し
て環(例えばベンゼン環)を形成してもよい、ここで脂
肪族基とは炭素数1〜20、好ましくは1〜10の飽和
もしくは不飽和、分岐もしくは直鎖、鎖状もしくは環状
、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基である。芳香
族基とは炭素数6〜20、好ましくは6〜10の置換も
しくは無置換のフェニル基または置換もしくは無置換の
ナフチル基である。複素環基とは炭素数1〜18、好ま
しくは1〜7の、複素原子として窒素原子、イオウ原子
もしくは酸素原子より選ばれる。飽和もしくは不飽和の
、置換もしくは無置換の複素環基であり、好ましくは4
員ないし8員環の複素環基である。これらの脂肪族基、
芳香族基および複素環基が置換基を有するとき、置換基
の例としては前記現像抑制剤の例として挙げた複素環チ
オ基または複素環基の有してもよい置換基として列挙し
た置換基が挙げられる。
一般式(1)において特に好ましい現像抑制剤は、開裂
したときは現像抑制性を有する化合物であるが、それが
発色現像液中に流れ出した後は、実質的に写真性に影響
を与えない化合物に分解される(もしくは変化する)性
質を有する現像抑制剤である。
したときは現像抑制性を有する化合物であるが、それが
発色現像液中に流れ出した後は、実質的に写真性に影響
を与えない化合物に分解される(もしくは変化する)性
質を有する現像抑制剤である。
例えば米国特許第4.477.563号、特開昭60−
218644号、同60−221750号、同60−2
33650号、または同61−11743号に記載のあ
る現像抑制剤が挙げられる。
218644号、同60−221750号、同60−2
33650号、または同61−11743号に記載のあ
る現像抑制剤が挙げられる。
式〔1〕において、Qlは好ましくは
N−Co−Q”−で表わされ、Q”+71例としては二
価のアミノ基、エーテル結合、チオエーテル結合、アル
キレン基、エチレン結合、イミノ結合、スルホニル基、
カルボニル基、了り−レン基、二価のへテロ環基、これ
らの複数を組み合せた基が挙げられる。
価のアミノ基、エーテル結合、チオエーテル結合、アル
キレン基、エチレン結合、イミノ結合、スルホニル基、
カルボニル基、了り−レン基、二価のへテロ環基、これ
らの複数を組み合せた基が挙げられる。
RBは水素原子、アルキル基(置換基を有するものを含
む、好ましくは炭素数1〜10.例えばメチル、エチル
、イソプロピル、ブチル、シクロヘキシル、2−メトキ
シエチル、ベンジル、アリール)、アリール基・(N換
基を有するものを含む。
む、好ましくは炭素数1〜10.例えばメチル、エチル
、イソプロピル、ブチル、シクロヘキシル、2−メトキ
シエチル、ベンジル、アリール)、アリール基・(N換
基を有するものを含む。
好ましくは炭素数6〜120例えばフェニル、Pトリル
)または複素環(置換基を有するものを含む、好ましく
は炭素数3〜10.例えば2−ピリジル、2−イミダゾ
リル、2−フリル)を表わす R1O中で好ましいもの
は水素原子である。
)または複素環(置換基を有するものを含む、好ましく
は炭素数3〜10.例えば2−ピリジル、2−イミダゾ
リル、2−フリル)を表わす R1O中で好ましいもの
は水素原子である。
R1としては、水素原子あるいは、ハメットの置換基定
数σpで0以上の置換基が好ましく、それらの例として
は、前述のR1で説明した置換基の中から、ハロゲン原
子、置換または無置換のアシル基、アルコキシカルボニ
ル基、アミド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、
スルファモイル基、スルホニル基、ホルミル基、シアノ
基、置換メチル基(例えばクロロメチル、トリフルオロ
メチル、ヒドロキシメチル、ベンジルなど)、ヘテロ環
残基などが挙げられる。
数σpで0以上の置換基が好ましく、それらの例として
は、前述のR1で説明した置換基の中から、ハロゲン原
子、置換または無置換のアシル基、アルコキシカルボニ
ル基、アミド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、
スルファモイル基、スルホニル基、ホルミル基、シアノ
基、置換メチル基(例えばクロロメチル、トリフルオロ
メチル、ヒドロキシメチル、ベンジルなど)、ヘテロ環
残基などが挙げられる。
Q’を含むヘテロ環の環員数としては5から7員環が好
ましく、その中でも下記式(If)で示される化合物が
さらに好ましい。
ましく、その中でも下記式(If)で示される化合物が
さらに好ましい。
式[n]において、Q8は前述と同じ意味を持ち、R’
、A、A’、B、PUGおよびlは式[1]と同じ意
味を持つ。
、A、A’、B、PUGおよびlは式[1]と同じ意
味を持つ。
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記するが
本発明はこれらに限られるものではない。
本発明はこれらに限られるものではない。
H
CB。
NO!
NU!
0■
H
H
H
H
COOCsHtn
tHs
以下に具体的な化合物の合成例を示すが、本発明で用い
られる化合物は同様の方法で容易に合成することができ
る。
られる化合物は同様の方法で容易に合成することができ
る。
合成例(例示化合物(1)の合成)
(1−A)
(1−B)
(1−C)
(1−D)
(1−E)
(1−F)
(1−G)
(1−H)
□ 例示化合物
1)(1−A)の合成
2.5−ジメトキシアニリン31(g)とピリジン17
(+d)をアセトニトリル350(m)に加え、これに
メチルマロニルクロライ)’20(Nl)をアセトニト
リル50(m)に加えた溶液を滴下した。室温で5時間
撹拌後、水を加え酢酸エチルにて抽出、水洗、乾燥後、
′I4縮した。残留分を酢酸エチル、n−へキサンの混
合溶媒にて晶析、標記化合物31(g)を得た。
(+d)をアセトニトリル350(m)に加え、これに
メチルマロニルクロライ)’20(Nl)をアセトニト
リル50(m)に加えた溶液を滴下した。室温で5時間
撹拌後、水を加え酢酸エチルにて抽出、水洗、乾燥後、
′I4縮した。残留分を酢酸エチル、n−へキサンの混
合溶媒にて晶析、標記化合物31(g)を得た。
2)(1−B)合成
上記で得られた(1−A)5.0 (g)にメタノール
50(ad)を加え、更にロジウムメトキシド28%メ
タノール溶液3.8 (g)を加えた。
50(ad)を加え、更にロジウムメトキシド28%メ
タノール溶液3.8 (g)を加えた。
室温で10分間撹拌後、n−ドデシルブロマイド4.9
(g)を滴下した0反応混合物を45℃にて3時間撹
拌、放冷後、水に注ぎ、析出した結晶を濾別、水洗、乾
燥した。これをメタノールにて再結晶、標記化合物1.
9 (g)を得た。
(g)を滴下した0反応混合物を45℃にて3時間撹
拌、放冷後、水に注ぎ、析出した結晶を濾別、水洗、乾
燥した。これをメタノールにて再結晶、標記化合物1.
9 (g)を得た。
3)(1−C)の合成
上記で得られた(1−B)1.8 (g)に5%水酸化
ナトリウム水溶液30(m)、メタノール10(m)を
加え、70〜75℃にて2.5時間撹拌した。放冷後、
反応混合物を塩酸水溶液に注ぎ、析出した結晶を濾別、
水洗、乾燥し、標記化合物1.7 (g)を得た。
ナトリウム水溶液30(m)、メタノール10(m)を
加え、70〜75℃にて2.5時間撹拌した。放冷後、
反応混合物を塩酸水溶液に注ぎ、析出した結晶を濾別、
水洗、乾燥し、標記化合物1.7 (g)を得た。
4)(1−D)の合成
上記方法にて得られた(1−C)3.0 (g)にオキ
シ塩化リン15(M&)を加え、1時間加熱還流を行っ
た。放冷後、反応混合物を水に徐々に注ぎ、析出した結
晶を濾別、水洗、乾燥した。これをメタノールにて再結
晶し、標記化合物2. 0(g)を得た。
シ塩化リン15(M&)を加え、1時間加熱還流を行っ
た。放冷後、反応混合物を水に徐々に注ぎ、析出した結
晶を濾別、水洗、乾燥した。これをメタノールにて再結
晶し、標記化合物2. 0(g)を得た。
5)(1−E)の合成
上記方法にて得られた(1−D>2.5 (g)にイソ
プロピルアルコール30 (−)、水10(−)を加え
、更に濃硫酸5 (−)を加えた後、8.5時間加熱還
流を行った。放冷後、反応混合物を水に注ぎ、析出した
結晶を濾別、水洗、乾燥し、標記化合物2.0 (g)
を得た。
プロピルアルコール30 (−)、水10(−)を加え
、更に濃硫酸5 (−)を加えた後、8.5時間加熱還
流を行った。放冷後、反応混合物を水に注ぎ、析出した
結晶を濾別、水洗、乾燥し、標記化合物2.0 (g)
を得た。
6)(1−F)の合成
上記方法にて得られた(1−E)3.5 (g)にイソ
プロピルアルコール110(1d)、水酸化ナトリウム
0.3 (g)に水10(d)を加えた溶液を加え、更
に10%パラジウム炭素1. 0(g)を加えた後、水
素20 (■/cd) 、80〜85℃にて7.5時間
撹拌した。
プロピルアルコール110(1d)、水酸化ナトリウム
0.3 (g)に水10(d)を加えた溶液を加え、更
に10%パラジウム炭素1. 0(g)を加えた後、水
素20 (■/cd) 、80〜85℃にて7.5時間
撹拌した。
放冷後、触媒を濾去、濾液をfM縮した。残留分に水を
注ぎ、析出した結晶を濾別、水洗、乾燥し、標記化合物
2.7 (g)を得た。
注ぎ、析出した結晶を濾別、水洗、乾燥し、標記化合物
2.7 (g)を得た。
7)(1−G)の合成
上記で得られた(1−F)2.6 (g)に47%臭化
水素酸40(IRl)を加え、3.5時間加熱還流を行
った。放冷後、水を加え酢酸エチルにて抽出、水洗、乾
燥後、濃縮した。残留分をアセトニトリルにて晶析、標
記化合物2.1 (g)を得た。
水素酸40(IRl)を加え、3.5時間加熱還流を行
った。放冷後、水を加え酢酸エチルにて抽出、水洗、乾
燥後、濃縮した。残留分をアセトニトリルにて晶析、標
記化合物2.1 (g)を得た。
8)(1−H)の合成
上記で得られた(1−G)2.0 (g)と二酸化マン
ガン6.0 (g)に酢酸エチル150(d)を加え、
室温にて1.5時間撹拌した。不溶物を濾去後、濾液を
濃縮、標記化合物1.9 (g)を得た。
ガン6.0 (g)に酢酸エチル150(d)を加え、
室温にて1.5時間撹拌した。不溶物を濾去後、濾液を
濃縮、標記化合物1.9 (g)を得た。
9)例示化合物(1)の合成
上記で得られた(1−H)1.8 (g)に塩化メチレ
ン50(sd)を加え、これに5−メルカプ)−1−(
4−ニトロフェニル)−テトラゾール1.23gとp−
)ルエンスルホン酸−水和物o 。
ン50(sd)を加え、これに5−メルカプ)−1−(
4−ニトロフェニル)−テトラゾール1.23gとp−
)ルエンスルホン酸−水和物o 。
1 (g)を加えた後、室温にて1時間撹拌した。
析出した結晶を濾別、アセトニトリルにて洗浄後、乾燥
し、標記化合物1.3gを得た。
し、標記化合物1.3gを得た。
本発明の一般式(1)の化合物は、1.0×10−7〜
1 、 OX 10−” mol/ rd、好ましくは
1.0XIO−’〜1. OXI O−’ mol/
rrrの範囲内で用いられる。
1 、 OX 10−” mol/ rd、好ましくは
1.0XIO−’〜1. OXI O−’ mol/
rrrの範囲内で用いられる。
本発明の化合物は、適当な水混和性有機溶媒、例えば、
アルコール!!(メタノール、エタノール、プロパツー
ル、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチ
ルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いるこ
とができる。
アルコール!!(メタノール、エタノール、プロパツー
ル、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチ
ルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いるこ
とができる。
また、既に良く知られている乳化分散力によって、ジブ
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイルに、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶
媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用い
ることもできる。ある(1.は固体分散法として知られ
ている方法によって、化合物の粉末を水の中にボールミ
ル、コイイドミル、あるいは超音波によって分散して用
いることもできる。
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイルに、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶
媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用い
ることもできる。ある(1.は固体分散法として知られ
ている方法によって、化合物の粉末を水の中にボールミ
ル、コイイドミル、あるいは超音波によって分散して用
いることもできる。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一般式(
IV)によって表わされる化合物が好ましい。
IV)によって表わされる化合物が好ましい。
一般式(IV’)
R,−N−N−G、−R。
A、 At
式中、R2は脂肪族基または芳香族基を表わし、R1は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミン基またはヒドラジノ基を表わし
、G1は一〇−基、−SO。
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミン基またはヒドラジノ基を表わし
、G1は一〇−基、−SO。
II 1111
一基、−8〇−基、−P−基、−C−C−基、チオカル
ボニル基又はイミノメチレン基を表わし、AI、A2は
ともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置換も
しくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしく
は無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無
置換のアシル基を表わす。
ボニル基又はイミノメチレン基を表わし、AI、A2は
ともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置換も
しくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしく
は無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無
置換のアシル基を表わす。
一般式(rt/)において、R,で表される脂肪族基は
好ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数
1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。
好ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数
1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。
このアルキル基は置換基を有していてもよい。
一般式(IV)においてR1で表される芳香族基は単環
または2環のアリール基または不飽和へテロ環基である
。ここで不飽和へテロ環基はアリール基と縮環していて
もよい。
または2環のアリール基または不飽和へテロ環基である
。ここで不飽和へテロ環基はアリール基と縮環していて
もよい。
R1として好ましいものはアリール基であり、特に好ま
しくはベンゼン環を含むものである。
しくはベンゼン環を含むものである。
R1の脂肪族基または芳香族基は置換されていてもよく
、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アラルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ア
リール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン基、ア
リールオキシ基、スル2アモイル基、カルバモイル基、
アルキルまたはアリールチオ基、アルキルまたはアリー
ルスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル
基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基
、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、ス
ルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド基、ジ
アシルアミノ基、イミドましい置換基としてはアルキル
基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基
(好ましくは炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基(
好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミ
ノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を
持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数
1〜30のもの)などである。
、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アラルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ア
リール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン基、ア
リールオキシ基、スル2アモイル基、カルバモイル基、
アルキルまたはアリールチオ基、アルキルまたはアリー
ルスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル
基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基
、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、ス
ルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド基、ジ
アシルアミノ基、イミドましい置換基としてはアルキル
基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基
(好ましくは炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基(
好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミ
ノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を
持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数
1〜30のもの)などである。
一般式(IV)においてRtで表わされるアルキル基と
しては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、
アリール基としては単環または2環のアリール基が好ま
しい(例えばベンゼン環を含むもの)。
しては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、
アリール基としては単環または2環のアリール基が好ま
しい(例えばベンゼン環を含むもの)。
I
G、が−C−基の場合、R2で表わされる基のうち好ま
しいものは、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基
、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、
3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホ
ニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、0−ヒド
ロキシベンジル基など)、アリール基(例えば、フェニ
ル基、3゜5−ジクロロフェニル基、0−メタンスルホ
ンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基
、2−ヒドロキシメチルフェニル基など)などであり、
特に水素原子が好ましい。
しいものは、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基
、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、
3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホ
ニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、0−ヒド
ロキシベンジル基など)、アリール基(例えば、フェニ
ル基、3゜5−ジクロロフェニル基、0−メタンスルホ
ンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基
、2−ヒドロキシメチルフェニル基など)などであり、
特に水素原子が好ましい。
R2は置換されていても良(、置換基としては、R1に
関して列挙した置換基が適用できる。
関して列挙した置換基が適用できる。
○
I
一般式(IV)のGとしては−C−基が最も好ましい。
又、R8はG1 R1の部分を残余分子から分裂させ、
G+ Rt部分の原子を含む環式構造を生成させる
環化反応を生起するようなものであってもよく、その例
としては例えば特開昭63−29751号などに記載の
ものが挙げられる。
G+ Rt部分の原子を含む環式構造を生成させる
環化反応を生起するようなものであってもよく、その例
としては例えば特開昭63−29751号などに記載の
ものが挙げられる。
A + 、A tとしては水素原子が最も好ましい。
一般式(IV)のR1またはR1はその中にカプラー等
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基またはポリマーが組み込まれているものでもよい。バ
ラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較
的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基
、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、ア
ルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。ま
たポリマーとしては例えば特開平1−100530号に
記載のものが挙げられる。
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基またはポリマーが組み込まれているものでもよい。バ
ラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較
的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基
、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、ア
ルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。ま
たポリマーとしては例えば特開平1−100530号に
記載のものが挙げられる。
一般式(■)のR3またはR2はその中にハロゲン化銀
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4゜385.108号、同4,459
,347号、特開昭59−195,233号、同59−
200゜231号、同59=201,045号、同59
−201.046号、同59−201,047号、同5
9−201,048号、同59−201,049号、特
開昭61−170,733号、同61−270,744
号、同62−948号、特願昭62−67.508号、
同62−67.501号、同62−67.510号に記
載された基があげられる。
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4゜385.108号、同4,459
,347号、特開昭59−195,233号、同59−
200゜231号、同59=201,045号、同59
−201.046号、同59−201,047号、同5
9−201,048号、同59−201,049号、特
開昭61−170,733号、同61−270,744
号、同62−948号、特願昭62−67.508号、
同62−67.501号、同62−67.510号に記
載された基があげられる。
一般式(R’)で示される化合物の具体例を以下に示す
。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない
。
。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない
。
N−1
■−3
V−5
V−1
■−12
■−13
■−14
V−6
■−10
V−1
V−16
q腎
■−18
■−20
■−25
■−26
■−23
■−24
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCHDISCLOSURE
Item23516 (1983年11月号、P、34
6)およびそこに引用された文献の他、米国特許4゜0
80.207号、同4,269,929号、同4.27
6.364号、同4,278,748号、同4,385
,108号、同4,459,347号、同4,560,
638号、同4.478. 928号、英国特許2,0
11,391B、特開昭60−179734号、同62
−270,948号、同63−29,751号、同61
−170゜733号、同61−270,744号、同6
2−948号、EP217,310号、またはUS4゜
686.167号、特開昭62−178,246号、同
63−32,538号、同63−104゜047号、同
63−121,838号、同63−129.337号、
同63−223,744号、同63−234,244号
、同63−234,245号、同63−234,246
号、同63−294.552号、同63−306,43
8号、特開平1−100,530号、同1. 105.
941号、同1−105,943号、特開昭64−1
0.233号、特開平1−90,439号、特願昭63
−105,682号、同63−114,118号、同6
3−110,051号、同63−114.119号、同
63−116,239号、同63−147,339号、
同63−”179.760号、同63−229,163
号、特願平1−18.377号、同1−18,378号
、同1−IL379号、同1−15,755号、同1−
16.814号、同1−40,792号、同1−42.
615号、同1−42,616号、同1−123.69
3号、同1−126,284号に記載されたものを用い
ることができる。
ものの他に、RESEARCHDISCLOSURE
Item23516 (1983年11月号、P、34
6)およびそこに引用された文献の他、米国特許4゜0
80.207号、同4,269,929号、同4.27
6.364号、同4,278,748号、同4,385
,108号、同4,459,347号、同4,560,
638号、同4.478. 928号、英国特許2,0
11,391B、特開昭60−179734号、同62
−270,948号、同63−29,751号、同61
−170゜733号、同61−270,744号、同6
2−948号、EP217,310号、またはUS4゜
686.167号、特開昭62−178,246号、同
63−32,538号、同63−104゜047号、同
63−121,838号、同63−129.337号、
同63−223,744号、同63−234,244号
、同63−234,245号、同63−234,246
号、同63−294.552号、同63−306,43
8号、特開平1−100,530号、同1. 105.
941号、同1−105,943号、特開昭64−1
0.233号、特開平1−90,439号、特願昭63
−105,682号、同63−114,118号、同6
3−110,051号、同63−114.119号、同
63−116,239号、同63−147,339号、
同63−”179.760号、同63−229,163
号、特願平1−18.377号、同1−18,378号
、同1−IL379号、同1−15,755号、同1−
16.814号、同1−40,792号、同1−42.
615号、同1−42,616号、同1−123.69
3号、同1−126,284号に記載されたものを用い
ることができる。
本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量としてはハロ
ゲン化銀1モルあたりlXl0−’モルないし5X10
−”モル含有されるのが好ましく、特にlXl0−’モ
ルないし2X10−2モルの範囲が好ましい添加量であ
る。
ゲン化銀1モルあたりlXl0−’モルないし5X10
−”モル含有されるのが好ましく、特にlXl0−’モ
ルないし2X10−2モルの範囲が好ましい添加量であ
る。
第1および第2のハロゲン化銀乳剤層は、支持体上にど
のような順に塗設されても良い。例えば、支持体の上に
順に、第2のハロゲン化銀乳剤層、第1のハロゲン化銀
乳剤層、あるいはこの逆でも良い。また、これらの層の
間に、別の親水性コロイド層を設けてもよい。第2のハ
ロゲン化銀乳剤層、および/もしくは該親水性コロイド
層または他の隣接する親水性コロイド層に、ヒドラジン
誘導体を含むことができる。
のような順に塗設されても良い。例えば、支持体の上に
順に、第2のハロゲン化銀乳剤層、第1のハロゲン化銀
乳剤層、あるいはこの逆でも良い。また、これらの層の
間に、別の親水性コロイド層を設けてもよい。第2のハ
ロゲン化銀乳剤層、および/もしくは該親水性コロイド
層または他の隣接する親水性コロイド層に、ヒドラジン
誘導体を含むことができる。
第1の乳剤層は、好ましくは、塗布銀量が0゜01〜2
.0g/rdで、好ましくは、0.05〜1.0g/r
rr、第2の乳剤層の塗布銀量は、0゜5〜7.5g/
rri、好ましくは1.0〜6.0g/イが適当である
。
.0g/rdで、好ましくは、0.05〜1.0g/r
rr、第2の乳剤層の塗布銀量は、0゜5〜7.5g/
rri、好ましくは1.0〜6.0g/イが適当である
。
前述の親水性コロイド層はゼラチンまたは合成ポリマー
(ポリ酢酸ビニル、ポリアクリルアミド、ポリビニルア
ルコールなど)を含み0.1〜5゜0μ、好ましくは、
0.2〜4.0μが適当である。
(ポリ酢酸ビニル、ポリアクリルアミド、ポリビニルア
ルコールなど)を含み0.1〜5゜0μ、好ましくは、
0.2〜4.0μが適当である。
本発明の第1および第2のハロゲン化銀乳剤層に用いら
れるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、
沃塩臭化銀、臭化銀等どの組成でもかまわない。
れるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、
沃塩臭化銀、臭化銀等どの組成でもかまわない。
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平
均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から
構成されていることをいう。
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平
均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から
構成されていることをいう。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(regular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(1rrej
ular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形
の複合形を持つものであってもよい。
な規則的(regular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(1rrej
ular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形
の複合形を持つものであってもよい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。
ても、異なる相からなっていてもよい。
別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。
使用してもよい。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイド層に、フ
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、種々の目的で、染料を含有してもよい。フィルタ
ー染料としては、写真感度をさらに低めるための染料、
好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸収極大
を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取り扱わ
れる際のセーフライト光に対する安全性を高めるための
、主として350nm〜600nmの領域に実質的な光
吸収をもつ染料が用いられる。
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、種々の目的で、染料を含有してもよい。フィルタ
ー染料としては、写真感度をさらに低めるための染料、
好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸収極大
を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取り扱わ
れる際のセーフライト光に対する安全性を高めるための
、主として350nm〜600nmの領域に実質的な光
吸収をもつ染料が用いられる。
これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あ
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層より遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好ま
しい。
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層より遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好ま
しい。
染料のモル吸光係数により異なるが、通常10−2g
/ rd〜1 g/rr?の範囲で添加される。好まし
くは50■〜500■/dである。
/ rd〜1 g/rr?の範囲で添加される。好まし
くは50■〜500■/dである。
用いられる染料は、各種の公知の特許に開示されている
。例えば、特開昭55−155,350、同55−15
5.351、同52−92716、同56−12639
、同63−27838、米国特許4276373、WO
28104794に記載されている。
。例えば、特開昭55−155,350、同55−15
5.351、同52−92716、同56−12639
、同63−27838、米国特許4276373、WO
28104794に記載されている。
また、公知の水溶性染料も用いることができる。
いくつかの例を次にあげる。
0sNa
0sNa
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質:ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分のアセタール、ポリ−N−ビニルピ
ロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリア
クリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピ
ラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親
水性高分子物質を用いることができる。
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質:ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分のアセタール、ポリ−N−ビニルピ
ロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリア
クリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピ
ラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親
水性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金化
合物、主として全錯塩を用いる。金以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有して
も差支えない。その具体例は米国特許2,448,06
0号、英国特許618.061号などに記載されている
。
合物、主として全錯塩を用いる。金以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有して
も差支えない。その具体例は米国特許2,448,06
0号、英国特許618.061号などに記載されている
。
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層には、公知の分
光増感色素を添加してもよい。
光増感色素を添加してもよい。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン類;メルカプトトリアジン類:たとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a、7)テ
トラザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベン
ゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼ
ンスルフオン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安
定剤として知られた多くの化合物を加えることができる
。これらのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾー
ル類(例えば、5−メチル−ベンゾトリアゾール)及び
ニトロインダゾール類(例えば5−ニトロインダゾール
)である。また、これらの化合物を処理液に含有させて
もよい。
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン類;メルカプトトリアジン類:たとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a、7)テ
トラザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベン
ゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼ
ンスルフオン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安
定剤として知られた多くの化合物を加えることができる
。これらのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾー
ル類(例えば、5−メチル−ベンゾトリアゾール)及び
ニトロインダゾール類(例えば5−ニトロインダゾール
)である。また、これらの化合物を処理液に含有させて
もよい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えばクロム塩(クロムミョウバンなど)、アルデヒド
類、ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化合
物(ジメチロール尿素、など)、ジオキサン誘導体、活
性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−へキ
サヒドロ−5−トリアジン、l、3−ビニルスルホニル
−2−プロパツールなど)、活性ハロゲン化合物(2,
4−ジクロル−6−ヒドロキシ−5−トリアジンなど)
、ムコハロゲン酸類、などを単独または組み合わせて用
いることができる。
類、ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化合
物(ジメチロール尿素、など)、ジオキサン誘導体、活
性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−へキ
サヒドロ−5−トリアジン、l、3−ビニルスルホニル
−2−プロパツールなど)、活性ハロゲン化合物(2,
4−ジクロル−6−ヒドロキシ−5−トリアジンなど)
、ムコハロゲン酸類、などを単独または組み合わせて用
いることができる。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮金物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、等の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキル
ベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
すン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシ
ド類などの両性界面活性剤:アルキルアミン塩類、脂肪
族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウ
ム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮金物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、等の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキル
ベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
すン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシ
ド類などの両性界面活性剤:アルキルアミン塩類、脂肪
族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウ
ム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭58−9412号公報に記載された分子量600以
上のポリアルキレンオキサイド類である。又、寸度安定
性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリマーラテ
ックスを含有せしめることができる。
公昭58−9412号公報に記載された分子量600以
上のポリアルキレンオキサイド類である。又、寸度安定
性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリマーラテ
ックスを含有せしめることができる。
本発明に用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭53−77616、同5
4−37732、同53−137゜133、同60−1
40,340、同60−14959、などに開示されて
いる化合物の他、N又はS原子を含む各種の化合物が有
効である。
現像の促進剤としては、特開昭53−77616、同5
4−37732、同53−137゜133、同60−1
40,340、同60−14959、などに開示されて
いる化合物の他、N又はS原子を含む各種の化合物が有
効である。
次に具体例を列挙する。
2C1@
(CrHs)!NCH2CHCH20H,0H
n−C+HeN(CtH+0H)z
S CkhCkhNくしtHs)zこれらの促進剤
は、化合物の種類によって最適添加量が異なるが1.o
xlo−’〜o、5g/rr?、好ましくは5.0Xl
O−’〜0.1g/mの範囲で用いるのが望ましい。こ
れらの促進剤は適当な溶媒(H,O)メタノールやエタ
ノールなどのアルコール類、アセトン、ジメチルホルム
アミド、メチルセルソルブなど)に溶解して塗布液に添
加される。
は、化合物の種類によって最適添加量が異なるが1.o
xlo−’〜o、5g/rr?、好ましくは5.0Xl
O−’〜0.1g/mの範囲で用いるのが望ましい。こ
れらの促進剤は適当な溶媒(H,O)メタノールやエタ
ノールなどのアルコール類、アセトン、ジメチルホルム
アミド、メチルセルソルブなど)に溶解して塗布液に添
加される。
これらの添加剤を複数の種類を併用してもよい。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調の写真特
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2,41
9,975号に記載されたpH13に近い高アルカリ現
像液を用いる必要はなく1、安定な現像液を用いること
ができる。
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2,41
9,975号に記載されたpH13に近い高アルカリ現
像液を用いる必要はなく1、安定な現像液を用いること
ができる。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンを0.15モル/1以上含み、pH
10,5〜12.3、特にpH11,0〜12.0の現
像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることができ
る。
しての亜硫酸イオンを0.15モル/1以上含み、pH
10,5〜12.3、特にpH11,0〜12.0の現
像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることができ
る。
本発明の方法において用いつる現像主薬には特別な制限
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル
−3−ピラゾリドン、4゜4−ジメチル−1−フェニル
−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例えばN
−メチル−p−アミノフェノール)などを単独あるいは
組み合わせてもちいることかできる。
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル
−3−ピラゾリドン、4゜4−ジメチル−1−フェニル
−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例えばN
−メチル−p−アミノフェノール)などを単独あるいは
組み合わせてもちいることかできる。
本発明のハロゲン化銀感光材料は特に、主現像主薬とし
てジヒドロキシベンセン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドン類またはアミノフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類は0.05〜0.5モル
/l、3−ピラゾリドン類またはアミンフェノール類は
0.06モル/l以下の範囲で併用される。
てジヒドロキシベンセン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドン類またはアミノフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類は0.05〜0.5モル
/l、3−ピラゾリドン類またはアミンフェノール類は
0.06モル/l以下の範囲で併用される。
また米国特許4269929号に記載されているように
、アミン類を現像液に添加することによって現像速度を
高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
、アミン類を現像液に添加することによって現像速度を
高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
現像液にはその他、アルカリ金属の亜硫酸塩、炭酸塩、
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機カブリ防止剤(特に好ましくはニトロイ
ンダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如き現像
抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができる。
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機カブリ防止剤(特に好ましくはニトロイ
ンダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如き現像
抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができる。
又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤、現像
促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリアル
キレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィルムの銀
汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミダゾール
スルホン酸類など)を含んでもよい。
促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリアル
キレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィルムの銀
汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミダゾール
スルホン酸類など)を含んでもよい。
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩などを含
んでもよい。
んでもよい。
本発明の方法における処理温度は普通18℃から50℃
の間に選ばれる。
の間に選ばれる。
写真処理には自動現像機を用いるのが好ましいが、本発
明の方法により、感光材料を自動現像機に入れてから出
てくるまでのトータルの処理時間を60秒〜120秒に
設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得ら
れる。
明の方法により、感光材料を自動現像機に入れてから出
てくるまでのトータルの処理時間を60秒〜120秒に
設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得ら
れる。
本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭56−2
4,347号に記載の化合物を用いることかできる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭60−109,
743号に記載の化合物を用いることかできる。さらに
現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭60−93,4
33号に記載の化合物あるいは特願昭62−18625
9に記載の化合物を用いることができる。
4,347号に記載の化合物を用いることかできる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭60−109,
743号に記載の化合物を用いることかできる。さらに
現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭60−93,4
33号に記載の化合物あるいは特願昭62−18625
9に記載の化合物を用いることができる。
以下実施例により、本発明の詳細な説明する。
実施例1
(感光性乳剤の調製)
乳剤−A
50°Cに保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り4X1
0−’モルの6塩化イリジウム(II[)カリおよびア
ンモニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭
化カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその間のp
Agを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.2
8μで、平均ヨウ化銀含有量0. 3モル%の立方体単
分散乳剤を調製した。この乳剤をフロキュレーション法
により、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40gの不
活性セラチンを加えた後に50℃に保ち増感色素として
5,5′−ジクロロ−9−エチル−3,3′ビス(3−
スルフォブロピル)オキサカルボシアニンと、銀1モル
当りlO−1モルのKl溶液に加え、15分分間時させ
た後降温した。
0−’モルの6塩化イリジウム(II[)カリおよびア
ンモニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭
化カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその間のp
Agを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.2
8μで、平均ヨウ化銀含有量0. 3モル%の立方体単
分散乳剤を調製した。この乳剤をフロキュレーション法
により、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40gの不
活性セラチンを加えた後に50℃に保ち増感色素として
5,5′−ジクロロ−9−エチル−3,3′ビス(3−
スルフォブロピル)オキサカルボシアニンと、銀1モル
当りlO−1モルのKl溶液に加え、15分分間時させ
た後降温した。
乳剤−B
50℃に保ったpH=4.0のゼラチン水溶液中に硝酸
銀水溶液と銀1モルあたり、1.4X10−7モルの6
塩化ロジウム(III)酸アンモニウムドと4×10−
1モルの6塩化イリジウム(III)酸カリを含む、塩
化ナトリウムおよび臭化カリウムの混合水溶液を同時に
一定の速度で30分間添加して平均粒子サイズ0.23
μの塩臭化銀単分散乳剤(C1組成70モル%)を調製
した。
銀水溶液と銀1モルあたり、1.4X10−7モルの6
塩化ロジウム(III)酸アンモニウムドと4×10−
1モルの6塩化イリジウム(III)酸カリを含む、塩
化ナトリウムおよび臭化カリウムの混合水溶液を同時に
一定の速度で30分間添加して平均粒子サイズ0.23
μの塩臭化銀単分散乳剤(C1組成70モル%)を調製
した。
この乳剤を常法に従って水洗して可溶性塩類を除去した
あと、チオ硫酸ナトリウムとカリウムクロロオーレート
を加えて化学増感を施した。さらにl111モルあたり
0.1モル%に相当する沃化カリウム溶液を添加し粒子
表面のコンバージョンを行なった。
あと、チオ硫酸ナトリウムとカリウムクロロオーレート
を加えて化学増感を施した。さらにl111モルあたり
0.1モル%に相当する沃化カリウム溶液を添加し粒子
表面のコンバージョンを行なった。
更に、この後に、50℃に保ち増感色素として次の化合
物を2.7X10−’モル/Agモル加え、15分分間
時させた後に、降温収納した。
物を2.7X10−’モル/Agモル加え、15分分間
時させた後に、降温収納した。
(塗布試料の作成)
支持体;塩化ビニリデン共重合体からなる下塗層(0,
5μ)を有するポリニチレンテレフタレートフィルム(
150μ)支持体上に、支持体側から順次UL、ML、
OL、PCの層構成になる様に塗布した。以下に各層の
調製法及び塗布量を示す。
5μ)を有するポリニチレンテレフタレートフィルム(
150μ)支持体上に、支持体側から順次UL、ML、
OL、PCの層構成になる様に塗布した。以下に各層の
調製法及び塗布量を示す。
(UL)
前記、乳剤−Bをゼラチンと共に40℃で溶解した後、
5−メチルベンズトリアゾール、85■/d、4−ヒド
ロキシ−1,3,3a、7−テトラザインデン12■/
ゴ、下記化合物(イ)、(ロ)、(ハ)及びゼラチンに
対して30wt%のポリエチルアクリレート及びゼラチ
ン硬化剤として下記化合物(ニ)を添加し、Ag3.6
g/m、表−1に示したヒドラジン化合物2.8X10
−’mol/m、セラチン1.9g/mとなるように塗
布した。
5−メチルベンズトリアゾール、85■/d、4−ヒド
ロキシ−1,3,3a、7−テトラザインデン12■/
ゴ、下記化合物(イ)、(ロ)、(ハ)及びゼラチンに
対して30wt%のポリエチルアクリレート及びゼラチ
ン硬化剤として下記化合物(ニ)を添加し、Ag3.6
g/m、表−1に示したヒドラジン化合物2.8X10
−’mol/m、セラチン1.9g/mとなるように塗
布した。
化合物(ロ)
C1e
15■/d
化合物(ハ)
CaHlt CH=CH+CHt+yCON CH
tCHzSOJaCH。
tCHzSOJaCH。
50■/ゴ
化合物(ニ)
H
CH2= CH30tCHzCHC)lxsOtcH=
CH!ゼラチンに対して2.0wt% (ML) ゼラチン10g、前記化合物(ニ)をゼラチンに対して
2.0wt%を添加し、完成量250−になるように水
を加えて調製し、ゼラチン1.5g/dになるように塗
布した。
CH!ゼラチンに対して2.0wt% (ML) ゼラチン10g、前記化合物(ニ)をゼラチンに対して
2.0wt%を添加し、完成量250−になるように水
を加えて調製し、ゼラチン1.5g/dになるように塗
布した。
(OL)
前記、乳剤−Aを40℃にて溶解し、5−メチルベンズ
トリアゾール3■/rd、4−ヒドロキシ−1,3,3
a、7−チトラザインデン、表−1に示す本発明の一般
式(I)の化合物4.3X10−’mol/rd、化合
物(イ) 0. 4tuz/m、(ロ)1.5+og/
rrr、 (ハ) l 5+ng/rr(及びゼラ
チンに対して30wt%のポリエチルアクリレート及び
ゼラチン硬化剤として化合物(ニ)ゼラチンに対して2
wt%を添加し調製した。Ag0.4g/rdとなる様
に塗布した。
トリアゾール3■/rd、4−ヒドロキシ−1,3,3
a、7−チトラザインデン、表−1に示す本発明の一般
式(I)の化合物4.3X10−’mol/rd、化合
物(イ) 0. 4tuz/m、(ロ)1.5+og/
rrr、 (ハ) l 5+ng/rr(及びゼラ
チンに対して30wt%のポリエチルアクリレート及び
ゼラチン硬化剤として化合物(ニ)ゼラチンに対して2
wt%を添加し調製した。Ag0.4g/rdとなる様
に塗布した。
(P C)
ゼラチン溶液にポリメチルメタクリレート分散物(平均
粒径5.0μ)、更に次の界面活性剤を添加し、ゼラチ
ン1.5g/m、ポリメチルメタクリレートとして0.
3g/rrfとなる様に塗布した。
粒径5.0μ)、更に次の界面活性剤を添加し、ゼラチ
ン1.5g/m、ポリメチルメタクリレートとして0.
3g/rrfとなる様に塗布した。
界面活性剤
現像液
CHCOOC,H,。
37■/rd
S Os N a
(性能の評価)
これらの試料を、3200°にのタングステン光で光学
クサビ又は、光学クサビとコンタクトスクリーン(富士
フィルム、150Lチエーンド・ソト型)を通して露光
後、次の現像液で34°C30秒間現像し、定着、水洗
、乾燥した。
クサビ又は、光学クサビとコンタクトスクリーン(富士
フィルム、150Lチエーンド・ソト型)を通して露光
後、次の現像液で34°C30秒間現像し、定着、水洗
、乾燥した。
定着液としては、富士写真フィルム(!@社製、GR−
Flを用いた。
Flを用いた。
得られた結果を表1に示した。
階調(γ)は特性曲線で濃度0゜
0の点を結ぶ直線の傾きである。
3の点と3゜
網階調は次式で表わした。
*網階調=95%の網点面積率を与える露光量(fog
E95%−5%の網点面積率を与える露光量(logE
5%) 網点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価は、
「5」が最も良く、「1」が最も悪い品質を示す。製版
用網点原版としては、「5」、「4」が実用可能で、「
3」が実用可能な限界レベルであり、「2」、「l」は
実用不可能な品質である。
E95%−5%の網点面積率を与える露光量(logE
5%) 網点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価は、
「5」が最も良く、「1」が最も悪い品質を示す。製版
用網点原版としては、「5」、「4」が実用可能で、「
3」が実用可能な限界レベルであり、「2」、「l」は
実用不可能な品質である。
を
表−1の結果から、
高り、#I4階調が広く、
えることがわかる。
表 1
本発明のサンプルが、Tが
網点品質の良好な画像を与
[
比較化合物A(特開昭62−296138、特開昭61
−156043に記載) 比較化合物B(特開昭61−230,135に記載) 比較化合物C(特開昭56−153336に記載)2−
(5−ニトロ−2−インダゾリ ル)ハイドロキノン 実施例2 (感光性乳剤Cの調製) 50℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り3.0X
10−”モルの(NH4)sRhCムの存在下で硝酸銀
水溶液と塩化ナトリウム水溶液を同時に混合したのち、
当業界でよく知られた方法にて、可溶性塩を除去したの
ちにゼラチンを加え、化学熟成せずに安定化剤として2
−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラ
ザインデンを添加した。この乳剤は平均サイズが0.1
5μの立方晶形をした単分散乳剤であった。
−156043に記載) 比較化合物B(特開昭61−230,135に記載) 比較化合物C(特開昭56−153336に記載)2−
(5−ニトロ−2−インダゾリ ル)ハイドロキノン 実施例2 (感光性乳剤Cの調製) 50℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り3.0X
10−”モルの(NH4)sRhCムの存在下で硝酸銀
水溶液と塩化ナトリウム水溶液を同時に混合したのち、
当業界でよく知られた方法にて、可溶性塩を除去したの
ちにゼラチンを加え、化学熟成せずに安定化剤として2
−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラ
ザインデンを添加した。この乳剤は平均サイズが0.1
5μの立方晶形をした単分散乳剤であった。
(感光乳剤層の塗布)
第−層
感光乳剤Cに、ヒドラジン化合物rV−8(25■/r
rり 、5−メチルヘンシトリアゾール(5×1 (I
3mol/Ag園O1)、ポリエチルアクリレートラテ
ックス(30wt%対ゼラチン)、および13−ジビニ
ルスルホニル−2−プロパツール(2゜Qwt%対ゼラ
チン)を添加した。塗布ui量は3゜5 g/rdであ
った。
rり 、5−メチルヘンシトリアゾール(5×1 (I
3mol/Ag園O1)、ポリエチルアクリレートラテ
ックス(30wt%対ゼラチン)、および13−ジビニ
ルスルホニル−2−プロパツール(2゜Qwt%対ゼラ
チン)を添加した。塗布ui量は3゜5 g/rdであ
った。
第二層 ゼラチン(1,0g/イ)
第三層
感光乳剤Cと同様に但し、6.0X10−’モルの(N
Ha) JhCムの存在下で調製した感光乳剤D(塗布
銀量0.4g/nf) 、5−メチルベンゾトリアゾー
ル(5X 10−’ mol/Ag mol) 、ポリ
エチルアクリレートラテックス(30wt%対ゼラチン
)、1.3−ジビニルスルホニル−2−プロパツール(
2wt%対ゼラチン)、および表−2に示した本発明の
一般式(I)の化合物を添加した。
Ha) JhCムの存在下で調製した感光乳剤D(塗布
銀量0.4g/nf) 、5−メチルベンゾトリアゾー
ル(5X 10−’ mol/Ag mol) 、ポリ
エチルアクリレートラテックス(30wt%対ゼラチン
)、1.3−ジビニルスルホニル−2−プロパツール(
2wt%対ゼラチン)、および表−2に示した本発明の
一般式(I)の化合物を添加した。
第四層
ゼラチン1.5g/n(と、マント剤として、ポリメチ
ルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.3g/
rd、さらに塗布助剤として次の界面活性剤、安定剤、
および紫外線吸収染料を含む保護層を塗布し、乾燥した
。
ルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.3g/
rd、さらに塗布助剤として次の界面活性剤、安定剤、
および紫外線吸収染料を含む保護層を塗布し、乾燥した
。
界面活性剤
CHiCOOCJrs
CHCOOC6HI3
SO,Na
37■/m
C,F、、So□NCFlzCOOK
CsHq 2. 5■/ボ安
定剤 チオクト酸 紫外線吸収剤 2、 1■/d このサンプルに大日本スクリーン■製明室プリンターp
−607で、第1図に示すような原稿を通して画像露光
し38℃20秒現像処理し、定着、水洗、乾燥したのち
、抜き文字画質の評価を行った。
定剤 チオクト酸 紫外線吸収剤 2、 1■/d このサンプルに大日本スクリーン■製明室プリンターp
−607で、第1図に示すような原稿を通して画像露光
し38℃20秒現像処理し、定着、水洗、乾燥したのち
、抜き文字画質の評価を行った。
抜文字画質5とは第1図の如き原稿を用いて50%の網
点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積となる様
な適性露光した時30μm巾の文字が再現される画質を
言い非常に良好な抜文字画質である。−力抜文字画t1
とは同様な適性露光を与えた時150μm巾以上の文字
しか再現することのできないN質を言い良くない抜文字
品質であり、5と1の間に官能評価で4〜20ランクを
設けた。3以上が実用し得るレヘルである。
点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積となる様
な適性露光した時30μm巾の文字が再現される画質を
言い非常に良好な抜文字画質である。−力抜文字画t1
とは同様な適性露光を与えた時150μm巾以上の文字
しか再現することのできないN質を言い良くない抜文字
品質であり、5と1の間に官能評価で4〜20ランクを
設けた。3以上が実用し得るレヘルである。
結果を表2に示した0本発明のサンプルは抜文字画質が
優れる。
優れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、重ね返しによる抜文字画像形成を行なう場合
の、露光時構成を示したものであり各符号は以下のもの
を示す。 (イ)透明もしくは半透明の貼りこみベース(ロ)線画
原稿(なお黒色部分は線画を示す)(ハ)i3明もしく
は半透明の貼りこみベース(ニ)w4点原稿(なお黒色
部分は網点を示す)(ホ)返し用怒光材料(なお、斜線
部は怒光層を示す) 特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書 平成2年Z月lk日 1゜ 2゜ 事件の表示 発明の名称 平成2年特願第108048号 ハロゲン化銀写真感光材料 3、 補正をする者 事件との関係
の、露光時構成を示したものであり各符号は以下のもの
を示す。 (イ)透明もしくは半透明の貼りこみベース(ロ)線画
原稿(なお黒色部分は線画を示す)(ハ)i3明もしく
は半透明の貼りこみベース(ニ)w4点原稿(なお黒色
部分は網点を示す)(ホ)返し用怒光材料(なお、斜線
部は怒光層を示す) 特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書 平成2年Z月lk日 1゜ 2゜ 事件の表示 発明の名称 平成2年特願第108048号 ハロゲン化銀写真感光材料 3、 補正をする者 事件との関係
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)支持体上に、少なくとも一種のハロゲン化銀乳剤を
含む第一のハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層又は他
の非感光性親水性コロイド層にヒドラジン誘導体を含み
、かつ第2のハロゲン化銀乳剤層を有し、該第2の乳剤
層に一般式( I )で表わされる化合物を含むことを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ 式( I )において、Q^1は少なくとも1個のヘテロ
原子を含み結合する炭素原子とともに5員環以上の複素
環を形成するに必要な原子群を表わし、R_1はハイド
ロキノン母核に置換可能な基を表わし、Bは、ハイドロ
キノン母核より脱離後PUGを放出する基を表わし、P
UGは現像抑制剤を表わし、lは0または1を表わし、
AおよびA′は水素原子または、アルカリで除去されう
る基を表わす。 2)ヒドラジン誘導体が次の一般式(IV)で表わされる
ことを特徴とする特許請求の範囲(1)のハロゲン化銀
写真感光材料。 一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1は脂肪族基または芳香族基を表わし、R_
2は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基
、アリールオキシ基、アミノ基またはヒドラジノ基を表
わし、G_1は▲数式、化学式、表等があります▼基、
−SO_2−基、−SO−基、▲数式、化学式、表等が
あります▼基、▲数式、化学式、表等があります▼基、
チオカルボニル基又はイミノメチレン基を表わし、A_
1、A_2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で
他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又
は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置
換もしくは無置換のアシル基を表わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2108048A JP2663037B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2108048A JP2663037B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH046548A true JPH046548A (ja) | 1992-01-10 |
| JP2663037B2 JP2663037B2 (ja) | 1997-10-15 |
Family
ID=14474611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2108048A Expired - Fee Related JP2663037B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2663037B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0419645A (ja) * | 1990-05-14 | 1992-01-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| EP0694808A1 (en) | 1994-07-29 | 1996-01-31 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Process of forming super high-contrast negative images and silver halide photographic material and developer being used therefor |
| EP0704757A1 (en) | 1994-09-29 | 1996-04-03 | Konica Corporation | A silver halide photographic light sensitive material |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61156043A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6389844A (ja) * | 1986-10-02 | 1988-04-20 | Konica Corp | ロ−ラ−マ−ク性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6472139A (en) * | 1987-09-12 | 1989-03-17 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic sensitive material which is improved in retouch work |
| JPH03110543A (ja) * | 1989-09-25 | 1991-05-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1990
- 1990-04-24 JP JP2108048A patent/JP2663037B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61156043A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6389844A (ja) * | 1986-10-02 | 1988-04-20 | Konica Corp | ロ−ラ−マ−ク性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6472139A (en) * | 1987-09-12 | 1989-03-17 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic sensitive material which is improved in retouch work |
| JPH03110543A (ja) * | 1989-09-25 | 1991-05-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0419645A (ja) * | 1990-05-14 | 1992-01-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| EP0694808A1 (en) | 1994-07-29 | 1996-01-31 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Process of forming super high-contrast negative images and silver halide photographic material and developer being used therefor |
| EP0704757A1 (en) | 1994-09-29 | 1996-04-03 | Konica Corporation | A silver halide photographic light sensitive material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2663037B2 (ja) | 1997-10-15 |
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