JPH0230321B2 - Hikarijugoseisoseibutsu - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光重合性組成物に関するものである。
特に可視領域の光源に対し高感度を示す光重合性
組成物に関するものである。 従来、光重合系利用の画像形成法は多数知られ
ており、例えば付加重合可能なエチレン性二重結
合を含む化合物と光重合開始剤、さらに所望によ
り用いられる有機高分子結合剤、熱重合禁止剤、
着色剤、可塑剤等からなる光重合性組成物を調製
し、この光重合性組成物を無溶媒または溶液とな
し支持体上に塗布して光重合性組成物の層を設け
た感光材料を作成し所望画像を像露光して露光部
分を重合硬化させ未露光部分を溶解除去すること
により硬化レリーフ画像を形成する方法や上述感
光材料が少なくとも一方が透明である２枚の支持
体間に光重合性組成物層を設けたものであり透明
支持体側より像露光し光による接着強度の変化を
惹起させた後支持体を剥離することにより画像を
形成する方法その他光重合性組成物層の光による
トナー附着性の変化を利用した画像作成方法等が
ある。か様な方法に応用される光重合性組成物の
光重合開始剤としては従来、ベンゾイン、ベンゾ
インアルキルエーテル、ベンゾフエノン、アント
ラキノン、ベンジル、あるいはミヒラーケトンな
どが用いられてきた。しかしながら、これらの光
重合開始剤は40nm以下の紫外線領域の光源に対
する光重合開始能力に比較し、400nm以上の可視
光線領域の光源に対するそれは顕著に低く、従つ
てそれらを含む光重合性組成物の応用範囲を著し
く限定してきた。 可視光線に感光する光重合系に関しては従来い
くつかの提案がなされてきた。古くは米国特許第
2850445号によれば、ある種の光還元性染料、例
えばローズベンガル、エオシン、エリスロシン、
リボフラビン等が効果的な可視光感応性を有して
いると報告している。その後改良技術として染料
と脂肪族アミンの複合開始系（特公昭44―
20189）、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカ
ル発生剤および染料の系（特公昭45−37377）、ヘ
キサアリールビイミダゾールとｐ―ジアルキルア
ミノベンジリデンケトンの系（特開昭47−2528、
特開昭54−155292）、環状シス―α―ジカルボニ
ル化合物と染料の系（特開昭48−84183）、置換ト
リアジンとメロシアニン色素の系（特開昭54−
151024）、ビイミダゾールとインダノンの系（特
開昭54−155292）などの提案がなされてきた。こ
れら技術は確かに可視光線に対し有効ではある
が、未だその感光速度は充分満足すべきものでは
なくさらに改良技術が望まれていた。 本発明者は、上記従来技術の問題点を改良すべ
く鋭意検討した結果、特定の組合せから成る光重
合開始系を使用することによつて所期の目的が達
成されることを見い出し、本発明を完成するに到
つた。 すなわち、本発明の要旨は、エチレン性不飽和
二重結合を少なくとも１個有する付加重合可能な
化合物および光重合開始系から成る光重合性組成
物において、該光重合開始系が、(a)一般式、 〔式中、R¹はアルキル基を示し、R²は水素原
子またはアルキル基を表わしており、環Ａは置換
基を有していてもよいベンゼン環またはナフタリ
ン環であつてチアゾール環と縮合している。〕で
表わされるｐ―ジアルキルアミノシンナミリデン
誘導体、および(b)ヘキサアリールビイミダゾール
を含有することを特徴とする光重合性組成物に存
する。 以下本発明を説明するに、本発明で使用される
光重合開始系は、活性光線の照射によりラジカル
を発生し後述のエチレン性不飽和結合を有する化
合物の付加重合反応をもたらすものである。本発
明の光重合開始系は２種類の成分の組合せより成
つており、その第１の成分(a)は前記一般式（）
で表わされるｐ―ジアルキルアミノシンナミリデ
ン誘導体である。特に感度を考慮した場合、前記
一般式（）において、R¹がメチル基またはエ
チル基を示し、R²が水素原子またはメチル基の
ものが好ましい。 具体例を挙げると、２―〔４―（ｐ―ジメチル
アミノフエニル）―１，３―ブタジエニル〕―ベ
ンゾチアゾール、２―〔４―（ｐ―ジエチルアミ
ノフエニル）―１，３―ブタジエニル〕―ベンゾ
チアゾール、２―〔４―（ｐ―ジメチルアミノフ
エニル）―１，３―ブタジエニル〕―５―メチル
―ベンゾチアゾール、２―〔４―（ｐ―ジメチル
アミノフエニル）―１，３―ブタジエニル〕―６
―クロロ―ベンゾチアゾール、２―〔４―（ｐ―
ジメチルアミノフエニル）―３―メチル―１，３
―ブタジエニル〕―ベンゾチアゾール、２―〔４
―（ｐ―ジ―ｎ―ブチルアミノフエニル）―１，
３―ブタジエニル〕―ベンゾチアゾール、２―
〔４―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―１，３
―ブタジエニル〕―ベンゾ〔４，５〕ベンゾチア
ゾール、２―〔４―（ｐ―ジメチルアミノフエニ
ル）―３―メチル―１，３―ブタジエニル〕―ベ
ンゾ〔４，５〕ベンゾチアゾール、２―〔４―
（ｐ―ジメチルアミノフエニル）―１，３―ブタ
ジエニル〕―ベンゾ〔６，７〕ベンゾチアゾー
ル、２―〔４―（ｐ―ジメチルアミノフエニル）
―３―メチル―１，３―ブタジエニル〕―ベンゾ
〔６，７〕ベンゾチアゾール、２―〔４―（ｐ―
ジエチルアミノフエニル）―１，３―ブタジエニ
ル〕―ベンゾ〔４，５〕ベンゾチアゾール等があ
る。これらは例えば相当するｐ―ジアルキルアミ
ノ桂皮アルデヒド類と２―メチルチアゾール縮合
環類との脱水縮合する方法（例えばJ.Am.Chem.
Soc.63，3203〔1941〕）等により合成し得る。 第２の成分(b)はヘキサアリールビイミダゾール
である。これは２，４，５―トリアリールイミダ
ゾリル二量体ともいわれるもので２個のイミダゾ
ールが１個の共有結合で結合した構造を有し、一
般式 （式中、R³，R⁴，R⁴はアリール基を示し、点
線の円はイミダゾリル環の構成原子の原子価を満
足する芳香族性非局在化電子を示す。）で表わさ
れる。 前記アリール基の例としてはフエニル基、ビフ
エニル基、ナフチル基、ピリジル基、チエニル
基、フリル基を挙げることができる。これらアリ
ール基は光解離反応を妨害せずかつ安定性を増加
させる様な置換基を有していてもよく、例えば、
２位および2′位のアリール基がオルト置換された
フエニル基であつてオルト置換基として弗素原
子、塩素原子、臭素原子、メトキシ基、メチル基
を有するものが挙げられる。これらのオルト置換
基の効果によりビイミダゾール類の安定性が増加
する。最も好ましいヘキサアリールビイミダゾー
ルを具体的に挙げれば、２，2′―ビス（ｏ―クロ
ロフエニル）―４，4′，５，5′―テトラフエニル
ビイミダゾール、２，2′―ビス（ｏ―クロフエニ
ル）―４，4′5，5′―テトラ（ｍ―メトキシフエ
ニル）ビイミダゾールである。これらのヘキサア
リールビイミダゾール類は例えばBull.Chem.
Sco.Japan，33，565（1960）およびJ.Org.Chem.
36〔16〕2265（1971）に開示されている方法によ
り容易に合成することができる。 本発明の光重合開始系は前述の(a)および(b)二成
分の組合せによりはじめて顕著な効果を発揮し得
るが、その使用割合は重量比で１：10ないし10：
１の範囲、好ましくは１：４ないし４：１までの
範囲である。また本発明の光重合性組成物に含ま
れる光重合開始系は、後述のエチレン性不飽和二
重結合を少くとも１個有する付加重合可能な化合
物に対して重量比率で0.1％ないし30％であり、
好ましくは0.5％ないし20％の範囲である。 本発明の光重合性組成物に含まれるエチレン性
不飽和二重結合を少くとも１個有する付加重合可
能な化合物は、光重合性組成物が活性光線の照射
を受けた場合、前述の光重合開始系の光分解生成
物の作用により付加重合することにより硬化し実
質的に不溶化をもたらすようなエチレン性不飽和
二重結合を有する単量体、または、側鎖もしくは
主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体
である。なお、本発明における単量体の意味する
ところは、所謂高分子物質に相対する概念であつ
て、従つて、狭義の単量体以外に二量体、三量
体、オリゴマーをも包含するものである。 エチレン性不飽和結合を有する単量体としては
例えば不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂
肪族ポリヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和
カルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化合物とのエ
ステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び
前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリ
ヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物との
エステル化反応により得られるエステル等が挙げ
られる。 不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マ
レイン酸などがある。 脂肪族ポリヒドロキシ化合物としては、例え
ば、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、ネオペンチルグリコール、プロピレン
グリコール、１，２―ブタンジオール等の二価ア
ルコール類、トリメチロールエタン、トリメチロ
ールプロパン、グリセロール等の三価アルコー
ル、ペンタエリスリトール、トリペンタエリスリ
トール等の四価以上のアルコール類、ジヒドロキ
シマレイン酸等の多価ヒドロキシカルボン酸類が
ある。 芳香族ポリヒドロキシ化合物としてはハイドロ
キノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロール
等がある。 多価カルボン酸としては、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、テトラクロルフタル酸、ト
リメリツト酸、ピロメリツト酸、ベンゾフエノン
ジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、マロン
酸、グルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、テ
トラヒドロフタル酸等がある。 脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン
酸とのエステルの具体例としては、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、テトラメチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリト
ールオクタアクリレート、グリセロールジアクリ
レート等のアクリル酸エステル、トリエチレング
リコールジメタクリレート、テトラメチレングリ
コールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、トリメチロールエタント
リメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、
ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジ
ペンタエスストールテトラメタクリレート、トリ
ペンタエリスリトールオクタメタクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、１，２―ブ
タンジオールジメタクリレート、ソルビトールテ
トラメタクリレート等のメタクリル酸エステル、
エチレングリコールジイタコネート、プロピレン
グリコールジイタコネート、１，２―ブタンジオ
ールジイタコネート、テトラメチレングリコール
ジイタコネート、ペンタエリスリトールトリイタ
コネート等のイタコン酸エステル、エチレングリ
コールジクロトネート、ジエチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールテトラクロ
トネート等のクロトン酸エステル、エチレングリ
コールジマレエート、トリエチレングリコールジ
マレエート、ペンタエリスリトールジマレエート
等のマレイン酸エステルがある。 芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン
酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアク
リレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レ
ゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリ
レート、ピロガロールトリアクリレート等が挙げ
られる。 不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒ
ドロキシ化合物とのエステル化反応により得られ
るエステルとしては必ずしも単一物では無いが代
表的な具体例を表１に記す。表中のＺはアクリロ
イル基またはメタクリロイル基を示す。 【表】 【表】 その他本発明に用いられるエチレン性不飽和二
重結合を有する化合物の例としてはアクリルアミ
ド、エチレンビスアクリルアミド、ヘキサメチレ
ンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類、エ
チレンビスメタクリルアミド、ヘキサメチレンビ
スメタクリルアミド等のメタクリルアミド類、フ
タル酸ジアリル、マロン酸ジアリル、フマル酸ジ
アリル、トリアリルイソシアヌレート等のアリル
エステル類、ジビニルアジペート、ジビニルフタ
レート、エチレングリコールジビニルエーテル等
のビニール含有化合物が挙げられる。 主鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は
例えば不飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合
物との重縮合反応により得られるポリエステル、
不飽和二価カルボン酸とジアミンとの重縮合反応
により得られるポリアミド等がある。本発明で使
用するこれら重合体は、通常、10000〜100000の
分子量を有する。不飽和二価カルボン酸としては
マレイン酸、フマール酸などが挙げられる。側鎖
にエチレン性不飽和結合を有する重合体は側鎖に
不飽和結合をもつ二価カルボン酸例えばイタコン
酸、α―メチルイタコン酸、γ―メチルイタコン
酸、プロピリデンコハク酸、α―エチリデングル
タル酸、エチリデンマロン酸、プロピリデンマロ
ン酸等とジヒドロキシ化合物との重縮合反応によ
り得られるポリエステル、ジアミノとの重縮合反
応により得られるポリアミド等がある。また側鎖
にヒドロキシ基やハロゲン化メチル基の如き反応
活性を有する官能基をもつ重合体と（メタ）アク
リル酸、クロトン酸の様な不飽和カルボン酸との
高分子反応により得られるポリマーも好適に使用
し得る。前記の反応活性を有する官能基をもつ重
合体としてはポリビニルアルコール、ビニルアル
コールと酢酸ビニルとの共重合体、ビニルアルコ
ールとアクリロニトリル、スチレン、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン等との共重合体、ポリエピク
ロルヒドリン、２―ヒドロキシエチルメタクリレ
ートとアクリロニトリル、メチルメタクリレー
ト、ブチルメタクリレート、スチレン、塩化ビニ
リデン、酢酸ビニル等との共重合体、エピクロル
ヒドリンと２，２―ビス（４―ヒドロキシフエニ
ル）―プロパンとの反応により得られるポリエー
テル、ポリ（４―ヒドロキシスチレン）、ポリ
（Ｎ―メチロールアクリルアミド）などが挙げら
れる。 以上記載したエチレン性不飽和二重結合を少く
とも１個有する付加重合可能な化合物の内、アク
リル酸エステル類またはメタクリル酸エステル類
の単量体が特に好適に使用できる。 本発明の光重合性組成物は前記したエチレン性
不飽和結合を有する化合物と光重合開始系とを必
須成分として含有するが、本組成物の改質、光硬
化後の物性改善の為に結合剤として有機高分子物
質を更に添加することができる。結合剤は相溶
性、皮膜形成性、現像性、接着性等改善目的に応
じて適宜選択すればよい。具体的には例えば水系
現像性改善には（メタ）アクリル酸共重合体、イ
タコン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共
重合体、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セル
ロース変性物、ポリエチレンオキシド、ポリビニ
ルピロリドン等があり、皮膜強度、接着性の改善
にはエピクロロヒドリンとビスフエノールＡとの
ポリエーテル、可溶性ナイロン、ポリメチルメタ
クリレートの様なポリメタクリル酸アルキルやポ
リアクリル酸アルキル、メタクリル酸アルキルと
アクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共
重合体、アクリロニトリルと塩化ビニル、塩化ビ
ニリデンとの共重合体、塩化ビニリデン、塩素化
ポリオレフイン、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共
重合体、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルとス
チレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタジ
エン、スチレンとの共重合体、ポリビニルアルキ
ルエーテル、ポリビニルアルキルケトン、ポリス
チレン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエチレ
ンテレフタレートイソフタレート、アセチルセル
ローズポリビニルブチラール等を挙げることがで
きる。これらの結合剤はエチレン結合を有する化
合物に対し重量比率で500％以下、好ましくは200
％以下の範囲で添加混合することができる。 本発明の光重合性組成物は必要に応じ更に熱重
合防止剤、着色剤、可塑剤、表面保護剤、平滑
剤、塗布助剤等添加することができる。 熱重合防止剤としては例えばハイドロキノン、
ｐ―メトキシフエノール、ピロガロール、カテコ
ール、２，６―ジ―ｔ―ブチル―ｐ―クレゾー
ル、β―ナフトールなどがあり、着色剤として
は、例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、
カーボンブラツク、酸化チタンなどの顔料、エチ
ルバイオレツト、クリスタルバイオレツト、アゾ
系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料
がある。これら熱重合防止剤や着色剤の添加量は
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合
剤との合計重量に対し熱重合防止剤が0.01％ない
し３％、着色剤0.1ないし20％が好ましい。可塑
剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデ
シルフタレート、ジブチルフタレート、ブチルベ
ンジルフタレート、トリエチレングリコールジカ
プリレート、ジメチルグリコールフタレート、ト
リクレジルホスフエート、ジオクチルアジペー
ト、ジブチルアジペート、ジブチルセバケート、
ジブチルマレエート、トリアセチルグリセリン等
がありエチレン性不飽和二重結合基を有する化合
物と結合剤との合計重量に対し５％以下添加する
ことができる。 本発明の光重合性組成物は無溶剤にて感光材料
を形成するかまたは適当な溶剤に溶解して溶液と
なしこれを支持体上に塗布、乾燥して感光材料を
調製する。溶剤としては例えばメチルエチルケト
ン、アセトン、シクロキサノン、酢酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル、ト
ルエン、キシリン、ベンゼン、モノクロロベンゼ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチ
レン、トリクロロエタン、ジメチルホルムアミ
ド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テト
ラヒドロフラン、ペントキソン等がある。 本発明の光重合性組成物を用いて感光材料を調
製する際に適用される支持体としては例えばアル
ミニウム、マグネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニ
ツケル、鉄等の金属またはそれらを主成分とした
合金のシート、上質紙、アート紙、剥離紙の様な
紙類、ガラス、セラミツクスの如き無機シート、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リメチルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニ
ル―塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、６
―ナイロン、６，６―ナイロン、セルロースジア
セテート、セルローストリアセテート、セルロー
スアセテートブチレートの様なポリマーシートな
どがある。これらの支持体は感光層の両側に適用
する場合もあり、また接着強度を調節する為に表
面処理を施してもよい。 また本発明の光重合性組成物はさらに酸素によ
る感度低下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止
する為の公知技術、例えば、感光層上に剥離可能
な透明カバーシートを設けたり酸素透過性の小さ
いロウ状物質、水溶性ポリマー等による被覆層を
設けることもできる。 本発明の組成物に適用し得る露光光源としては
カーボンアーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、
メタルハライドランプ、螢光ランプ、タングステ
ンランプ、アルゴンレーザー、ヘリウム―カドミ
ウムレーザー等180nm以上の紫外線、可視光線を
含む汎用の光源を好適に使用し得る。 本発明の光重合性組成物は広範囲に応用分野に
有用であつて例えば平版、凹版、凸版等印刷版の
作成、プリント配線やICの作成の為のフオトレ
ジスト、レリーフ像や画像複製などの画像形成、
光硬化のインク、塗料、接着剤等に利用できるが
特に可視光線の光源を用いる応用分野に有効であ
る。 以下本発明に実施例ならびに比較例、参考例に
より具体的に説明するが本発明はこれら実施例に
限定されるものではない。 なお、光重合開始系の成分は次の略号により記
載した。 ―ａ……２―〔４―（ｐ―ジメチルアミノフエ
ニル）―１，３―ブタジエニル〕―ベンゾ
〔４，５〕ベンゾチアゾール ―ｂ……２―〔４―（ｐ―ジメチルアミノフエ
ニル）―１，３―ブタジエニル〕―ベンゾ
〔６，７〕ベンゾチアゾール ―ｃ……２―〔４―（ｐ―ジメチルアミノフエ
ニル）―１，３―ブタジエニル〕―ベンゾ
チアゾール ―ｄ……２―〔４―（ｐ―ジメチルアミノフエ
ニル）―３―メチル―１，３―ブタジエニ
ル〕―ベンゾ〔４，５〕ベンゾチアゾール ―ｅ……２―〔４―（ｐ―ジエチルアミノフエ
ニル）―１，３―ブタジエニル〕―ベンゾ
〔４，５〕ベンゾチアゾール ―ｆ……２―〔４―（ｐ―ジメチルアミノフエ
ニル）―１，３―ブタジエニル〕―５―メ
チル―ベンゾチアゾール ―ｒ……２―（ｐ―ジエチルアミノベンジリデ
ン）―１―インダノン ―ｓ……２，６―ビス（ｐ―ジエチルアミノベ
ンジリデン）シクロヘキサノン ―ａ……２，2′―ビス（ｏ―クロロフエニル）
―４，4′，５，5′―テトラフエニルビイミ
ダゾール 参考例 １ 試料Ａの調製 ポリメチルメタクリレートBR―83（三菱レイ
ヨン社製）を常法により8mol％部分加水分解し
て得たメチルメタクリレート／メタクリル酸共重
合体（結合剤）１，２ｇおよびペンタエリスリト
ールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製）
2.8ｇ、ｐ―メトキシフエノール12mg、エチルバ
イオレツト12mgをメチルエチルケトン40ｇに溶解
し感光液原液を調製した。この感光液原液に表２
または表３に示す一定量の光重合開始系試料を添
加し、これを砂目立てかつ陽極酸化を施したアル
ミニウムシート上にホワラーを用い、乾燥膜厚
1.8μmとなる様に塗布し、次いで80℃、５分間乾
燥した。その表面に更にポリビニルアルコール水
溶液を塗布し乾燥膜厚3.0μmのオーバーコート層
を設け試料Ａを作成した。 参考例 ２ 試料Ｂの調製 １，１，２，２―テトラクロロエタン30c.c.中に
２，６―ジ―ｔ―ブチル―ｐ―クレゾール40mgお
よびメタクリレートターポリマー（ヒドロキシエ
チルメタクリレート／メチルメタクリレート／ア
クリロニトリルで各モル分率0.5／0.3／0.2、
DMF中の還元比粘度0.21dl／ｇ）2.0ｇ、アクリ
ロニイルクロライド2.0ｇを溶解し100℃にて４時
間反応後室温に冷却した後メタノール中300c.c.中
へ撹拌しつつ排出した。析出したポリマーを真空
乾燥すれば側鎖にアクリロイル基を有するポリマ
ー2.2ｇを得る。本ポリマー0.6ｇ、ｐ―メトキシ
フエノール４mg、銅フタロシアニン顔料30mgをメ
チルエチルケトン14ｇ中に溶解または分散させて
感光液原液を調製する。これに表４に示す光重合
開始系試料の一定量を溶解した後ホワラーを用い
参考例１と同様のアルミニウムシート上に乾燥膜
厚1.8μmとなる様に塗布し試料Ｂを作成した。 実施例１〜６および比較例１〜５ 試料Ａの上にステツプタブレツト（イーストマ
ンコダツク社製）重ね真空焼枠中にて露光し、次
いで、ブチルセロソルブ９重量％、ケイ酸ソーダ
１重量％を含む水溶液にて現像を行ない得られた
光硬化画像の段数により感度を測定した。露光条
件は高圧水銀燈の光源から色ガラスフイルターＣ
―40AおよびＹ―43（共に東芝ガラス社製）の両
者を通して得られる436nmの光線（光強度
2.5mW／cm²）を85秒間照射した。結果を表２に
示した。 尚、表１〜３中の光重合開始系の添加量は感光
層固体成分量に対する重量％を示している。 【表】 【表】 実施例７〜11および比較例６〜10 実施例１において露光条件としてキセノン燈光
源から色ガラスフイルターＹ―47および干渉フイ
ルターKL―49（共に東芝ガラス社製）の両者を通
して得られる490nm前後の波長の光線（光強度
1.8mW／cm²）を60秒間照射した以外は同実施例
の方法により評価した。結果を表３に示す。 【表】 【表】 実施例12〜17および比較例11〜13 試料Ｂの上に実施例１記載のステツプタブレツ
トを重ね真空焼枠中にて露光し、次いでγ―ブチ
ロラクトンにて現像し、得られた光硬化画像の段
数により感度を測定した。露光時間５分間に変更
した以外は実施例１の露光条件にて行なつた。結
果を表４に示す。 【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ エチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個
   有する付加重合可能な化合物および光重合開始系
   から成る光重合性組成物において、該光重合開始
   系が (a) 一般式 〔式中、R¹はアルキル基を示し、R²は水素原
   子またはアルキル基を表わしており、環Ａは置換
   基を有していてもよいベンゼン環またはナフタリ
   ン環であつてチアゾール環と縮合している。〕で
   表わされるＰ―ジアルキルアミノシンナミリデン
   誘導体、および(b)ヘキサアリールビイミダゾール
   を含有することを特徴とする光重合性組成物。 ２ Ｐ―ジアルキルアミノシンナミリデン誘導体
   が、一般式、 〔式中、R¹はメチル基またはエチル基を示し、
   R²は水素原子またはメチル基を表わしており、
   環Ａはベンゼン環またはナフタリン環であつてチ
   アゾール環と縮合している。〕で表わされる化合
   物である特許請求の範囲第１項記載の組成物。 ３ ヘキサアリールビイミダゾールが、２，2′―
   ビス（０―クロロフエニル）―４，4′，５，5′―
   テトラフエニルビイミダゾールである特許請求の
   範囲第１項記載の組成物。