JPH0466573A - 5―アミノ―ピラゾール化合物の製造方法 - Google Patents
5―アミノ―ピラゾール化合物の製造方法Info
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- PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4-(2-chloroacetyl)piperazine-1-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1CCN(C(=O)CCl)CC1 PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ハロゲン化銀カラー写真感光材料や写真用、
感熱転写プロセス用、カラー電子写真用、印刷用の染料
の中間物質として使用されるIH−ビラシアゾール系カ
プラー、例えばIH−ピラゾロ[1,5−b]−1,2
,4−)リアゾール系カプラーおよびIH−ピラゾーロ
[3,2−c]−1,2,4−)リアゾール系カプラー
等を合成するために有用な合成中間体である5−アミノ
−ピラゾール化合物を、さらには、7−アミノ−ピラゾ
ロ[1,5−alピリミジン系医薬品等を合成するため
の合成中間体である5−アミノピラゾール化合物を簡便
、かつ、工業的規模で安価に製造する製造方法に関する
。
感熱転写プロセス用、カラー電子写真用、印刷用の染料
の中間物質として使用されるIH−ビラシアゾール系カ
プラー、例えばIH−ピラゾロ[1,5−b]−1,2
,4−)リアゾール系カプラーおよびIH−ピラゾーロ
[3,2−c]−1,2,4−)リアゾール系カプラー
等を合成するために有用な合成中間体である5−アミノ
−ピラゾール化合物を、さらには、7−アミノ−ピラゾ
ロ[1,5−alピリミジン系医薬品等を合成するため
の合成中間体である5−アミノピラゾール化合物を簡便
、かつ、工業的規模で安価に製造する製造方法に関する
。
(従来の技術)
IH−ピラゾロアゾール系カプラー、例えばIH−ピラ
ゾロ[1,5−b]−1,2,4−1−リアゾールおよ
びIH−ピラゾロ[3,2−c]−1,2,4−)リア
ゾール化合物はそれぞれ米国特許筒4,540,654
号明細書および米国特許筒3,725,067号明細書
に記載されているように優れた色相を与えるマゼンタカ
プラーである。またIH−ピラゾロ[1,5−C]−テ
トラゾールカプラー、IH−イミダゾ[1,2−b]ピ
ラゾールカプラー、IH−ピラゾロ[1゜5−d]ベン
ズイミダゾールカプラーに関しても、それぞれ特開昭6
0−33552号、同59−162548号、米国特許
筒3,061,432号に記載されている。また、特開
昭63−264753号においてシアンカプラーとして
IH−ピラゾロアゾール化合物が知らハている。
ゾロ[1,5−b]−1,2,4−1−リアゾールおよ
びIH−ピラゾロ[3,2−c]−1,2,4−)リア
ゾール化合物はそれぞれ米国特許筒4,540,654
号明細書および米国特許筒3,725,067号明細書
に記載されているように優れた色相を与えるマゼンタカ
プラーである。またIH−ピラゾロ[1,5−C]−テ
トラゾールカプラー、IH−イミダゾ[1,2−b]ピ
ラゾールカプラー、IH−ピラゾロ[1゜5−d]ベン
ズイミダゾールカプラーに関しても、それぞれ特開昭6
0−33552号、同59−162548号、米国特許
筒3,061,432号に記載されている。また、特開
昭63−264753号においてシアンカプラーとして
IH−ピラゾロアゾール化合物が知らハている。
これらのピラゾロアゾール化合物を合成する方法が特開
昭60−190779号、同60−197688号、同
60−215687号、同61145163号、同61
−18780号、同61−249969号等に記載され
ている。
昭60−190779号、同60−197688号、同
60−215687号、同61145163号、同61
−18780号、同61−249969号等に記載され
ている。
これらのピラゾロアゾール化合物の合成法において種々
の合成中間体が報告されているが、その中で重要なもの
の1つが5−アミノ−I H−ピラゾール類である。
の合成中間体が報告されているが、その中で重要なもの
の1つが5−アミノ−I H−ピラゾール類である。
例えば特開昭60−197688号、同6114516
3号には、IH−ピラゾロ[1,5b]−1,2,4−
)リアゾールに至る出発原料としての5−アミノ−1H
−ピラゾール類が記載され、同様に特開昭61−249
969号にもIH−ピラゾロ[3,2−c]−1,2,
4−1−リアゾールに至る出発原料として5−アミノ1
H−ピラゾール類の記載がある。
3号には、IH−ピラゾロ[1,5b]−1,2,4−
)リアゾールに至る出発原料としての5−アミノ−1H
−ピラゾール類が記載され、同様に特開昭61−249
969号にもIH−ピラゾロ[3,2−c]−1,2,
4−1−リアゾールに至る出発原料として5−アミノ1
H−ピラゾール類の記載がある。
このように5−アミノ−IH−ピラゾール類はピラゾロ
トリアゾール化合物の合成において極めて有用な合成中
間体であるが、その合成法として報告されている例は余
り多くない。特に写真用マゼンタカプラーへの応用を考
えた場合、3位にアルキル基をもつ5−アミノ−IH−
ピラゾール類が重要であるが、その合成法としては文献
に具体的に記載されているのは次のようなものがあるの
みである。
トリアゾール化合物の合成において極めて有用な合成中
間体であるが、その合成法として報告されている例は余
り多くない。特に写真用マゼンタカプラーへの応用を考
えた場合、3位にアルキル基をもつ5−アミノ−IH−
ピラゾール類が重要であるが、その合成法としては文献
に具体的に記載されているのは次のようなものがあるの
みである。
〈3位にアルキル基をもつ5−アミノ−IH−ビゾール
の合成法〉 (発明が解決しようとする課題) これらの・うち短工程で、効率的であると認められる合
成法はd)、e)、f)であるが、これらの合成法の出
発原料である3−アミノクロトノニトリルやアシルアセ
トニトリルは高価であったり、−船釣な物質でなく入手
が容易でないという問題があった。
の合成法〉 (発明が解決しようとする課題) これらの・うち短工程で、効率的であると認められる合
成法はd)、e)、f)であるが、これらの合成法の出
発原料である3−アミノクロトノニトリルやアシルアセ
トニトリルは高価であったり、−船釣な物質でなく入手
が容易でないという問題があった。
したがってこのような出発原料を用いなくてよい3位に
アルキル基が置換した5−アミノ−IH−ピラゾール類
の新しい合成法の開発が必要とされていた。
アルキル基が置換した5−アミノ−IH−ピラゾール類
の新しい合成法の開発が必要とされていた。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは、このような要請に対応するため鋭意検討
を重ねた結果、比較的安価で入手容易なa、β−不飽和
二トリル類をハロゲン化して出発原料とし、これをヒド
ラジンと反応させることにより、3−アルキル−5−ア
ミノ−IH−ピラゾール類のみならず、3−アリール−
5−アミノ−LH−ピラゾール類が合成可能なことを見
い出し、この知見に基づき本発明をなすに至った。
を重ねた結果、比較的安価で入手容易なa、β−不飽和
二トリル類をハロゲン化して出発原料とし、これをヒド
ラジンと反応させることにより、3−アルキル−5−ア
ミノ−IH−ピラゾール類のみならず、3−アリール−
5−アミノ−LH−ピラゾール類が合成可能なことを見
い出し、この知見に基づき本発明をなすに至った。
すなわち本発明は、(1)下記一般式(n)で表わされ
る化合物とヒドラジンを反応させることを特徴とする、
下記一般式(I)で表わされる5−アミノ−ビラゾール
化合物の製造方法、一般式(I) (式中、R,はアルキル基又はアリール基を示す。) 一般式(II) (式中、R,は前記と同じ意味を持ち、haj2はハロ
ゲン原子を示す。) (2)前記一般式(II)で表わされる化合物が;下記
一般式(I[[)で表わされる化合物をハロゲン化して
得られることを特徴とする前記(1)の5−アミノ−ピ
ラゾール化合物の製造方法、及び一般式(m) R,−CH二CH−CN (式中、Roは前記と同じ意味を持つ。)(3)前記一
般式(ITJ)で表わされる化合物のノ\ロゲン化をル
イス酸又はラジカル禁止剤の存在下行うことを特徴とす
る前記(1)の5−アミノ−ピラゾール化合物の製造方
法を提供するものである。
る化合物とヒドラジンを反応させることを特徴とする、
下記一般式(I)で表わされる5−アミノ−ビラゾール
化合物の製造方法、一般式(I) (式中、R,はアルキル基又はアリール基を示す。) 一般式(II) (式中、R,は前記と同じ意味を持ち、haj2はハロ
ゲン原子を示す。) (2)前記一般式(II)で表わされる化合物が;下記
一般式(I[[)で表わされる化合物をハロゲン化して
得られることを特徴とする前記(1)の5−アミノ−ピ
ラゾール化合物の製造方法、及び一般式(m) R,−CH二CH−CN (式中、Roは前記と同じ意味を持つ。)(3)前記一
般式(ITJ)で表わされる化合物のノ\ロゲン化をル
イス酸又はラジカル禁止剤の存在下行うことを特徴とす
る前記(1)の5−アミノ−ピラゾール化合物の製造方
法を提供するものである。
次に本発明について詳しく説明する。
本発明の反応は以下に示すスキームによって表わすこと
ができる。
ができる。
スキーム(1)
(II)
(I)
上記スキームにおいて一般式(TU)で表わされるアク
リロニトリル類のハロゲン化による化合物(II)の生
成反応は、適当な溶媒に溶解又は分散して行ってもよい
し、無溶媒で行ってもよい。用いることのできる代表的
な溶媒としては、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水
素溶媒が挙げられるが、好ましくは無溶媒で行う。一般
式(1’l?)で表わされる化合物とhaρ2 (塩素
又は臭素)は好ましくは、モル比1:0.5〜1:1.
5で用いられ、より好ましくはに0.8〜1:1.2の
モル比で使用される。また、この工程に用いられるルイ
ス酸又はラジカル禁止剤は、−1式(III)で表わさ
れる化合物1モルに対して好ましくは0.01モル〜1
0モル用いられ、より好ましくは0.1モル〜0.5モ
ル用いられる。反応温度は10℃〜150℃で行えるが
50℃〜120℃が好ましく、60℃〜100℃が特に
好ましい。反応時間は反応温度が10℃〜150℃の場
合には10分間から20時間で十分である。
リロニトリル類のハロゲン化による化合物(II)の生
成反応は、適当な溶媒に溶解又は分散して行ってもよい
し、無溶媒で行ってもよい。用いることのできる代表的
な溶媒としては、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水
素溶媒が挙げられるが、好ましくは無溶媒で行う。一般
式(1’l?)で表わされる化合物とhaρ2 (塩素
又は臭素)は好ましくは、モル比1:0.5〜1:1.
5で用いられ、より好ましくはに0.8〜1:1.2の
モル比で使用される。また、この工程に用いられるルイ
ス酸又はラジカル禁止剤は、−1式(III)で表わさ
れる化合物1モルに対して好ましくは0.01モル〜1
0モル用いられ、より好ましくは0.1モル〜0.5モ
ル用いられる。反応温度は10℃〜150℃で行えるが
50℃〜120℃が好ましく、60℃〜100℃が特に
好ましい。反応時間は反応温度が10℃〜150℃の場
合には10分間から20時間で十分である。
次に、一般式(TI)で表わさハる化合物とヒドラジン
を環化反応させ一般式(I)で表わされる5−アミノピ
ラゾール化合物を得る工程を説明する。この反応は無溶
媒で行ってもよいし、適当な溶媒を用いて行ってもよい
。この反応に用いられる代表的な溶媒としては、水、メ
タノール、エタノール、イソプロパツール等のアルコー
ル類、ジメチルアセトアミド、ジメチルイミダゾリトン
、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
又はトルエン等が挙げられる。特に、水又はアルコール
系溶媒が好ましい、これらの溶媒は単独で用いてもよい
し、2種以上を混合して用いてもよい。溶媒の使用量は
一般式(■)で表わされる化合物の1重量部当り0.1
〜1000重量部、好ましくは065〜20重量部の割
合で使用される。
を環化反応させ一般式(I)で表わされる5−アミノピ
ラゾール化合物を得る工程を説明する。この反応は無溶
媒で行ってもよいし、適当な溶媒を用いて行ってもよい
。この反応に用いられる代表的な溶媒としては、水、メ
タノール、エタノール、イソプロパツール等のアルコー
ル類、ジメチルアセトアミド、ジメチルイミダゾリトン
、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
又はトルエン等が挙げられる。特に、水又はアルコール
系溶媒が好ましい、これらの溶媒は単独で用いてもよい
し、2種以上を混合して用いてもよい。溶媒の使用量は
一般式(■)で表わされる化合物の1重量部当り0.1
〜1000重量部、好ましくは065〜20重量部の割
合で使用される。
本発明に用いられるヒドラジンは抱水であっても無水で
あってもよい。一般式(II)で表わされる化合物とヒ
ドラジンは好ましくは1:50のモル比で使用され、よ
り好ましくば1:5のモル比で使用される。またこの工
程では塩基を用いても用いなくてもよいが、用いること
のできる代表的な塩基としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウム等の無機塩基又はピリジン、ジメチルアミ
ノピリジン、トリエチルアミン、DB1ノ、DABCO
等の有機塩基が挙げられる。これらの塩基は、一般式(
II)で表わされる化合物とl二1〜1:5のモル比で
使用され、好ましくは1:1〜1:1.5のモル比で使
用される。この工程の反応温度は一20〜100℃で行
えるが、−20℃〜50℃が好ましく、−10℃〜30
℃が特に好ましい。反応時間は反応温度が一20℃〜1
00℃の場合には30分間から15時間で反応が終結す
る。
あってもよい。一般式(II)で表わされる化合物とヒ
ドラジンは好ましくは1:50のモル比で使用され、よ
り好ましくば1:5のモル比で使用される。またこの工
程では塩基を用いても用いなくてもよいが、用いること
のできる代表的な塩基としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウム等の無機塩基又はピリジン、ジメチルアミ
ノピリジン、トリエチルアミン、DB1ノ、DABCO
等の有機塩基が挙げられる。これらの塩基は、一般式(
II)で表わされる化合物とl二1〜1:5のモル比で
使用され、好ましくは1:1〜1:1.5のモル比で使
用される。この工程の反応温度は一20〜100℃で行
えるが、−20℃〜50℃が好ましく、−10℃〜30
℃が特に好ましい。反応時間は反応温度が一20℃〜1
00℃の場合には30分間から15時間で反応が終結す
る。
次に、本発明の製造方法においては一般式(II)で表
わされる化合物は単離することなく、次の工程に使用さ
れ、目的の一般式(I)で表わされる化合物を収率よく
合成することが可能である。
わされる化合物は単離することなく、次の工程に使用さ
れ、目的の一般式(I)で表わされる化合物を収率よく
合成することが可能である。
さらに、本発明の反応成分について説明すると一般式(
II)さらには(m)で表わされる化合物のR1はアル
キル基又はアリール基を表わす。より詳しく言えばアル
キル基とは例えば炭素数1〜30の直鎖又は分岐鎖の置
換又は無置換のアルキル基を表わし、置換アルキル基の
置換基の例としてはハロゲン原子(例えばフッ素原子、
塩素原子)、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(例え
ば、メトキシ、エトキシ、ヘキシルオキシ)、アリール
オキシ基(例えばフェノキシ、3−ニトロフェノキシ、
2,4−ジ−t−アミルフェノキシ、3−ペンタデシル
フェノキシ)、アリール基(例えばフェニル、4−ニト
ロフェニル)、アルキルスルホニル基(例えば2−へキ
シルデカンスルホニル)、アリールスルホニル基(例え
ば2−プトキシー5−t−オクチルフェニルスルホニル
)、イミド基(例えばフタルイミド)、アミノ基(例え
ばジブチルアミノ)、等を挙げることができる。アルキ
ル基の代表例としては、メチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル、ノニル
、シクロヘキシル、t−ブチル、フェニルエチル、エト
キシメチル、フェノキシメチル、ジブチルアミノメチル
などを挙げることができる。
II)さらには(m)で表わされる化合物のR1はアル
キル基又はアリール基を表わす。より詳しく言えばアル
キル基とは例えば炭素数1〜30の直鎖又は分岐鎖の置
換又は無置換のアルキル基を表わし、置換アルキル基の
置換基の例としてはハロゲン原子(例えばフッ素原子、
塩素原子)、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(例え
ば、メトキシ、エトキシ、ヘキシルオキシ)、アリール
オキシ基(例えばフェノキシ、3−ニトロフェノキシ、
2,4−ジ−t−アミルフェノキシ、3−ペンタデシル
フェノキシ)、アリール基(例えばフェニル、4−ニト
ロフェニル)、アルキルスルホニル基(例えば2−へキ
シルデカンスルホニル)、アリールスルホニル基(例え
ば2−プトキシー5−t−オクチルフェニルスルホニル
)、イミド基(例えばフタルイミド)、アミノ基(例え
ばジブチルアミノ)、等を挙げることができる。アルキ
ル基の代表例としては、メチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル、ノニル
、シクロヘキシル、t−ブチル、フェニルエチル、エト
キシメチル、フェノキシメチル、ジブチルアミノメチル
などを挙げることができる。
アリール基とは置換又は無置換のアリール基を表わし、
置換アリール基の置換基の例としては、ハロゲン原子(
例えばフッ素、塩素、臭素)、ニトロ基、シアノ基、水
酸基、カルボン酸基、スルホン酸基、アルキル基(例え
ばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル)、アリ
ール基(例えばフェニル)、アルコキシ基(例えばメト
キシ、エトキシ、ブトキシ、イソプロピルオキシ、ドデ
シルオキシ)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ、
ナフチルオキシ)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ
、エチルチオ、ブチルチオ、オクチルチオ、2−エチル
へキシルチオ、1−エトキシカルボニルドデシルチオ)
、アリールチオ基(例えばフェニルチオ、4−ヒドロキ
シフェニルチオ、2−ニトロフェニルチオ)、アミノ基
(例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロ
ピルアミノ)、アニリノ基、アシルアミノ基(例えばア
セチルアミノ、ヘキサデカノイルアミノ)、ウレイド基
(例えばジメチルウレイド、ジエチルウレイド)、ウレ
タン基(例えばメチルウレタン、エチルウレタン)、ア
ルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル)、スル
ホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド、ブタンス
ルホンアミド)、スルファモイル基(例えばN、N−ジ
メチルスルファモイル、N、N−ジブチルスルファモイ
ル、N−ブチルスルファモイル、N−シクロへキシルス
ルファモイル、N−ドデシルスルファモイル)、スルホ
ニル基(例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、
ブチルスルホニル、フェニルスルホニル)等を表わし、
2個以上の置換基を有していてもよい。2個以上の置換
基を有する場合は、それらの置換基は同じであっても異
なっていてもよい。アリール基の代表例としては、フェ
ニル、ナフチル、2−ニトロフェニル、3−ニトロフェ
ニル、4−ニトロフェニル、2−メトキシフェニル、2
.4−メトキシフェニル、4−メチルスルホニルフェニ
ル、2゜4.6−)リクロロフェニルなどを挙げること
ができる。
置換アリール基の置換基の例としては、ハロゲン原子(
例えばフッ素、塩素、臭素)、ニトロ基、シアノ基、水
酸基、カルボン酸基、スルホン酸基、アルキル基(例え
ばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル)、アリ
ール基(例えばフェニル)、アルコキシ基(例えばメト
キシ、エトキシ、ブトキシ、イソプロピルオキシ、ドデ
シルオキシ)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ、
ナフチルオキシ)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ
、エチルチオ、ブチルチオ、オクチルチオ、2−エチル
へキシルチオ、1−エトキシカルボニルドデシルチオ)
、アリールチオ基(例えばフェニルチオ、4−ヒドロキ
シフェニルチオ、2−ニトロフェニルチオ)、アミノ基
(例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロ
ピルアミノ)、アニリノ基、アシルアミノ基(例えばア
セチルアミノ、ヘキサデカノイルアミノ)、ウレイド基
(例えばジメチルウレイド、ジエチルウレイド)、ウレ
タン基(例えばメチルウレタン、エチルウレタン)、ア
ルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル)、スル
ホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド、ブタンス
ルホンアミド)、スルファモイル基(例えばN、N−ジ
メチルスルファモイル、N、N−ジブチルスルファモイ
ル、N−ブチルスルファモイル、N−シクロへキシルス
ルファモイル、N−ドデシルスルファモイル)、スルホ
ニル基(例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、
ブチルスルホニル、フェニルスルホニル)等を表わし、
2個以上の置換基を有していてもよい。2個以上の置換
基を有する場合は、それらの置換基は同じであっても異
なっていてもよい。アリール基の代表例としては、フェ
ニル、ナフチル、2−ニトロフェニル、3−ニトロフェ
ニル、4−ニトロフェニル、2−メトキシフェニル、2
.4−メトキシフェニル、4−メチルスルホニルフェニ
ル、2゜4.6−)リクロロフェニルなどを挙げること
ができる。
一般式(III)で表わされる化合物はシス体でもトラ
ンス体でもよい。入手できる化合物にはトランス体が多
い。
ンス体でもよい。入手できる化合物にはトランス体が多
い。
一般式(II)で表わされる化合物のhaffはハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ
素原子)を表わす。
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ
素原子)を表わす。
一般式(I)で表わされる化合物の置換基Rは出発原料
の置換基に対応し前記一般式(Il)及び(m)につい
て説明したR1と同義である。
の置換基に対応し前記一般式(Il)及び(m)につい
て説明したR1と同義である。
次に本発明のハロゲン化工程で用いられるルイス酸又は
ラジカル禁止剤について説明する。
ラジカル禁止剤について説明する。
本発明に用いられるルイス酸とは塩化亜鉛(ZnCj2
2)、臭化亜鉛(ZnBr2) 、塩化アルミニウム(
A42 Cj2. ) 、臭化アルミニウム(+1lB
r3)、塩化鉄(Fe(J2−)、臭化鉄(FeBr−
) 、四塩化スズ(SnCj2 、)、四臭化スズ(S
nBr4) 、四塩化チタン(Ticρ4)、塩化リチ
ウム(LiCρ)、三塩化ホウ素(Bl 3)、三臭化
ホウ素(BBril等を表わす。また、ラジカル禁止剤
としてはニトロベンゼン類(例えばニトロベンゼン、ジ
ニトロベンゼン等)、ヒンダードフェノール類(例えば
2,6−ジーt−ブチルフェノール、4−クロロ−2,
6−ジーt−ブチルフェノール、4−ブロモ−2゜6−
ジーt−ブチルフェノール)等を表わす。
2)、臭化亜鉛(ZnBr2) 、塩化アルミニウム(
A42 Cj2. ) 、臭化アルミニウム(+1lB
r3)、塩化鉄(Fe(J2−)、臭化鉄(FeBr−
) 、四塩化スズ(SnCj2 、)、四臭化スズ(S
nBr4) 、四塩化チタン(Ticρ4)、塩化リチ
ウム(LiCρ)、三塩化ホウ素(Bl 3)、三臭化
ホウ素(BBril等を表わす。また、ラジカル禁止剤
としてはニトロベンゼン類(例えばニトロベンゼン、ジ
ニトロベンゼン等)、ヒンダードフェノール類(例えば
2,6−ジーt−ブチルフェノール、4−クロロ−2,
6−ジーt−ブチルフェノール、4−ブロモ−2゜6−
ジーt−ブチルフェノール)等を表わす。
次に本発明の方法によって得られる一般式(1)で表わ
される5−アミノピラゾール類の代表的な具体例を以下
に示すが本発明はこれらによって限定されるものではな
い。
される5−アミノピラゾール類の代表的な具体例を以下
に示すが本発明はこれらによって限定されるものではな
い。
(I−1)
(実施例)
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、
これは本発明を限定するものではない。
これは本発明を限定するものではない。
実施例1
Br Br
(III()
(I−1)
クロトノニトリル(m−1)33.5(0,5モル)に
臭化亜鉛11. 3g(0,05モル)を加え85℃に
加熱撹拌した。この溶液に臭素80g(0,5モル)を
滴下し、内温を90±2℃に保った。臭素を滴下終了後
、内温を80〜85℃に保ち、約45秒撹拌を続けた。
臭化亜鉛11. 3g(0,05モル)を加え85℃に
加熱撹拌した。この溶液に臭素80g(0,5モル)を
滴下し、内温を90±2℃に保った。臭素を滴下終了後
、内温を80〜85℃に保ち、約45秒撹拌を続けた。
反応終了後、反応液を室温まで冷却してから塩化メチレ
ン200m1、水300m1を加えて抽出を行った。こ
の塩化メチレン溶液を水洗し、無水塩化カルシウムで乾
燥した後、減圧下で塩化メチレンを留去した。得られた
残留物を15mmHg減圧下で蒸留を行い、83 、8
g (73,5%) (7)(II−1)を得た。沸
点105〜110℃/15mmHg。
ン200m1、水300m1を加えて抽出を行った。こ
の塩化メチレン溶液を水洗し、無水塩化カルシウムで乾
燥した後、減圧下で塩化メチレンを留去した。得られた
残留物を15mmHg減圧下で蒸留を行い、83 、8
g (73,5%) (7)(II−1)を得た。沸
点105〜110℃/15mmHg。
ヒドラジン−水和物(80%水溶液)50gをイソプロ
パツール200m1で希釈した溶液を一5℃に冷却し撹
拌した。この溶液に前記の方法で得た(II−1)45
.2g(0,2モル)を滴下した。滴下終了後−1層℃
〜−5℃で1時間撹拌した後、20〜25℃でさらに4
時間撹拌を続けた。反応終了後、反応液を酢酸エチル2
00m1で4回抽出を行った。この酢酸エチル溶液を減
圧下で濃縮した後、さらに減圧蒸留を行い、33.2g
(68,4%)の5−アミノ−3−メチルピラゾール(
I−1)を得た。沸点135〜140℃/1、OmmH
g。
パツール200m1で希釈した溶液を一5℃に冷却し撹
拌した。この溶液に前記の方法で得た(II−1)45
.2g(0,2モル)を滴下した。滴下終了後−1層℃
〜−5℃で1時間撹拌した後、20〜25℃でさらに4
時間撹拌を続けた。反応終了後、反応液を酢酸エチル2
00m1で4回抽出を行った。この酢酸エチル溶液を減
圧下で濃縮した後、さらに減圧蒸留を行い、33.2g
(68,4%)の5−アミノ−3−メチルピラゾール(
I−1)を得た。沸点135〜140℃/1、OmmH
g。
H:NMR(δ:ppm) CDCf1 s6.2〜
5.4 (2〜3H,br)、 5.35(LH,
s)、 2.13(3H,S) 実施例2 クロトノニトリル67.Ig(1,0モル)にニトロベ
ンセン12.5gを加えて80℃に加熱撹拌した。この
溶液に臭素160 g (1,0モル)を滴下する。滴
下終了後、10分間加熱撹拌を続けた。反応終了後、室
温に冷却してから水500dを加え撹拌し放置すると二
層に分離した、下層の有機層を分離し、粗生成物として
化合物(II−1)を得た。
5.4 (2〜3H,br)、 5.35(LH,
s)、 2.13(3H,S) 実施例2 クロトノニトリル67.Ig(1,0モル)にニトロベ
ンセン12.5gを加えて80℃に加熱撹拌した。この
溶液に臭素160 g (1,0モル)を滴下する。滴
下終了後、10分間加熱撹拌を続けた。反応終了後、室
温に冷却してから水500dを加え撹拌し放置すると二
層に分離した、下層の有機層を分離し、粗生成物として
化合物(II−1)を得た。
ヒドラジン−水和物250gをイソプロパツール250
m1で希釈し一5℃に冷却撹拌した。この溶液に前記の
有機層を滴下した。−5〜O℃で1時間撹拌した後、2
0〜25℃でさらに4時間撹拌を行った。反応終了後、
反応液を酢酸エチルで4回抽出を行い、酢酸エチル溶液
を減圧下で濃縮した。残留物を減圧下で蒸留を行い79
.2g(81,5%)の5−アミノ−3−メチルピラゾ
ール(I−1)を得た。沸点およびNMRスペクトルは
前記実施例1で得たものと一致した。
m1で希釈し一5℃に冷却撹拌した。この溶液に前記の
有機層を滴下した。−5〜O℃で1時間撹拌した後、2
0〜25℃でさらに4時間撹拌を行った。反応終了後、
反応液を酢酸エチルで4回抽出を行い、酢酸エチル溶液
を減圧下で濃縮した。残留物を減圧下で蒸留を行い79
.2g(81,5%)の5−アミノ−3−メチルピラゾ
ール(I−1)を得た。沸点およびNMRスペクトルは
前記実施例1で得たものと一致した。
実施例3 例示化合物(I−5)の合成シンナモニトリ
ル(m−5)64.6g(0,5モル)にニトロベンゼ
ンlOgを加えて80℃に加熱撹拌した。この溶液に臭
素80℃(0,5モル)を滴下した。滴下終了後85〜
90℃で15分間撹拌を行った後室温に冷却した。この
反応液に塩化メチレン20m1と水500m1を加えて
しばら(撹拌した後、放置した。2層に分離した下層を
分取し、粗生成物として化合物(II−5)を得た。
ル(m−5)64.6g(0,5モル)にニトロベンゼ
ンlOgを加えて80℃に加熱撹拌した。この溶液に臭
素80℃(0,5モル)を滴下した。滴下終了後85〜
90℃で15分間撹拌を行った後室温に冷却した。この
反応液に塩化メチレン20m1と水500m1を加えて
しばら(撹拌した後、放置した。2層に分離した下層を
分取し、粗生成物として化合物(II−5)を得た。
ヒドラジン−水和物62.5gをイソプロパツール10
0詣で希釈した溶液を、−10℃に冷却し撹拌した。こ
の溶液に上記の方法で得た化合物(II−5)を滴下し
た。滴下終了後O℃〜5℃で1時間撹拌を行った後、2
5〜30℃でさらに4時間撹拌を続けた。反応終了後、
反応液を酢酸エチルで3回抽出した。この酢酸エチル溶
液を減圧下で濃縮し、残留物にアセトニトリルを加えて
結晶を析出させ、ろ取、乾燥した。51.3g(64,
4%)の例示化合物(I−5)を得た。
0詣で希釈した溶液を、−10℃に冷却し撹拌した。こ
の溶液に上記の方法で得た化合物(II−5)を滴下し
た。滴下終了後O℃〜5℃で1時間撹拌を行った後、2
5〜30℃でさらに4時間撹拌を続けた。反応終了後、
反応液を酢酸エチルで3回抽出した。この酢酸エチル溶
液を減圧下で濃縮し、残留物にアセトニトリルを加えて
結晶を析出させ、ろ取、乾燥した。51.3g(64,
4%)の例示化合物(I−5)を得た。
HNMR(δ; ppm) CHCJ2 x7.6〜7
.3(5H,rn)、 5.42(IH,s)、
5.7〜4.7(2H,br) 実施例4 例示化合物(I−6)の合成m−ニトロシン
ナモニトリル(III−6)87.1g(0,5モル)
と臭化亜鉛11.3gを加えて80℃に加熱、撹拌した
。この溶液に臭素80 g (0,5モル)を滴下した
。内温を90℃土2℃に保った。臭素を滴下終了後、内
温を80〜85℃に保ち30分間撹拌を続けた。反応終
了後、反応液を室温まで冷却してから、塩化メチレン4
00m1、水400m1を加えて抽出した。この塩化メ
チレン溶液を水洗し、無水塩化カルシウムで乾燥した後
、減圧下で塩化メチレンを留去し、粗生成物の化合物(
II−6)を得た。
.3(5H,rn)、 5.42(IH,s)、
5.7〜4.7(2H,br) 実施例4 例示化合物(I−6)の合成m−ニトロシン
ナモニトリル(III−6)87.1g(0,5モル)
と臭化亜鉛11.3gを加えて80℃に加熱、撹拌した
。この溶液に臭素80 g (0,5モル)を滴下した
。内温を90℃土2℃に保った。臭素を滴下終了後、内
温を80〜85℃に保ち30分間撹拌を続けた。反応終
了後、反応液を室温まで冷却してから、塩化メチレン4
00m1、水400m1を加えて抽出した。この塩化メ
チレン溶液を水洗し、無水塩化カルシウムで乾燥した後
、減圧下で塩化メチレンを留去し、粗生成物の化合物(
II−6)を得た。
ヒドラジン−水和物62.5gをイソプロパツール15
0m1で希釈した溶液を一10℃に冷却し撹拌した。こ
の溶液に上記の方法で得た化合物(II−6)を滴下し
た。滴下終了後O〜5℃で1時間撹拌を行った後、25
〜30℃でさらに4時間撹拌を続けた。反応終了後、反
応液を3℃の水中に注ぎ、結晶を析出させた。この結晶
をろ取、水洗した後、アセトニトリル/水の混合溶媒で
再結晶を行い65.0g(63,7%)の例示化合物(
I−6)を得た。
0m1で希釈した溶液を一10℃に冷却し撹拌した。こ
の溶液に上記の方法で得た化合物(II−6)を滴下し
た。滴下終了後O〜5℃で1時間撹拌を行った後、25
〜30℃でさらに4時間撹拌を続けた。反応終了後、反
応液を3℃の水中に注ぎ、結晶を析出させた。この結晶
をろ取、水洗した後、アセトニトリル/水の混合溶媒で
再結晶を行い65.0g(63,7%)の例示化合物(
I−6)を得た。
HNMR(δ; ppm) DMSOdall、8(I
H,br)、 8.48(IH,s)、 L2〜8.0
5(2Hd)、 7.8〜7.6(IH,t)、 5.
8(IH,br)、 5.15(2H,br) (発明の効果) 本発明によりカラー写真用カプラーとして有用なIH−
ピラゾロアゾール化合物、例えばIH−ピラゾロ[1,
5−bl−1,2,4−1−リアゾール及び1旦〜ピラ
ゾロ[5,1−旦〕−1゜2.4−トリアゾールの重要
な合成中間体である5−アミノ−1旦−ピラゾール類を
効率的にかっ好収率で合成することができる。また本発
明方法は、比較的安価でかつ入手が容易な物質を出発原
料として、幅広い5−アミノ−IH−ピラゾール類を合
成することができ、写真用カプラーとしてのピラゾロト
リアゾールの合成中間体の製造方法としてその工業的価
値が大きい。
H,br)、 8.48(IH,s)、 L2〜8.0
5(2Hd)、 7.8〜7.6(IH,t)、 5.
8(IH,br)、 5.15(2H,br) (発明の効果) 本発明によりカラー写真用カプラーとして有用なIH−
ピラゾロアゾール化合物、例えばIH−ピラゾロ[1,
5−bl−1,2,4−1−リアゾール及び1旦〜ピラ
ゾロ[5,1−旦〕−1゜2.4−トリアゾールの重要
な合成中間体である5−アミノ−1旦−ピラゾール類を
効率的にかっ好収率で合成することができる。また本発
明方法は、比較的安価でかつ入手が容易な物質を出発原
料として、幅広い5−アミノ−IH−ピラゾール類を合
成することができ、写真用カプラーとしてのピラゾロト
リアゾールの合成中間体の製造方法としてその工業的価
値が大きい。
特許出願人 冨士写真フィルム株式会社代理人 弁理士
飯 1)敏 コ−゛−ネ6゛ゝ
飯 1)敏 コ−゛−ネ6゛ゝ
Claims (2)
- (1)下記一般式(II)で表わされる化合物とヒドラジ
ンを反応させることを特徴とする、下記一般式( I )
で表わされる5−アミノ−ピラゾール化合物の製造方法
。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1はアルキル基又はアリール基を示す。) 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は前記と同じ意味を持ち、halはハロ
ゲン原子を示す。) - (2)前記一般式(II)で表わされる化合物が、下記一
般式(III)で表わされる化合物をハロゲン化して得ら
れることを特徴とする請求項(1)の5−アミノ−ピラ
ゾール化合物の製造方法。 一般式(III) R_1−CH=CH−CN (式中、R_1は前記と同じ意味を持つ。)(3)前記
一般式(III)で表わされる化合物のハロゲン化をルイ
ス酸又はラジカル禁止剤の存在下で行うことを特徴とす
る請求項(1)の5−アミノ−ピラゾール化合物の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17263490A JPH0466573A (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 5―アミノ―ピラゾール化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17263490A JPH0466573A (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 5―アミノ―ピラゾール化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0466573A true JPH0466573A (ja) | 1992-03-02 |
Family
ID=15945518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17263490A Pending JPH0466573A (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 5―アミノ―ピラゾール化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0466573A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0704758A1 (en) | 1994-09-12 | 1996-04-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide color photographic material |
-
1990
- 1990-07-02 JP JP17263490A patent/JPH0466573A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0704758A1 (en) | 1994-09-12 | 1996-04-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide color photographic material |
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