JPH046689A - 磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気ディスク装置Info
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- JPH046689A JPH046689A JP2109475A JP10947590A JPH046689A JP H046689 A JPH046689 A JP H046689A JP 2109475 A JP2109475 A JP 2109475A JP 10947590 A JP10947590 A JP 10947590A JP H046689 A JPH046689 A JP H046689A
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- magnetic disk
- housing
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B25/00—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus
- G11B25/04—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus using flat record carriers, e.g. disc, card
- G11B25/043—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus using flat record carriers, e.g. disc, card using rotating discs
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/14—Reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture, dust
- G11B33/1486—Control/regulation of the pressure, e.g. the pressure inside the housing of a drive
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/41—Cleaning of heads
Landscapes
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［概 要］
磁気ディスク装置に関し、
筺体内の凝縮汚染性ガスが磁気ヘットのスライダ面で凝
縮液化するのを防いでヘットクラッシュの発生を防止す
ることを目的とし、 第１の発明は、磁気ディスク及びそのディスク面に対し
浮上可能なスライダ面を有する磁気ヘッドを筺体内に備
える磁気ディスク装置において、該ヘッドスライダ面に
生しる最高気圧をＰ（Ｐ＞１）気圧とする時、筺体内に
含まれる各種ガスの蒸気分圧を飽和蒸気圧の１／Ｐ以下
とする構成とし、また第２の発明は磁気ヘッドにスライ
ダ面をその周囲の温度より３〜１５℃高くする加熱手段
を設けた構成としている。
縮液化するのを防いでヘットクラッシュの発生を防止す
ることを目的とし、 第１の発明は、磁気ディスク及びそのディスク面に対し
浮上可能なスライダ面を有する磁気ヘッドを筺体内に備
える磁気ディスク装置において、該ヘッドスライダ面に
生しる最高気圧をＰ（Ｐ＞１）気圧とする時、筺体内に
含まれる各種ガスの蒸気分圧を飽和蒸気圧の１／Ｐ以下
とする構成とし、また第２の発明は磁気ヘッドにスライ
ダ面をその周囲の温度より３〜１５℃高くする加熱手段
を設けた構成としている。
本発明は、磁気ディスク装置に係り、さらに詳細には磁
気ヘッドのスライダ面に汚染ガスによる汚れが生じない
ようにしてヘッドクラッシュの発生を防止する磁気ディ
スク装置に関する。
気ヘッドのスライダ面に汚染ガスによる汚れが生じない
ようにしてヘッドクラッシュの発生を防止する磁気ディ
スク装置に関する。
情報処理装置の外部記憶として使用される磁気ディスク
装置では、情報量の増加に伴ってますます記録密度の向
上と高信頼性が要求されている。
装置では、情報量の増加に伴ってますます記録密度の向
上と高信頼性が要求されている。
従来、より高密度記録を指向した磁気ディスク装置では
、記録媒体面と磁気ヘッドとの間のスペーシングロスを
減らすため、ディスク表面に浮上する磁気ヘッドの浮上
高さ（浮上量）をより低くする構造を採用している。そ
の浮上量も最近では０．１μｍを下回る微小間隔の採用
が真剣に検討されている。
、記録媒体面と磁気ヘッドとの間のスペーシングロスを
減らすため、ディスク表面に浮上する磁気ヘッドの浮上
高さ（浮上量）をより低くする構造を採用している。そ
の浮上量も最近では０．１μｍを下回る微小間隔の採用
が真剣に検討されている。
ところが、ヘッド浮上高さが低下すると磁気ディスクと
磁気ヘッドとの接触の確率が上がるため、ヘッドクラッ
シュの発生確率も増大し、その接触をいかに防ぐかが最
も重要な課題である。
磁気ヘッドとの接触の確率が上がるため、ヘッドクラッ
シュの発生確率も増大し、その接触をいかに防ぐかが最
も重要な課題である。
ここでヘッドとディスクとの接触について説明する。
ヘッドとディスクの接触は、ディスク表面のヘッド浮上
高さを越える大きな突起（製造段階で媒体内に残留した
異物や付着汚染物）、塵埃の侵入、及びヘッドとディス
クの相互振動によるもの、とこれまで考えられていた。
高さを越える大きな突起（製造段階で媒体内に残留した
異物や付着汚染物）、塵埃の侵入、及びヘッドとディス
クの相互振動によるもの、とこれまで考えられていた。
しかし本発明者は、このヘット・ディスクの接触を起こ
す主な原因が、実稼動中におけるヘッド及びディスク表
面の汚染にあること、とくにヘッドの下面すなわちディ
スク表面に対するスライダ面の圧力の高い箇所でガスも
圧縮されて凝縮を起こし当該スライダ面を汚染するとい
うことを実験的に確認した。この実験の詳細は後述する
こととし、ここでは概要を述べる。
す主な原因が、実稼動中におけるヘッド及びディスク表
面の汚染にあること、とくにヘッドの下面すなわちディ
スク表面に対するスライダ面の圧力の高い箇所でガスも
圧縮されて凝縮を起こし当該スライダ面を汚染するとい
うことを実験的に確認した。この実験の詳細は後述する
こととし、ここでは概要を述べる。
一般に浮上型の磁気ヘッド１４は、第４図に示すように
、スライダ面の空気流入側にテーパ１４１が加工されて
おり、そのスライダ面は、スライダ形状によって異なる
が、その周囲より１．５〜２倍空気圧が高い。（例えば
１９８８．Ｔｒｉｂｏｌｏｇｙ ａｎｄ Ｍｅｃｈａｎ
ｉｃｓ ｏｆ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｓｔｏｒａｇｅ Ｓ
ｙｓｔｅｍｓ、 Ｖｏｌｕｍ ＶＰ１１７ ： Ｐｅｒ
ｆｏｒｍａｎｃｅ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ
ａｔ ｔｈｅ ７８Ｍ３３８０Ｋ ａｉｒ ｂｅａｒｉ
ｎｇ ｄｅｓｉｇｎ 参照）また、このような浮上型
ヘッドを備える磁気ディスク装置の内部には、ヘッド及
びディスク表面を汚染する凝縮性ガスの発生源がいくつ
か存在する。例えばバッキング材として用いるシリコン
ゴムや樹脂部品等に含まれるシロキサン（Ｓｉｌｏｘａ
ｎｅ（Ｒ２ＳｉＯ）ｎの総称）や、Ｄ ＯＰ （Ｄｉｏ
ｃｔｙｌ Ｐｈｔｈａｌａｔｅ＝ジオクチルフタレート
）、各種脂肪族炭化水素等がその代表的なものである。
、スライダ面の空気流入側にテーパ１４１が加工されて
おり、そのスライダ面は、スライダ形状によって異なる
が、その周囲より１．５〜２倍空気圧が高い。（例えば
１９８８．Ｔｒｉｂｏｌｏｇｙ ａｎｄ Ｍｅｃｈａｎ
ｉｃｓ ｏｆ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｓｔｏｒａｇｅ Ｓ
ｙｓｔｅｍｓ、 Ｖｏｌｕｍ ＶＰ１１７ ： Ｐｅｒ
ｆｏｒｍａｎｃｅ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ
ａｔ ｔｈｅ ７８Ｍ３３８０Ｋ ａｉｒ ｂｅａｒｉ
ｎｇ ｄｅｓｉｇｎ 参照）また、このような浮上型
ヘッドを備える磁気ディスク装置の内部には、ヘッド及
びディスク表面を汚染する凝縮性ガスの発生源がいくつ
か存在する。例えばバッキング材として用いるシリコン
ゴムや樹脂部品等に含まれるシロキサン（Ｓｉｌｏｘａ
ｎｅ（Ｒ２ＳｉＯ）ｎの総称）や、Ｄ ＯＰ （Ｄｉｏ
ｃｔｙｌ Ｐｈｔｈａｌａｔｅ＝ジオクチルフタレート
）、各種脂肪族炭化水素等がその代表的なものである。
このような装置内部に発生する汚染ガス（分圧Ｐｘ）は
、ある温度で飽和蒸気圧（Ｐｓ）以下であるが、スライ
ダ面の圧力の高い（Ｐ気圧）場所では飽和蒸気圧を越え
る場合がある。この過飽和となる場合に凝縮液化が起こ
る。この条件は次のようになる。
、ある温度で飽和蒸気圧（Ｐｓ）以下であるが、スライ
ダ面の圧力の高い（Ｐ気圧）場所では飽和蒸気圧を越え
る場合がある。この過飽和となる場合に凝縮液化が起こ
る。この条件は次のようになる。
ガス分圧Ｐｘである時、ΔＰ ＝ＰｘＸ Ｐ−Ｐｓ＞
Ｏならば、ΔＰ分が凝縮液化する。
Ｏならば、ΔＰ分が凝縮液化する。
また、ヘッドの周囲の温度変化も、スライダ面へのガス
凝縮の加速要因と成りうるちのである。
凝縮の加速要因と成りうるちのである。
即ち、高温（Ｔｈ）状態で飽和蒸気圧（Ｐｓｈ）以下で
あるガス（分圧Ｐｈ）でも、低温（ＴＩ）では飽和蒸気
圧（Ｐｓｉ）が下がるため、過飽和となる場合がある。
あるガス（分圧Ｐｈ）でも、低温（ＴＩ）では飽和蒸気
圧（Ｐｓｉ）が下がるため、過飽和となる場合がある。
このとき凝縮液化が起こる。この条件は次のようになる
。
。
温度Ｔｈでガス圧Ｐｈであると、それより低い温度Ｔ１
ではガス分圧ＰＩはＰｉ ＝ （ＴＩ／Ｔｈ）Ｐｈであ
る。この時もしＰｓｉ＜ＰＩ であると、その差（Ｐ
Ｉ −Ｐｓｉ）分が装置内で凝縮液化する。しかもスラ
イダ面は圧力が高い（Ｐ気圧）ので、そこだけ凝縮が起
こる場合がある。そうして実際にスライダ面に凝縮する
条件は、ΔＰ ＝ＰＩ ×Ｐ−Ｐｓ＞ Ｏ（但しＰｓｉ
≦Ｐｉ＜Ｐｈ＜Ｐｓｈ）である。
ではガス分圧ＰＩはＰｉ ＝ （ＴＩ／Ｔｈ）Ｐｈであ
る。この時もしＰｓｉ＜ＰＩ であると、その差（Ｐ
Ｉ −Ｐｓｉ）分が装置内で凝縮液化する。しかもスラ
イダ面は圧力が高い（Ｐ気圧）ので、そこだけ凝縮が起
こる場合がある。そうして実際にスライダ面に凝縮する
条件は、ΔＰ ＝ＰＩ ×Ｐ−Ｐｓ＞ Ｏ（但しＰｓｉ
≦Ｐｉ＜Ｐｈ＜Ｐｓｈ）である。
次にスライダ面でのガス凝縮液化の実験例を説明する。
まず実験に使用した試験装置を第５図により説明する。
第５図に示すように、上部に観察用ガラス窓１１ａの付
いた実験容器１１を用意し、その中に表面潤滑処理をし
た塗膜ディスク１２、スピンドル１３、実験用の透明サ
ファイア製ヘッド１４、ヘッドキャリッジ１５、温度セ
ンサ（熱電対）１６、湿度センサ１７などを設ける。な
お、これは製品のＤｉｓｋ Ｅｎｃｌｏｓｕｒｅ（ＤＥ
）を使用しても良いが、その場合はＤＥの上部にガラス
窓を設け、かつ内部の最上層ディスクに対向して実験用
透明ヘッドをキャリッジによりシークできるように設け
る。この実験用ヘッド１４の支持アームには、ディスク
接触時の弾性波を検出するＡＥセンサ１８を取付ける。
いた実験容器１１を用意し、その中に表面潤滑処理をし
た塗膜ディスク１２、スピンドル１３、実験用の透明サ
ファイア製ヘッド１４、ヘッドキャリッジ１５、温度セ
ンサ（熱電対）１６、湿度センサ１７などを設ける。な
お、これは製品のＤｉｓｋ Ｅｎｃｌｏｓｕｒｅ（ＤＥ
）を使用しても良いが、その場合はＤＥの上部にガラス
窓を設け、かつ内部の最上層ディスクに対向して実験用
透明ヘッドをキャリッジによりシークできるように設け
る。この実験用ヘッド１４の支持アームには、ディスク
接触時の弾性波を検出するＡＥセンサ１８を取付ける。
さらに温度湿度制御できる実験槽２１を用意し、その中
に前記実験容器１１を収納する。この実験槽２１には、
実験容器のガラス窓１１ａと対向する位置に実験用ヘッ
ド１４のスライダ面を観察するための該ヘッドと連動す
る顕微鏡２２及びＴＶカメラ２３（ＤＥの場合は固定）
を設置し、かつ精密空気供給器２４を接続する。また前
記ディスク１２を所定回転数（〜４０００ｒｐｍ）で回
転させ、かつ実験用ヘッド１４を所定シーク速度（〜４
０ｆｆＩ［Ｉｌ／ｓ）でシークさせる制御部３１、及び
ＴＶカメラ２３の映像出力を記録するＶＴＲ３２、ＡＥ
センサ１８の出力を表示するオシロスコープ３３、温度
計３４、湿度計３５等のモニターを備える。
に前記実験容器１１を収納する。この実験槽２１には、
実験容器のガラス窓１１ａと対向する位置に実験用ヘッ
ド１４のスライダ面を観察するための該ヘッドと連動す
る顕微鏡２２及びＴＶカメラ２３（ＤＥの場合は固定）
を設置し、かつ精密空気供給器２４を接続する。また前
記ディスク１２を所定回転数（〜４０００ｒｐｍ）で回
転させ、かつ実験用ヘッド１４を所定シーク速度（〜４
０ｆｆＩ［Ｉｌ／ｓ）でシークさせる制御部３１、及び
ＴＶカメラ２３の映像出力を記録するＶＴＲ３２、ＡＥ
センサ１８の出力を表示するオシロスコープ３３、温度
計３４、湿度計３５等のモニターを備える。
遺」先例」−は、ヘッド／ディスクの環境にガスの発生
があるとヘッドスライダ面のテーパ一部の圧力の高い部
分にガスが凝縮液化する現象が起こることを、高湿度環
境によるスライダ面への水分凝縮によって実証したもの
である。
があるとヘッドスライダ面のテーパ一部の圧力の高い部
分にガスが凝縮液化する現象が起こることを、高湿度環
境によるスライダ面への水分凝縮によって実証したもの
である。
即ち、高湿度（Ｒ８８５％）時における実験用ヘッド１
４のスライダ面に対する顕微鏡２２の映像をＶＴＲ３２
に記録し観察を行った。その結果、第６図の斜線部に示
すように、スライダレールのテーパ部１４１に近い最も
圧力の高い部分に圧力分布に従い水分が凝縮した。この
ことはスライダ面へのガス凝縮はテーパ部から始まるこ
とを示す。
４のスライダ面に対する顕微鏡２２の映像をＶＴＲ３２
に記録し観察を行った。その結果、第６図の斜線部に示
すように、スライダレールのテーパ部１４１に近い最も
圧力の高い部分に圧力分布に従い水分が凝縮した。この
ことはスライダ面へのガス凝縮はテーパ部から始まるこ
とを示す。
遺」先例」ユは、ヘッド／ディスクの環境に汚染ガスの
発生があるとヘッドスライダ面のテーパ一部が汚染され
、ヘッドと接触することを実証したものである（実験容
器としてＤＥを使用）。
発生があるとヘッドスライダ面のテーパ一部が汚染され
、ヘッドと接触することを実証したものである（実験容
器としてＤＥを使用）。
即ち、高温（環境温度５５℃）で７２時間ヘッド浮上ラ
ンニングを行った後温度を下げながら、ＡＥセンサ１８
の出力とへラドスライダ面の観察を行った。第７図はＡ
Ｅ比出力温度の関係を経過時間に対してプロットしたも
ので、低温になるに従いＡＥ比出力増大していることが
わかる。またＡＥ比出力高い部分におけるスライダ面の
映像出力には、テーパ一部とスライダレールとに跨がっ
た汚れが観測された。このことはへラドスライダ面の汚
れがヘッドとの接触を起こしていることを示す。
ンニングを行った後温度を下げながら、ＡＥセンサ１８
の出力とへラドスライダ面の観察を行った。第７図はＡ
Ｅ比出力温度の関係を経過時間に対してプロットしたも
ので、低温になるに従いＡＥ比出力増大していることが
わかる。またＡＥ比出力高い部分におけるスライダ面の
映像出力には、テーパ一部とスライダレールとに跨がっ
た汚れが観測された。このことはへラドスライダ面の汚
れがヘッドとの接触を起こしていることを示す。
なお、このときディスクの表面からもシロキサンが検出
された。この汚染源はＤＥ内のバッキング材に用いてい
るシリコンゴムと考えられる。従って、シロキサンを含
んでいるシリコンゴムは汚染源となる可能性が最も大き
いものである。
された。この汚染源はＤＥ内のバッキング材に用いてい
るシリコンゴムと考えられる。従って、シロキサンを含
んでいるシリコンゴムは汚染源となる可能性が最も大き
いものである。
１！Ｊｌは、人工的汚染ガスをヘッドスライダ面に凝縮
液化させヘッドクラッシュを起こさせる実験である。
液化させヘッドクラッシュを起こさせる実験である。
即ち、実験槽２１の中に汚染ガス発生源としてシリコン
ゴムをセントし、この実験槽の温度を先ず４８時間高温
（５５℃）にしてヘッド浮上ランニングを行い、以後温
度を下げてＡＥセンサ１８の出力とヘッドスライダ面の
観察を行った。第８図はＡＥ比出力温度の関係を経過時
間に対してプロットしたもので、低温になるに従いＡＥ
比出力増大していることがわかる。またヘッドスライダ
面には実験例２と同様な汚染が観測された。この時ディ
スク表面及びヘッド表面からもシロキサンが検出され、
かつセットしたシリコンゴムが約３０ｎｇ重量減少しシ
ロキサンが蒸発したことが確認された。このことはこの
時の汚染源がセットしたシリコンゴムであることを示す
。
ゴムをセントし、この実験槽の温度を先ず４８時間高温
（５５℃）にしてヘッド浮上ランニングを行い、以後温
度を下げてＡＥセンサ１８の出力とヘッドスライダ面の
観察を行った。第８図はＡＥ比出力温度の関係を経過時
間に対してプロットしたもので、低温になるに従いＡＥ
比出力増大していることがわかる。またヘッドスライダ
面には実験例２と同様な汚染が観測された。この時ディ
スク表面及びヘッド表面からもシロキサンが検出され、
かつセットしたシリコンゴムが約３０ｎｇ重量減少しシ
ロキサンが蒸発したことが確認された。このことはこの
時の汚染源がセットしたシリコンゴムであることを示す
。
ｍ土は、人工的汚染ガス源をＤＯＰに代えてヘッドクラ
ッシュを発生させた例である。
ッシュを発生させた例である。
即ち、実験槽２１を７２時間高温（５５℃）にしてヘッ
ド浮上ランニングした後、温度を徐々に下げてＡＥセン
サ出力とへラドスライダ面の観察を行った。第９図はＡ
Ｅ比出力温度の関係を経過時間に対してプロットしたも
ので、この場合も低温になるに従いＡＥ比出力増大して
いることがわかる。
ド浮上ランニングした後、温度を徐々に下げてＡＥセン
サ出力とへラドスライダ面の観察を行った。第９図はＡ
Ｅ比出力温度の関係を経過時間に対してプロットしたも
ので、この場合も低温になるに従いＡＥ比出力増大して
いることがわかる。
またヘッドスライダ面にも実験例３と同様な汚染が観測
された。
された。
以上説明したように、従来装置では筺体内に含まれる汚
染ガスが、圧力及び温度の変化に起因してヘッドスライ
ダ面で凝縮液化しヘッドクラッシュを発生する。このヘ
ッドクラッシュを誘発しやすい汚染ガスとして、常温で
の蒸気圧の高いもの、その温度変化が大きいもの、液状
での粘度が大きいもの、あるいは異常な化学変化を起こ
しやすいものが挙げられる。例えば、前述のシロキサン
は、分子量にもよるが、低分子はとくに空気中への飽！
ａ蒸気圧が高い（例えばオクタメチルシクロテトラシロ
キサン（（ＣＨ３） ｚｓｉｏ） ４の３０℃における
飽和蒸気圧は２．ＯＸｌ０−３気圧）ほか、熱によりＳ
ｉＯ□化する性質があり、ヘッドクラッシュを起こしや
すい。
染ガスが、圧力及び温度の変化に起因してヘッドスライ
ダ面で凝縮液化しヘッドクラッシュを発生する。このヘ
ッドクラッシュを誘発しやすい汚染ガスとして、常温で
の蒸気圧の高いもの、その温度変化が大きいもの、液状
での粘度が大きいもの、あるいは異常な化学変化を起こ
しやすいものが挙げられる。例えば、前述のシロキサン
は、分子量にもよるが、低分子はとくに空気中への飽！
ａ蒸気圧が高い（例えばオクタメチルシクロテトラシロ
キサン（（ＣＨ３） ｚｓｉｏ） ４の３０℃における
飽和蒸気圧は２．ＯＸｌ０−３気圧）ほか、熱によりＳ
ｉＯ□化する性質があり、ヘッドクラッシュを起こしや
すい。
また、ＤＯＰは粘度が高く常温で約８０ＣＰである。
従って、本発明の目的は、この汚染ガスの発生量及び滞
留量の許容値を与え、これ以下に抑えることによりヘッ
ドスライダ面の汚染を防止し、ヘッドクラッシュの発生
を防止する磁気ディスク装置を提供することにある。
留量の許容値を与え、これ以下に抑えることによりヘッ
ドスライダ面の汚染を防止し、ヘッドクラッシュの発生
を防止する磁気ディスク装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、第１の発明は、第１図に示す
ように、磁気ディスク１及びそのディスク面に対し浮上
可能なスライダ面を有する磁気ヘッド２を筐体３内に備
える磁気ディスク装置において、該ヘッドスライダ面に
生じる最高気圧をＰ（Ｐ ＞ １）気圧とするとき、筺
体内に含まれる各種ガスの蒸気分圧を飽和蒸気圧の１／
Ｐ以下とする構成を採っている。
ように、磁気ディスク１及びそのディスク面に対し浮上
可能なスライダ面を有する磁気ヘッド２を筐体３内に備
える磁気ディスク装置において、該ヘッドスライダ面に
生じる最高気圧をＰ（Ｐ ＞ １）気圧とするとき、筺
体内に含まれる各種ガスの蒸気分圧を飽和蒸気圧の１／
Ｐ以下とする構成を採っている。
また、第２の発明は、第２図に示すように、磁気ヘッド
２にスライダ面をその周囲の温度より３〜１５℃高くす
る加熱手段４を設けた構成を採っている。
２にスライダ面をその周囲の温度より３〜１５℃高くす
る加熱手段４を設けた構成を採っている。
第１の発明のように、所定の使用温度で磁気ヘッドのス
ライダ面に生じる最高気圧がＰ（Ｐ＞１）気圧の装置構
成においてその装置内部に含まれる各種ガスの蒸気分圧
を飽和蒸気圧の１／Ｐ以下に規制すると、当該スライダ
面にはそれらのガスの凝縮液化現象が全く発生しなくな
る。
ライダ面に生じる最高気圧がＰ（Ｐ＞１）気圧の装置構
成においてその装置内部に含まれる各種ガスの蒸気分圧
を飽和蒸気圧の１／Ｐ以下に規制すると、当該スライダ
面にはそれらのガスの凝縮液化現象が全く発生しなくな
る。
また、第２の発明のように、スライダ面の温度を周囲温
度より３℃−１５℃高（することによってもそれらガス
の凝縮液化を防止する。即ち、汚染ガスとして、オクタ
メチルシクロテトラシロキサン（（ＣＨ３） ｚｓｉｏ
） ４を例にとると、それの３０℃における飽和蒸気圧
は２．０Ｘ１０−”気圧、４０℃における飽和蒸気圧は
３．８ Ｘｌ０−’気圧であり、その４０℃の飽和蒸気
圧は３０”Ｃにおける飽和蒸気圧の１．９倍である。こ
れに対しスライダ面の圧力は前述したように周囲より
１．５〜２倍高いから、該スライダ面への凝縮液化を防
くにはスライダ面温度は約１０’Ｃ周囲温度より高くす
ればよい。他のシロキサン系ガスについても同様な関係
にあり、１５’Ｃ程度高くすれば充分な効果が期待でき
る。一方ＤＯＰでは、 ３０℃が４．２ＸｌＯ柑０気圧、４０℃が１．７ Ｘ
１０−９気圧で３０℃の約４倍なので約５℃（３℃以上
）スライダ面温度を周囲温度より高くすればよい。
度より３℃−１５℃高（することによってもそれらガス
の凝縮液化を防止する。即ち、汚染ガスとして、オクタ
メチルシクロテトラシロキサン（（ＣＨ３） ｚｓｉｏ
） ４を例にとると、それの３０℃における飽和蒸気圧
は２．０Ｘ１０−”気圧、４０℃における飽和蒸気圧は
３．８ Ｘｌ０−’気圧であり、その４０℃の飽和蒸気
圧は３０”Ｃにおける飽和蒸気圧の１．９倍である。こ
れに対しスライダ面の圧力は前述したように周囲より
１．５〜２倍高いから、該スライダ面への凝縮液化を防
くにはスライダ面温度は約１０’Ｃ周囲温度より高くす
ればよい。他のシロキサン系ガスについても同様な関係
にあり、１５’Ｃ程度高くすれば充分な効果が期待でき
る。一方ＤＯＰでは、 ３０℃が４．２ＸｌＯ柑０気圧、４０℃が１．７ Ｘ
１０−９気圧で３０℃の約４倍なので約５℃（３℃以上
）スライダ面温度を周囲温度より高くすればよい。
〔実施例］
以下、本発明の好ましい実施例につき図面を参照して説
明する。
明する。
第１図は、本発明の第１実施例による磁気ディスク装置
を概念的に示す図である。
を概念的に示す図である。
この実施例では、装置（ＤＥ）の筺体３に内部のガスを
外部の空気と置換するための通気孔３ａを設け、その孔
には塵埃の侵入を防（塵埃フィルター３ｂを取付ける。
外部の空気と置換するための通気孔３ａを設け、その孔
には塵埃の侵入を防（塵埃フィルター３ｂを取付ける。
なお、図中５及び６はディスクｌを回転するスピンドル
とモータであり、７及び８は磁気ヘッド２の支持アーム
とキャリッジを示す。またヘッド２はディスク１の上面
にのみ示したが、実際はディスク両面に対向配置される
。
とモータであり、７及び８は磁気ヘッド２の支持アーム
とキャリッジを示す。またヘッド２はディスク１の上面
にのみ示したが、実際はディスク両面に対向配置される
。
要するにこの第１実施例は、筺体内の組み込み部品やバ
ッキング材から出る汚染ガスを、この通気孔３ａを通し
て飛散させ、該ガスの蒸気圧を抑制する構成である。Ｄ
Ｅ内ではディスクの回転による空気流があり、これを利
用して外部との空気置換を加速することは可能である。
ッキング材から出る汚染ガスを、この通気孔３ａを通し
て飛散させ、該ガスの蒸気圧を抑制する構成である。Ｄ
Ｅ内ではディスクの回転による空気流があり、これを利
用して外部との空気置換を加速することは可能である。
なお、通気孔３ａの大きさは、ある単位時間において各
ガスの発生量からこの孔を通して飛散するガス蓋を差し
引いた各々の残りのガスが、飽和蒸気圧の１／Ｐ以下に
保たれるように設定する。
ガスの発生量からこの孔を通して飛散するガス蓋を差し
引いた各々の残りのガスが、飽和蒸気圧の１／Ｐ以下に
保たれるように設定する。
また装置を温度変化のある場所で使用する場合は、その
温度変化を考慮し次のような変形構成を採用できる。す
なわち、使用最高温度Ｔｈ （絶対温度）における各汚
染ガスの蒸気圧Ｐｈが、使用最低温度ＴＩにおける飽和
蒸気圧Ｐｓｉに対しＰｈ（ＴＩ／Ｔｈ）＜Ｐｓｉ／Ｐの
関係を満たすように設計する。
温度変化を考慮し次のような変形構成を採用できる。す
なわち、使用最高温度Ｔｈ （絶対温度）における各汚
染ガスの蒸気圧Ｐｈが、使用最低温度ＴＩにおける飽和
蒸気圧Ｐｓｉに対しＰｈ（ＴＩ／Ｔｈ）＜Ｐｓｉ／Ｐの
関係を満たすように設計する。
第２図は、本発明の第２実施例を概念的に示す図である
。
。
この第２実施例では、図に示すように、磁気ヘッド２に
ヒータ４を埋設し、そのスライダ面の温度を筺体内の温
度よりも５〜２０℃高くなるように制御する。この加熱
条件としては、スライダ面の最高気圧をＰ（Ｐ＞１）気
圧とする時、筐体３内の温度Ｔにおける各汚染ガスの蒸
気圧Ｐｓ （Ｔ）が、スライダ温度（Ｔ＋ΔＴ）におけ
る飽和蒸気圧Ｐｓ （Ｔ十へＴ）に対しＰｓ（Ｔ） Ｘ
Ｐ ＜Ｐｓ（Ｔ士ΔＴ）、（但しΔＴ ＞Ｏ）の関係
を満たすものである。
ヒータ４を埋設し、そのスライダ面の温度を筺体内の温
度よりも５〜２０℃高くなるように制御する。この加熱
条件としては、スライダ面の最高気圧をＰ（Ｐ＞１）気
圧とする時、筐体３内の温度Ｔにおける各汚染ガスの蒸
気圧Ｐｓ （Ｔ）が、スライダ温度（Ｔ＋ΔＴ）におけ
る飽和蒸気圧Ｐｓ （Ｔ十へＴ）に対しＰｓ（Ｔ） Ｘ
Ｐ ＜Ｐｓ（Ｔ士ΔＴ）、（但しΔＴ ＞Ｏ）の関係
を満たすものである。
なお、この実施例は前記の筐体に通気孔を設けた実施例
と併用可能である。
と併用可能である。
次に本発明の第３実施例を説明する。
この第３実施例では、ＤＥ内に組み込むシリコンゴムを
予め加熱（２１０″Ｃ） してガス抜きを行った例で
ある。このように構成したＤＥを前述した実験例に基づ
いて、７２時間ＤＥの温度を高温（５５”Ｃ）にしてヘ
ッド浮上ランニングした後、温度を下げた実験を行った
。その結果、ＡＥ比出力は第３図に示す如く低温になっ
ても僅かな出力増大しか現れず、また図示しないけれど
もヘッドスライダ面には目立った汚れが観測されなかっ
た。
予め加熱（２１０″Ｃ） してガス抜きを行った例で
ある。このように構成したＤＥを前述した実験例に基づ
いて、７２時間ＤＥの温度を高温（５５”Ｃ）にしてヘ
ッド浮上ランニングした後、温度を下げた実験を行った
。その結果、ＡＥ比出力は第３図に示す如く低温になっ
ても僅かな出力増大しか現れず、また図示しないけれど
もヘッドスライダ面には目立った汚れが観測されなかっ
た。
なお、この拡張例としてシリコンゴム以外のガス発生樹
脂部品を全てフッ素系樹脂に入替えたＤＥにおいては、
環境温度変化があってもヘッドクラッシュを起こさない
ことを確認した。また、この第３実施例も上記した各実
施例と併用可能である。
脂部品を全てフッ素系樹脂に入替えたＤＥにおいては、
環境温度変化があってもヘッドクラッシュを起こさない
ことを確認した。また、この第３実施例も上記した各実
施例と併用可能である。
以上説明したように、本発明の磁気ディスク装置によれ
ば、磁気ヘッドのスライダ面での汚染ガスによる凝縮液
化が防止できるので、ヘッドクランシュの発生を防止し
装置の休転性を向上することができる。従って、高密度
記録を指向する装置への適用において極めて有益な効果
が得られる。
ば、磁気ヘッドのスライダ面での汚染ガスによる凝縮液
化が防止できるので、ヘッドクランシュの発生を防止し
装置の休転性を向上することができる。従って、高密度
記録を指向する装置への適用において極めて有益な効果
が得られる。
第１図は本発明による磁気ディスク装置の第１実施例を
概念的に示す図、 第２図は本発明の第２実施例を概念的に示す図、第３図
は本発明の第３実施例の効果を説明するための図、 第４図は汎用の浮上型磁気ヘッドを示す斜視図、第５図
はへラドスライダ面での汚染ガス凝縮液化現象を調べる
試験装置の概念図、 第６図は実験例１によるヘッドスライダ面の汚染状態を
示す図、 第７図は実験例２によるＡＥ小出力温度との関係を経過
時間に対してプロットした図、第＼８図は実験例３によ
るＡＥ小出力温度との関係を経過時間に対してプロット
した図、第９図は実験例４によるＡＥ小出力温度との関
係を経過時間に対してプロットした図である。 ２は磁気ヘッド、 ３は筐体、 ３ａは通気孔、 ３ｂは防塵フィルタ、 ４は加熱手段、 ５はスピンドル、 ６はモータ、 ７はヘッド支持アーム、 ８はキャリッジをそれぞれ示す。 第１図、第２図において、 ｌは磁気ディスク、 １Ｍ！気ディスク ２ 磁気ヘッド ＡＥ小出力 ｐ Ｖ ｒｍｓ） 温度（℃） 本発明の第１実施例を概念的に示す図 第１図 本発明の第２実施例をｍ金的に示す図 第２図 汎用の浮上型磁気ヘッドを示す斜視図 第４図 実験例１によるヘッドスライダ面の汚染状態を示す図試
験装置の概念図 第５図
概念的に示す図、 第２図は本発明の第２実施例を概念的に示す図、第３図
は本発明の第３実施例の効果を説明するための図、 第４図は汎用の浮上型磁気ヘッドを示す斜視図、第５図
はへラドスライダ面での汚染ガス凝縮液化現象を調べる
試験装置の概念図、 第６図は実験例１によるヘッドスライダ面の汚染状態を
示す図、 第７図は実験例２によるＡＥ小出力温度との関係を経過
時間に対してプロットした図、第＼８図は実験例３によ
るＡＥ小出力温度との関係を経過時間に対してプロット
した図、第９図は実験例４によるＡＥ小出力温度との関
係を経過時間に対してプロットした図である。 ２は磁気ヘッド、 ３は筐体、 ３ａは通気孔、 ３ｂは防塵フィルタ、 ４は加熱手段、 ５はスピンドル、 ６はモータ、 ７はヘッド支持アーム、 ８はキャリッジをそれぞれ示す。 第１図、第２図において、 ｌは磁気ディスク、 １Ｍ！気ディスク ２ 磁気ヘッド ＡＥ小出力 ｐ Ｖ ｒｍｓ） 温度（℃） 本発明の第１実施例を概念的に示す図 第１図 本発明の第２実施例をｍ金的に示す図 第２図 汎用の浮上型磁気ヘッドを示す斜視図 第４図 実験例１によるヘッドスライダ面の汚染状態を示す図試
験装置の概念図 第５図
Claims (8)
- （１）磁気ディスク（１）及びそのディスク面に対し浮
上可能なスライダ面を有する磁気ヘッド（２）を筐体（
３）内に備える磁気ディスク装置において、 前記磁気ヘッド（２）のスライダ面に生じる最高気圧を
Ｐ（Ｐ＞１）気圧とする時、筺体内に含まれる各種ガス
の蒸気分圧を飽和蒸気圧の１／Ｐ以下とするように構成
したことを特徴とする磁気ディスク装置。 - （２）前記筺体（３）内に組み込んだ複数の装置構成部
材から出る各ガス量の総和を各々飽和蒸気圧の１／Ｐ以
下とするように構成したことを特徴とする請求項１記載
の磁気ディスク装置。 - （３）装置の使用最高温度Ｔｈ（絶対温度）における前
記筐体（３）内の各ガスの蒸気圧Ｐｈを、使用最低温度
Ｔ１（絶対温度）における各飽和蒸気圧Ｐｓｌに対しＰ
ｈ（Ｔ１／Ｔｈ）＜Ｐｓｌ／Ｐの関係を満たすように構
成したことを特徴とする請求項１又は２記１の磁気ディ
スク装置。 - （４）前記筐体（３）内に含まれる各種ガスを外部の空
気と置換して各々の蒸気分圧を飽和蒸気圧の１／Ｐ以下
に保つための通気孔（３ａ）を該筺体に設けたことを特
徴とする請求項１、２又は３記載の磁気ディスク装置。 - （５）磁気ディスク（１）及びそのディスク面に対し浮
上可能なスライダ面を有する磁気ヘッド（２）を筺体（
３）内に備える磁気ディスク装置において、 前記磁気ヘッド（２）にスライダ面をその周囲の温度よ
り３〜１５℃高くする加熱手段（４）を設けたことを特
徴とする磁気ディスク装置。 - （６）前記磁気ヘッド（２）のスライダ面に生じる最高
気圧をＰ（Ｐ＞１）気圧とする時、筐体（３）内の所定
温度Ｔにおける各種ガスの飽和蒸気圧Ｐｓ（Ｔ）を、該
ヘッドスライダ面温度（Ｔ＋ΔＴ）における飽和蒸気圧
Ｐｓ（Ｔ＋ΔＴ）に対し Ｐｓ（Ｔ）×Ｐ＜Ｐｓ（Ｔ＋ΔＴ）、ただしΔＴ＞０の
関係を満たすように構成したことを特徴とする請求項５
記載の磁気ディスク装置。 - （７）前記筺体（３）内に組み込んだ複数の装置構成部
材から出る各ガスの所定温度Ｔにおける飽和蒸気圧Ｐｓ
（Ｔ）を、該ヘッドスライダ面温度（Ｔ＋ΔＴ）におけ
る飽和蒸気圧Ｐｓ（Ｔ＋ΔＴ）に対しＰｓ（Ｔ）×Ｐ＜
Ｐｓ（Ｔ＋ΔＴ）、ただしΔＴ＞０の関係を満たすよう
に構成したことを特徴とする請求項５記載の磁気ディス
ク装置。 - （８）前記筺体（３）内に含まれる各種ガスを外部の空
気と置換して各々の蒸気分圧を飽和蒸気圧の１／Ｐ以下
に保つための通気孔（３ａ）を該筺体に設けたことを特
徴とする請求項６又は８記載の磁気ディスク装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2109475A JP2596171B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 磁気ディスク装置 |
| EP91106357A EP0453996B1 (en) | 1990-04-24 | 1991-04-19 | Magnetically recording disk system |
| DE69111130T DE69111130T2 (de) | 1990-04-24 | 1991-04-19 | Magnetisch aufzeichnendes Plattensystem. |
| US08/176,677 US5436776A (en) | 1990-04-24 | 1994-01-03 | Disk system having a slider which is continuously heated for preventing organic material buildup |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2109475A JP2596171B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 磁気ディスク装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH046689A true JPH046689A (ja) | 1992-01-10 |
| JP2596171B2 JP2596171B2 (ja) | 1997-04-02 |
Family
ID=14511180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2109475A Expired - Fee Related JP2596171B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 磁気ディスク装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5436776A (ja) |
| EP (1) | EP0453996B1 (ja) |
| JP (1) | JP2596171B2 (ja) |
| DE (1) | DE69111130T2 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5880899A (en) * | 1997-02-25 | 1999-03-09 | International Business Machines Corporation | Removal of raised irregularities on a data storage disk with controlled abrasion by a magnetoresistive head |
| US6051169A (en) * | 1997-08-27 | 2000-04-18 | International Business Machines Corporation | Vacuum baking process |
| EP1029653A3 (en) * | 1999-02-19 | 2003-07-09 | Bridgestone Corporation | Gasket and process for producing the same |
| US6617042B2 (en) * | 2002-01-10 | 2003-09-09 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | Dielectric coating for transduction drivers |
| US6940693B2 (en) * | 2003-09-29 | 2005-09-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Magnetic head having media heating device that is electrically connected to magnetic pole piece |
| US6954327B2 (en) * | 2003-09-30 | 2005-10-11 | Hitachi Global Storage Technologies, B.V. | Methods and apparatus for thermally bonding lubricant to a disk surface with use of a heat source in a magnetic head |
| US6831802B1 (en) | 2003-09-30 | 2004-12-14 | Hitachi Global Storage Technologies | Methods and apparatus for thermally bonding lubricant to a disk surface by the repetitive writing of data |
| US7136247B2 (en) * | 2003-09-30 | 2006-11-14 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Drive temperature self-adjustment for temperature-sensitive measurements |
| US6822819B1 (en) | 2003-09-30 | 2004-11-23 | Hitachi Global Storage Technologies | Methods and apparatus for thermally bonding lubricant to a disk surface with use of a heating element formed in a magnetic head |
| US7764468B2 (en) * | 2007-04-16 | 2010-07-27 | Tdk Corporation | Method for removing smear and magnetic recording/reproducing apparatus with function of removing smear |
| JP2009032344A (ja) | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | ディスク・ドライブ装置及びヘッド上の付着物を除去する方法 |
| US7609473B1 (en) | 2008-05-13 | 2009-10-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Dissipation of liquid droplets in a magnetic disk drive |
| US9601140B1 (en) | 2016-05-20 | 2017-03-21 | Western Digital Technologies, Inc | In-situ smear detection and mitigation in heat-assisted magnetic recording head-disk interface |
| US10115436B1 (en) * | 2017-06-20 | 2018-10-30 | Seagate Technology Llc | Filter media and filter products for electronic enclosures |
| US20250285653A1 (en) * | 2024-03-06 | 2025-09-11 | Western Digital Technologies, Inc. | Active humidity control using heat-responsive water-releasing substances in data storage devices |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6257977U (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-10 | ||
| JPS6372798U (ja) * | 1986-10-27 | 1988-05-16 | ||
| JPH01182991A (ja) * | 1988-01-13 | 1989-07-20 | Fujitsu Ltd | 磁気ディスク装置 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56105377A (en) * | 1980-01-28 | 1981-08-21 | Nec Corp | Magnetic disc device |
| JPS5829183A (ja) * | 1981-08-12 | 1983-02-21 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスク装置 |
| JPS5853069A (ja) * | 1981-09-22 | 1983-03-29 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスク装置 |
| JPS5885977A (ja) * | 1981-11-16 | 1983-05-23 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク記憶装置 |
| JPS5894175A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-04 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク記憶装置 |
| JPS58105470A (ja) * | 1981-12-16 | 1983-06-23 | Yoshiro Nakamatsu | ヘツドクラツシユ防止デイスク装置 |
| JPS59132459A (ja) * | 1983-01-20 | 1984-07-30 | Toshiba Corp | 磁気デイスク装置 |
| DE3337845A1 (de) * | 1983-10-18 | 1985-04-25 | Nixdorf Computer Ag, 4790 Paderborn | Festplattenlaufwerk |
| JPS613381A (ja) * | 1984-06-14 | 1986-01-09 | Olympus Optical Co Ltd | 磁気記録再生装置 |
| JPS61148691A (ja) * | 1984-12-21 | 1986-07-07 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスク装置 |
| JPS61214173A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-24 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク装置 |
| US4734803A (en) * | 1986-03-20 | 1988-03-29 | International Business Machines | Magnetic head air bearing slider |
| US4814908A (en) * | 1986-12-03 | 1989-03-21 | Magnetic Peripherals Inc. | Thermo servo for track centering on a disk |
| JPS63259879A (ja) * | 1987-04-16 | 1988-10-26 | Mitsubishi Electric Corp | 浮動形磁気ヘツド |
| CA1306795C (en) * | 1987-09-25 | 1992-08-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermal transfer bag |
| JP2644881B2 (ja) * | 1989-03-15 | 1997-08-25 | 株式会社日立製作所 | 磁気ディスク装置 |
| US5030260A (en) * | 1989-12-04 | 1991-07-09 | International Business Machines Corporation | Disk drive breather filter |
-
1990
- 1990-04-24 JP JP2109475A patent/JP2596171B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-04-19 EP EP91106357A patent/EP0453996B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-19 DE DE69111130T patent/DE69111130T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-01-03 US US08/176,677 patent/US5436776A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6257977U (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-10 | ||
| JPS6372798U (ja) * | 1986-10-27 | 1988-05-16 | ||
| JPH01182991A (ja) * | 1988-01-13 | 1989-07-20 | Fujitsu Ltd | 磁気ディスク装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| EP0453996A2 (en) | 1991-10-30 |
| DE69111130D1 (de) | 1995-08-17 |
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| DE69111130T2 (de) | 1995-11-16 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |