JPH0468296B2 - - Google Patents

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JPH0468296B2
JPH0468296B2 JP23374886A JP23374886A JPH0468296B2 JP H0468296 B2 JPH0468296 B2 JP H0468296B2 JP 23374886 A JP23374886 A JP 23374886A JP 23374886 A JP23374886 A JP 23374886A JP H0468296 B2 JPH0468296 B2 JP H0468296B2
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JP
Japan
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diene
acid
triol
glycyrrhetinic acid
olean
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JP23374886A
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English (en)
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JPS62129234A (ja
Inventor
Shoji Shibata
Hiroshi Saito
Kunio Takahashi
Nobuyuki Nagata
Kazuhiro Hirabayashi
Hiroatsu Matsumoto
Midori Yamamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MINOFUAAGEN SEIYAKU HONHO GOSHI
Original Assignee
MINOFUAAGEN SEIYAKU HONHO GOSHI
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はグリチルレチン酸還元修飾化合物であ
る二種のジエン、即ち、オレアン−9(11),12−ジ
エン−3β,30−ジオール(Homoannular diene)
(以下、ジエン[]と略称する)、及びオレアン
−11,13(18)−ジエン−3β,30−ジオール
(Heteroannul ar diene)(以下、ジエン[]
と略称する)の製造方法に関するものである。
(従来の技術) 本願のジエン[]及び[](本願において、
この二者を総称してグリチルレチン酸還元修飾化
合物という)は既知の化合物である。今回本願発
明者らによりこれらの化合物が優れた抗アレルギ
ー作用を示すことが発見され、抗アレルギー剤と
しての有用性が期待されている。
従来、この両ジエンは、“Zh,Org,Klim.3
(1),64−71(1967)”に記載の方法により製造され
ていた。この方法は、18βH−グリチルレチン酸
を夫々出発物質として使用し、これらを共にメチ
ルエステルを用いて還元し、前者の出発物質から
ジエン[]を、後者からジエン[]を得てい
る。
(本発明が解決しようとする問題点) しかし、上記の製造法においては以下のような
問題点があつた。即ち、この方法において使用す
るα−レチン酸は、β−レチン酸を酸又はアルカ
リにより処理して転換せしめることにより得られ
るものであるが、この反応は煩雑であり目的物の
収率も低い等の事情から、α−レチン酸は今日入
手が困難であつた。
したがつて、両ジエンを有効成分とする抗アレ
ルギー剤等の薬剤の製造のためには、効率の良い
実用的な製造方法の開発が望まれていた。
本発明は、上記事情に鑑みてされたものであつ
て、通常市販で容易に入手できる18βH−グリチ
ルレチン酸を一行程で目的化合物に導く新規製造
法を提供せんとするものである。
(発明の構成) 本願の化合物は次の構造式により表わされる。
本願発明者らは、特開昭57−73000号公報にお
いてオレアン−12−エン−3β,30−ジオールの
新規製造法を開示したが、該製法の第一行程で生
じる、18βH−グリチルレチン酸を水素化ビス
(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウ
ム等にて還元して得られるトリオール(オレアン
−12−エン−3β,11ξ,30−トリオール)を含有
する反応液を、そのまま塩酸酸性に調整すると、
本願の目的化合物であるジエン[]及び[]
が同時に約同量得られることが明らかになつた。
この反応行程を化学反応式で示す。
上記反応をさらに詳細に説明すると、18βH−
グリチルレチン酸をトルエン、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等の本反応に関与しない非活性の
有機溶媒、好ましくはテトラヒドロフランに溶解
する。この溶液を水素化ビス(2−メトキシエト
キシ)アルミニウムナトリウム溶液中にN2ガス
気流下に滴下し、溶媒の沸点にて1時間還流しつ
つ還元する。次いで反応液に水又はアルコールと
希塩酸を加えて過剰の還元剤及びアルミニウム錯
体は分解され沈殿を生ずる。沈殿を濾別すると、
トリオールぼ溶液が得られる。
ここに得られたトリオール溶液に希塩酸を加え
PH1に調整し熱処理を行なう。
熱処理は室温以上、溶剤の沸点までの範囲の温
度において行なうことができる。
トリオールはジエン[]、[]となる。この
液にクロロホルムを加えて抽出し、水洗、脱水す
る。脱水剤を分離しクロロホルムを留去してジエ
ン[]及び[]の混合物を得る。
得られた化合物は、例えばシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーに付し、展開溶媒としてヘキサ
ン:酢酸エチル:イソプロピルアルコール(69:
30:1)等を用いて分離するとジエン[]ジエ
ン[]の白色の結晶を得る。
この本願方法によれば、従来法の様な入手困難
なα−レチン酸を使用する必要もなく、またレチ
ン酸をメチル化する行程も省略され、且つ取り扱
い上煩わしい水素化アルミニウムリチウムを使用
する必要がない。
即ち、18βH−グリチルレチン酸をそのまま処
理し易い水素化ビス(2−メトキシエトキシ)ア
ルミニウムナトリウムを用い、一行程で簡単に両
ジエンが得られる。従つて工業的製法として、そ
の効果は高く評価される。
また還元剤としては、上記の水素化ビス(2−
メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウムの
他、水素化アルミニウムリチウム及び水素化ジイ
ソブチルアルミニウム等も用いることができる。
以下、本発明についての製造実施例を掲げる。
[実施例] ジエン[]及び[の製造 シールした撹拌機、乾燥管を付した還流冷却
機、側管付き滴下ロートを付した三つ口フラスコ
に水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニ
ウムナトリウムの70%トルエン溶液30ml、無水テ
トラヒドロフラン50mlを入れ、オイルバス上で還
流する。18βH−グリチルレチン酸9.4gを無水テ
トラヒドロフラン50mlに溶かした溶液を側管付き
滴下ロートでN2ガスを通気しながら滴下する。
滴下後1時間還流し放冷する。
反応後にメタノール、希塩酸を加えPH3に調整
すると過剰の還元剤及びアルミニウム錯体は発泡
しながら分解する。沈殿を濾過し、濾液に希塩酸
を加えてPH1に調整し60℃で1時間加熱する。
放冷後クロロホルム100mlで3回抽出し合した
クロロホルム液を水洗いし、無水硫酸ナトリウム
で脱水する。
この脱水剤を分離し、溶液を濃縮乾固するとジ
エン[]及び[]、夫々3.5gの白色結晶粉末
を得る。
ジエンの物性は次の通りである。
ジエン[] 融点:230〜232℃ [α]23 D+271℃(ジオキサン)13 Cnmrスペクトル(d5−pyridine) δppm(TMS); 154.5(s)、115.7(d,C−11) 78.6(d,C−3)、65.6(t,C−30)1 Hnmrスペクトル(CDCl3) δppm(TMS); 5.60(d,d,2H,J1=4Hz,J2=8Hz,C−
11−H,C−12−H) 3.30(t,1H,J=7Hz,C−3H) 3.66((d,d,2H,J1=9Hz,J2=14Hz,C−
30−H2) Massスペクトル(m/e) M+ 実測値 理論値 440.3663 440.3654 C30H48O2 ジエン[] 融点:267〜271℃ [α]23 D+61.5(ジオキサン)13 Cnmrスペクトル(d5−pyridine) δppm(TMS); 137.8(s)、134.2(d,C−11) 126.0(d,)、125.9(d) 78.1(d,C−30)、73.4(t,C−30)1 Hnmrスペクトル(CDCl3) δppm(TMS); 6.42(d,d,1H,J1=4Hz,J2=10Hz,C−
11−H) 5.60(br,d,1H,J=10Hz,C−12−H) 3.30((m,1H,C−3−H) Massスペクトル(m/e) M+ 実測値 理論値 440.3658 440.3554 C30H48O2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 グリチルレチン酸(3β−ヒドロキシ−11−
    オキソオレアン−12−エン−30−オイツク酸)を
    非活性溶媒中において還元することにより、トリ
    オール(オレアン−12−エン−3β,11ξ,30−ト
    リオール)とし、ついでそのまま、この反応液を
    塩酸酸性にすることにより、オレアン−9(11),12
    −ジエン−3β,30−ジオール、及びオレアン−
    11,13(18)−ジエン−3β,30−ジオールを同時に
    生成せしめた後、これらを分離精製することを特
    徴とするグリチルレチン酸還元修飾化合物の製造
    方法。 2 非活性溶媒としてテトラヒドロフランを、還
    元剤として水素化ビス(2−メトキシエトキシ)
    アルミニウムナトリウムを夫々用いる特許請求の
    範囲第1項に記載のグリチルレチン酸還元修飾化
    合物の製造方法。
JP23374886A 1986-09-30 1986-09-30 グリチルレチン酸還元修飾化合物の製造方法 Granted JPS62129234A (ja)

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JP15009183A Division JPS6041629A (ja) 1983-08-16 1983-08-16 抗アレルギ−剤

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Publication Number Publication Date
JPS62129234A JPS62129234A (ja) 1987-06-11
JPH0468296B2 true JPH0468296B2 (ja) 1992-11-02

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JP4851477B2 (ja) * 2008-03-06 2012-01-11 古河電気工業株式会社 空気絶縁バスダクトの導体保持用絶縁物

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JPS62129234A (ja) 1987-06-11

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