JPH047055A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
塗布装置及び塗布方法Info
- Publication number
- JPH047055A JPH047055A JP10795990A JP10795990A JPH047055A JP H047055 A JPH047055 A JP H047055A JP 10795990 A JP10795990 A JP 10795990A JP 10795990 A JP10795990 A JP 10795990A JP H047055 A JPH047055 A JP H047055A
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- JP
- Japan
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- coating
- bar
- coating liquid
- web
- slit
- Prior art date
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
a、 産業上の利用分野
本発明は、写真用フィルム、写真用印画紙、磁気テープ
、接着テープ、感圧記録紙、感光性印刷版などを製造す
る際に、連続走行する帯状支持体(以下、ウェブという
。)に、各種塗布液を均一に塗布するための塗布装置及
び塗布方法に関する。
、接着テープ、感圧記録紙、感光性印刷版などを製造す
る際に、連続走行する帯状支持体(以下、ウェブという
。)に、各種塗布液を均一に塗布するための塗布装置及
び塗布方法に関する。
b、 従来の技術
連続走行しているウェブに塗布液を塗布する方法として
は、従来各種の方法が提案されており、例えば、ローラ
ー塗布法、ブレード塗布法、ビード塗布法、カーテン塗
布法、エアーナイフ塗布法エクストルージョン(押し出
し)塗布法、バー塗布法などが知られている。
は、従来各種の方法が提案されており、例えば、ローラ
ー塗布法、ブレード塗布法、ビード塗布法、カーテン塗
布法、エアーナイフ塗布法エクストルージョン(押し出
し)塗布法、バー塗布法などが知られている。
C1発明が解決しようとする課題
上記の塗布方法のなかで、ローラー塗布法、ブレード塗
布法およびビード塗布法は、塗布液を塗布する際に、ゴ
ムローラーや金属ローラーを媒体として用いるものであ
り、得られる塗布膜の均一性は、そのローラーの表面の
良し悪し、例えば表面が滑らかに仕上げられているか否
かに依存することになる。したがって、均一な塗布膜を
得るためには、良好な表面を有するローラーを用いる必
要があり、ローラー表面の研磨ムラなどが塗布膜の表面
に現われるという欠点がある。
布法およびビード塗布法は、塗布液を塗布する際に、ゴ
ムローラーや金属ローラーを媒体として用いるものであ
り、得られる塗布膜の均一性は、そのローラーの表面の
良し悪し、例えば表面が滑らかに仕上げられているか否
かに依存することになる。したがって、均一な塗布膜を
得るためには、良好な表面を有するローラーを用いる必
要があり、ローラー表面の研磨ムラなどが塗布膜の表面
に現われるという欠点がある。
また、カーテン塗布法には薄い膜厚の塗布膜を得るのが
難しいという欠点があり、エアーナイフ塗布法には、エ
アーの風ムラが塗布膜の塗布面に現われるという欠点が
ある。
難しいという欠点があり、エアーナイフ塗布法には、エ
アーの風ムラが塗布膜の塗布面に現われるという欠点が
ある。
また、エクストルージョン塗布法では、ウェブの走行速
度と塗布液の吐き出し液量とによって得られる塗布膜の
膜厚が変化することになる。このため、全面的に均一な
膜厚を有する塗布膜を得るためには、塗布装置がかなり
の精度を有することが必要になり、精度の良い装置を作
るにも莫大な費用がかかることになるなどの欠点がある
。
度と塗布液の吐き出し液量とによって得られる塗布膜の
膜厚が変化することになる。このため、全面的に均一な
膜厚を有する塗布膜を得るためには、塗布装置がかなり
の精度を有することが必要になり、精度の良い装置を作
るにも莫大な費用がかかることになるなどの欠点がある
。
バー塗布法は簡易な方法であり、第2図に示すように、
ローラー1で塗布液2をウェブ3に転写することにより
形成した塗布1!14を、バー5にて掻き取る方法であ
るが、ローラー1上で生した塗布ムラをバー5で完全に
消すことができないという欠点がある。
ローラー1で塗布液2をウェブ3に転写することにより
形成した塗布1!14を、バー5にて掻き取る方法であ
るが、ローラー1上で生した塗布ムラをバー5で完全に
消すことができないという欠点がある。
この欠点を解消すべく、特公昭58−4589号では、
第3図に示すように、バー5とウェブ3の接触部6の直
前に、矢印Bで示すように圧力をかけることにより液溜
り7を形成させながら塗布する方法が提案されている。
第3図に示すように、バー5とウェブ3の接触部6の直
前に、矢印Bで示すように圧力をかけることにより液溜
り7を形成させながら塗布する方法が提案されている。
しかし、高速でウェブ3を走らせた場合に、塗布液2が
気泡を抱き込んでしまい、塗布膜4に継スジ状のムラが
できるという欠点を解消するまでには至っていない。
気泡を抱き込んでしまい、塗布膜4に継スジ状のムラが
できるという欠点を解消するまでには至っていない。
なお、第2図及び第3図において、8は乾燥装置である
。
。
本発明は、従来の塗布方法における上記の如き欠点を解
決すべくなされたものであり、要するにエクストルージ
ョン塗布法とバー塗布法を組み合せた塗布装置及び塗布
方法によって、塗布ムラがなく、均一な膜厚を得ること
ができ、しかも低速走行から高速走行まで均一な塗布が
可能な塗布方法を提供するものである。
決すべくなされたものであり、要するにエクストルージ
ョン塗布法とバー塗布法を組み合せた塗布装置及び塗布
方法によって、塗布ムラがなく、均一な膜厚を得ること
ができ、しかも低速走行から高速走行まで均一な塗布が
可能な塗布方法を提供するものである。
d、 課題を解決するための手段
本発明は、供給手段によって供給された塗布液をスリッ
トから吐き出させることにより、ウェブに塗布液を塗布
するエクストルージョン機構と、該エクストルージョン
機構によってウェブに塗布された塗布液をバーによって
所望の膜厚になるように掻き取る掻取機構とを具備する
塗布装置であって、上記スリットと上記バーの掻取位置
との間隔が、スリットから吐き出された塗布液がノ\−
の直前で乱流を起こさず、かつ流れのムラを生じない間
隔であることを特徴とする塗布装置、及び、連続走行し
ているウェブに、供給手段によって供給された塗布液を
スリットから吐き出させることにより塗布し、スリット
から吐き出された塗布液がバーの直前で乱流を起こさず
、かつ流れにムラを生じない位置で、上記塗布液をバー
にて掻き取って所望の膜厚にすることを特徴とする塗布
方法を提供するものである。
トから吐き出させることにより、ウェブに塗布液を塗布
するエクストルージョン機構と、該エクストルージョン
機構によってウェブに塗布された塗布液をバーによって
所望の膜厚になるように掻き取る掻取機構とを具備する
塗布装置であって、上記スリットと上記バーの掻取位置
との間隔が、スリットから吐き出された塗布液がノ\−
の直前で乱流を起こさず、かつ流れのムラを生じない間
隔であることを特徴とする塗布装置、及び、連続走行し
ているウェブに、供給手段によって供給された塗布液を
スリットから吐き出させることにより塗布し、スリット
から吐き出された塗布液がバーの直前で乱流を起こさず
、かつ流れにムラを生じない位置で、上記塗布液をバー
にて掻き取って所望の膜厚にすることを特徴とする塗布
方法を提供するものである。
第1図は、本発明の塗布装置11の概略図である。
第1図に示す塗布装置11は、エクストルージョン機構
部12と、掻取機構部13とを具備するものである。
部12と、掻取機構部13とを具備するものである。
エクストルージョン機構部12は、送液ポンプ15、塗
布液供給管16、供給管16の中途に形成された液溜め
部17、及び塗布液の吐出部位に設けられたスリット1
8から構成されている。
布液供給管16、供給管16の中途に形成された液溜め
部17、及び塗布液の吐出部位に設けられたスリット1
8から構成されている。
また、掻取機構部13は、エクストルージョン機構部1
2においてウェブ19に塗布された塗布液20を所望の
塗布量になるように掻き取るバー21、掻き取った塗布
液20を回収して溜めておく液溜め22、及びバー21
を回転させるためのモータ(図示せず)から構成されて
いる。
2においてウェブ19に塗布された塗布液20を所望の
塗布量になるように掻き取るバー21、掻き取った塗布
液20を回収して溜めておく液溜め22、及びバー21
を回転させるためのモータ(図示せず)から構成されて
いる。
塗布装置11における、スリット18とバー21の掻取
位置との間隔(図中にLにて示す間隔)は、スリット1
8から吐き出された塗布液20がバー21の直前で乱流
を起こさず、かつ流れのムラを生じない間隔である。具
体的には10〜200 mの間隔であり、10■以下の
場合は高圧力で吐き出された塗布液20がバー21の直
前で乱流を引き起こし、塗布ムラが生しやすい。また、
200閤以上の場合は、高速走行の際にウェブ19の塗
布面上に塗布液の流れのムラが発生しやすくなり、厚い
所と薄い所の流れが生し、これが塗布ムラを引き起こす
。
位置との間隔(図中にLにて示す間隔)は、スリット1
8から吐き出された塗布液20がバー21の直前で乱流
を起こさず、かつ流れのムラを生じない間隔である。具
体的には10〜200 mの間隔であり、10■以下の
場合は高圧力で吐き出された塗布液20がバー21の直
前で乱流を引き起こし、塗布ムラが生しやすい。また、
200閤以上の場合は、高速走行の際にウェブ19の塗
布面上に塗布液の流れのムラが発生しやすくなり、厚い
所と薄い所の流れが生し、これが塗布ムラを引き起こす
。
上記塗布装置11において、スリット18のスリット幅
は、100μ−〜400μ−程度が好ましい、100μ
m以下では塗布量の精度がでず、400μ−以上では、
塗布液を多量に送ることになり液量が不均一になるから
である。
は、100μ−〜400μ−程度が好ましい、100μ
m以下では塗布量の精度がでず、400μ−以上では、
塗布液を多量に送ることになり液量が不均一になるから
である。
また、塗布装置11におけるウェブI9とスリット18
との間隔は、接しない程度に狭くなっている。
との間隔は、接しない程度に狭くなっている。
この間隔が広すぎると、塗布液を多量に吐き出させるこ
とが必要になり、ウェブ19とスリット18が接した場
合はウェブ19の塗布面にキズを付けることになる。
とが必要になり、ウェブ19とスリット18が接した場
合はウェブ19の塗布面にキズを付けることになる。
バー21としては、一定の径を有するワイヤーをロンド
の表面に、ち密に巻き付けたもの(以下、ワイヤーバー
という。)あるいは、ロッド自身の表面に一定の幅、深
さを有する溝を一定のピンチで設けたもの(以下、溝切
りバーという。)あるいは、ロッド自身にある一定の型
をエツチングしたものなどが用いられる。これらのなか
ではワイヤーバーが精度の点から好ましい。
の表面に、ち密に巻き付けたもの(以下、ワイヤーバー
という。)あるいは、ロッド自身の表面に一定の幅、深
さを有する溝を一定のピンチで設けたもの(以下、溝切
りバーという。)あるいは、ロッド自身にある一定の型
をエツチングしたものなどが用いられる。これらのなか
ではワイヤーバーが精度の点から好ましい。
ワイヤーバーを使用する場合、適切な全体径(図中に2
にて示す径)は5■〜30閣、好ましくは6閣〜20m
である。5m以下では、バーを回転させて場合に、芯が
ブレやすくなり、ウェブ19に対して直角状に塗布ムラ
が生しやすくなる。30閣以上の場合には、ウェブ19
の走行速度が速くなるに従って縦スジムラが発生しやす
くなる。
にて示す径)は5■〜30閣、好ましくは6閣〜20m
である。5m以下では、バーを回転させて場合に、芯が
ブレやすくなり、ウェブ19に対して直角状に塗布ムラ
が生しやすくなる。30閣以上の場合には、ウェブ19
の走行速度が速くなるに従って縦スジムラが発生しやす
くなる。
ワイヤーの径は、0.08〜1.2−1好ましくは0.
10〜1.0 mが適当である。0.1腫以下では、高
濃度の塗布液20を用意しなければならず、溶質の溶解
性の点からも無理が生じる。1.0m以上では、逆に、
希薄溶液を必要とし、乾燥の段階で、風による塗布ムラ
を起こしやすくなるので好ましくない。
10〜1.0 mが適当である。0.1腫以下では、高
濃度の塗布液20を用意しなければならず、溶質の溶解
性の点からも無理が生じる。1.0m以上では、逆に、
希薄溶液を必要とし、乾燥の段階で、風による塗布ムラ
を起こしやすくなるので好ましくない。
ワイヤーの材質としては、鉄、ステンレス鋼、更にはそ
の上にクロムメツキしたものとか、ナイロン等のプラス
チック繊維も使用できる。
の上にクロムメツキしたものとか、ナイロン等のプラス
チック繊維も使用できる。
塗布装置11は、エクストルージョン機構部12と掻取
機構部13を同一装置内に組み込んだものである。この
ため、スリット18とバー21との間に塗布液20をな
らすためのならし面25を形成することができる。なら
し面25を形成すると、塗布液20はこのならし面25
上でならされ、均一に広がり、ウェブ19の塗布面に対
してムラのない状態で塗布することができる。
機構部13を同一装置内に組み込んだものである。この
ため、スリット18とバー21との間に塗布液20をな
らすためのならし面25を形成することができる。なら
し面25を形成すると、塗布液20はこのならし面25
上でならされ、均一に広がり、ウェブ19の塗布面に対
してムラのない状態で塗布することができる。
本発明の塗布方法は、例えば第1図に示す塗布装置11
を用いて、次のようにして実施する。
を用いて、次のようにして実施する。
すなわち、ウェブ19を第1図に矢印Aで示す方向に連
続走行させ、送液ポンプ15によって塗布液20を塗布
液供給管16へ送り込み、スリノ日8から均一な液流と
してウェブI9に供給することにより、ウェブ19に所
望量以上の塗布液20を塗布し、塗布液20が未乾燥の
ままで走行しているウェブ19からバー21の掻取位置
23で塗布液20を掻き取ることにより、所望の塗布量
に計量し、乾燥用ブース24に搬送し、ここで乾燥させ
、ウェブ巻き取り部(図示せず)で巻き取るか、あるい
は連続して所望のサイズにカットする。
続走行させ、送液ポンプ15によって塗布液20を塗布
液供給管16へ送り込み、スリノ日8から均一な液流と
してウェブI9に供給することにより、ウェブ19に所
望量以上の塗布液20を塗布し、塗布液20が未乾燥の
ままで走行しているウェブ19からバー21の掻取位置
23で塗布液20を掻き取ることにより、所望の塗布量
に計量し、乾燥用ブース24に搬送し、ここで乾燥させ
、ウェブ巻き取り部(図示せず)で巻き取るか、あるい
は連続して所望のサイズにカットする。
なお塗布液20は、送液ポンプ15により、−旦、液溜
め部17に溜められ、液圧で押し上げられて、スリ7)
18から溢れ出て、ウェブ19に塗布される。
め部17に溜められ、液圧で押し上げられて、スリ7)
18から溢れ出て、ウェブ19に塗布される。
上記の塗布装置11においては、スリット18とバー2
1の掻取位置23の間隔(図中にLにて示す間隔)を、
iomm〜200閣に設定しである。このため、塗布a
20がバー21の直前で乱流を引き起こさず、ウェブ1
9が高速走行した場合にもウェブ19の塗布面上に塗布
ムラは発生じない。したがって、乾燥用ブース24で乾
燥することにより、均一な膜厚を有する塗布膜を得るこ
とができる。
1の掻取位置23の間隔(図中にLにて示す間隔)を、
iomm〜200閣に設定しである。このため、塗布a
20がバー21の直前で乱流を引き起こさず、ウェブ1
9が高速走行した場合にもウェブ19の塗布面上に塗布
ムラは発生じない。したがって、乾燥用ブース24で乾
燥することにより、均一な膜厚を有する塗布膜を得るこ
とができる。
バー21によって掻き落とされた余分な塗布液20は液
溜め22で全て回収し、回収後再度ポンプ15で送り込
んで使用する。
溜め22で全て回収し、回収後再度ポンプ15で送り込
んで使用する。
塗布膜211を用いる際、バー21は静止させて使用す
るか、あるいは駆動をかけて、ウェブ19と同し周速度
で順回転させるか、あるいはウェブ19の速度より速く
回転させて使用することができる。
るか、あるいは駆動をかけて、ウェブ19と同し周速度
で順回転させるか、あるいはウェブ19の速度より速く
回転させて使用することができる。
また、その逆に、遅く回転させて使用することもできる
。また、リバース(逆)回転させて使用することもでき
る。
。また、リバース(逆)回転させて使用することもでき
る。
上記の塗布方法は、エクストルージョン機構と掻取機構
とが同一装置内に組み込まれている塗布装置11を用い
て実施したものであるが、エクストルージョン機構と掻
取機構は、必ずしも同−装置内に組み込まれている必要
はない。
とが同一装置内に組み込まれている塗布装置11を用い
て実施したものであるが、エクストルージョン機構と掻
取機構は、必ずしも同−装置内に組み込まれている必要
はない。
本発明において使用される塗布液はとくに限定されるも
のでなく、水性塗工液、有機溶媒塗工液、エマルフラン
塗工液などを用いることができ、特に感光性印刷版用感
光液が適している。例えば、ジアゾ樹脂とアクリル酸エ
ステル類との混合物などを有機溶剤に溶かしたネガ型用
感光液、○−キノンジアジド化合物とノボランク型フェ
ノールまたはクレゾール樹脂などを有機溶剤に溶したポ
ジ型用感光液、さらにはフェニレンジアクリル酸のよう
な光架橋性フォトポリマーを用いた感光液、付加重合性
エチレン化合物とアルカリ可溶性樹脂からなる光重合型
フォトポリマー組性物の感光液、アジド感先物とノボラ
ック型フェノール樹脂からなる感光液などが使用するこ
とができる。また、酸化亜鉛系材料や有機光導電体を感
光材料として用いた電子写真代用感光液などを使用する
ことができる。
のでなく、水性塗工液、有機溶媒塗工液、エマルフラン
塗工液などを用いることができ、特に感光性印刷版用感
光液が適している。例えば、ジアゾ樹脂とアクリル酸エ
ステル類との混合物などを有機溶剤に溶かしたネガ型用
感光液、○−キノンジアジド化合物とノボランク型フェ
ノールまたはクレゾール樹脂などを有機溶剤に溶したポ
ジ型用感光液、さらにはフェニレンジアクリル酸のよう
な光架橋性フォトポリマーを用いた感光液、付加重合性
エチレン化合物とアルカリ可溶性樹脂からなる光重合型
フォトポリマー組性物の感光液、アジド感先物とノボラ
ック型フェノール樹脂からなる感光液などが使用するこ
とができる。また、酸化亜鉛系材料や有機光導電体を感
光材料として用いた電子写真代用感光液などを使用する
ことができる。
これらの感光液を溶解する有機媒体としては、アセトン
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン、メタノール、エタノール、プロパツール
、イソアミルアルコール、ダイアセトンアルコール、酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブ
、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコルモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル
、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン、メチレ
ンクロライド、エチレンクロライド、フロン系溶剤、テ
トラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドなどがあり、これらは少なくとも1種以上で
使用する。
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン、メタノール、エタノール、プロパツール
、イソアミルアルコール、ダイアセトンアルコール、酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブ
、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコルモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル
、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン、メチレ
ンクロライド、エチレンクロライド、フロン系溶剤、テ
トラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドなどがあり、これらは少なくとも1種以上で
使用する。
本発明において使用されるウェブとしては、紙、合成紙
、耐水加工紙、プラスチックフィルム(ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリ塩化ビニル、ナイロンなどの材質からなるフ
ィルム)、金属類(アルミニウム、鉄、銅、亜鉛など)
、金属とプラスチックフィルム及び/又は紙などからな
る複合材料等が代表的であるが、必ずしもこれらに限定
されるものではない。これらのなかで特にアルミニウム
薄板、あるいはアルミニウムと他の材質からなる複合材
料、銅薄板、あるいは銅とプラスチックフィルムのよう
な他の材質からなる複合材料などが好都合である。
、耐水加工紙、プラスチックフィルム(ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリ塩化ビニル、ナイロンなどの材質からなるフ
ィルム)、金属類(アルミニウム、鉄、銅、亜鉛など)
、金属とプラスチックフィルム及び/又は紙などからな
る複合材料等が代表的であるが、必ずしもこれらに限定
されるものではない。これらのなかで特にアルミニウム
薄板、あるいはアルミニウムと他の材質からなる複合材
料、銅薄板、あるいは銅とプラスチックフィルムのよう
な他の材質からなる複合材料などが好都合である。
ウェブの厚みも特に限定されないが、0.O1■〜1.
0閣程度のものが取扱いやすい。
0閣程度のものが取扱いやすい。
e、 作 用
本発明の塗布方法は、エクストルージョンによってスリ
ットからウェブの塗布面に所望の塗布量以上に塗布液を
供給し、つぎに位置しているバーにて所望の塗布量にす
る方法である。したがって、エクストルージぢンでは、
塗布量において、あまり精度を要求されず、ある程度以
上に任意に吐き出せば良いため、容易に取り扱える。ま
た、あまり精度が要求されない装置で十分であるため経
済的である。続いて、バーにて所望の塗布量に掻き取り
ながら塗布する訳であるが、このときにはすてにウェブ
の塗布面は必要以上に吐き出された塗布液で覆われてい
るので、気泡を抱き込むこともなく、気泡のための縦ス
ジムラなどが発生じない。
ットからウェブの塗布面に所望の塗布量以上に塗布液を
供給し、つぎに位置しているバーにて所望の塗布量にす
る方法である。したがって、エクストルージぢンでは、
塗布量において、あまり精度を要求されず、ある程度以
上に任意に吐き出せば良いため、容易に取り扱える。ま
た、あまり精度が要求されない装置で十分であるため経
済的である。続いて、バーにて所望の塗布量に掻き取り
ながら塗布する訳であるが、このときにはすてにウェブ
の塗布面は必要以上に吐き出された塗布液で覆われてい
るので、気泡を抱き込むこともなく、気泡のための縦ス
ジムラなどが発生じない。
また、本発明の塗布方法においては、スリットから吐き
出された塗布液がバーの直前で乱流を起こさず、かつ流
れのムラを生じない位置で、塗布液をバーにて掻き取る
。したがって本発明の塗布方法においては塗布ムラが起
こらず、均一なp厚を存する塗布膜が形成される。
出された塗布液がバーの直前で乱流を起こさず、かつ流
れのムラを生じない位置で、塗布液をバーにて掻き取る
。したがって本発明の塗布方法においては塗布ムラが起
こらず、均一なp厚を存する塗布膜が形成される。
[、実施例
以下、実施例に基づいて本発明をさらに詳しく説明する
が、本発明はその要旨をこえない限り、これらの実施例
に限定されるものでない。
が、本発明はその要旨をこえない限り、これらの実施例
に限定されるものでない。
なお、以下に示す実施例1〜4及び比較例1.2は、第
1図〜第3図に示す塗布装置を用いて実施した。したが
って、以下の実施例1〜4及び比較例1.2は、第1図
〜第3図を参照しつつ説明する。
1図〜第3図に示す塗布装置を用いて実施した。したが
って、以下の実施例1〜4及び比較例1.2は、第1図
〜第3図を参照しつつ説明する。
実施例1
厚さ0.24園、輻1000閤のウェブ状アルミニウム
板(材質1050 )をアルカリ脱脂したのち、パーミ
ストンの水懸濁液をがけながらナイロンブラシで表面を
研磨し、その後よく水洗した。次いで70″Cl2O%
のカセイソーダ液を5秒間かけ流し、表面をエツチング
した後、流水で水洗し、塩酸(35g/ f )、ホウ
ill(20g/l ) 、フルミ=ウムイオ7(20
g/jりからなる電解線中25°Cで25A/dポの電
流密度で6秒間電解研磨し、水洗し、次いで70゛c、
20%のカセイソーダ液をかけ流して表面をエツチング
し、さらに水洗を行ない、次いで30°Cの10%硫酸
水溶液中で陽極酸化処理を行なって、2.5g/rrr
の酸化皮膜を形成させた。得られたアルミニウム板19
を毎分60mで走行させ、この表面に下記組成液からな
る塗布液20を第1図に示す塗布装置11のスリット1
8(スリット幅100μ)より毎分900〆吐出させつ
つ塗布し、次いで、30■離した位置で、同し周速度で
回転している0、2mのワイヤーパー21で計量し、余
分な塗布液20を掻き落とし、次ぎの乾燥炉24にて乾
燥させた。
板(材質1050 )をアルカリ脱脂したのち、パーミ
ストンの水懸濁液をがけながらナイロンブラシで表面を
研磨し、その後よく水洗した。次いで70″Cl2O%
のカセイソーダ液を5秒間かけ流し、表面をエツチング
した後、流水で水洗し、塩酸(35g/ f )、ホウ
ill(20g/l ) 、フルミ=ウムイオ7(20
g/jりからなる電解線中25°Cで25A/dポの電
流密度で6秒間電解研磨し、水洗し、次いで70゛c、
20%のカセイソーダ液をかけ流して表面をエツチング
し、さらに水洗を行ない、次いで30°Cの10%硫酸
水溶液中で陽極酸化処理を行なって、2.5g/rrr
の酸化皮膜を形成させた。得られたアルミニウム板19
を毎分60mで走行させ、この表面に下記組成液からな
る塗布液20を第1図に示す塗布装置11のスリット1
8(スリット幅100μ)より毎分900〆吐出させつ
つ塗布し、次いで、30■離した位置で、同し周速度で
回転している0、2mのワイヤーパー21で計量し、余
分な塗布液20を掻き落とし、次ぎの乾燥炉24にて乾
燥させた。
記
ナフトキノン−(1,2)−ジアジド
5−スルホン酸クロライドとアセトン
ピロガロール樹脂とのエステル化合物 2.6部タレゾ
ールノボラック樹脂 7.0部ナフトキノ
ン−(1,2)−ジアジド 4−スルホン酸クロライド 0.06部オイル
ブルー603 0.1部クリスタ
ルバイオレット 0.1部アセトニア2
7部 プロピレングリコールモノメチルエー テル 27部乾燥後
の塗布面は塗布ムラもなく良好であった。
ールノボラック樹脂 7.0部ナフトキノ
ン−(1,2)−ジアジド 4−スルホン酸クロライド 0.06部オイル
ブルー603 0.1部クリスタ
ルバイオレット 0.1部アセトニア2
7部 プロピレングリコールモノメチルエー テル 27部乾燥後
の塗布面は塗布ムラもなく良好であった。
なお、感光層の膜厚は2.0g/イであった。
比較例1
実施例1と同様のウェブ状アルミニウム板19に実施例
1で用いた塗布液20を、第2図に示した装置を用いて
塗布した。アルミニウム板19が毎分10−以上の速度
で走行すると、塗布ローラー1上にはげしく泡が生し、
これによる塗布ムラをパー5では消すことができず、良
好な塗布面を得ることができなかった。
1で用いた塗布液20を、第2図に示した装置を用いて
塗布した。アルミニウム板19が毎分10−以上の速度
で走行すると、塗布ローラー1上にはげしく泡が生し、
これによる塗布ムラをパー5では消すことができず、良
好な塗布面を得ることができなかった。
実施例2
実施例1と同じようにして作った陽極酸化ウェブ状アル
ミニウム板をさらに5%ケイ酸カリ溶液を用いて70℃
で10秒間皮膜処理し、水洗乾燥した。
ミニウム板をさらに5%ケイ酸カリ溶液を用いて70℃
で10秒間皮膜処理し、水洗乾燥した。
このようにして得たアルミニウム板19を毎分30mで
走行させ、この表面に下記組成液からなる塗布液20を
実施例1と同様に塗布装置11を用いて、スワン)18
より毎分600 m吐出させつ”つ塗布し、次いで同し
周速度で回転している0、25■のワイヤーパー21で
計量し、余分な塗布液を掻き落とし、次ぎの乾燥炉24
にて乾燥させた。乾燥後の塗布面は、塗布ムラもなく良
好であった。なお、感光層の膜厚は1.8g/ n(で
あった。
走行させ、この表面に下記組成液からなる塗布液20を
実施例1と同様に塗布装置11を用いて、スワン)18
より毎分600 m吐出させつ”つ塗布し、次いで同し
周速度で回転している0、25■のワイヤーパー21で
計量し、余分な塗布液を掻き落とし、次ぎの乾燥炉24
にて乾燥させた。乾燥後の塗布面は、塗布ムラもなく良
好であった。なお、感光層の膜厚は1.8g/ n(で
あった。
記
ジアゾ系怒光剤(4−ジアゾジフェニ
ルアミンとホルムア
ルデヒドの縮合物
の2−メトキン−4
一ヒドロキノー5
ペンゾイルヘンゼン
スルホン酸塩) 3部
ビクトリアピユーブルーBOH
(採土ケ谷化学工業■製) 1部
修酸 0.3部テ
トラヒドロフラン 120部エチレ
ングリコールモノメチルエーテル 901N−N−ジメ
チルホルムアミド 30部メタノール
60部上記共重合体(])
は次ぎのようにして製造した。
トラヒドロフラン 120部エチレ
ングリコールモノメチルエーテル 901N−N−ジメ
チルホルムアミド 30部メタノール
60部上記共重合体(])
は次ぎのようにして製造した。
窒素気流下でジオキサン150gにアブビスイソフチロ
ニトリル0.3gを加えて、80〜85°Cに加熱して
、撹拌しながら、その中へ下記組成の混合物を滴下した
。
ニトリル0.3gを加えて、80〜85°Cに加熱して
、撹拌しながら、その中へ下記組成の混合物を滴下した
。
記
アクリル共重合体(1)
30部
2−ヒドロキン−3−フェノキシプロ
ピルアクリレート 40gメチ
ルメタクリレート 30gアクリルニ
トリル 10gモノ(2−メタ
クリロキシエチル)へ キサヒドロフタレート 20g滴下終
了後、さらに5時間撹拌を続け、ジオキサン150gを
加えたのち、水中に投入して共重合体を沈澱させた。そ
の沈澱物を2−メトキシエタノールに再溶解したのち、
水中に滴下して精製し、70゛Cにて真空乾燥して共重
合体(1)を得た。
ルメタクリレート 30gアクリルニ
トリル 10gモノ(2−メタ
クリロキシエチル)へ キサヒドロフタレート 20g滴下終
了後、さらに5時間撹拌を続け、ジオキサン150gを
加えたのち、水中に投入して共重合体を沈澱させた。そ
の沈澱物を2−メトキシエタノールに再溶解したのち、
水中に滴下して精製し、70゛Cにて真空乾燥して共重
合体(1)を得た。
実施例3
実施例1と同様にして、ウェブ状アルミニウム板をブラ
シ研磨した後、電解エツチングし、硫酸電解液中で陽極
酸化処理し、1.0g/イの酸化皮膜をもつアルミニウ
ム板19を得た。このアルミニウム板19を毎分15m
で走行させ、この表面に下記組成からなる電子写真方式
用平版印刷用感光液20を実施例1と同様にスリフト1
8より毎分550 m吐出させつつ塗布し、次いで同じ
周速度で回転している0、5am++ワイヤーバー21
で計量し、余分な塗布液20を掻き落とし、次ぎの乾燥
炉24にて乾燥させた。
シ研磨した後、電解エツチングし、硫酸電解液中で陽極
酸化処理し、1.0g/イの酸化皮膜をもつアルミニウ
ム板19を得た。このアルミニウム板19を毎分15m
で走行させ、この表面に下記組成からなる電子写真方式
用平版印刷用感光液20を実施例1と同様にスリフト1
8より毎分550 m吐出させつつ塗布し、次いで同じ
周速度で回転している0、5am++ワイヤーバー21
で計量し、余分な塗布液20を掻き落とし、次ぎの乾燥
炉24にて乾燥させた。
記
β型結晶形銅フタロソアニン 15部スチレ
ン−無水マレイン酸共重合体 65部ローズヘンガ
ル 2部エチレングリコール
モノメチルエーテル230 部トルエン
230部乾燥後の塗布面は、塗布ム
ラもなく良好であった。
ン−無水マレイン酸共重合体 65部ローズヘンガ
ル 2部エチレングリコール
モノメチルエーテル230 部トルエン
230部乾燥後の塗布面は、塗布ム
ラもなく良好であった。
なお、感光層の膜厚は5.0g/ポであった。
比較例2
実施例3で用いたウェブ状アルミニウム板に実施例3で
用いた塗布液を第3図に示す塗布装置を用いて塗布した
。ここで用いた塗布液は流動性が乏しいためか、ムラが
生しゃす<、塗布速度毎分5−以上では、気泡がバー5
とウェブ3の接点6に留まり、そのためのムラが生して
、良好な塗布ができなかった。
用いた塗布液を第3図に示す塗布装置を用いて塗布した
。ここで用いた塗布液は流動性が乏しいためか、ムラが
生しゃす<、塗布速度毎分5−以上では、気泡がバー5
とウェブ3の接点6に留まり、そのためのムラが生して
、良好な塗布ができなかった。
実施例4
幅111、厚さ50μのポリエチレンテレフタレートフ
ィルムに、厚さ18μの銅箔を接着させたウェブ状複合
材料19を毎分35mで走行させ、この銅箔表面に実施
例1と同し塗布液20を100μのスリフト18より毎
分850 m吐出させつつ塗布し、次いで同し周速度で
回転している0、35閣のワイヤーバー21で計量し、
余分の塗布液20を掻き落とし、次ぎの乾燥炉24にて
乾燥させた。乾燥後の塗布面は、塗布ムラもなく良好で
あった。なお、感光層の膜厚は3.5g/ポであった。
ィルムに、厚さ18μの銅箔を接着させたウェブ状複合
材料19を毎分35mで走行させ、この銅箔表面に実施
例1と同し塗布液20を100μのスリフト18より毎
分850 m吐出させつつ塗布し、次いで同し周速度で
回転している0、35閣のワイヤーバー21で計量し、
余分の塗布液20を掻き落とし、次ぎの乾燥炉24にて
乾燥させた。乾燥後の塗布面は、塗布ムラもなく良好で
あった。なお、感光層の膜厚は3.5g/ポであった。
f、 発明の効果
本発明によれば、低速塗布から高速塗布まで、塗布ムラ
のない均一な塗布が可能で、また、膜厚においても、全
面に渡ってバラツキのない塗布面を得ることができる。
のない均一な塗布が可能で、また、膜厚においても、全
面に渡ってバラツキのない塗布面を得ることができる。
第1図は、本発明にかかる塗布装置の概略図、第2図は
、従来の塗布装置の概略図、第3図は液溜りを形成しな
がら塗布する従来の塗布装置の概略図である。 第1図 第2図 第3図 補正の内容 図面の第1図を別紙のとおり訂正する。 平成 年 月 日 以上
、従来の塗布装置の概略図、第3図は液溜りを形成しな
がら塗布する従来の塗布装置の概略図である。 第1図 第2図 第3図 補正の内容 図面の第1図を別紙のとおり訂正する。 平成 年 月 日 以上
Claims (2)
- (1)塗布液をスリットから吐き出させることにより、
帯状支持体に塗布液を塗布するエクストルージョン機構
と、該エクストルージョン機構によって帯状支持体に塗
布された塗布液をバーによって所望の膜厚になるように
掻き取る掻取機構とを具備する塗布装置であって、上記
スリットと上記バーの掻取位置との間隔が、スリットか
ら吐き出された塗布液がバーの直前で乱流を起こさず、
かつ流れのムラを生じない間隔であることを特徴とする
塗布装置。 - (2)連続走行している帯状支持体に、塗布液をスリッ
トから吐き出させることにより塗布し、スリットから吐
き出された塗布液がバーの直前で乱流を起こさず、かつ
流れにムラを生じない位置で、上記塗布液をバーにて掻
き取って所望の膜厚にすることを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10795990A JP2925090B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 塗布装置及び塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10795990A JP2925090B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 塗布装置及び塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH047055A true JPH047055A (ja) | 1992-01-10 |
| JP2925090B2 JP2925090B2 (ja) | 1999-07-26 |
Family
ID=14472403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10795990A Expired - Lifetime JP2925090B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 塗布装置及び塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2925090B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0615760U (ja) * | 1992-07-31 | 1994-03-01 | 徳山曹達株式会社 | 液体塗布装置 |
| US5640066A (en) * | 1994-12-26 | 1997-06-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display screen and method of manufacturing the same |
| EP1342508A1 (en) * | 2002-03-06 | 2003-09-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating apparatus and coating method |
-
1990
- 1990-04-24 JP JP10795990A patent/JP2925090B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0615760U (ja) * | 1992-07-31 | 1994-03-01 | 徳山曹達株式会社 | 液体塗布装置 |
| US5640066A (en) * | 1994-12-26 | 1997-06-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display screen and method of manufacturing the same |
| EP1342508A1 (en) * | 2002-03-06 | 2003-09-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating apparatus and coating method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2925090B2 (ja) | 1999-07-26 |
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