JPH047184Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH047184Y2 JPH047184Y2 JP12154187U JP12154187U JPH047184Y2 JP H047184 Y2 JPH047184 Y2 JP H047184Y2 JP 12154187 U JP12154187 U JP 12154187U JP 12154187 U JP12154187 U JP 12154187U JP H047184 Y2 JPH047184 Y2 JP H047184Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processed material
- slit
- vacuum
- housing
- magnetic strip
- Prior art date
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- Expired
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 3
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 3
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本考案は、磁性金属板の帯状処理物を真空処理
室内へその内部の真空を維持し乍ら連続的に導入
するために使用される真空シールに関する。
室内へその内部の真空を維持し乍ら連続的に導入
するために使用される真空シールに関する。
（従来の技術）
従来、真空処理室内で外部から順次導入される
薄板鋼板等の磁性帯状処理物に対して真空蒸着、
イオンプレーテイング、イオン注入等の処理を施
すために、例えば第１図，第２図示のような真空
処理室ａの該帯状処理物ｂの導入口ｃの前方に真
空排気口ｄを備えた筺体ｅを設け、該筺体ｅ内へ
スリツトｈ或はロールｆと該筺体ｅの壁面ｇとで
形成さされたスリツトｈを介して磁性処理物ｂを
導入するようにした真空シール装置が提案されて
いる。
薄板鋼板等の磁性帯状処理物に対して真空蒸着、
イオンプレーテイング、イオン注入等の処理を施
すために、例えば第１図，第２図示のような真空
処理室ａの該帯状処理物ｂの導入口ｃの前方に真
空排気口ｄを備えた筺体ｅを設け、該筺体ｅ内へ
スリツトｈ或はロールｆと該筺体ｅの壁面ｇとで
形成さされたスリツトｈを介して磁性処理物ｂを
導入するようにした真空シール装置が提案されて
いる。
（考案が解決しようとする問題点）
前記従来のものは、スリツトｈを介して外部か
ら筺体ｅ内へ流入する空気を真空排気口ｄから排
出することが出来、導入口ｃから真空処理室ａ内
への空気の流入を防止出来るが、スリツトｈを介
して筺体ｅ内へ流入する大量の空気により帯状処
理物ｂが激しく振動し、該処理物ｂの損傷や大き
な騒音が発生する不都合があつた。
ら筺体ｅ内へ流入する空気を真空排気口ｄから排
出することが出来、導入口ｃから真空処理室ａ内
への空気の流入を防止出来るが、スリツトｈを介
して筺体ｅ内へ流入する大量の空気により帯状処
理物ｂが激しく振動し、該処理物ｂの損傷や大き
な騒音が発生する不都合があつた。
本考案はかかる真空シール装置の不都合を解決
することを目的とするものである。
することを目的とするものである。
（問題点を解決するための手段）
本考案では、磁性帯状処理物を外部から真空処
理室内へ導入する導入口の前方に接続して該帯状
処理物の通路と真空排気口を備えた筺体を設け、
該通路内へロールと該筺体の壁面とで構成された
スリツトを介して帯状処理物を導入するようにし
たものに於いて、該スリツトを構成するロールに
該磁性帯状処理物を吸着する磁石を設けることに
より前記問題点を解決するようにした。
理室内へ導入する導入口の前方に接続して該帯状
処理物の通路と真空排気口を備えた筺体を設け、
該通路内へロールと該筺体の壁面とで構成された
スリツトを介して帯状処理物を導入するようにし
たものに於いて、該スリツトを構成するロールに
該磁性帯状処理物を吸着する磁石を設けることに
より前記問題点を解決するようにした。
（作用）
薄板鋼板等の磁性帯状処理物は、スリツトを介
して筺体内へ導入され、更に導入口を介して真空
処理室内へ導かれて真空蒸着、イオンプレーテイ
ング、イオン注入等の処理が施されることは従来
のものと同様であるが、本考案のものは該スリツ
トを構成するロールに磁石を設けて該スリツトに
導入される処理物を吸着するようにしたので、外
部からスリツトを介して筺体内に流入する空気に
より該処理物が振動することを防げ、該処理物の
損傷や騒音の発生を防止出来る。
して筺体内へ導入され、更に導入口を介して真空
処理室内へ導かれて真空蒸着、イオンプレーテイ
ング、イオン注入等の処理が施されることは従来
のものと同様であるが、本考案のものは該スリツ
トを構成するロールに磁石を設けて該スリツトに
導入される処理物を吸着するようにしたので、外
部からスリツトを介して筺体内に流入する空気に
より該処理物が振動することを防げ、該処理物の
損傷や騒音の発生を防止出来る。
（実施例）
本考案の実施例を図面第３図に基づき説明する
と、同図に於いて符号１は薄板鋼板、ステンレス
板等の磁性帯状処理物、２は内部に蒸発源や電極
或はイオン注入口等を備えた真空の処理室を示
し、該磁性帯状処理物１は導入口３を介して真空
処理室２内へ順次導入されてその内部で真空蒸
着、イオンプレーテイング、イオン注入等の真空
処理が施される。４は、該導入口３の前方に接続
して設けられた筺体を示し、該筺体４には帯状処
理物１の通路５と真空ポンプに接続される真空排
気口６と該処理物１を外部から導入するためのス
リツト７とを設け、図示の例では該スリツト７を
該筺体４に回転軸８ａを支承した回転自在のロー
ル８と該筺体４の壁面４ａとで構成するようにし
た。
と、同図に於いて符号１は薄板鋼板、ステンレス
板等の磁性帯状処理物、２は内部に蒸発源や電極
或はイオン注入口等を備えた真空の処理室を示
し、該磁性帯状処理物１は導入口３を介して真空
処理室２内へ順次導入されてその内部で真空蒸
着、イオンプレーテイング、イオン注入等の真空
処理が施される。４は、該導入口３の前方に接続
して設けられた筺体を示し、該筺体４には帯状処
理物１の通路５と真空ポンプに接続される真空排
気口６と該処理物１を外部から導入するためのス
リツト７とを設け、図示の例では該スリツト７を
該筺体４に回転軸８ａを支承した回転自在のロー
ル８と該筺体４の壁面４ａとで構成するようにし
た。
該磁性帯状処理物１はスリツト７、通路５及び
導入口３を介して真空処理室２内へ導入され、そ
こで真空処理を施し、また外部の大気圧と真空処
理室２内の真空圧との圧力差により外部からスリ
ツト７を介して筺体４内に流入する大量の空気は
真空排気口６から排除されて真空処理室２内へ流
入することが防止される。
導入口３を介して真空処理室２内へ導入され、そ
こで真空処理を施し、また外部の大気圧と真空処
理室２内の真空圧との圧力差により外部からスリ
ツト７を介して筺体４内に流入する大量の空気は
真空排気口６から排除されて真空処理室２内へ流
入することが防止される。
而して該スリツト７を介して流入する空気流に
より該処理物１がスリツト７に於いて振動され勝
ちで、これは該処理物１の破損や騒音の原因とな
る不都合があるが、本考案では該スリツト７を構
成するロール８に磁石９を設け、該磁石９により
スリツト７を通過する処理物１を吸着し、空気流
による処理物１の振動を防止するようにした。該
磁石９はロール８の外周に取付けるようにした
が、該ロール８の内部に取付けるか、或いはロー
ル８全体を磁石で構成するようにしてもよい。１
０，１０は支持ロールである。
より該処理物１がスリツト７に於いて振動され勝
ちで、これは該処理物１の破損や騒音の原因とな
る不都合があるが、本考案では該スリツト７を構
成するロール８に磁石９を設け、該磁石９により
スリツト７を通過する処理物１を吸着し、空気流
による処理物１の振動を防止するようにした。該
磁石９はロール８の外周に取付けるようにした
が、該ロール８の内部に取付けるか、或いはロー
ル８全体を磁石で構成するようにしてもよい。１
０，１０は支持ロールである。
（考案の効果）
以上のように本考案によるときは、磁性帯状処
理物を導入するスリツトのロールに磁石を設ける
ようにしたので、該処理物を磁石で吸着し、スリ
ツトから流入する空気流によつて該処理物が振動
することを妨げ、該処理物の損傷や騒音の発生を
防止出来、その構成も簡単であるので安価に製作
出来る等の効果がある。
理物を導入するスリツトのロールに磁石を設ける
ようにしたので、該処理物を磁石で吸着し、スリ
ツトから流入する空気流によつて該処理物が振動
することを妨げ、該処理物の損傷や騒音の発生を
防止出来、その構成も簡単であるので安価に製作
出来る等の効果がある。
第１図及び第２図は従来例の断面図、第３図は
本考案の実施例の断面図である。 １……磁性帯状処理物、２……真空処理室、３
……導入口、４……筺体、５……通路、６……真
空排気口、７……スリツト、８……ロール、４ａ
……壁面、９……磁石。
本考案の実施例の断面図である。 １……磁性帯状処理物、２……真空処理室、３
……導入口、４……筺体、５……通路、６……真
空排気口、７……スリツト、８……ロール、４ａ
……壁面、９……磁石。
Claims (1)
- 磁性帯状処理物を外部から真空処理室内へ導入
する導入口の前方に接続して該帯状処理物の通路
と真空排気口を備えた筺体を設け、該通路内へロ
ールと該筺体の壁面とで構成されたスリツトを介
して帯状処理物を導入するようにしたものに於い
て、該スリツトを構成するロールに該磁性帯状処
理物を吸着する磁石を設けたことを特徴とする磁
性帯状処理物の真空シール装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12154187U JPH047184Y2 (ja) | 1987-08-10 | 1987-08-10 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12154187U JPH047184Y2 (ja) | 1987-08-10 | 1987-08-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6426371U JPS6426371U (ja) | 1989-02-14 |
| JPH047184Y2 true JPH047184Y2 (ja) | 1992-02-26 |
Family
ID=31368641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12154187U Expired JPH047184Y2 (ja) | 1987-08-10 | 1987-08-10 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH047184Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-08-10 JP JP12154187U patent/JPH047184Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6426371U (ja) | 1989-02-14 |
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