JPH047629B2

JPH047629B2 -

Info

Publication number: JPH047629B2
Application number: JP5150583A
Authority: JP
Inventors: Shoichi Tanimoto
Original assignee: Nippon Kogaku KK
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1983-03-29
Filing date: 1983-03-29
Publication date: 1992-02-12
Also published as: JPS59178072A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、光スポツトをラスター走査により２
次元的に走査して２次元パターンを描画するパタ
ーン描画装置に関する。従来この種の描画装置として、レーザビームの
走査と変調とにより、プリント基板用アートワー
クフイルム等の精密パターンを描画するようにし
た装置がある。この装置によれば、フオトプロツ
タでは数時間を必要としたパターンの描画が数分
でできるという利点があるが、次に述べるような
欠点があつた。プリンント基板用アートワークフイルムのベー
スは、ポリエステル等の高分子材料でできてお
り、このため湿度や気温の影響で大きく伸縮す
る。伸縮の度合は、１％の相対湿度変化に対して
500mm長さのものが８mm伸び、１℃の温度変化に
対しても500mmの長さのものが８mm伸びる程度で
ある。室温の変化を±１℃以内に制御することは
比較的容易にできるが、湿度の制御はむつかし
く、相対湿度変化を±10％以内に抑えるのにもコ
ストの非常に高い空調設備を必要とした。このた
め、描画フイルムは、描画されて回路パターンが
形成された後も伸縮し、マスクとして用いる時の
環境により、500mm当たり0.1mm程度の変化は覚悟
しなければならなかつた。一方、プリント基板上の配線幅は、年々狭くな
り、0.11〜0.14mmのものが多層基板で用いられる
ようになつてきている。このような多層基板にお
ける層間の位置合わせは、0.05程度以下の誤差で
行なう必要がある。しかし、上述のように、回路
パターンのマスクとなるフイルムが0.1mm程度の
伸縮があるので、一定のスケーリング（一定の拡
大量、縮小量）で描画されたアートワークフイル
ムだけでは、500mm×600mmの大きさの回路基板全
面に対して必要な位置合わせ精度が得られなかつ
た。このため、少しずつスケーリングを変化させ
て描画した複数枚のアートワークフイルムを予め
作つておき、プリント基板への焼付け時にも最も
適したスケーリングのアートワークフイルムを利
用するという事が行なわれていた。フオトプロツタを用いたパターン描画装置にお
いては、上述のようにスケーリングを微小変化さ
せるのは容易であるが、レーザスポツトをラスタ
ー走査して描画する装置においては、パターンの
連続的な伸縮はできないという欠点があつた。そ
の理由は、描画パターンが一定の大きさの画素よ
り構成されている、ということによる。例えば、
画素の大きさが25μm（0.025mm）×25μm（0.025mm）
でできており、500mmの長さのパターンを0.05mm
縮めたい場合には、500mmのうちの２つの画素を
間引くという方法が考えられる。ところが、この
ような方法によれば、配線の線幅等が場所により
0.025mm異なつてしまうという新たな欠点が生じ
てしまう。本発明は、このような欠点を解決し、微小なス
ケーリングの変更に対しても良好な線幅精度の得
られるパターン描画装置を提供するものである。本発明に係るパターン描画装置は、描画ビーム
の一走査線を画素化したとき、その各画素を描画
データに基づき描画ビームで照射又は非照射する
ことにより、対象物にパターンを描画する装置に
おいて、１走査期間内に、走査線中の画素数に対
応したパルス数の描画パルス列を発生すると共
に、該描画パルス列中、離散的な小なくとも２つ
のパルスの周期を他のパルスの周期に対して伸縮
する描画パルス発生装置を備え、前記描画パルス
列の各パルスの周期を１画素として描画すること
により、走査線方向のパターン幅を伸縮させるこ
とを特徴とする。以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。第１図は本発明の一実施例に係るパターン描画
装置の斜視図である。レーザ光源１から出たレーザビームは、光変調
器２によつて強度変調され、ビームエクスパンダ
３によつてビームの幅が拡大された後、回転ポリ
ゴン鏡４の反時計方向、すなわち矢印５方向の回
転によつて反射・偏向され、fθレンズ６により集
光され、反射鏡７の所定位置を入射される。反射
鏡７は、水平に入射されたビームを下向きに変換
する働きをする。その下向きのビーム、すなわち
レーザスポツトは、１次元移動ステージ８上の感
光材９の上に結像し、光変調器２の働きにより明
滅しながら、矢印１０の出力（ｘ方向）に直線走
査される。この感光材９には、例えば銀塩フイル
ム、ジアゾフイルム等の感光材料が用いられ、ス
テージ８上に真空吸着等で固定されている。ま
た、ステージ８は、架台１１上に配置され、ねじ
１２及びモータ１３により架台１１上を矢印１０
と直角方向（ｙ方向）に移動する。従つて、上述
のようにレーザスポツトは矢印１０の方向（ｘ方
向）に走査され、そして、ステージ８が矢印１０
と直角方向（ｙ方向）に移動するので、２次元の
パターンが感光材９上に描画される。なお、前記の回転ポリゴン鏡４の回転速度は、
回転ポリゴン鏡制御部１４により制御される。ま
た、光変調器２は、データ変調部１５により制御
される。このデータ変調部１５には、レーザ走査
同期検出器１６の出力が供給される。レーザ走査
同期検出器１６は、反射鏡７上のレーザビームの
走査軌道の始点部に設けられており、レーザスポ
ツト走査の各ラスターの始点を合わせるタイミン
グを検出する。さらに、データ変調部１５には、
描画装置の外部から描画データ１７が供給され、
光変調器２にデータを出力する過程で描画倍率の
補正や描画タイミングの同期合わせをしたりする
機能を備えており、本発明の描画パルス発生装置
に相当する。１次元移動ステージ８を移動制御す
るモータ１３は、ステージ制御部１８により制御
されており、描画時には所定の速度で移動するよ
うに制御され、非描画時には高速度で移動するよ
うに制御される。これらの回転ポリゴン鏡制御部
１４、データ変調部１５及びステージ制御部１８
は、いずれも中央制御部１９により制御される。次に、前記データ変調部１５の詳細を図面に基
づいて説明する。第２図はデータ変調部１５のブ
ロツク回路図である。レーザ走査同期検出器１６の出力は、プリアン
プ２１を経てコンパレータ２２によつて論理値
「１」又は「０」のデジタル信号３８ａとなり、
信号３８ａが「１」の場合は、タイマ（以下TM
と略す）２３により微小時間Tm遅延された信号
CLとなる。このTM２３による遅延時間Tmは、
レーザ走査同期検出器１６にレーザスポツトが入
射してから実際に描画を始めるまでの時間差に相
当する時間を与えるためのものである。この遅延
信号CLは、オア回路２４に供給されると共に、
後述する５進カウンタ（以下CCと略す）３９及
びカウンタ（以下CBと略す）３６に供給される。
カウンタ（以下CAと略す）２５は、オア回路２
４からのプリセツト指令PRが供給され、ラツチ
回路（以下LTと略す）２６からプリセツトデー
タが供給される。CA２５は、発振器２７からの
クロツク信号CKをLT２６でプリセツトされたデ
ータからカウントダウンし、カウント値が零にな
つたならば零信号２８を出力する。零信号２８
は、オア回路２４に供給されているので、CA２
５はプリセツトされるカウント値に対応する周期
で、一定時間毎に零信号２８を出力し、その位相
はレーザ走査同期検出器１６の検出信号と同期す
る。一方、LT２６には、描画装置の外部から、リ
セツトデータ２９が供給されている。また、描画
装置の外部からは、パターンの伸縮のための符号
信号３０が、インバータ３１及びアンド回路３２
に供給される。インバータ３１の出力信号及び零
信号２８はアンド回路３３に供給され、その出力
信号はオア回路３４に供給される。アンド回路３
２は符号信号３０の他に零信号２８が供給され、
その出力信号はオア回路３５に供給される。オア
回路３４及びオア回路３５には、上述の入力の他
に、CB３６及びROM３７からなる補償回路の出
力も供給される。 CB３６及びROM３７は、レーザスポツト走査
の位置によりスケーリングの値を変える機能を備
えた補償回路である。このような機能を設けた理
由は、fθレンズ６のfθ特性からのずれを補正する
必要があるが、fθレンズ６の性能を高めようとす
ると製造コストが高くなるので、一定値以下の補
正を電気的に行なうようにした、ということによ
る。CB３６は、一次元スポツト走査の描画開始
点から描画終了点までの長さを数えるカウンタで
ある。発振器２７は、コンパレータ２２の出力信
号３８ａによりクロツク信号CKを出力し、CB３
６はTM２３の出力信号CLに応答して前記クロ
ツク信号CKを計数し、例えば、描画すべき一定
走査線中の画素数に相当して10000カウントする
と零に復帰し、零復帰時に信号３８ｂを発振器２
７に供給し、クロツク信号CKの出力を停止させ
る。また、CB３６のカウント出力信号は、fθレ
ンズ６の補正量を予め測定して書き込んである
ROM３７にアドレス信号として供給される。こ
のROM３７には、１次元スポツト走査がある位
置にくればクロツク信号CKを1/5周期だけ遅らせ
るかあるいは進ませるかを指示する情報が書き込
まれている。ここでROM３７によるクロツク信
号CKが切替えられる走査位置は、CA２５の出力
が変化する位置すなわち、零信号２８が出力する
ときの走査位置と重ならないように決められてい
るものとする。例えばLT２６へのプリセツトデ
ータ２９は100の倍数としておき、ROM３７で
切える位置は、描画スタート位置からクロツク信
号CKにして100の倍数とならないように決めてお
けばよい。さて、オア回路３４及びオア回路３５の出力
は、それぞれCC３９にアツプ入力及びダウン入
力として供給される。CC３９のカウント出力信
号は、デコーダ４０に供給され、デコーダ４０は
CC３９のカウント出力に従つて５本の信号線４
０Ａ〜４０Ｅのいずれか１つを選んで出力する機
能を備えている。従つて、デコーダ４０の入出力
の真理値は次表に示す関係になる。

【表】上記のデコーダ４０の出力信号４０Ａ〜４０Ｅ
はクロツクデイレイ回路（以下CKDLと略す）４
１に供給される。このCKDL４１は、デコーダ４
０からの信号４０Ａ〜４０Ｅにより、発振器２７
からのクロツク信号CKの位相を周期的に遅延あ
るいは進める機能を備えており、その出力信号４
２は、描画パルス信号としてパラレルシリアル変
換器（以下PSと略す）４３に供給される。この
PS４３には、描画データ１７ａが外部のタイミ
ング信号１７ｂに周期して一時記憶されている。
描画データ１７ａは、例えば８ビツトのパラレル
信号であるが、PS４３は、描画パルス信号４２
のクロツクに周期して前記描画データ１７ａをシ
リアル信号として出力するので、光変調器２への
出力信号４４はシリアル信号となる。次に、前記データ変調部のCKDL４１の詳細を
図面に基づいて説明する。第３図はCKDL４１の
ブロツク回路図である。デイレイ回路５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ，５０Ｄ
はそれぞれ直列接続されており、各デイレイ回路
の遅延時間は、発振器２７からのクロツク信号
CKの周期の1/5となるように決められている。ア
ンド回路５１Ａ，５１Ｂ，５１Ｃ，５１Ｄ，５１
Ｅの一方の入力には、デコーダ４０からの出力信
号４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃ，４０Ｄ，４０Ｅが
各々供給されており、これらの信号は、クロツク
信号CK又は前記デイレイ回路によつて遅延され
たクロツク信号のいずれかを選択するように、い
ずれか１つの信号のみが論理値「１」で、他は論
理値「０」となつている（表−１参照）。アンド
回路５１Ａ，５１Ｂ，５１Ｃ，５１Ｄ，５１Ｅの
各出力信号５１Ａ，５２Ｂ，５２Ｃ，５２Ｄ，５
２Ｅは、５入力のOR回路５３に供給されて、遅
延時間が制御された描画パルス信号４２となつて
出力される。次に、PS４３の詳細を図面に基づいて説明す
る。第４図はPS４３のブロツク図である。 CKDL４１からの描画パルス信号４２は、シフ
トレジスタ（以下SRと略す）５４及びカウンタ
（以下CNTと略す）５５に供給される。このSR
５４は、描画データの８ビツトのパラレルデータ
１７ａを描画データ発生装置（図示せず）から入
力してシリアル出力する回路である。CNT５５
は、８進カウンタであり、出力信号４２を８カウ
ントして、そのカウント値が零になる度に、リク
エスト信号１７ｃを描画データ発生装置（図示せ
ず）に出力する。なお、この描画データ発生装置
（ミニコン、マイコン、等の処理装置や磁気記録、
光学記録装置）からは、描画データ１７ａ・タイ
ミング信号１７ｂ・及び前述のデータ２９と符号
信号３０が供給される。次に、上述の構成からなる本実施例の描画パル
ス発生装置の各部の動作をタイムチヤート図に基
づいて説明する。第５図は、第２図の各部の動作を示したタイム
チヤートである。レーザ走査同期検出器１６の動
作に伴なつて出力されるコンパレータ２２の出力
信号３８ａの立上りに同期して、発振器２７はク
ロツク信号CKを出力し始める。その発振の位相
は信号３８ａの立上りのタイミングに同期する。
CB３６の出力信号３８ｂは、１ラスター分の描
画時間が終了すると出力され、この立上りに合わ
せて発振器２７はクロツク信号CKの出力を停止
する。つまり、CB３６は、TM２３の出力信号
CL（遅延時間Tm）に応答してクロツク信号CK
の計数を開始し、１ラスター分の描画時間に相当
するカウント、例えば10000カウントすると０に
復帰するものであり（０→9999→０）、０復帰時
に信号３８ｂにより発振器２７のクロツク信号
CKの出力を中止させるものである。このように
して、時間t₁内に１走査線の描画に必要な画素数
と等しいクロツク数が得られる。さて、実際のパターン描画に際し、描画パター
ンを0.01％走査方向に長くする場合の動作につい
て説明する。尚、１走査線は10000画素とする。
この場合は、レーザスポツトが発振器２７のクロ
ツク信号CKにして10001個で描画される走査線の
長さを、描画パルス信号４４の10000パルス
（10000画素）で描画パターンを描けばよい。すな
わち、CKDL４１によつてクロツク信号CKの
10000クロツクのうち、離散的な５ケ所で１クロ
ツクの周期を1/5周期分だけ長くした描画パルス
信号４２を作ればよい。そこで、まずデータ２９
として、10000/5＝2000をLT２６に入力する。ま
た符号信号３０としては、パターンを長くするの
で、論理値「０」を与える。第６図は、第２図中のCA２５のカウントと零
信号２８との関係を示したタイムチヤートであ
る。CA２５は、LT２６を介してプリセツトデー
タとして2000がプリセツトされる。このプリセツ
トは、オア回路２４の出力すなわちプリセツト指
令PRの立上りでセツトされる。従つて、１走査
線の開始時は遅延パルス信号CLの立上がりでデ
ータ2000がCA・２５にセツトされ、途中CA２５
の出力である零信号２８の立上りでセツトされ
る。また、零信号２８の１パルスはクロツク信号
CKの１パルスと同期し、CA２５はクロツク信号
CKの立上がりでカウントダウンする。つまり、
クロツク信号CKの立上がりでCA２５が０とな
り、このため零信号２８が「１」となり、その結
果その立上がりでプリセツトデータ2000がセツト
される。本来ならば、プリセツトデータがセツト
されると直ちに零信号２８は「０」になるが、ク
ロツク信号CKと同期しているためクロツク信号
CKと共に「０」になる。さて、このようにCA２５が、信号CLに応答し
てクロツク信号CKの計数を開始すると、符号信
号３０が論理値「０」のため、アンド回路３２と
３３のうち、アンド回路３３のみがゲートを開い
ているから、CC３９のカウント出力値は「０」
である。このためDEC４０は信号４０Ａのみを
論理値「１」とし、CKDL４１は第３図のアンド
回路５１Ａのゲートを開き、オア回路５３からは
クロツク信号CKがそのまま描画パルス信号４２
として発生する。さて、CA２５が零信号２８を
出力すると、その信号はアンド回路３３、オア回
路３４を介して、CC３９にアツプ入力として印
加され、CC３９の計数値は「１」となる。この
とき、前述の表−１よりDEC４０は信号４０Ｂ
のみを論理値「１」にするから、CKDL４１は、
遅延回路５０Ａによつてクロツク信号CKに対し
て1/5周期分遅した信号５２Ｂをオア回路５３か
ら描画パルス信号４２として発生する。すなわ
ち、零信号２８が出力された時、描画パルス信号
４２はクロツク信号CK、そのものである信号５
２Ａから、クロツク信号CKに対して1/5周期遅れ
た信号５２Ｂに切替えられる。第７図は、その動作を示したタイムチヤートで
ある。信号５２Ａ〜５２Ｅは、それぞれ周期TP、
デユーテイ50％のクロツク信号であり、これらの
信号は時間θ、すなわちTP／５ずつずれている。
CKDL４１は、これらの信号のうち１つを選択し
て取り出すので、デコーダ４０の出力が端子４０
Ａから４０Ｂへ破線７０の時点で切替わると、第
７図中、信号４２ａに示すように、パルスの１つ
分の長さT₇₁がTP／５だけ長くなるが、それ以
後のパルス列は信号５２Ａに対してθだけ位相が
遅れたまま規則的に続く。時間TP（１周期）は１
つの画素の長さに対応したものであるが、上記の
ように切り替えた場合には、その時のパルスの周
期t₂は上記TPより長くなり、その１画素分の走
査距離が長くなり、描画パターンが伸びることに
なる。さて、CA２５は、クロツク信号CKが2000個供
給される度に１個の零信号２８を出力し、CC３
９のカウント出力値はクロツク信号CKが10000個
供給される間に５回、零信号２８を出力するの
で、順次、カウントアツプし、デコーダ４０の出
力も零信号２８の発生に応答して順次４０Ａ→４
０Ｂ→４０Ｃ→４０Ｄ→４０Ｅ→４０Ａと変化す
る。このため、CKDL４１からの描画パルス信号
４２は、第７図中、信号５２Ａ→５２Ｂ→５２Ｃ
→５２Ｄ→５２Ｅ→５２Ａと順次切替えられる。
もちろん、各切替えのタイミングにおける１パル
スは1/5周期だけ他のパルスの周期TPよりも長く
なつている。第８図は、第４図のPS４３の動作を示したタ
イムチヤートである。１バイト（8bit）パラレル
の入力データ信号１７ａが供給されてから、外部
クロツク１７ｂが供給され、このクロツク１７ｂ
によつてSR５４にプリセツトされ、その出力４
４は、CKDL４１の描画パルス信号４２のパルス
に同期しながら、シリアル信号となつて出力され
る。CKDL４１からの描画パルス信号４２が８個
出ると、８進カウンタ（CNT）５５からデータ
リクエスト信号１７ｃが出力され、このタイミン
グにより、入力データ信号１７ａに次の１バイト
のデータが現われ、信号レベルが有効になつた時
点で、外部クロツク１７ｂが供給され、次の入力
データがパラレルからシリアルへ変換される。さらに詳細に説明すると、描画パルス信号４２
の０番目の入力でリクエスト信号１７ｃのパルス
が現われ、描画パルス信号４２の１番目のパルス
の入力が現われる前に外部クロツク１７ｂのパル
スがSR５４に印加され、この時点で入力データ
信号（１７ａがSR５４にロードされる。このと
き、入力データ信号１７ａの８ビツトデータとし
ては、16進表示で「99」、２進表示で「10011001」
であるとすれば、このデータを描画パルス信号４
２の１番目のパルスから順次シリアル出力し、出
力信号４４は図示したようなパルス列となる。こ
のパルス列において、「１」の画素は変調器２に
よつて描画され、「０」の画素は描画されない。
そして、この出力信号４４の各パルスの論理値
「１」又は「０」の長さは、描画パルス信号４２
のパルス列の周期に対応するので、１走査中離散
的な５個のパルス相当分の周期が他のものの周期
とは異なつたものとなり、１画素当たり（前記５
個のパルスについて）の走査距離が、長くなる。例えば、クロツク信号CKが発生してから、初
めて零信号２８が出力したとき、描画パルス信号
４２の１番目のパルスの周期が1/5周期分長くな
つたとすると、データ１７ａが更新された後、出
力信号４４の初めのパルスの周期が1/5周期分長
くなる。このように、１走査線中の画素数（10000）に
対応したパルス数から成る出力信号４４のうち、
離散的な（2000パルス毎）５パルスの周期が1/5
周期だけ長くなる。その結果スケーリングを行な
わない１走査線に対して、１画素分長い１走査線
としてパターンが描画され、走査方向に、0.01％
だけ拡大されたパターンが描画される。さて、パターンを縮小させる場合には、符号信
号３０を論理値「１」にしておくことにより、第
２図中、零信号２８はアンド回路３２、オア回路
３５を介してCC３９にダウン入力として供給さ
れ、デコーダ４０の出力信号が４０Ａ→４０Ｅ→
４０Ｄ→４０Ｃ→４０Ｂ→４０Ａと変化する。今、デコーダ４０の出力が信号４０Ａから４０
Ｅへ切替わると、第７図の信号４２ｂに示すよう
に、パルス間隔が１つだけT₇₂となつてTP／５
だけ短くなるが、それ以後のパルス列は信号５２
Ａに対してθだけ位相が進んだまま規則的に続
く。このときのパルスの周期t₃は上記TPより短
くなり、その１画素分の走査距離が短くなり、描
画パターンが縮小されることになる。この場合
も、一定周期ごとに切り換えが行なわれ、CKDL
４１からの描画パルス信号４２は５２Ａ→５２Ｅ
→５２Ｄ→５２Ｃ→５２Ｂ→５２Ａと順次切り換
えられる。このように、符号信号３０の正負（論理値
「０」、「１」）によつてCC３９はアツプカウント
あるいはダウンカウントに切替えられ、零信号２
８がアツプ入力として与えられれば描画パターン
が伸び、ダウン入力として与えられれば縮むこと
になる。以上の説明は、一様な描画スケールの制御につ
いての説明であるが、本実施例では、fθレンズ６
の誤差補正をする機能も備えているので以下説明
する。第９図は、fθレンズ６の誤差補正を説明するた
めのグラフであり、第９図ａは時間ｔとレーザス
ポツト走査長ｘとの関係を示したものである。直
線９１は理想的なfθレンズの特性であり、曲線９
２は誤差をもつた実際のfθレンズの特性である。
第９図ｂは、曲線９２の直線９１に対する誤差△
x₁を曲線９３として示したものであり、誤差の幅
がδ₁だけあるものとする。第９図ｃは、△x₁に対
応する誤差を速度変化として曲線９４に示したも
のであり、同図において、基準値９５，９６に基
づき、時刻t₀からt₁までは描画クロツクの位相を
進ませ、時刻t₂からt₃までは位相を遅らせ、時刻
t₄からは位相を進ませれば、描画されたパターン
の位置誤差△x₂は第９図ｄに示すような特性９７
になり、その誤差はδ₁より小さな値δ₂となる。こ
こで、時刻t₀，t₁，……t₄は、クロツクの切り換
え時刻そのものを示すものではなく、例えば、時
刻t₀とt₁との間では一定時間毎に描画クロツクの
切り換えが行なわれている。また、第９図ｃにお
いて、△νを３段階にした場合について説明した
が、一般的はさらに多いステツプで補正される。このような時刻と補正量との関係はROM３７
に予め記憶されており、CB３６の出力すなわち
走査位置情報に基づいて記憶情報をオア回路３４
及び３５に供給し、CA２５からの零信号２８の
場合と同様に、CC３９にアツプ入力・ダウン入
力を供給する。CC３９以降の各動作は前述のと
おりである。以上の説明は、ラスター走査の主走査方向のス
ケーリングについての説明であるが、これと垂直
な方向のスケーリングは、ステージ走査の速度、
すなわちモータ１３の移動速度を増減することに
よつて行なわれる。また、上述の実施例では、CKDL４１によつて
クロツク信号を遅らせる量をクロツクの周期の1/
５としたが、1/6以下の細かく分割した遅延時間と
することもできる。さらに、発振器２７のクロツ
ク信号CKのデユーテイーを25％以下にして、遅
延時間を周期の1/2まで大きくした構成にするこ
ともできる。この場合、２画素が伸縮する。さらに、上記実施例でLT２６にプリセツトデ
ータとして1000を入力しておくと、１走査線の走
査開始から1000画素毎に、１画素分の長さが1/5
周期分だけ伸縮し、一走査線中、離散的な10画素
分によつて、パターンの伸縮が行なわれる。この
ときパターンの伸縮は0.02％となる。尚この場
合、第２図中、CB３６は、OSC２７のクロツク
信号CKを計数するとしたが、CKDL４１の信号
４２を計数して10000カウントしたら、信号３８
ｂを発生するように構成する。以上のように、本発明によれば、描画パターン
のスケーリングの変更を行なつても、描画された
パターンの線幅や位置精度を劣化させないという
利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係るパターン描画
装置の斜視図、第２図は前記装置のデータ変調の
ブロツク回路図、第３図は第２図のCKDLのブロ
ツク回路図、第４図は第２図のPSのブロツク回
路図、第５図及び第６図はそれぞれ第２図の各部
の動作を示したフローチヤート、第７図は第３図
のCKDLの動作を示したフローチヤート、第８図
は第４図のPSの動作を示したフローチヤート、
第９図はfθレンズの誤差補正を説明するためのグ
ラフである。描画パルス発生装置；１５…データ変調部。ク
ロツクパルス発生手段；２７…発振器。パルス移
相手段；２５…カウンタ（CA）、２６…ラツチ回
路（LT）、３１…インバータ、３２，３３…アン
ド回路、３４，３５…オア回路、３９…カウンタ
（CC）、４０…デコーダ。切替手段；４１…クロ
ツクデイレイ回路（CKDL）。

Claims

【特許請求の範囲】１描画ビームの１走査線を画素化したときの各
画素を、描画データに基づき描画ビームで照射又
は非照射することにより、対象物にパターンを描
画する装置において、１走査期間内に、走査線中の画素数に対応した
パルス数で、各パルスの周期が同一のパルス列を
入力して、該パルス列中、離散的な少なくとも２
つのパルスの周期を他のパルスの周期に対して伸
縮した描画パルス列を発生する描画パルス発生装
置を備え、前記描画パルス列に応じて１走査線の
画素を描画することにより、走査線方向のパター
ン幅を伸縮させることを特徴とするパターン描画
装置。２描画パルス発生装置は、パルス周期が全て同
一で、パルス数が１走査画素数に等しいクロツク
パルス列を発生するクロツクパルス発生手段と、
前記クロツクパルス列を入力して、順次１／Ｎ周
期ずつ位相がずれたＮ個のパルス列を発生するパ
ルス移相手段と、１走査期間中、該Ｎ個のパルス
列のうち、基準となるパルス列から位相が遅れる
順番又は進む順番で１つのパルス列を離散的にＮ
回切替え出力することにより描画パルス列を得る
切替え手段とを備えた特許請求の範囲第１項記載
のパターン描画装置。