JPH0476497B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0476497B2 JPH0476497B2 JP60108074A JP10807485A JPH0476497B2 JP H0476497 B2 JPH0476497 B2 JP H0476497B2 JP 60108074 A JP60108074 A JP 60108074A JP 10807485 A JP10807485 A JP 10807485A JP H0476497 B2 JPH0476497 B2 JP H0476497B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- contact
- palladium
- projections
- substrate
- protrusions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/20—Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/20—Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
- H10W72/251—Materials
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属ワイヤより溶かした球状部分を
熱圧着処理または超音波処理によつて接触区域に
固着することにより超小型電子回路の接触区域に
機械的に形成された接触突起を有する超小型電子
回路に関するものである。
熱圧着処理または超音波処理によつて接触区域に
固着することにより超小型電子回路の接触区域に
機械的に形成された接触突起を有する超小型電子
回路に関するものである。
このような超小型電子回路は1982年10月28日に
公告されたドイツ国特許出願第8101371号より知
られている。このドイツ国特許出願には、接触突
起(接触球またはバンプ(bump)とも呼ばれ
る)を例えば集積回路のような超小型電子回路に
機械的に形成する方法が記載されている。これ等
の接触突起は、基板上の導体または金属リードフ
レームとの電気接触をつくるのに役立つもので、
この場合には接続線を用いる必要がない。この接
触突起は、ワイヤーの一端を溶かして球を形成
し、この球を超小型回路の接触区域に押しつけ、
これを接触区域に接続し、その後でワイヤを球近
くの弱められた場所で切り離すことによつて得ら
れる。
公告されたドイツ国特許出願第8101371号より知
られている。このドイツ国特許出願には、接触突
起(接触球またはバンプ(bump)とも呼ばれ
る)を例えば集積回路のような超小型電子回路に
機械的に形成する方法が記載されている。これ等
の接触突起は、基板上の導体または金属リードフ
レームとの電気接触をつくるのに役立つもので、
この場合には接続線を用いる必要がない。この接
触突起は、ワイヤーの一端を溶かして球を形成
し、この球を超小型回路の接触区域に押しつけ、
これを接触区域に接続し、その後でワイヤを球近
くの弱められた場所で切り離すことによつて得ら
れる。
機械的に設けられた接触突起は金より成るのが
普通である。この金の突起は多くの場合満足を与
えるが、他の場合には欠点もある。例えば値段が
比較的高い。溶かして球をつくるワイヤの必要強
度との関係で、ワイヤの直径は少なくとも30μm
となり、したがつて接触突起の最小直径は60〜
80μmである。接続突起は小さければ、より数多
くの接触区域を得ることができる。更に、金の接
触突起を設けた基板は支持体の導体に極めて注意
深く固着せねばならない。接触突起が導体にハン
ダ付けされる場合には、通常の鉛−錫ハンダを用
いるのが普通であろう。この場合には金が錫に可
溶であるということを考えねばならない。別の固
着技法即ち接着は金の接着突起とは簡単に行うこ
とが出来ない。
普通である。この金の突起は多くの場合満足を与
えるが、他の場合には欠点もある。例えば値段が
比較的高い。溶かして球をつくるワイヤの必要強
度との関係で、ワイヤの直径は少なくとも30μm
となり、したがつて接触突起の最小直径は60〜
80μmである。接続突起は小さければ、より数多
くの接触区域を得ることができる。更に、金の接
触突起を設けた基板は支持体の導体に極めて注意
深く固着せねばならない。接触突起が導体にハン
ダ付けされる場合には、通常の鉛−錫ハンダを用
いるのが普通であろう。この場合には金が錫に可
溶であるということを考えねばならない。別の固
着技法即ち接着は金の接着突起とは簡単に行うこ
とが出来ない。
機械的に設けられる接続突起に他の材料を使用
することも既に提案されている。例えばアルミニ
ウムを使用することができる。この場合には球に
溶かすのが容易ではない。更にこの場合接触突起
の直径は比較的大きくなる。その上アルミニウム
は、急速に酸化するため接触突起を有する基板を
支持体の導体に固着する作業が困難であるという
欠点を有する。
することも既に提案されている。例えばアルミニ
ウムを使用することができる。この場合には球に
溶かすのが容易ではない。更にこの場合接触突起
の直径は比較的大きくなる。その上アルミニウム
は、急速に酸化するため接触突起を有する基板を
支持体の導体に固着する作業が困難であるという
欠点を有する。
更に接触突起の材料として銅を用いることも提
案されている。銅の使用によつてやはり比較的大
きな直径を有する接触特記しか得られないという
ことの外に、銅は酸化するという欠点を有する。
その上、銅の接触突起の硬度は比較的大きいの
で、基板を傷つけるように極めて注意深く基板上
に設けねばならない。
案されている。銅の使用によつてやはり比較的大
きな直径を有する接触特記しか得られないという
ことの外に、銅は酸化するという欠点を有する。
その上、銅の接触突起の硬度は比較的大きいの
で、基板を傷つけるように極めて注意深く基板上
に設けねばならない。
本発明の目的は、前述の欠点を生じることのな
い、機械的に形成された接触突起を有する超小型
電子回路を得ることにある。本発明は、接触突起
を構成する材料をパラジウムとすることにより前
記の目的を達成したものである。
い、機械的に形成された接触突起を有する超小型
電子回路を得ることにある。本発明は、接触突起
を構成する材料をパラジウムとすることにより前
記の目的を達成したものである。
驚くべきことには、パラジウムの接触突起は普
通の材料にくらべて数多くの利点を有することが
わかつた。例えば、極めて細いパラジウムワイヤ
の強さは、小さな直径を有する球部分を得ること
ができるのに十分である。更に、パラジウムの値
段は手ごろである。パラジウム突起の支持体上の
錫被覆導体へのハンダ付けも、パラジウムが錫に
可溶性でないため何等問題ない。更にまた、パラ
ジウムの接触突起は支持体上の導体に接着する場
合何等の問題がないことがわかつた。パラジウム
の接触突起は酸化せず、硬度は過度に大きくない
ので、これ等の突起は基板上に簡単に設けること
ができる。
通の材料にくらべて数多くの利点を有することが
わかつた。例えば、極めて細いパラジウムワイヤ
の強さは、小さな直径を有する球部分を得ること
ができるのに十分である。更に、パラジウムの値
段は手ごろである。パラジウム突起の支持体上の
錫被覆導体へのハンダ付けも、パラジウムが錫に
可溶性でないため何等問題ない。更にまた、パラ
ジウムの接触突起は支持体上の導体に接着する場
合何等の問題がないことがわかつた。パラジウム
の接触突起は酸化せず、硬度は過度に大きくない
ので、これ等の突起は基板上に簡単に設けること
ができる。
接触突起は少なくとも技術的に純粋なパラジウ
ム、好ましくは99.99%の純度のパラジウムより
成るのが好適である。特に、極めて純粋なパラジ
ウムでは、この材料の接触突起としての大きな利
点がはつきりと現れる。
ム、好ましくは99.99%の純度のパラジウムより
成るのが好適である。特に、極めて純粋なパラジ
ウムでは、この材料の接触突起としての大きな利
点がはつきりと現れる。
パラジウムの大きな利点は、約12μmの太さで
もこの材料のワイヤはこの目的に使用するのに十
分な強さであるということである。したがつて、
このワイヤから30μmの直径の接触突起を得るこ
とが可能で、これに対し金の場合にはこの直径は
60−80μmである。その結果、単位長当り著しく
多数の接触突起を得ることができる。
もこの材料のワイヤはこの目的に使用するのに十
分な強さであるということである。したがつて、
このワイヤから30μmの直径の接触突起を得るこ
とが可能で、これに対し金の場合にはこの直径は
60−80μmである。その結果、単位長当り著しく
多数の接触突起を得ることができる。
接触突起が小さな直径を有することができるの
で、接触区域に対し多数の接触部を得ることがで
きる。接触突起を、基板の周囲の近くの1つのパ
ターンとそれより内側に位置する1つまたはそれ
以上のパターンに形成すると、特に多数の接続部
を得ることができる。
で、接触区域に対し多数の接触部を得ることがで
きる。接触突起を、基板の周囲の近くの1つのパ
ターンとそれより内側に位置する1つまたはそれ
以上のパターンに形成すると、特に多数の接続部
を得ることができる。
以下本発明を図面を参照してより詳しく説明す
る。
る。
第1図は例えばシリコンの半導体装置を示す。
素子1には、普通の半導体製造技法によつて回路
例えば集積回路が形成される。接触区域が半導体
素子1上にある。接触突起2が前記の接触区域に
設けられる。これ等の接触突起は、金属ワイヤよ
り溶かされ次いで熱圧着処理または超音波処理に
よつて半導体素子1上に固着された球状部分より
形成される。前記のドイツ国特許出願には接触突
起を設けるこのような方法が例示されている。こ
の接触突起2は、半導体素子1の回路の電気接点
としての役をする。
素子1には、普通の半導体製造技法によつて回路
例えば集積回路が形成される。接触区域が半導体
素子1上にある。接触突起2が前記の接触区域に
設けられる。これ等の接触突起は、金属ワイヤよ
り溶かされ次いで熱圧着処理または超音波処理に
よつて半導体素子1上に固着された球状部分より
形成される。前記のドイツ国特許出願には接触突
起を設けるこのような方法が例示されている。こ
の接触突起2は、半導体素子1の回路の電気接点
としての役をする。
本発明によれば、接触突起を構成する材料はパ
ラジウムである。この材料は、前に広く説明した
利点を有する。この接触突起は技術的に純粋なパ
ラジウム、好ましくは99.99%の純度を有するパ
ラジウムより成るのが好適である。パラジウムを
用いることの利点の1つは、前述したように、接
触突起の直径を小さく即ち約30μmにできこのた
め単位長さ当りに数多くの接触突起を得ることが
できるということである。
ラジウムである。この材料は、前に広く説明した
利点を有する。この接触突起は技術的に純粋なパ
ラジウム、好ましくは99.99%の純度を有するパ
ラジウムより成るのが好適である。パラジウムを
用いることの利点の1つは、前述したように、接
触突起の直径を小さく即ち約30μmにできこのた
め単位長さ当りに数多くの接触突起を得ることが
できるということである。
第2図は半導体素子3に偶数の多数の接触突起
を用いたものを示す。パラジウムの接触突起4は
この半導体素子の1つの外側パターンに機械的に
設けられ、一方パラジウムの接触突起5は更に内
側に位置するパターンで存在する。更に、2、3
の接続導体6が線図的に示されている。これ等の
接続導体は例えば絶縁材料の皮膜上に設けてもよ
い。代わりにこれ等の接続導体を支持基板上に形
成してもよい。パラジウム突起4と5の直径が小
さいために半導体素子3で多数の電気接続部を得
ることができるが、これにも拘わらず接続導体を
比較的簡単に接触突起4,5に接続することがで
きる。
を用いたものを示す。パラジウムの接触突起4は
この半導体素子の1つの外側パターンに機械的に
設けられ、一方パラジウムの接触突起5は更に内
側に位置するパターンで存在する。更に、2、3
の接続導体6が線図的に示されている。これ等の
接続導体は例えば絶縁材料の皮膜上に設けてもよ
い。代わりにこれ等の接続導体を支持基板上に形
成してもよい。パラジウム突起4と5の直径が小
さいために半導体素子3で多数の電気接続部を得
ることができるが、これにも拘わらず接続導体を
比較的簡単に接触突起4,5に接続することがで
きる。
第1図は機械的に形成さえた多数の接触突起を
そなえた半導体素子の斜視図、第2図は接触突起
が2つのパターンで形成された半導体素子の平面
図である。 1,3……半導体素子、2,4,5……接触突
起、6……接続導体。
そなえた半導体素子の斜視図、第2図は接触突起
が2つのパターンで形成された半導体素子の平面
図である。 1,3……半導体素子、2,4,5……接触突
起、6……接続導体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 金属ワイヤより溶かした球状部分を熱圧着処
理または超音波処理によつて接触区域に固着する
ことにより超小型電子回路の接触区域に機械的に
形成された接触突起を有する超小型電子回路にお
いて、接触突起を構成する材料がパラジウムであ
ることを特徴とする超小型電子回路。 2 接触突起は少なくとも技術的に純粋なパラジ
ウム、好ましくは99.99%の純度を有するパラジ
ウムより成る特許請求の範囲第1項記載の超小型
電子回路。 3 接触突起は30μm台の直径を有する特許請求
の範囲第1項または第2項記載の超小型電子回
路。 4 接触突起は基板の周囲近くの1つのパターン
とそれより内側に位置する1つまたはそれ以上の
パターンに形成された特許請求の範囲第1項、第
2項または第3項記載の超小型電子回路。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8401619A NL8401619A (nl) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | Elektronisch microcircuit voorzien van kontaktverhogingen. |
| NL8401619 | 1984-05-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60254739A JPS60254739A (ja) | 1985-12-16 |
| JPH0476497B2 true JPH0476497B2 (ja) | 1992-12-03 |
Family
ID=19843977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60108074A Granted JPS60254739A (ja) | 1984-05-21 | 1985-05-20 | 接触突起を有する超小型電子回路 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0165626B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60254739A (ja) |
| KR (1) | KR850008042A (ja) |
| DE (1) | DE3574526D1 (ja) |
| HK (1) | HK87691A (ja) |
| NL (1) | NL8401619A (ja) |
| SG (1) | SG87790G (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5776824A (en) | 1995-12-22 | 1998-07-07 | Micron Technology, Inc. | Method for producing laminated film/metal structures for known good die ("KG") applications |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3978517A (en) * | 1975-04-04 | 1976-08-31 | Motorola, Inc. | Titanium-silver-palladium metallization system and process therefor |
| DE8122540U1 (de) * | 1981-07-31 | 1983-01-13 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | "informationskarte mit integriertem baustein" |
-
1984
- 1984-05-21 NL NL8401619A patent/NL8401619A/nl not_active Application Discontinuation
-
1985
- 1985-05-10 EP EP85200739A patent/EP0165626B1/en not_active Expired
- 1985-05-10 DE DE8585200739T patent/DE3574526D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-05-14 KR KR1019850003274A patent/KR850008042A/ko not_active Ceased
- 1985-05-20 JP JP60108074A patent/JPS60254739A/ja active Granted
-
1990
- 1990-10-25 SG SG877/90A patent/SG87790G/en unknown
-
1991
- 1991-11-07 HK HK876/91A patent/HK87691A/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3574526D1 (de) | 1990-01-04 |
| EP0165626B1 (en) | 1989-11-29 |
| SG87790G (en) | 1990-12-21 |
| NL8401619A (nl) | 1985-12-16 |
| HK87691A (en) | 1991-11-15 |
| KR850008042A (ko) | 1985-12-11 |
| EP0165626A1 (en) | 1985-12-27 |
| JPS60254739A (ja) | 1985-12-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |