JPH0476806A

JPH0476806A - 積層型磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH0476806A
Application number: JP2191385A
Authority: JP
Inventors: Osamu Watanabe; 修渡辺; Kiyohiro Uemura; 植村　清広; Toshiyuki Shinozaki; 篠崎　俊幸
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1990-07-19
Filing date: 1990-07-19
Publication date: 1992-03-11

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、磁気記録装置の磁気ヘッドに関するものであ
り、特に記録及び再生兼用て、高密度記録に適した磁気
ヘッドに関するものである。

従来の技術近年、ビデオテープレコーダー等に用いられる磁気ヘッ
ドとして、高飽和磁束密度のセンダスト膜やアモルファ
ス膜をコア材とする金属磁性膜磁気ヘッドが種々検討さ
れている。金属磁性膜磁気ヘッドは２つの非磁性基板間
に金属磁性膜を挟んだ構成からなるが、金属磁性膜の膜
厚かトラック幅を規制するため金属磁性膜の膜厚をある
程度大きくしなければならない。しかし、膜厚を大きく
すると高周波渦電流損失が著しく増大し、高周波での再
生効率が低下するという欠点かある。この欠点を改善す
るため、飽和磁束密度の高い金属磁性膜とスパッタリン
グ法や蒸着法で製膜されたＳ　１０２．　Ａ　１２０２
等の薄膜からなる絶縁膜とを交互に積層した多層構造と
し、その両面を非磁性基板て挟んだ積層型磁気ヘッドと
して、所定のトラック幅を得ると共に、コア材の電気抵
抗を増大させ、高周波ての渦電流の損失を極力押さえる
ようにしたものか提案されている。

以下、従来の積層型磁気ヘッドについて説明する。第３
図は、従来の積層型磁気ヘッドの斜視図であり、第４図
は第３図Ａ部分の拡大図である。ｌａ、ｌｂは非磁性基
板、２は磁気コア、３は巻線溝、４は高飽和磁束密度及
び高透磁率を有するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金、アモルファ
ス合金等からなる金属磁性膜、５は５１０２．Ａｌ２Ｏ
３等からなる絶縁膜、６はＰｘＯ−ＢａＯ系、Ｐ　２０
ｓ　　Ａ　］　２ｏｚ　　　Ｂ２　Ｏｚ系、５１０２Ｎ
　ａ　２０２系等からなる溶着ガラス膜、７はギャップ
である。

以上のように構成された従来の積層型磁気ヘッドについ
て、以下その製造工程を説明する。

非磁性基板＋ａの一面に、高飽和磁束密度及び高透磁率
を有する金属磁性膜の第１層４ａをスパッタリング法に
て膜付けし、次いて５ｉ０２等の絶縁膜の第１層５ａを
同様にして膜付けし、以下、金属磁性膜の第２層４ｂ、
絶縁膜の第２層５ｂ、金属磁性膜の第３層４Ｃ１絶縁膜
の第３層５Ｃ１金属磁性膜４ｄと繰り返し膜付けし、磁
気コア２を形成する。次に補強材となる非磁性基板１ｂ
を金属磁性膜第４層４ｄ層にガラス等により接着して磁
気コアブロックを製作する。次に一対の磁気コアブロッ
クの少なくとも一方に巻線溝３を設けてガラス等を介し
て磁気ギャップ７を形成し所定の位置で前記コアブロッ
クを切断して磁気ヘッドか製作される。

発明か解決しようとする課題しかしなから上記従来の構成では、絶縁膜の３１０２の
熱膨張係数は、４〜６　ｘ　ｌ　Ｏ−７／ｄｅｇてあり
、これに対して金属磁性膜の熱膨張係数は１１０〜１５
０　ｘ　１０−７／ｄｅｇてあって、絶縁膜と金属磁性
膜との熱膨張係数か著しく異なり、その結果、磁気ヘッ
ド製造工程中の熱処理時に、積層磁性体薄膜にクラック
か入ったり、膜の剥離を起こしたりする等の欠点かあっ
た。そこで、特開昭５９−８７６１４号ではＳ　ｊＯ２
の代わりに熱膨張係数か８０　ｘ　１０−７／ｄｅｇ程
度と金属磁性膜の熱膨張係数に近いＡ　］　２０−を用
いる方法か提案されている。この場合もＳｉＣ２と同様
、完全に膜の剥離を抑制することか困難で、安定に歩留
りよく積層磁性体を形成することかてきなかつた。

課題を解決するための手段本発明は、金属磁性薄膜と絶縁膜を交互に積層してなる
積層型磁気ヘッドにおいて、絶縁膜として、ＰｂＯ系ガ
ラスを絶縁材兼接着剤として用いることによってなされ
る。

作用上記構成により、金属磁性膜と絶縁膜との熱膨張係数か
近く、しかも接着性のあるＰｂＯガラスを用いたので、
金属磁性膜の磁気特性付与の際の熱処理工程によるこの
界面での剥離かなくなり、積層型磁気ヘッドを安定に歩
留りよく製造することかできるようになる。

また、ＰｂＯ系ガラスは結晶化ガラスである為、熱処理
により結晶化し、融点か上昇するので積層工程以降の熱
処理において接着部か弛緩することがなく、一体物とし
て扱えるので製造し易く、量産性に優れる。

実施例本発明を実施例に基づき更に詳細に説明する。

実施例１第１図は、本発明の一実施例における積層型磁気ヘッド
の要部拡大図である。

１ａ、１ｂは非磁性基板、４ａ、４ｂ・・・は金属磁性
膜、６は溶着用ガラスであり、これらは従来例と同様の
ものであるのて、同一の番号を付し、説明を省略する。

１０ａ、１０ｂ　・はＰｂＯ系ガラスで形成した絶縁膜
である。製膜はスパッタリング法等によりなされる。膜
厚は００５μｍ〜０．７μｍ１好ましくは０１μｍ〜０
３μｍである。

ＰｂＯ系ガラスの組成は、ＰｂＯか４０〜８０ｗｔ％好
ましくは５０〜７０ｗｔ％、Ｂ２０．か８〜２５ｗｔ％
好ましくは１２〜２０ｗｔ％、Ａ１２Ｃｈか１−１２ｗ
ｔ％好ましくは２〜８ｗｔ％、　ＺｎＯ２か１〜１５ｗ
ｔ％好ましくは３〜１０ｗｔ％、その他Ｓ　ｉ　Ｏ，等
を微量含育するものからなる。

以上のように構成された本実施例の積層型磁気ヘッドに
ついて、以下その製造工程について説明′する。

面粗さか２００Å以下に研磨加工されたチタン酸カルン
ユウム、アルファーヘマタイト、結晶化ガラス等からな
る非磁性基板ｌａ上に、センダスト等の高透磁率の金属
磁性膜４ａをスパッタリング法等の薄膜形成手段により
形成し、その上にＰｂＯ系のガラスの絶縁膜１０ａをス
パッタリング法により形成する。この時、スパッタ圧力
は５〜４０ｍＴｏｒｒ程度であり、スパッタレートは３
０人／ｍｉｎ以下とすることか望ましい。また、ＰｂＯ
系ガラスのスパッタ時にはＡｒガスに０□ガスを若干混
合することかより好ましい。

ここで絶縁膜１０ａとしては、例えば岩城ガラス社の７
５７８ガラスで形成したものであって、この７５７８ガ
ラスは、約８０　Ｘ　１０−７／ｄｅｇＯ熱膨張係数を
有し、ＳｉＯ□よりも非常に大きく、しかも軟化温度か
４４０°Ｃ程度の低融点ガラスである為、加圧、熱処理
時に溶融し、その後の徐冷に従って固化し、金属磁性膜
と強固に接着するようなものか好ましい。また、その膜
厚は０１μｍ〜０３μｍか好ましい。このような材料及
び条件て金属磁性Ｍ４ａ、４ｂ、４Ｃ１４ｄ、と絶縁膜
１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、を交互に積層し、多層磁性体
を形成する。次に前記多層磁性体層上面に前記基板１ａ
と寸法及び材質に於いて同等の非磁性基板１ｂを作業温
度か５５０°Ｃ程度の低融点ガラスを用いて無機接着す
る。接合の仕方は、多層磁性体あるいは、ヘッド基板１
ｂの表面にスパッタリング法や粉末沈降法で薄いガラス
膜を形成し、加圧加温し、接合してブロックを形成する
。次いて、従来法と同じようにブロックを、低融点ガラ
スを使用して複数個を積層して積層ブロックを形成した
後、所定の形状に切断し、そのうち一方の積層ブロック
には、巻線窓を加工すると共に、ギャップ形成面を研磨
等で平滑に仕上げその後、５ｉ０２等の非磁性材をスパ
ッタリング等で、ギャップ形成面に付着させる。尚、こ
の場合の非磁性材は、他方の積層ブロックのギャップ形
成面に付着させるようにしても良い。その後、両種層ブ
ロックを作業温度か５００°Ｃ程度の低融点ガラス等の
無機接着剤で多層磁性体層かずれない様にギャップを形
成しつつ、接着し接合ブロックを得る。

次いて、所定の厚さに切断し研磨仕上げて磁気へラドコ
アを得る。

実施例２第２は本発明の他の実施例の要部拡大図である。ｌａ、
ｌｂは非磁性基板、４ａ、４ｂ・・・は金属磁性膜、６
は溶着ガラス、７はギャップ、１０ａ、１０ｂ・・はＰ
ｂＯ系ガラスからなる絶縁膜であり、第１図と同様のも
のであるので同一の番号を付し説明を省略する。

１１ａ、ｌｌｂ・・・は、金属磁性膜４ａ〜４ｄと絶縁
膜１０ａ−１０ｃの間に設けられた拡散防止膜である。

この拡散防止膜１１ａ−１ｉｅは、アニールやコア接合
一体化時の温度で絶縁膜かセンダスト薄膜中に拡散して
いくのを防止する為に形成したものてＡ　１２０　ｓ　
、Ｔ　ａ　２０　ｓ、Ｔ１０゜等を例えば５０〜２００
人程度の厚さて介在させる。他の工程は、実施例１と同
様の工程で製造し磁気へラドコアを得る。

上記実施例においては金属磁性膜４ａ〜４ｄにセンダス
ト等の薄膜を使用したか、結晶化温度か５５０℃より高
くキューリー点か５５０℃以下のＣｏ系アモルファス合
金をセンダストの代わりに使用しても良い。

比較例１絶縁膜として、非晶質ＰｂＯ系ガラスを用いた他は、実
施例１と同様の製造工程で、磁気へラドコアを得た。

従来例１，２絶縁膜として、５１０２（従来例１）やＡ　１２０、（
従来例２）を用いた他は、実施例１と同様の製造工程で
磁気へラドコアを得た。

次に、実施例、比較例、従来例で得た多層磁性体の剥離
やクラックの有無を電子顕微鏡でギャップ形成面を撮影
し、確認した。

その結果、実施例１．２は全く相剥離は認められなかっ
たが、比較例１ては相剥離か認められた。

従来例１では、相剥離か生じ、更に、金属磁性膜に大き
なりラックか発生していた。従来例２ては相剥離か認め
られた。

発明の効果本発明は、積層磁気ヘッドの絶縁膜にＰｂＯ系ガラスを
用いたのて、製造過程での熱処理により、薄膜の剥離を
生じることのない磁気ヘッドを得ることができ、生産性
を飛躍的に向上させると共に、コア材の電気抵抗を著し
く増大させ、その結果高周波での渦電流損失を大幅に減
少させた。

また、金属磁性膜と絶縁膜の間に拡散防止膜を設けたこ
とにより、金属磁性膜の磁気特性の劣化を著しく防止し
た高機能性磁気ヘッドを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における積層型磁気ヘッドの
要部拡大図、第２図は他の実施例の要部拡大図、第３図
は従来の積層型磁気ヘッドの斜視図、第４図は第３図Ａ
部分の拡大図である。３・・・巻線溝４ａ〜４ｄ・・・金属磁性膜５ａ〜５ｃ・・・絶縁膜６・・・溶着性ガラス層７・・・ギャップ１０ａ〜１０ｃ・・・絶縁膜１１ａ〜ｌｌｆ・・・拡散防止膜

Claims

【特許請求の範囲】

（１）２つの非磁性基板間に、複数の金属磁性膜と絶縁
膜とが交互に積層してなる磁気ヘッドにおいて、前記絶
縁膜としてＰｂＯ系ガラスが使用されていることを特徴
とする積層型磁気ヘッド。
（２）ＰｂＯ系ガラスが、結晶化ガラスであることを特
徴とする請求項第１項記載の積層型磁気ヘッド。
（３）金属磁性膜と絶縁膜の間に、拡散防止膜が設けら
れていることを特徴とする請求項第１項又は第２項記載
の積層型磁気ヘッド。