JPH0478076A - 磁気へッドスライダ及びその製造方法 - Google Patents
磁気へッドスライダ及びその製造方法Info
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- JPH0478076A JPH0478076A JP18622390A JP18622390A JPH0478076A JP H0478076 A JPH0478076 A JP H0478076A JP 18622390 A JP18622390 A JP 18622390A JP 18622390 A JP18622390 A JP 18622390A JP H0478076 A JPH0478076 A JP H0478076A
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- Japan
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- floating
- rail
- slider
- magnetic
- magnetic head
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要]
磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘントスライダ及び
その製造方法、特に磁気記録媒体に対するヘッド吸着が
なく、耐久性の良い磁気ヘッドスライダの構成及びその
製造方法に関し、媒体対向面に対するヘッド吸着を防止
し、しかも低浮上化においても浮上安定性の良好な磁気
−・ノドスライダの構成とその製造方法を提供すること
を目的とし、 多結晶セラミックス材で形成されたスライダ本体の磁気
記録媒体と対向する面に、浮上レールを備えた磁気ヘン
トスライダであって、前記浮」ニレ−ルのレール面に露
呈する結晶粒の粒界に空隙状の溝を設けた構成とする。
その製造方法、特に磁気記録媒体に対するヘッド吸着が
なく、耐久性の良い磁気ヘッドスライダの構成及びその
製造方法に関し、媒体対向面に対するヘッド吸着を防止
し、しかも低浮上化においても浮上安定性の良好な磁気
−・ノドスライダの構成とその製造方法を提供すること
を目的とし、 多結晶セラミックス材で形成されたスライダ本体の磁気
記録媒体と対向する面に、浮上レールを備えた磁気ヘン
トスライダであって、前記浮」ニレ−ルのレール面に露
呈する結晶粒の粒界に空隙状の溝を設けた構成とする。
また、多結晶セラミックス材で形成されたスライダ本体
の磁気記録媒体と対向する浮上レールのレール面に露呈
する結晶粒の粒界に、熱燐酸を用いた化学エツチング法
等により処理して空隙状の溝を形成する構成とする。
の磁気記録媒体と対向する浮上レールのレール面に露呈
する結晶粒の粒界に、熱燐酸を用いた化学エツチング法
等により処理して空隙状の溝を形成する構成とする。
更に、多結晶セラミックス材で形成されたスライダ本体
の磁気記録媒体と対向する浮上レールのレール面に一定
方向の研磨を施した後、その研磨条痕を有するレール面
を熱燐酸を用いた化学エツチング法により処理する構成
とする。
の磁気記録媒体と対向する浮上レールのレール面に一定
方向の研磨を施した後、その研磨条痕を有するレール面
を熱燐酸を用いた化学エツチング法により処理する構成
とする。
(産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘントスラ
イダ及びその製造方法に係り、特にヘッド吸着がなく、
磁気記録媒体に対する耐久性の向上を図った磁気へラド
スライダの構成及びその製造方法に関するものである。
イダ及びその製造方法に係り、特にヘッド吸着がなく、
磁気記録媒体に対する耐久性の向上を図った磁気へラド
スライダの構成及びその製造方法に関するものである。
コンピュータシステムにおける大容量ファイル装置とし
て用いられている磁気ディスク装置では、近来、情報量
の増大により益々大容量化、高密度記録化が要求されて
いる。それに伴い従来の塗膜磁気ディスクに取って変わ
る上記要求に対して有利な連続スパッタリング法等によ
り形成される薄膜磁気ディスクが採用されている。
て用いられている磁気ディスク装置では、近来、情報量
の増大により益々大容量化、高密度記録化が要求されて
いる。それに伴い従来の塗膜磁気ディスクに取って変わ
る上記要求に対して有利な連続スパッタリング法等によ
り形成される薄膜磁気ディスクが採用されている。
またこのような薄膜磁気ディスクに対する高密度記録化
に伴って、記録・再生用磁気ヘッドスライダの低浮上化
が不可欠となる。このため、停止時は磁気へラドスライ
ダを磁気ディスク面に接触させておき、該磁気ディスク
の回転速度の上昇につれて該磁気へラドスライダが浮上
される、所謂CS S (Contact 5tart
5top)動作方式が広く用いられている。
に伴って、記録・再生用磁気ヘッドスライダの低浮上化
が不可欠となる。このため、停止時は磁気へラドスライ
ダを磁気ディスク面に接触させておき、該磁気ディスク
の回転速度の上昇につれて該磁気へラドスライダが浮上
される、所謂CS S (Contact 5tart
5top)動作方式が広く用いられている。
かかるC3S動作方式では、磁気ディスクの回転起動時
及び停止時には磁気へラドスライダがディスク面に接触
摺動することから、磁気ディスク面に潤滑剤が塗布され
ている。従って、その潤滑剤の仲介により磁気へラドス
ライダが磁気ディスク面に吸着される、所謂ヘッド吸着
が発生し易くなり、磁気へラドスライダの安定な浮上動
作が損なわれる傾向にある。このため、そのような障害
を防止し得るスライダ構造及びそのスライダ構造を容易
に実現できる製造方法が必要とされる。
及び停止時には磁気へラドスライダがディスク面に接触
摺動することから、磁気ディスク面に潤滑剤が塗布され
ている。従って、その潤滑剤の仲介により磁気へラドス
ライダが磁気ディスク面に吸着される、所謂ヘッド吸着
が発生し易くなり、磁気へラドスライダの安定な浮上動
作が損なわれる傾向にある。このため、そのような障害
を防止し得るスライダ構造及びそのスライダ構造を容易
に実現できる製造方法が必要とされる。
従来の磁気ヘントスライダは、該スライダの構成を理解
し易くするためにディスク対向面を上向きにした第5図
に示すように、Ni−Znフェライト、或いはAj2z
03・TiCなどのセラミックスからなるスライダ用基
板を研削加工により、媒体対向面の空気流入端側から流
出端側に向かって、例えば該空気流入端に傾斜面3aと
平坦面3bからなる浮上力発生用のレール面3を有する
一対の浮上レール2が形成され、このようなスライダ本
体lにおける前記各浮上レール2の空気流出側の端面に
記録・再生用の磁気ヘッド素子(図示省略)が設けられ
た構成からなり、通常タイプとして一般的に広く用いら
れている。
し易くするためにディスク対向面を上向きにした第5図
に示すように、Ni−Znフェライト、或いはAj2z
03・TiCなどのセラミックスからなるスライダ用基
板を研削加工により、媒体対向面の空気流入端側から流
出端側に向かって、例えば該空気流入端に傾斜面3aと
平坦面3bからなる浮上力発生用のレール面3を有する
一対の浮上レール2が形成され、このようなスライダ本
体lにおける前記各浮上レール2の空気流出側の端面に
記録・再生用の磁気ヘッド素子(図示省略)が設けられ
た構成からなり、通常タイプとして一般的に広く用いら
れている。
ところでこのような磁気へラドスライダでは、磁気ディ
スク面への接触・摺動による損傷を避けるために、前記
各浮上レール2のレール面3は平滑面に仕上げられ、ま
た平滑な磁気ディスク面には滑り性を確保するために潤
滑剤を塗布しているが、互いに平滑面を有する磁気へラ
ドスライダと潤滑剤を塗布した磁気ディスクとの組み合
わせにおいては、その潤滑剤の仲介により磁気へラドス
ライダが磁気ディスク面に吸着される、所謂ヘッド吸着
が発生し易くなる問題がある。
スク面への接触・摺動による損傷を避けるために、前記
各浮上レール2のレール面3は平滑面に仕上げられ、ま
た平滑な磁気ディスク面には滑り性を確保するために潤
滑剤を塗布しているが、互いに平滑面を有する磁気へラ
ドスライダと潤滑剤を塗布した磁気ディスクとの組み合
わせにおいては、その潤滑剤の仲介により磁気へラドス
ライダが磁気ディスク面に吸着される、所謂ヘッド吸着
が発生し易くなる問題がある。
特にCS S (Contact 5tart 5to
p)動作方式により磁気ディスクの停止時には磁気ヘッ
ドスライダがディスク面に密着することから、ヘッド吸
着が生じるという欠点があった。
p)動作方式により磁気ディスクの停止時には磁気ヘッ
ドスライダがディスク面に密着することから、ヘッド吸
着が生じるという欠点があった。
また一方、上記ヘッド吸着の発生を防止するために、磁
気へラドスライダにおける各浮上レール2のレール面3
にテクスチャ(texture)処理を施して機械的に
粗面にすることも行われているが、高密度記録化により
磁気ディスク面への磁気ヘットスライダの浮上量を低下
させた場合、該ディスク面に極く微小な突起があると引
っ掛かり易くなって接触摺動が起こり、安定な浮上動作
が損なわれてへ、ドクラッシュの発生確率が高くなる問
題があった。
気へラドスライダにおける各浮上レール2のレール面3
にテクスチャ(texture)処理を施して機械的に
粗面にすることも行われているが、高密度記録化により
磁気ディスク面への磁気ヘットスライダの浮上量を低下
させた場合、該ディスク面に極く微小な突起があると引
っ掛かり易くなって接触摺動が起こり、安定な浮上動作
が損なわれてへ、ドクラッシュの発生確率が高くなる問
題があった。
本発明は上記した従来の問題点を解消するため、記録媒
体面に対するヘッド吸着及び引っ掛かり障害を防止して
、低浮上化においても良好な浮上安定性が得られる新規
な磁気ヘッドスライダの構成とその製造方法を捉供する
ことを目的とするものである。
体面に対するヘッド吸着及び引っ掛かり障害を防止して
、低浮上化においても良好な浮上安定性が得られる新規
な磁気ヘッドスライダの構成とその製造方法を捉供する
ことを目的とするものである。
〔課題を解決するための手段]
本発明は上記した目的を達成するため、多結晶セラミッ
クス材で形成されたスライダ本体の磁気記録媒体と対向
する面に、浮上レールを備えた磁気ヘントスライダであ
って、前記浮上レールのレール面に露呈する結晶粒の粒
界に空隙状の溝を設けた構成とする。
クス材で形成されたスライダ本体の磁気記録媒体と対向
する面に、浮上レールを備えた磁気ヘントスライダであ
って、前記浮上レールのレール面に露呈する結晶粒の粒
界に空隙状の溝を設けた構成とする。
また、多結晶セラミックス材で形成されたスライダ本体
の磁気記録媒体と対向する浮上レールのレール面に露呈
する結晶粒の粒界に、熱燐酸を用いた化学エンチング法
等により処理して空隙状の溝を形成する構成とする。
の磁気記録媒体と対向する浮上レールのレール面に露呈
する結晶粒の粒界に、熱燐酸を用いた化学エンチング法
等により処理して空隙状の溝を形成する構成とする。
更に、多結晶セラミンクス材で形成されたスライダ本体
の磁気記録媒体と対向する浮トレールのレール面に一定
方向の研磨を施した後、その研磨条痕を有するレール面
を熱燐酸を用いた化学エツチング法により処理する構成
とする。
の磁気記録媒体と対向する浮トレールのレール面に一定
方向の研磨を施した後、その研磨条痕を有するレール面
を熱燐酸を用いた化学エツチング法により処理する構成
とする。
本発明では、磁気ヘッドスライダの構成材料である多結
晶セラミックス面に露呈する結晶粒の粒界及びその面を
研磨して設けた研磨条痕が熱燐酸処理により選択的にエ
ツチングされることを利用して、例えばNi−Zn磁性
フェライトにより構成された磁気へットスライダにおけ
る浮上レールのレール面を熱燐酸処理液により浸漬処理
することにより、そのレール面に露呈する結晶粒の粒界
が選択的にエツチングされて、該粒界に空隙状の溝をを
容易に形成することができる。
晶セラミックス面に露呈する結晶粒の粒界及びその面を
研磨して設けた研磨条痕が熱燐酸処理により選択的にエ
ツチングされることを利用して、例えばNi−Zn磁性
フェライトにより構成された磁気へットスライダにおけ
る浮上レールのレール面を熱燐酸処理液により浸漬処理
することにより、そのレール面に露呈する結晶粒の粒界
が選択的にエツチングされて、該粒界に空隙状の溝をを
容易に形成することができる。
また、前記浮上レールのレール面を熱燐酸で処理するに
先立って、該レール面に一定方向、例えばそのレール面
の長さ方向に沿って研磨を施した後、その研磨条痕を有
するレール面を熱燐酸処理液により浸漬処理することに
より、そのレール面の研磨条痕が選択的にエツチングさ
れると共に、露呈する結晶粒の粒界も同時にエツチング
されて該研磨条痕及び粒界に空隙状の溝を容易に形成す
ることができる。この結果、磁気ディスク面に対するヘ
ッド吸着が発生し難くなり、また該ディスク面に極く微
小な突起があっても低浮上動作中の当該磁気ヘントスラ
イダによる引掛かり接触の確率が著しく低減するので、
該磁気ヘッドスライダの浮上安定性とへラドフラノシュ
に対する安全性が高められる。
先立って、該レール面に一定方向、例えばそのレール面
の長さ方向に沿って研磨を施した後、その研磨条痕を有
するレール面を熱燐酸処理液により浸漬処理することに
より、そのレール面の研磨条痕が選択的にエツチングさ
れると共に、露呈する結晶粒の粒界も同時にエツチング
されて該研磨条痕及び粒界に空隙状の溝を容易に形成す
ることができる。この結果、磁気ディスク面に対するヘ
ッド吸着が発生し難くなり、また該ディスク面に極く微
小な突起があっても低浮上動作中の当該磁気ヘントスラ
イダによる引掛かり接触の確率が著しく低減するので、
該磁気ヘッドスライダの浮上安定性とへラドフラノシュ
に対する安全性が高められる。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第1図は本発明に係る磁気ヘッドスライダと、その製造
方法の一実施例を説明するための媒体対向面を上向きに
して示す斜視図である。
方法の一実施例を説明するための媒体対向面を上向きに
して示す斜視図である。
図において、11はNi Zn、 Mn−Zn等の磁性
フェライト、或いは八〇203・TiCなどのセラミツ
クスからなるスライダ用基板を研削仕上げ加工により、
媒体対向面の空気流入端側から流出端側に向かって該空
気流入端に傾斜面13aと平坦面13bからなる浮上力
発生用のレール面13を有する一対の浮」ニレール12
が形成されたスライダ本体であり、かかるスライダ本体
11における前記各浮上レール12の空気流出側の端面
に記録・再生用の磁気ヘッド素子(図示省略)が設けら
れた従来と同様な構成である。
フェライト、或いは八〇203・TiCなどのセラミツ
クスからなるスライダ用基板を研削仕上げ加工により、
媒体対向面の空気流入端側から流出端側に向かって該空
気流入端に傾斜面13aと平坦面13bからなる浮上力
発生用のレール面13を有する一対の浮」ニレール12
が形成されたスライダ本体であり、かかるスライダ本体
11における前記各浮上レール12の空気流出側の端面
に記録・再生用の磁気ヘッド素子(図示省略)が設けら
れた従来と同様な構成である。
そしてかかるスライダの前記浮上レール12のレール面
13以外の部分を、例えばポリイミド樹脂等の耐熱樹脂
膜で被覆した状態で50〜80°Cに加熱した熱硫酸(
85%)に所定時間浸漬してエンチング処理を行うこと
により、第2図の部分拡大平面図及び第3図の部分拡大
側断面図に示すように前記レール面13に露呈する無数
の結晶粒14の粒界15が選沢的にエンチングされ、そ
の結晶粒14の粒界15に空隙状の溝16を形成するこ
とができる。
13以外の部分を、例えばポリイミド樹脂等の耐熱樹脂
膜で被覆した状態で50〜80°Cに加熱した熱硫酸(
85%)に所定時間浸漬してエンチング処理を行うこと
により、第2図の部分拡大平面図及び第3図の部分拡大
側断面図に示すように前記レール面13に露呈する無数
の結晶粒14の粒界15が選沢的にエンチングされ、そ
の結晶粒14の粒界15に空隙状の溝16を形成するこ
とができる。
従って、このようにして得られた磁気へ、トスライダは
、その浮上レール12のレール面13に形成された結晶
粒14の粒界15に沿う空隙状の溝16により 磁気デ
ィスク面に対するヘッド吸着が防止され、また前記浮上
レール12のレール面13に無数に露呈する結晶粒14
の面は平滑平坦面であり、その各結晶粒14の平滑平坦
面がレール面13の大力を占めており、しかも前記空隙
状の溝16のエンジ部分はエンチングにより丸味がつい
ているので、該ディスク面に極く微小な突起があっても
低浮上動作の磁気へラドスライダが引っ掛かって接触す
る確率が著しく低減される。
、その浮上レール12のレール面13に形成された結晶
粒14の粒界15に沿う空隙状の溝16により 磁気デ
ィスク面に対するヘッド吸着が防止され、また前記浮上
レール12のレール面13に無数に露呈する結晶粒14
の面は平滑平坦面であり、その各結晶粒14の平滑平坦
面がレール面13の大力を占めており、しかも前記空隙
状の溝16のエンジ部分はエンチングにより丸味がつい
ているので、該ディスク面に極く微小な突起があっても
低浮上動作の磁気へラドスライダが引っ掛かって接触す
る確率が著しく低減される。
更に他の実施例としては、例えば前記したスライダにお
ける前記浮上レール12の研削仕上げされたレール面1
3以外の部分をポリイミド樹脂等の耐熱樹脂膜で被覆し
た後、該レール面13を一定方向、例えば前記浮上レー
ル12の長さ方向に研磨する。
ける前記浮上レール12の研削仕上げされたレール面1
3以外の部分をポリイミド樹脂等の耐熱樹脂膜で被覆し
た後、該レール面13を一定方向、例えば前記浮上レー
ル12の長さ方向に研磨する。
そしてかかるレール面13を50〜80°Cに加熱した
熱硫酸(85%)に所定時間浸漬してエツチング処理を
行うことにより、前記レール面13に施した研磨条痕1
7が選択的にエツチングされると共に、その面に露呈す
る無数の結晶粒14の粒界15も同時に選択的にエツチ
ングされて、第4図の部分拡大平面図に示すように前記
研磨条痕17及び結晶粒14の粒界15に空隙状の溝1
8.16を形成することができる。
熱硫酸(85%)に所定時間浸漬してエツチング処理を
行うことにより、前記レール面13に施した研磨条痕1
7が選択的にエツチングされると共に、その面に露呈す
る無数の結晶粒14の粒界15も同時に選択的にエツチ
ングされて、第4図の部分拡大平面図に示すように前記
研磨条痕17及び結晶粒14の粒界15に空隙状の溝1
8.16を形成することができる。
このようにして得られた磁気へラドスライダにおいても
前記第2図及び第3図による実施例と同様な効果が得ら
れる。
前記第2図及び第3図による実施例と同様な効果が得ら
れる。
なお、以上の実施例ではNi−Zn、 Mn−Zn等の
磁性フェライト、或いはA j2203・TiCなどの
セラミックスからなるスライダ本体の媒体と対向する浮
上レール面を熱燐酸によりエツチング処理する場合の例
について説明したが、本発明はこれらの例に限定される
ものではなく、これらの他に、例えばZr0z、 Ba
TiO3,CaTi0t等の耐摩耗性の多結晶セラミッ
クスからなるスライダ本体の媒体と対向する浮上レール
面を熱燐酸によりエツチング処理した場合、或いは前記
浮上レール面を、例えばその浮上レールの長さ方向に研
磨した後、熱燐酸によりエツチング処理した場合にも同
様な効果が得られる。
磁性フェライト、或いはA j2203・TiCなどの
セラミックスからなるスライダ本体の媒体と対向する浮
上レール面を熱燐酸によりエツチング処理する場合の例
について説明したが、本発明はこれらの例に限定される
ものではなく、これらの他に、例えばZr0z、 Ba
TiO3,CaTi0t等の耐摩耗性の多結晶セラミッ
クスからなるスライダ本体の媒体と対向する浮上レール
面を熱燐酸によりエツチング処理した場合、或いは前記
浮上レール面を、例えばその浮上レールの長さ方向に研
磨した後、熱燐酸によりエツチング処理した場合にも同
様な効果が得られる。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る磁気ヘッ
ドスライダと、その製造方法によれば、浮上力発生用の
浮上レール面に、該レール面に露呈する結晶粒界、或い
は一定方向に研磨して設けた研磨条痕が熱燐酸処理によ
り選択的にエツチングされることを利用して微細な空隙
溝を設けた構成とすることができるので、磁気ディスク
面に対するヘッド吸着が発生し難くなり、また該ディス
ク面に極く微小な突起があっても低浮上動作中に引っ掛
かってクラッシュが起こる確率が著しく低減される等、
磁気ディスクに対する耐久性が向上する優れた利点を有
する。
ドスライダと、その製造方法によれば、浮上力発生用の
浮上レール面に、該レール面に露呈する結晶粒界、或い
は一定方向に研磨して設けた研磨条痕が熱燐酸処理によ
り選択的にエツチングされることを利用して微細な空隙
溝を設けた構成とすることができるので、磁気ディスク
面に対するヘッド吸着が発生し難くなり、また該ディス
ク面に極く微小な突起があっても低浮上動作中に引っ掛
かってクラッシュが起こる確率が著しく低減される等、
磁気ディスクに対する耐久性が向上する優れた利点を有
する。
従って、特にCS S (Contact 5tart
5top)動作方式の磁気へラドスライダとして通用
することにより、実用上優れた効果を奏する。
5top)動作方式の磁気へラドスライダとして通用
することにより、実用上優れた効果を奏する。
第1図は本発明に係る磁気ヘッドスライダと、その製造
方法の一実施例を説明するた めの斜視図、 第2図は本発明に係る磁気ヘントスライダの浮上レール
面を示す部分拡大平面図、 第3図は本発明に係る磁気へラドスライダの浮上レール
部分を示す拡大側断面図、 第4図は本発明に係る磁気ヘッドスライダの浮上レール
の他のレール面を示す部分拡 大平面図、 第5図は従来の磁気へラドスライダを説明するための斜
視図である。 第1図〜第4図において、 11はスライダ本体、12は浮上レール、13はレール
面、14は結晶粒、15は粒界、16゜18は空隙状の
溝、17は研磨条痕をそれぞ稀耗晶t1 7鉛四、4賂iへ、、ト2717履4h L−1けfe
q l −)L Lfn ’t7)J 9カ4テに、
4ikJ W第 図 第 図 も 図 彷1、。fb気へ5.) スライタ□を9!咽111月
ゲ4第 5 図
方法の一実施例を説明するた めの斜視図、 第2図は本発明に係る磁気ヘントスライダの浮上レール
面を示す部分拡大平面図、 第3図は本発明に係る磁気へラドスライダの浮上レール
部分を示す拡大側断面図、 第4図は本発明に係る磁気ヘッドスライダの浮上レール
の他のレール面を示す部分拡 大平面図、 第5図は従来の磁気へラドスライダを説明するための斜
視図である。 第1図〜第4図において、 11はスライダ本体、12は浮上レール、13はレール
面、14は結晶粒、15は粒界、16゜18は空隙状の
溝、17は研磨条痕をそれぞ稀耗晶t1 7鉛四、4賂iへ、、ト2717履4h L−1けfe
q l −)L Lfn ’t7)J 9カ4テに、
4ikJ W第 図 第 図 も 図 彷1、。fb気へ5.) スライタ□を9!咽111月
ゲ4第 5 図
Claims (4)
- (1)多結晶セラミックス材で形成されたスライダ本体
(11)の磁気記録媒体と対向する面に、浮上レール(
12)を備えた磁気ヘッドスライダであって、前記浮上
レール(12)のレール面(13)に露呈する結晶粒(
14)の粒界(15)に空隙状の溝(16、18)を設
けたことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。 - (2)多結晶セラミックス材で形成されたスライダ本体
(11)の磁気記録媒体と対向する浮上レール(12)
のレール面(13)に露呈する結晶粒(14)の粒界(
15)に空隙状の溝(16、18)を形成することを特
徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。 - (3)前記浮上レール(12)のレール面(13)を熱
燐酸を用いた化学エッチング法により処理することを特
徴とする請求項2記載の磁気ヘッドスライダの製造方法
。 - (4)多結晶セラミックス材で形成されたスライダ本体
(11)の磁気記録媒体と対向する浮上レール(12)
のレール面(13)に一定方向の研磨を施した後、その
研磨条痕(17)を有するレール面(13)を熱燐酸を
用いた化学エッチング法により処理することを特徴とす
る磁気ヘッドスライダの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18622390A JPH0478076A (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | 磁気へッドスライダ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18622390A JPH0478076A (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | 磁気へッドスライダ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0478076A true JPH0478076A (ja) | 1992-03-12 |
Family
ID=16184520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18622390A Pending JPH0478076A (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | 磁気へッドスライダ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0478076A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06176519A (ja) * | 1992-08-19 | 1994-06-24 | Komag Inc | 磁気記録ヘッドスライダ及びその製造方法 |
| US5513960A (en) * | 1993-01-12 | 1996-05-07 | Unisia Jecs Corporation | Rotary-vane pump with improved discharge rate control means |
| JPH08190710A (ja) * | 1995-01-05 | 1996-07-23 | Nec Corp | 磁気ヘッド |
-
1990
- 1990-07-12 JP JP18622390A patent/JPH0478076A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06176519A (ja) * | 1992-08-19 | 1994-06-24 | Komag Inc | 磁気記録ヘッドスライダ及びその製造方法 |
| US5513960A (en) * | 1993-01-12 | 1996-05-07 | Unisia Jecs Corporation | Rotary-vane pump with improved discharge rate control means |
| JPH08190710A (ja) * | 1995-01-05 | 1996-07-23 | Nec Corp | 磁気ヘッド |
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