JPS59154643A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発門は磁件云シ脱を磁気記録層とする磁気記録媒体に
関し、特に防蝕性、′［Ｌ磁変換特性、ＺＩ２行性、耐
摩耗性にすぐれた金属薄膜型磁気記録媒体に関する。

磁気記録媒体としては、非磁性支持体ゴーに磁性粉末を
結合剤中に分散せ［７め、厚布乾ソ栗させる塗布型のも
のが広＜　１ｊｌｌ用されてきている。しかし、近年高
密度記録への安水が高まるにつれ、真空蒸着、スノξツ
タリング、イオンプレー　ティン・グＱ、ｒのペーパー
デポンション法あるいは電気メッキ、無電解メッキ等の
メッキ法により形成される強磁性金属薄膜を６Ｒ気記録
層とする金層薄膜型磁気記録媒体が注目を浴びており実
用化に至っている。

金属＃脱型磁気記録媒体は、飽和磁化の大きな強磁性金
属をバインダーの如き非磁性物質を介在させない状態で
、極めて薄す層として形成できるので、電磁変換特性上
非常に有利で、高密度記録にも適している。

しかしながら、金属薄膜型磁気記録媒体についての大き
な問題点け、製造後経時しておくと金属表面が腐蝕を一
電磁変換特性が低ド［７でしまうことである。この欠点
を防止−する方法として、熱ｉｉＪ塑性ポリマー、熱硬
化性ポリマーを金属表面に塗設し、保護層を十Ｊ与する
ことによって解決することが提案され又いる。この方法
では４、ヘッドと磁性層間のスペ・−シング損失のため
に保護層の厚みを大きくできないという制約があるため
、充分な防蝕性を付りすることはできなかつ／こ。（第
２図参照）また、磁性層表面を窒化させる方法（特開昭
５０−５３８０６号）あるいは酸化させる方法（慣公昭
４２−２００２５−シＪ）などによって防蝕性ｉ向−■
ニすることが知られているが、これらの方法でけ１［］
分〜２時間ものＪ＜４時間処理が８苅であったり、処理
時間を短かくすると充分な防蝕効果が１杢Ｉられなかっ
た。

まだ、金属薄膜′）ｆ、ＩＪ圃気気記録媒体ついでのも
うひとつの大きな問題点け、走行性及び耐久性が悪く、
デツキ走行中に：　７ｉｊ行経路に貼りついて走行停止
したり、あるいは、メチル耐久性が悪かったりすること
である。この欠点を防止するため、熱町ν１り性、熱硬
化性ポリマーあるｂは脂肪酸、脂肪酸エステル等の４゛
シ”」滑剤をＪ！ＩｔＩ性金属薄膜上に塗設する方法が
考えられるが、これらの方法を用いたとき走行性が不充
分であつブこり、あるいは耐久性が不充分であったりす
る。まだ元力な走行’ｔ’ｉｘ、耐久性を確保しようと
−する。塗設層か厚くなりスば−・シング損失によって
電磁変換特性が悪化するのである。防蝕性を充分満足の
あるものを得るためにも塗設層を厚くする必要があり電
磁変換特性上好ましくなかった。

本発明者らは上記欠点を克服するため鋭意研究を重ねだ
結果本発明に到達した。

本発明の［Ｉ的は、ヘッドと磁性層間のスペーシング損
失を極力小さくするため超薄層でしかも防蝕性、走行性
、耐久性の全ての面で極めて良好な保φ層を有する金属
薄膜磁気記録媒体をイｄることにある。

本発明の上記の［１的ｄ゛、強磁性金属薄膜を有する高
分子支持体の金属薄膜」−に、厚さ２０〜２７０Ａのプ
ラズマ重合層を打力し、更に末端に炭素炭素不飽和児−
を有する炭素数８以上の化合物の群から成る一種以上の
化合物による滑性層をプラズマ重合層の−１−に設けた
ことを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。

本発明によるプラズマ重合層は、ｉｉ（＋常のボリーマ
・一層と比較すると、緻密な架橋横糸をイ１している。

即ち、非常に緻密で、しかも金属薄膜上に均一な厚みの
層として形成されていると考えられる。このために、腐
蝕の原因となる酸素、水分等を金属薄膜から遮断しかつ
酸素、水分等を透過しないことによって防蝕性に優れ、
しかも極めて尚い層として形成できるのでヘラ１−゛・
磁性層間のスペーシング損失が小さくなることによって
電磁変換特性の良好な磁気記録媒体を得ることができる
。しかしながら上記のプラズマ重合層だけでれｌ−充分
な走行性、耐久性を躯ね備えたＣＢ磁気記録媒体イ１ｆ
られなかった。

さらにプラズマ重合層の上に或釉の化合物から成る滑性
層を設けることによりｆｌ＜べきことに電ｌａ変４１ν
侍性が良好で防蝕性、走行４′［及び耐久性の兼ね（＋
ｉ＃えたα（気記録媒体をイｕることかできた。滑性層
として神々の累月を検潤した結果、末端に炭素炭素イ〈
ｔ；〕第１１結合を有１〜炭素数１０以上の化合物（以
Ｆ士ツマ−と略称する）を選択することにより極めて走
行性、耐久性の良好な（１荘気記録媒体をｔ（Ｊること
かできたのであるこれは恐らくプラズマ〕１ｊ、合によ
って発生したラジカル活性（・トが炭素炭素不ｔ・；・
１和結合と反応し７でプラズマ重合層の上に強固に結合
した滑性層が形成されたためであろうと思われる。

本発明の有利なことはプラズマ重合１〜を形成したのち
滑性層を設ける方法と１．て、モノマ・−ガスの雰囲気
を通過させる方法あるいはモノマーガスを噴霧する方法
で行うことができるので、溶剤を全く使わないことも可
能なことである。このようにすれば作業が簡単で乾燥ゾ
ーン等の付帯設備も不安となり、しかも、金属薄膜の形
成を真空条件下での蒸着等によるベーノξ−デポジショ
ン法と組合せると、真空を破ることなく共通のラインで
金り風薄膜の形成と保１漁層とｆ逐次に形成できるので
設備的にも経済的にも有利である。

本発明によるプラズマ７１ｉ−金層の形成に用いる化合
物（以下低分子化合物と称する）と［７て巾、２０υ、
　　１０’−’　ｔｏｒｒで蒸気圧を有するもσ）なら
使用可能であるが、沸点が２００　Ｕ以下のものが好ま
しい。特に好ましい例と１７では、下記のものを挙ける
ことができるが、本発明はこれらの化合物に限定される
ものではない。即ち、メタン、エタン、フロ／ぐン、メ
タン、×メタン、ヘキサン、オシラン等の脂肪族飽和炭
化水素、エチレン、プロピレン、シラン、ヘキサノ等の
脂肪族不飽和炭化水り、−＜ンゼン、トルエン、キシレ
ン、スチｌ／ン、エチルベンゼン等の芳猶族炭化水素、
フロロメタン、ジフロロメタン、トリフロロメタン、テ
トラフロロメタン、シフロロエタン、テトラフロロエチ
レン、ヘキザフロロプロピレン、テトラフロロシラン、
シクロロエヂレン、テトラクロロエタン等の飽和又ｄ１
、不飽和の／％ロゲン化合物、アルコール類、ケトン類
、工゛−チル類、脂肪酸類などを単独又は混合して用い
ることができる。

プラズマ重合処理の装置としては無電極放電型、電極放
電型のいずれを用いてもよく、また電極が重合槽の中に
ある内部電極型、ＦＩＥ合槽の外に電極をイｊする外部
電極型を用いてもよい。さらに、後グロー中に低分子化
合物のガスを導入する方法も可能である。特に好ま１〜
＜　ｌ２、安定なプラズマ状態が得られ易い、内部電極
型（第１図参照）及び後グｒ１−中に、低分子化合物を
導入する方法である。

第１図は本発明のプラズマ重合層を形成するに適した内
部電極型プラズマ重合装置の１例を示す略図である。真
空装置（重合槽）内に、サンプル送出部１とサンプル巻
取部２を設置１〜、平行板電極部６．３の間を、高分子
支持体−にに強磁性金属薄膜の形成されたサンプル４を
連続的に走行させてプラズマ重合層を形成させるように
なっている。

排気口から真空ポンプ（図示せず）によって適当な真空
度に排気した後に、ガス導入部から、低分子化合物のガ
スＡを流量計８及びバルブ７を５ト０″：）て」■当圧
で導入する。なお、必要に応じて不活性ガスＢを同様に
流量旧８及びノζルプを１１１１つて導入することがで
きる。

重合槽中の低分子化合物の圧力は、１〜１Ｏ−４ｔｏｒ
ｒ　が好ましく、更に好ましくは、１０　〜５Ｘ１０”
”’　ｔｏｒｒである。これより川内が高いときはプラ
ズマ重合層が粉状で形成されたり、プラゼマ槽内部の汚
れが大きく、低いときけ重合層の形成に時間を要したす
するので好ましくない。８夢に応じて窒素ガス、アルゴ
ンガス等の不活性気体を重合槽内に導入することができ
る。

プラズマの発振周波数は特に限定されるものではないが
、１３．５６　ＭＨｚ　が便利である。

プラズマ重合層の灯まｌ〜い厚みは２０〜２７０この範
囲を越えてルくなるとヘッド磁性層のスば一シング損失
が犬きくなるＬ、薄くなると防蝕性が低下したり、プラ
ズマ重合条件のｒ＋−容範囲が狭くなって好ま１〜〈な
い。

本発明のプラズマ重合層としては密度が１．４以」二で
あることが好ましいが特に限定されるものではない。こ
こでいう密Ｉ隻とは、形成したプラズマ重合層を削り取
り、イリられたプラズマ重合層の粉末をルーヘキザンと
子トラクロルメタンからなる密度勾配管法により求めた
ものである。

本発明の滑性層の付与に用いる七ノ゛７−とじては末端
に炭素炭素不飽和基を有する炭素数８以−Ｌの化合物の
群から選はれた化合物であり２種以上を７１Ｌ合して用
いてもよい。より好ましくけ末端に炭素炭素不飽和基を
有する炭素数１２以上の化合物である。

とれらの化合物の好ましい例としては、末端に炭素炭素
不飽和基を有する脂肪族不飽和炭化水素あるいは前記脂
肪族不飽和炭化水素の水素を一部フツソで置換した化合
物、末端に炭素炭素不飽和基を有する不飽和脂肪族アル
コールと、脂肪酸のエステル類、あるいは前記ニスデル
類の水素を一部フツソで置換した化合物、末端に炭素炭
素不飽和基を１する不飽和脂肪酸と脂肪族アルコールと
のエステル類あるいは前記エステル類の水素を一部７ツ
ソで置換した化合物等であり、しかし−分子中の炭素数
が８以上の化合物である。具体例としては、１オクテン
、１−デセン、１−ビデセン。

１−デ）７デセン、１・−ペンタデセン、１−オクタテ
セン、１−アイコセン、２．４−ｔメチル−１−ヘプタ
ン、ヒニル力プリレー　ト、ヒニルラウレ−，−）　、
　　ビニルミリステート、ヒニルパルミデー　ト。

ビニルステアレート、アリルラウレ・−ト、了りルオレ
ー　ト、デシルアクリレート、ドデシルアクリレ−ト、
デトラデシルアクリレート、オクタデシルアクリレート
、テトラデシルメタクリレート。

ヘキシル−４−ペンテネート、及びこれらの化合物の一
部または全部の水素原子をフッソ原子に置きかえた化合
物である。

滑性層を設ける方法としてＣ」−プラズマ重合層を何カ
した後 ■　常圧条件でモノマー・をガス状で噴霧する方法（リ
　減圧条件でモノマー気体にプラズマ重合層を接触させ
る方法 ■　千ツマ−をそのままもしくは有機溶剤で希釈して塗
布する方法 などを用いることができる。これらの方法のうち最も有
利な方法は（♀）の方法であり、極めて薄層で走行性の
良好な滑性層を付与することができる。

本発明でいう滑性層とに、必らずしも均一な層構造を有
−するものではない。

本発明に使用される高分子支持体としては、酢酸セルロ
ー又；硝ｒｔセルローＸ；エチルセルローノル；メチル
セルロース；ポリアミド；ポリメチルメタクリレ−ト；
ポリテトシフルオルエチレン；ホリトリフルオルエチレ
ン；エチレン、フロピレンのよりなα−オレフィンの重
合体あるいは共重合体；塩化ビニルの重合体あるいは共
重合体；７トリ塩化ビニリデン；ポリカーボネート；ポ
リイミド９：ポリアミド８イミド”　；ｄ’ｊリエチレ
ンテレフタレートのようｆ、（ｒｇソリエステル類であ
る。

本発明における強磁性金属薄膜は、イー−で−デポジシ
ョンあるいはメッキ法により形成される。

ば−パーデポジション法とは、不活性ガスあるいは酸素
等の気体あるいｔｉ真真空開間中おいて、膜として形成
せしめようという物質又はその化合物を蒸気あるいはイ
オン化した蒸気として発生もし７〈は導入させて所望の
支持体上に膜として析出させる方法で、！１、空蒸着法
、スパッタリング法、イオンプレー・テング法、イオン
ビームデポジション法、化学気相メッキ法等がこれに相
当する。またメッキ法とは電気メッキあるいは無電解メ
ッキ法熔の液相より支持体上に物質を膜として形成させ
る方法をＬｆう。強磁性金属薄膜の＋Ａ料としては、Ｆ
ｅ、　Ｇｏ、旧その他の強磁性金属あるいｄ、これらの
合金、さらにＦｓ　−８ｉ、　、　Ｆｅ　−ＲＡ　、　
Ｆｃ−Ｖ、Ｆｅ−Ｔｉ、Ｇｏ−Ｐ、Ｇｏ−Ｂ、ＣＪ、ｏ
−Ｅ３ｉＳＧｏ−Ｖ、Ｇｏ−−Ｙ、Ｇｏ−３ｍ％Ｇｏ　
−ＭｎＳＣｏ−Ｎｉ　−Ｐ。

Ｇｏ−Ｎｉ　−Ｂ−Ｇｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ　−Ｃｒ。

ＧＯ−Ｎｉ、−Ａｊｉ、Ｇｏ　−Ｎｉ　−ＰＪ　Ｇｏ　
−Ｎｉ　−Ｚｙｚ、Ｇｏ−Ｃｔｔ、ＧＯ−Ｎｉ−Ｃｕ、
Ｇｏ−Ｗ、Ｇｏ−Ｎｉ−Ｗ。

Ｇｏ　−Ｍｎ、　−Ｐ　、　Ｇｏ　−８ｙｎ−Ｃｕ、、
ｃｏ−Ｎｉ−Ｚｎ−Ｐ、０Ｏ−Ｖ−Ｏｒ、等が用いられ
る。　１時に好ましくは、強磁性薄膜ｌ１ＣＯを５Ｑｗ
ｔ係以上含有する。

本発明による１直伝記録媒体の強磁性薄膜の膜厚は一般
には０．０２　μｍ〜５　ｐｍ、好ましくは０．０５μ
ｍ〜２μ７ｎである。高分子支持体の厚さ口４μｍ〜５
０μｍ　が好ましい。強磁性裾１漠の密着向上、磁気特
性の改良のために高分子支持体上に下ｔｕｂ　／脅を設
けてもいい。高分子支持体の磁性層と反対側にバラフコ
−ト層を設けてもよい。

磁気ｄ〔シ録媒体の形状はテープ、シート、カード、デ
スク等いずれでも良いが、特に好ましいのはテープ形状
である。

次に本発明の実施例について説明するが、本発明は下記
の実施例に制限されるものでに［ない。実施例中１部」
は「重量部」を示す。

１２μｍ１のポリエチレンテレフタレー　トフィルムの
表面に、斜め蒸着によってＣ，ｏ　−Ｎｉ　（Ｎｉ　２
０ｗｔｔ４）磁性膜（膜厚１０００Ａ）を設けたものを
以下の実験に使用した。

なお、次のようにしてプラズマ−（Ｑ１合層をイｊする
サンプルを作成した。

第１図の装置を用いて、ＣＨ４ガスとＮ２ガスの混合比
が１／１０、重合槽内の１′Ｌ力１０　　ｔｏｒｒ、、
５０ｗａｔｔ　で電極間の滞在時間が１０秒間になるよ
うにしてプラズマ重合処理を行ないヤンプル屋１を得た
。

第１図の装Ｒを用すて、ＣＦ　　＝ＣＦ２　　ガスと３ Ｎ２ガスの混合比が１／１０、重合槽内の圧力５×１０
ｔｏｒｒ、５０　ｗａｔｔ　　で電極間のｆｆ１）往時
間が１０秒間になるようにしてプラズマ重合外！ｌＩ！
を行ないザンプル腐２を得た。

実施例　１ ＆１のサンプルをプラズマ重合層を付与したのらプラズ
マ重合を中止１〜同じ一重合槽中で１ドデセンで１　ｔ
ｏｒｒの圧力にしす°ンプＡ・をもう一度巻きかえした
。１ドデセンの雰囲気にさらされる時間Ｌｊ、１０秒と
した。このサンプルを屋６とする。

実施例　２ 扁１のサンプルを常ＹＴ−，で取り出し、ビニルラウレ
・−トを工゛ア〜ジェットを用いて噴霧しながら巻き替
え１−だ３．とのサンプルを屋４とする。

実施例　６ Ａ１のサンプルを空気中に取りＬ丁目〜だのちＪＩｊび
第１図の製産を用いてＣＨ２ＣＨＣＱ２（ＯＦ２）、Ｃ
Ｆ３で［Ｊ、５　ｔｏｒｒの圧力にしてさら１〜時間が
１０秒間となるようにして巻き替えしサンプルＡ５をイ
；Ｊだ。

実施例　４ Ａ２のサンプルを常１Ｆで取り出１〜１−テトラデセン
のメチルエチルク“トン０．１係浴、夜全塗布し、乾燥
してサンプル黒６をイ（Ｉだ。

比較例　１，２ ザンプル＆１．篇２をそのまま評価した。

比較例　３ サンプルＡ１にパルミチン酸のメチルエチルケトン０．
１チ溶液を塗布し乾燥しサンプル扁７を得た。

比較例　４ プラズマ重合を施１前の試料に塩ビ酢ビ共重合体のメチ
ルエチルケトン［Ｊ、１％溶液を塗布し乾燥１〜てサン
プル黒８をイ４Ｉた、１ 比較例　５ プラズマ重合を施寸前の試料をそのまま評価した。これ
をサンプル罵９とする。

比較例　６ 黒８のサンプルを１　ｔｏｒｒ　　の圧力で１−）Ｓデ
センの雰囲気に１０秒間さらしてサンプル黒１０を得だ
。

実施例　５ サンプル黒１の作成に於て、電極間内の滞在時間を以下
のように変えたサンプルを用いて実施例１と同様な処理
を施してサンプル＆１１〜１５を得た。

５０秒間　・・・　サンプル篇１１ ２５秒間　・・・　サンプル黒１２ ５　Ｉ　　　　　　　　　１６ ２　Ｉ　　　　　　　　　１４ １　＃　　　　　　　　　１５ 」ニ記のサンプル黒１〜還１５について以下の評価方法
に従ってテストを行なった。結果を第−表にまとめた。

　　　　、 ０）防蝕性 ６０Ｃ，８０％ＲＨの雰囲気で７日間曝したのち目視で
錆の発生を調べた。

■　走行性 サンプルを怪インチｒｊＪにスリッＮ〜家庭用ビデオテ
ープレコーダー（松下電器産業（株）！ｌｌ！ＮＶ８ろ
１０）を用いて回転シリンダーの入口側のテンシコンＴ
１　　と出「１側のテンシコンＴ２ヲ測定した。

“ｒ２７’ｒ□−ｃｘｐ（μπ）の関係式よりμを算出
［また。Ｔ１．Ｔ２の測定は２ろＣ６５％ｌ（Ｈで行っ
た。

■　耐久性 家庭用ビデオゾールコーダー・（ビクター製３６００）
を用すてスチル耐久時間（分）を調べた。測定条件は２
３　Ｃ６５％ＲＨ６ ■　厚み測定 水晶発振子を用いて測（定した。３厚みの薄いものＶｌ
ｌ、ウェブスピード９を遅く［７て１０００Ａ以上のも
のを作成し′市極内滞在時間を算出した。第１表には金
縞薄膜磁拙層の上の保護層及び滑性層の合計厚みで示し
た。※印はプラズマ重合処理時間からの推定値。

第　　１　　表 サンプル扁　防錆性　　　　走行性　耐久性　　厚み１
　　　変化なし　　　０．５以−に　６０分以−（二１
００Ａ２　　　変化なし　　　０．５以上　ろＯ分板上
　１００Ａ３　　　変化なし　　　０．１５　　３０分
以上　１０ｒ、）Ａ４　　　変化なし　　　０．１４　
　３０分以上　１６０Ａ５　　　変化なし　　　０．１
５　　３０分以上　１００Ａ６　　　変化なし　　　０
．１７　　３０分以上１３０Ａ７　　　変化なｔ、　　
　　０．１８　　１０分　　　１ろＤＡ１〇　　一部が
白く７蜀った　（１，４５５分　　５００Ａ１１　　　
変化なＬ　　　　Ｄ、１５　　３０分Ｊ夕Ｉｆ　５００
Ａ１２　　　変化ｆ、ＣＩ、　　　　　０．１４　　３
０分以上３００Ａ１３　　　像化なし　　　　０．１４
　　３０分以上　５０Ａ　”ｔ４　　　変化ｆｘ−Ｌ、
、　　　　　０．１５　　３０分以上２（）Ａ　”以上
の結果から本発明がいかに防錆性、走＜Ｊｔｔｇ及び耐
久性が良好でスベ・−シングロスの少ない′１ｒ１、直
変換慣性の良好な磁気記録媒体を提供するかがわかる。

更に実施例１及び６の方法１士、金属薄膜のｌａ件層形
成、プラズマ重合層の形成と同一ラインで処理できる有
利な方法であることがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図し、１−内γ１６電極型プラズマ重合装置音であ
る。 １：ザンプル送出′ｔ′ｌｌｓ　（実施例１の滑性層付
与のプロセスでは巻取部となる） ロセスでは送出部となる） ６：平行板霜、極部 ４；ザンプル ５：雰囲気ガス導入部 ６：真空部との接続部 ７：パルプ 代理人　ブｆ　Ｌｌ’±（８１０７）佐々木イ〆ｊ（降
（ほか３名） 手続補正書 昭和５９Ｊ　　２　月ｕ、９Ｅ１ １　事件の表示 昭和５８年持π（願第２８６４４　　　ｉヱ）２　発明
の名称 歿気記録媒体 ３　補正をする者 車イ′１と（７）１ν１係　’１２７ｒｔ’ｌ出願友名
称　（５２０）　　畠士’、４　Ｊｊ、フィルム株式会
社ｔｌ　カｊ’＋’；ｌ　Ｉ−ル内郵（ｏ）届Ｉ！、ｊ
’：’ｎｌ第４９１１栄光持許小務所　電詔（５８４）
−９６０１（代７０１、「発明の１．１−バ・ｌ（１な
説すｌｊの４１肖を下記のｙ［１＜補止する。、１）明
赳１伺第２頁１行目、「ペーパーデボ／ジョン」を［−
ペーパーデボ／ジョン」と補正する０、２）同　第４頁
７行目、「金用薄膜パ！磁気記録媒体、」と補正する・
１ ６）同　第５頁１１♀ｊ１敷　「耐久性の」を１−耐久
性を」と補正する１、 ４）同　第６頁１１行１、「炭素数１０以−ト−」を「
炭素数８以上」と補止する１、 ５）同　第６頁１１行１」、［博）ｊ０ケ）形Ｊｙｌと
」を「薄）ＩＱと」と補止する３、 ６）同　第７負２行目、［−ヘキーリン」２［−＼キセ
ノ」と補正する１、 ７）同　第８頁丁から４行１ミ」、１−ゾラセーマ憎」
を１ゾラズマ槽Ｊと補１）二する。 ８）同　第１８頁第１行目、［−シかし、Ｊを１−シか
も−」と補［トする１、 ９）同　第１６貴下から６行目、［−デスク−４を１デ
イスク」と補正する １０）同　第１４頁１〜２行目、１一実施例中１”　ｓ
　Ｊは「声量部」を示す。、」を削除する３、１１）同
　第１８頁第１行目、ｆ−Ｃ１−１２Ｃ■Ｉ　ＣＱ２　
（ＣＦ２）　９ＣＦＪをｒＣＨ２ＣＨｃｏ２（ＣＦ２）
　、　ＣＦ、Ｊと１由止する１、 １２）同　第１８頁第１表中、「防錆性」を「防蝕性」
と補正する、。 ２．１図面のｎ１１竿な説明」の欄を下記の如く補正す
る。 １）明１ＹＩｌｌ書第２０頁８行目、［８：流↓］’Ｃ
ｔｌ”」の後の杓に下記の文を挿入する。 「第２図は、ヘツＰ−テープ間隔（Ａ゛）とスペーシン
グロス（ｄＢ）との関係ケ示す２、」６、「図面」の第
２図を添付の如く追加する３、第　　２　　図 ン 會 ン （ｄｉ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 強磁性金属薄膜を有する高分子支持体の金ＥＡ薄膜上に
   、厚さ２０〜２７０Ａのプラズマ重合層を付４Ｌ、史に
   末端に炭素炭素不飽和基を有する炭素数８以上の化合物
   の群から成る−（中以上の化合物による滑性層をプラズ
   マ重合層合層の上に設けたことを４４徴とスる磁気記録
   媒体。