JPH0480043U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0480043U JPH0480043U JP12539090U JP12539090U JPH0480043U JP H0480043 U JPH0480043 U JP H0480043U JP 12539090 U JP12539090 U JP 12539090U JP 12539090 U JP12539090 U JP 12539090U JP H0480043 U JPH0480043 U JP H0480043U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- atmospheric pressure
- cvd apparatus
- pressure cvd
- tray
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000001505 atmospheric-pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
Description
第１図は、本考案の一実施例のウエーハ自動機
構付き常圧ＣＶＤ装置の膜の成長部分の断面図、
第２図は、第１図のＡ−Ａ線に沿う縦断面図であ
る。第３図は、従来の常圧ＣＶＤ装置の斜視図で
ある。 １……ウエーハ搬送用トレー、２……成長ヘツ
ド、３……ヘツドカバー、４……ウエーハ自転用
歯車、５……ウエーハ自転用ベルト、６……ヒー
タ、７……ベアリング、８……ウエーハ。
構付き常圧ＣＶＤ装置の膜の成長部分の断面図、
第２図は、第１図のＡ−Ａ線に沿う縦断面図であ
る。第３図は、従来の常圧ＣＶＤ装置の斜視図で
ある。 １……ウエーハ搬送用トレー、２……成長ヘツ
ド、３……ヘツドカバー、４……ウエーハ自転用
歯車、５……ウエーハ自転用ベルト、６……ヒー
タ、７……ベアリング、８……ウエーハ。
Claims (1)
- 半導体製造工程の中の、絶縁膜形成に用いる常
圧ＣＶＤ装置において、ウエーハを載置するトレ
ーに、ウエーハを自転させる機構を備えたことを
特徴とする常圧ＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12539090U JPH0480043U (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12539090U JPH0480043U (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0480043U true JPH0480043U (ja) | 1992-07-13 |
Family
ID=31872990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12539090U Pending JPH0480043U (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0480043U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59162275A (ja) * | 1983-02-26 | 1984-09-13 | ライボルト−ヘレ−ウス・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 陰極スパツタリングにより基板上に回転対称の厚みプロフイ−ルを有する層を製造する装置及び該装置の運転法 |
| JPH01318235A (ja) * | 1988-06-20 | 1989-12-22 | Kawasaki Steel Corp | 半導体製造装置 |
-
1990
- 1990-11-27 JP JP12539090U patent/JPH0480043U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59162275A (ja) * | 1983-02-26 | 1984-09-13 | ライボルト−ヘレ−ウス・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 陰極スパツタリングにより基板上に回転対称の厚みプロフイ−ルを有する層を製造する装置及び該装置の運転法 |
| JPH01318235A (ja) * | 1988-06-20 | 1989-12-22 | Kawasaki Steel Corp | 半導体製造装置 |