JPH0480744A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 60
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 33
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 20
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 claims abstract description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 9
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 3
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 10
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 65
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 8
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 8
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 8
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 8
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 5
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 5
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 4
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 4
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 3
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical class C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical class 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 2
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004964 sulfoalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- WFNHDWNSTLRUOC-UHFFFAOYSA-M (2-nitrophenyl)-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].[O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WFNHDWNSTLRUOC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical class C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N [Ag].ICl Chemical compound [Ag].ICl HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEIPQVVAVOUIOP-UHFFFAOYSA-N [Au]=S Chemical compound [Au]=S XEIPQVVAVOUIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Substances CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- OBESRABRARNZJB-UHFFFAOYSA-N aminomethanesulfonic acid Chemical compound NCS(O)(=O)=O OBESRABRARNZJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N ammonium thiocyanate Chemical compound [NH4+].[S-]C#N SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZTRHXKVDLJETE-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfinate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(=O)C1=CC=CC=C1 MZTRHXKVDLJETE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000009881 electrostatic interaction Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Chemical class CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 108090000765 processed proteins & peptides Proteins 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- AMZPPWFHMNMIEI-UHFFFAOYSA-M sodium;2-sulfanylidene-1,3-dihydrobenzimidazole-5-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C2NC(=S)NC2=C1 AMZPPWFHMNMIEI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003866 tertiary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は帯電防止されたハロゲン化銀写真感光材料に関
するもので、詳しくは鮮鋭性の優れた画像が得られ、か
つ迅速処理時にも膜剥がれなどの物性劣化がなく、高い
帯電防止性能を有するハロゲン化銀写真感光材料に関す
るものである。
するもので、詳しくは鮮鋭性の優れた画像が得られ、か
つ迅速処理時にも膜剥がれなどの物性劣化がなく、高い
帯電防止性能を有するハロゲン化銀写真感光材料に関す
るものである。
一般にプラスチックフィルム支持体は、帯電性が強く、
これが使用上多くの制約を与えている例は多い。例えば
ハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレンテレ
フタレートのような支持体が一般に使用されるか、特に
冬季の如き低湿度において!KL易い。最近のように高
感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感光材料
を自動プリンターを通して露光処理をする場合、特に帯
電防止対策が重要である。
これが使用上多くの制約を与えている例は多い。例えば
ハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレンテレ
フタレートのような支持体が一般に使用されるか、特に
冬季の如き低湿度において!KL易い。最近のように高
感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感光材料
を自動プリンターを通して露光処理をする場合、特に帯
電防止対策が重要である。
感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマー
クがでたり、又はゴミ等の異物を付着し、これによりビ
ンポールを発生させたりして著しく品質を劣化し、その
修正のため非常に作業性を落としてしまう。そのため、
感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では、含フツ
素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、
ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性剤ないし
高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子内に有す
るポリマー等が用いられている。
クがでたり、又はゴミ等の異物を付着し、これによりビ
ンポールを発生させたりして著しく品質を劣化し、その
修正のため非常に作業性を落としてしまう。そのため、
感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では、含フツ
素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、
ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性剤ないし
高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子内に有す
るポリマー等が用いられている。
特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは導
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号及び同49−12
1523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオン
型ポリマーを適用する例が開示されている。
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号及び同49−12
1523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオン
型ポリマーを適用する例が開示されている。
しかしなから、これらの従来技術では、現像処理により
、帯電防止能か大幅に劣化してしまう。
、帯電防止能か大幅に劣化してしまう。
これはアルカリを用いる現像工程、酸性の定着工程、水
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。従って印刷感光材料等のように、処理済み
フィルムを更に用いてプリントするような場合、ゴミの
付着によるピンホール発生等の問題を生ずる。このため
例えば特開昭5584658号、同61−174542
号ではカルボキシル基を有する水溶性導電性ポリマー、
カルホキノル基を有する疎水性ポリマー及び多官能アジ
リジンからなる帯電防止層が提案されている。この方法
によれば、処理後にも帯電防止能を残すことができる利
点を宵する。更に本出願人は特願平1−270813号
にも導電性ポリマーによる帯電防止方法を提案した。
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。従って印刷感光材料等のように、処理済み
フィルムを更に用いてプリントするような場合、ゴミの
付着によるピンホール発生等の問題を生ずる。このため
例えば特開昭5584658号、同61−174542
号ではカルボキシル基を有する水溶性導電性ポリマー、
カルホキノル基を有する疎水性ポリマー及び多官能アジ
リジンからなる帯電防止層が提案されている。この方法
によれば、処理後にも帯電防止能を残すことができる利
点を宵する。更に本出願人は特願平1−270813号
にも導電性ポリマーによる帯電防止方法を提案した。
しかしながら該導電層は、該層上に塗布される例えばハ
ロゲン化銀乳削層、ハレーション防止層、バッキング層
、下塗り層なとの親水性コロイド層との接着性が悪く、
感光材料のウェット時(現像処理時)あるいはドライ時
に塗布膜が支持体から剥がれる所謂、膜剥がれを発生し
易く、重大な事故につながることが指摘されていた。
ロゲン化銀乳削層、ハレーション防止層、バッキング層
、下塗り層なとの親水性コロイド層との接着性が悪く、
感光材料のウェット時(現像処理時)あるいはドライ時
に塗布膜が支持体から剥がれる所謂、膜剥がれを発生し
易く、重大な事故につながることが指摘されていた。
近年、フィルム搬送や処理工程が、ますます迅速化され
ているため、ドライ時の膜付きは言うまでもなく、処理
中のウェット膜付きはフィルム物性の内で極めて重要で
、その改良が強く望まれていた。
ているため、ドライ時の膜付きは言うまでもなく、処理
中のウェット膜付きはフィルム物性の内で極めて重要で
、その改良が強く望まれていた。
本発明者は種々検討の結果、導電性の帯電防止層上に本
発明に係る染料と塩基性媒染剤からなる親水性コロイド
層を設けたところ、驚くべきことに膜付きが大幅に改良
され、しかも帯電防止性能は全く劣化しな(・で、かつ
現像処理後の画像の鮮鋭性が著しく改良されることを見
い出した。
発明に係る染料と塩基性媒染剤からなる親水性コロイド
層を設けたところ、驚くべきことに膜付きが大幅に改良
され、しかも帯電防止性能は全く劣化しな(・で、かつ
現像処理後の画像の鮮鋭性が著しく改良されることを見
い出した。
従って本発明の第1の目的は、写真特性に悪い影響がな
く、高い帯電防止性能を有しt:ハロゲン化銀写真感光
材料を提供することである。
く、高い帯電防止性能を有しt:ハロゲン化銀写真感光
材料を提供することである。
本発明の第2の目的は、フィルムの処理、搬送などの迅
速化に耐える膜付き性を有したハロゲン化銀写真感光材
料を提供することである。
速化に耐える膜付き性を有したハロゲン化銀写真感光材
料を提供することである。
本発明の第3の目的は、鮮鋭性が優れ、かつ残色汚染の
ない高画質な画像が得られるハロゲン化銀写真感光材料
を提供することである。その他の目的は以下の明細から
明らかとなる。
ない高画質な画像が得られるハロゲン化銀写真感光材料
を提供することである。その他の目的は以下の明細から
明らかとなる。
本発明の目的は、以下により達成されることを見い出し
本発明を成すに至った。
本発明を成すに至った。
即ち、支持体の少なくとも一方の側に、■水溶性の導電
性ポリマー■疎水性ポリマー及び■硬化剤の反応生成物
からなる帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、該帯電防止層の上層に位置する親水性コロイ
ド層中、に塩基性媒染剤と下記一般式CI)で表される
酸性染料とを組み合わせて含有する層を有するハロゲン
化銀写真感光材料により達成された。
性ポリマー■疎水性ポリマー及び■硬化剤の反応生成物
からなる帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、該帯電防止層の上層に位置する親水性コロイ
ド層中、に塩基性媒染剤と下記一般式CI)で表される
酸性染料とを組み合わせて含有する層を有するハロゲン
化銀写真感光材料により達成された。
般式C1)
RR
式中、R1は、それぞれ水素原子、アルキル基、アリー
ル基又は複素環基を表す。
ル基又は複素環基を表す。
R2は、それぞれヒドロキンル基、アルコキ/基、置換
アルコキ7基、ンアノ基、トリフロロメチル基、−CO
OR+、−CONHR,、−N)IcOR,、アミン基
、炭素 数1〜4のアルキル基で置換されたアミ7基、(ここで
p及びqはl又は2を表し、Xは酸素原子、硫黄原子又
は−CH,−基)で表される環状アミン基を表し、R1
は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Lはメ
チン基を表し、nは0.1又は2で、m及びm′は0又
は1を表す。
アルコキ7基、ンアノ基、トリフロロメチル基、−CO
OR+、−CONHR,、−N)IcOR,、アミン基
、炭素 数1〜4のアルキル基で置換されたアミ7基、(ここで
p及びqはl又は2を表し、Xは酸素原子、硫黄原子又
は−CH,−基)で表される環状アミン基を表し、R1
は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Lはメ
チン基を表し、nは0.1又は2で、m及びm′は0又
は1を表す。
以下、本発明を詳述する。
本発明の水溶性導電性ポリマーについては、スルホン酸
基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩、3級アンモ
ニウム塩、カルホキフル基、ポリエチレンオキノド基か
ら選ばれる少なくとも1つの導電性基を有するポリマー
が挙げられる。これらの基の内スルホン酸基、硫酸エス
テル基、4級アンモニウム塩基が好ましい。導電性基は
ポリマー1分子当たり5重量%以上を必要とする。
基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩、3級アンモ
ニウム塩、カルホキフル基、ポリエチレンオキノド基か
ら選ばれる少なくとも1つの導電性基を有するポリマー
が挙げられる。これらの基の内スルホン酸基、硫酸エス
テル基、4級アンモニウム塩基が好ましい。導電性基は
ポリマー1分子当たり5重量%以上を必要とする。
以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの具体
的化合物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
的化合物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
SO,Na
SO,Na
CH3
SO,Na
03Na
CH2C00CH2CH20H
3o 、 Na
CH3
P
−1,0
So 、 Na
CH。
M鴇90万
03Na
SO,Na
So、Na
=25
SO,Na
CH。
M袴1カ
o3Na
x:y:z:v−60:30:8:2
M#80万
x:y:z:w−40+30+20:10M#50万
尚、上記P−1−P=37において、x、 y、 zは
それぞれの単量体成分のモル%を、又Mは平均分子量(
本明細書中、平均分子量とは数平均分子量を指す)を表
す。
それぞれの単量体成分のモル%を、又Mは平均分子量(
本明細書中、平均分子量とは数平均分子量を指す)を表
す。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の帯電防止層、及び
導電層中に含まれる導電性ポリマーの量は、固形分換算
量で単位m2当たり0.001g〜lOg添加するのが
好ましく、特に好ましいのは0.05g〜5g添加する
ことである。
導電層中に含まれる導電性ポリマーの量は、固形分換算
量で単位m2当たり0.001g〜lOg添加するのが
好ましく、特に好ましいのは0.05g〜5g添加する
ことである。
導電性ポリマーをバッキング層、バッキング保護又はハ
ロゲン化銀乳剤層に用いる場合は、固形分換算量で0.
01〜10gにするのが好ましい。
ロゲン化銀乳剤層に用いる場合は、固形分換算量で0.
01〜10gにするのが好ましい。
次に本発明に係る疎水性ポリマー粒子について説明する
。
。
本発明の水溶性導電性ポリマー層中に含有させる疎水性
ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテック
ス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、スチレ
ン、スチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキル
メタクリレート、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレ
ン誘導体、アクリルアミド誘導体、メタクリルアミド誘
導体、ビニルエステル誘導体、アクリロニトリル等の中
から任意の組合せで選ばれた千ツマ−を重合して得られ
る。特にスチレン誘導体、アルキルアクリレート、アル
キルメタクリレートが少なくとも30モル%含有されて
いるのが好ましい。特に50モル%以上が好ましい。
ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテック
ス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、スチレ
ン、スチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキル
メタクリレート、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレ
ン誘導体、アクリルアミド誘導体、メタクリルアミド誘
導体、ビニルエステル誘導体、アクリロニトリル等の中
から任意の組合せで選ばれた千ツマ−を重合して得られ
る。特にスチレン誘導体、アルキルアクリレート、アル
キルメタクリレートが少なくとも30モル%含有されて
いるのが好ましい。特に50モル%以上が好ましい。
疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を溜去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、しかも揃ったものかできるという点で乳化重合する
ことが好ましい。
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を溜去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、しかも揃ったものかできるという点で乳化重合する
ことが好ましい。
乳化重合の際に用いる界面活性剤としては、アニオン性
、ノニオン性を用いるのが好ましく、モノマーに対し1
0重量%以下が好ましい。多量の界面活性剤は導電性層
を曇らせる原因となる。
、ノニオン性を用いるのが好ましく、モノマーに対し1
0重量%以下が好ましい。多量の界面活性剤は導電性層
を曇らせる原因となる。
疎水性ポリマーの分子量は3000以上であればよく、
分子量による透明性の差は殆どない。
分子量による透明性の差は殆どない。
本発明の疎水性ポリマーの具体例を挙げる。
■
I2
C8゜
H3
M=15万
次に本発明に用いられる硬化剤についてのべる。
本発明に用いられる硬化剤としては、次の如き各種硬化
剤を用いることができる。
剤を用いることができる。
■ブロック化イソンアネート型
■多官能アジリジン型
■σ−ンアノアクリレート型
■エポキン型でトリフェニルホスフィン含有■二官能エ
チレンオキサイド型で電子線又はX線照射により硬化さ
せる。
チレンオキサイド型で電子線又はX線照射により硬化さ
せる。
■N−メチロール型
■亜鉛及びジルコニウム金属を含有する金属錯体■シラ
ンカップリング剤 ■カルボキシ活性型 以下これら硬化剤について説明する。
ンカップリング剤 ■カルボキシ活性型 以下これら硬化剤について説明する。
■本発明に用いられるブロック化イソシアネート硬化剤
とは、加熱によりインシアネートを放出するものであれ
は、 特に制限はないか、 具体例と して以下に示す化合物か好ま し く用いられる。
とは、加熱によりインシアネートを放出するものであれ
は、 特に制限はないか、 具体例と して以下に示す化合物か好ま し く用いられる。
■
NH
C=OOC,H。
O−NH−C−OCH2CHC,H。
C,H3
2H5
C2[+5
NH
C0CH2CHC−H9
NH
OCH2CHC、H9
2H5
C2H。
■
zHs
上記化合物は、水又は、アルコール、アセトンなどの有
機溶媒に溶かして、そのまま添加してもよいし、ドテシ
ルベンゼンスルホン酸塩や、ノニルフェノキンアルキレ
ンオキンドのような界面活性剤を用いて分散してから添
加してもよい。好ましい添加量はl −1000+og
/m’である。
機溶媒に溶かして、そのまま添加してもよいし、ドテシ
ルベンゼンスルホン酸塩や、ノニルフェノキンアルキレ
ンオキンドのような界面活性剤を用いて分散してから添
加してもよい。好ましい添加量はl −1000+og
/m’である。
■次に本発明に用いられる多官能アジリジン硬化剤は下
記一般式で表される。
記一般式で表される。
ここでR1は水素原子、炭素数20までのアルキルまた
はアリール基、ヒドロキ7基、ハロゲン原子を表わし、
R2は水素原子、炭素数IOまでのアルキル基を表わす
。
はアリール基、ヒドロキ7基、ハロゲン原子を表わし、
R2は水素原子、炭素数IOまでのアルキル基を表わす
。
以下のものか好ましく用いられるか、これらに限定され
るものではない。
るものではない。
)10CH2C(CI(,0CC02CH□i):”゛
■次に、
本発明に用いられるσ
ノアノアクリ
[・系化合物は下記一般式で表される。
〔式中、
Rは炭素数1
〜12の置換、
非置換のアル
キル基を表す。
〕
以下、
具体例を示すか、
これに限定されるもの
ではない。
■
■次に、本発明に用いられるエボキ/基を含有する硬化
剤は、特に制限はないが、具体例として以下に示す化合
物か好ましく用いられる。
剤は、特に制限はないが、具体例として以下に示す化合
物か好ましく用いられる。
具体例化合物
■
上記化合物は、はとんど市販されており容易に入手する
ことが出来る。添加方法は水又は、アルコール、アセト
ンなどの有機溶媒に溶かしてそのまま添加してもよいし
、ドデシルベンゼンスルキン酸塩や、ノニルフエノキン
アルキレンオキシドのような界面活性剤を用いて分散し
てから添加してもよい。好ましい添加量は1〜1000
mg102である。
ことが出来る。添加方法は水又は、アルコール、アセト
ンなどの有機溶媒に溶かしてそのまま添加してもよいし
、ドデシルベンゼンスルキン酸塩や、ノニルフエノキン
アルキレンオキシドのような界面活性剤を用いて分散し
てから添加してもよい。好ましい添加量は1〜1000
mg102である。
また、上記架橋剤とともに下記一般式で表されるトリフ
ェニルホスフィンを併用することにより、さらに効果を
高めることができる。
ェニルホスフィンを併用することにより、さらに効果を
高めることができる。
〔式中、R,−R,は置換、非置換のアルキル基、水素
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキ7
基、アルコキノ基を表す。〕トリフェニルフォスホスフ
ィンは、特に制限ハないが具体例として、以下に示す化
合物が好ましく用いられる。
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキ7
基、アルコキノ基を表す。〕トリフェニルフォスホスフ
ィンは、特に制限ハないが具体例として、以下に示す化
合物が好ましく用いられる。
I2
0次に、本発明に用いられる二官能エチレンオキサイド
系化合物は下記一般式で表される。
系化合物は下記一般式で表される。
CH2=CH(−CH=CH2
〔式中、Lは置換、非置換のアルキレンオキサイド鎖基
を表す。〕 以下、具体例を示すか、これに限定されるものではない
。
を表す。〕 以下、具体例を示すか、これに限定されるものではない
。
具体例
CHl
CO3−CHCO(OCH2CH,) 、0OCCI(
= CH2C1h −CHCO(OCH2CH2) *
0OCCH−CHzCH,CH2C−(CH200CC
H−CH2)。
= CH2C1h −CHCO(OCH2CH2) *
0OCCH−CHzCH,CH2C−(CH200CC
H−CH2)。
CH=CH2C−(CH20CHzC400CCH=C
H2)xCH,CH。
H2)xCH,CH。
CH2−CC0(OCR2C1(□)2300CC−C
H2CH。
H2CH。
CH,−CHCOO(CH,CH20) l (CH,
C1+O)。
C1+O)。
(CH2CH20)、0CC)l=c11□CH。
CH,CH2−(C)1200CC=CH2)。
尚、従来二官能エチレンオキサイド系化合物を硬化する
のに加熱方法により架橋させていたが、この方法では反
応かおそくかつ架橋が不充分で効率が低いため、本発明
では電子線またはX線照射により硬化させることを特徴
としている。
のに加熱方法により架橋させていたが、この方法では反
応かおそくかつ架橋が不充分で効率が低いため、本発明
では電子線またはX線照射により硬化させることを特徴
としている。
硬化番コ必要な電子線及びX線の強度は下記の通りであ
る。
る。
電子線の強度: 1o−2〜10’KW/a+2(50
KW/回2が特X線の強度 に好ましい。) + 10−2−10’KW、’m2(300KW/m”
か特に好ましい。) 0次に、本発明に用いられるN−メチロール系化合物の
具体例を示すか、これに限定されるものではない。
KW/回2が特X線の強度 に好ましい。) + 10−2−10’KW、’m2(300KW/m”
か特に好ましい。) 0次に、本発明に用いられるN−メチロール系化合物の
具体例を示すか、これに限定されるものではない。
H20H
■次に、本発明に用いられる亜鉛及びジルコニウム金属
を含有する金属錯体の具体例を示すか、これに限定され
るものではない。
を含有する金属錯体の具体例を示すか、これに限定され
るものではない。
Zn(NH,)a(CHsCOO)x Z
n(NOx)acos(Ntl+)JnOH(Cox)
x 上記金属錯体の使用量は導電性ポリマー1モルに対して
lo−3〜103モルが好ましい。
n(NOx)acos(Ntl+)JnOH(Cox)
x 上記金属錯体の使用量は導電性ポリマー1モルに対して
lo−3〜103モルが好ましい。
従来、有機架橋剤が主に使用されていたが、本発明の金
属錯体を使用することにより架橋が充分行われるように
なった。
属錯体を使用することにより架橋が充分行われるように
なった。
■本発明には次の如くシランカプリング剤も硬化剤とし
て用いることができる。
て用いることができる。
H2NCHzCHzNHCH=CHzCHzS+ (O
CHx) hCH2−CHCH20CH2CH2CH2
St(OCHx:h\、/ C)12=cH5i(OCI(3)x などのシランカプリング剤 ■本発明には又カルポキ/ル基活性型の硬化IIも用い
られる例えば次の如きカルボジイミド型のものが挙げら
れる。
CHx) hCH2−CHCH20CH2CH2CH2
St(OCHx:h\、/ C)12=cH5i(OCI(3)x などのシランカプリング剤 ■本発明には又カルポキ/ル基活性型の硬化IIも用い
られる例えば次の如きカルボジイミド型のものが挙げら
れる。
本発明に用いる導電層中の有機導電性ポリマは、スルホ
ン酸基又はその塩基を芳香族環又は複素環基上Iこ直接
、あるいは2価の連結基を介して結合した分子量は10
0〜1ooo万で、特に好ましくは1〜50万の化合物
である。該ポリマーは市販又は常法により得られる七ノ
で−を重合することにより容易に合成することができる
。
ン酸基又はその塩基を芳香族環又は複素環基上Iこ直接
、あるいは2価の連結基を介して結合した分子量は10
0〜1ooo万で、特に好ましくは1〜50万の化合物
である。該ポリマーは市販又は常法により得られる七ノ
で−を重合することにより容易に合成することができる
。
本発明の導電性ポリマーにおける導電性とは、ポリエチ
レ〉テレフタレートフィルム上に単独で2g/m2以上
塗布した表面の比抵抗が10”Ω/Cm(23℃20%
R11)以下になるような特性を有するものである。
レ〉テレフタレートフィルム上に単独で2g/m2以上
塗布した表面の比抵抗が10”Ω/Cm(23℃20%
R11)以下になるような特性を有するものである。
本発明の導電層は、コロナ放電、グロー放電、紫外線及
び火炎処理等によって表面を活性化することが好ましい
。特に好ましい活性化処理は、コロナ放電処理であり、
1 mm −1kv/a+”minの割合で処理するこ
とが好ましい。特に好ましいエネルギー強度は0.lv
−1v/m”・+oinの範囲である。
び火炎処理等によって表面を活性化することが好ましい
。特に好ましい活性化処理は、コロナ放電処理であり、
1 mm −1kv/a+”minの割合で処理するこ
とが好ましい。特に好ましいエネルギー強度は0.lv
−1v/m”・+oinの範囲である。
又、本発明の導電層上にはゼラチン又はゼラチン誘導体
からなる接着層を設けることか好ましく、これらの接着
層は、導電層の塗布と同時に重層されるか、又乾燥後塗
布することができる。この接着層は70°C〜200°
Cの温度範囲で加熱処理されることが好ましい。この接
着層は、各種の硬膜剤を適用することができるが、下層
の導電層の架橋と、上層のバッキング層との架橋の点か
ら、任意にアクリルアミド系、アルデヒド系、アジリジ
ン系、ペプチド系、エボキン系、ビニルスルホン系硬膜
剤から選択できる。
からなる接着層を設けることか好ましく、これらの接着
層は、導電層の塗布と同時に重層されるか、又乾燥後塗
布することができる。この接着層は70°C〜200°
Cの温度範囲で加熱処理されることが好ましい。この接
着層は、各種の硬膜剤を適用することができるが、下層
の導電層の架橋と、上層のバッキング層との架橋の点か
ら、任意にアクリルアミド系、アルデヒド系、アジリジ
ン系、ペプチド系、エボキン系、ビニルスルホン系硬膜
剤から選択できる。
本発明に係る有機導電性ポリマーと疎水性ポリマー粒子
及び硬化剤とを混合した導電層塗布液は、支持体上に直
接あるいは、支持体上に下引加工した後、塗布される。
及び硬化剤とを混合した導電層塗布液は、支持体上に直
接あるいは、支持体上に下引加工した後、塗布される。
導電層膜を強化する目的で、任意の架橋度に設定するこ
とができる。しかしなから目的の性能を得ようとするに
は、導電性ポリマーと疎水性ポリマー粒子の混合比、導
電層の塗布乾燥条件、硬化剤の選択と使用量等が影響す
るので良い条件を設定するのか好ましい。これらの条件
設定により塗布乾燥後の導電層の好ましい架橋度を求め
ることができる。
とができる。しかしなから目的の性能を得ようとするに
は、導電性ポリマーと疎水性ポリマー粒子の混合比、導
電層の塗布乾燥条件、硬化剤の選択と使用量等が影響す
るので良い条件を設定するのか好ましい。これらの条件
設定により塗布乾燥後の導電層の好ましい架橋度を求め
ることができる。
本発明に係る導電層は、前述した如く、導電性ポリマー
■と疎水性ポリマー粒子■の種類及び混合比、架橋剤と
なる硬化剤の選択、使用量及び乾燥条件なとを、最適条
件に設定するのか好ましい。
■と疎水性ポリマー粒子■の種類及び混合比、架橋剤と
なる硬化剤の選択、使用量及び乾燥条件なとを、最適条
件に設定するのか好ましい。
導電層の硬化剤による架橋度については、膨張度から知
ることができる。膨潤度は本発明の試料を25°Cの純
水に60分間浸漬し、このとき膨潤した膜厚を水中で測
定できるアダプターを取付けた。
ることができる。膨潤度は本発明の試料を25°Cの純
水に60分間浸漬し、このとき膨潤した膜厚を水中で測
定できるアダプターを取付けた。
電子顕微鏡で観察し、乾燥時の膜厚と比較して膨潤度を
求めることができる。膨潤度−浸漬により膨潤した膜厚
/乾燥時の膜厚で求めることかできる。間接的に膨潤度
を求めるには、乾燥時の一定の面積の試料の重さと膨潤
させたときの試料の重さから、吸水した水の量を求め、
この水により増加しt:体積を求め、比重から膜厚を求
めて膨潤度とすることができる。好ましい膨張度として
は0.2〜100%、より好ましくは2〜50%である
。
求めることができる。膨潤度−浸漬により膨潤した膜厚
/乾燥時の膜厚で求めることかできる。間接的に膨潤度
を求めるには、乾燥時の一定の面積の試料の重さと膨潤
させたときの試料の重さから、吸水した水の量を求め、
この水により増加しt:体積を求め、比重から膜厚を求
めて膨潤度とすることができる。好ましい膨張度として
は0.2〜100%、より好ましくは2〜50%である
。
導電層の膜厚は、導電性と密接な関係があり、巣位体積
の増加により特性か向上することから厚くするのが良い
がフィルムの柔軟性が損なわれていくため0.1〜10
0μm以内、特に好ましくは0.1〜10μmの範囲に
設定するとよい結果が得られる。
の増加により特性か向上することから厚くするのが良い
がフィルムの柔軟性が損なわれていくため0.1〜10
0μm以内、特に好ましくは0.1〜10μmの範囲に
設定するとよい結果が得られる。
次ぎに、本発明に係る一般式〔I〕の酸性染料と塩基性
媒染剤について詳述する。
媒染剤について詳述する。
ハロゲン化銀写真感光材料では、染料による着色層を設
けて特定波長の光を吸収し性能を向上改良することが成
されている。例えばフィルター層、ハレーンヨン防止層
などの他にX線用としては、クロスオーバー光を減少さ
せ画像の鮮鋭性を改良するためにクロスオーバー光カッ
トフィルター層を設ける技術もある。このような目的の
ために用いられる染料は、写真処理過程で脱色、分解、
溶出する必要かあり、一般にカルボキ/ル基やスルホ基
のような水溶性基を含んでいる。そのため染料のみでは
、隣接層へ拡散移行し減感を引き起こしたりして写真的
に好ましくない性質を有し、かつ特定の層を選択的に高
い濃度で着色することは不可能である。
けて特定波長の光を吸収し性能を向上改良することが成
されている。例えばフィルター層、ハレーンヨン防止層
などの他にX線用としては、クロスオーバー光を減少さ
せ画像の鮮鋭性を改良するためにクロスオーバー光カッ
トフィルター層を設ける技術もある。このような目的の
ために用いられる染料は、写真処理過程で脱色、分解、
溶出する必要かあり、一般にカルボキ/ル基やスルホ基
のような水溶性基を含んでいる。そのため染料のみでは
、隣接層へ拡散移行し減感を引き起こしたりして写真的
に好ましくない性質を有し、かつ特定の層を選択的に高
い濃度で着色することは不可能である。
そこで染料をポリマーなどによって特定の層中に固着さ
せ、他層への移行、拡散性を防止する方法もきくから知
られており、例えは染料と反対の荷電を持つカチオン性
の親水性ポリマーと結合したものを、コロイド層中に共
存させ着色層として用いることが知られている。
せ、他層への移行、拡散性を防止する方法もきくから知
られており、例えは染料と反対の荷電を持つカチオン性
の親水性ポリマーと結合したものを、コロイド層中に共
存させ着色層として用いることが知られている。
本発明によれは、塩基性の高分子化合物を媒染剤として
、一般式CI)で表される染料を担持して含む親水性コ
ロイド層を前述の導電層上に塗設することにより、本発
明の目的を得ることかできるものである。以下、本発明
に係る一般式(1)の酸性染料について詳述する。
、一般式CI)で表される染料を担持して含む親水性コ
ロイド層を前述の導電層上に塗設することにより、本発
明の目的を得ることかできるものである。以下、本発明
に係る一般式(1)の酸性染料について詳述する。
一般式〔I〕において、R4は、それぞれ水素原子、置
換されていてもよいアルキル基、アリル基又は複素環基
を表し、アリール基としては、4−スルホフェニル基、
4−(スルホメチル)フェニル基、4−(δ−スルホブ
チル)フェニル基、3−スルホフェニル基、 2.5−
ジスルホフェニル、M、3.5−ジスルホフェニル基、
6.8−ジスルホ−2−ナフチル基、48−ジスルホ−
2−ナフチル基、3.5−ジカルポキンフェニル基、4
−ジカルポキンフェニル基等で、このアリール基はスル
ホ基、スルホアルキル基、カルホキフル基、炭素数1〜
5のアルキル基(例えはメチル基、エチル基等)、ハご
ケン原子(例えは塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜
4のアルコキン基(例えはメトキン基、エトキノ基等)
あるいはフェノキン基等を有することができる。 スル
ホ基は、2価の有機基を介してアリール基と結合してい
てもよく、例えば4−(4−スルホフェノキ、)フェニ
ル基、 4−(2−スルホエチル)フェニル基、3(ス
ルホメチルアミン)フェニル基、 4−(2−スルホエ
チル/)フェニル基等を挙げることかできる。
換されていてもよいアルキル基、アリル基又は複素環基
を表し、アリール基としては、4−スルホフェニル基、
4−(スルホメチル)フェニル基、4−(δ−スルホブ
チル)フェニル基、3−スルホフェニル基、 2.5−
ジスルホフェニル、M、3.5−ジスルホフェニル基、
6.8−ジスルホ−2−ナフチル基、48−ジスルホ−
2−ナフチル基、3.5−ジカルポキンフェニル基、4
−ジカルポキンフェニル基等で、このアリール基はスル
ホ基、スルホアルキル基、カルホキフル基、炭素数1〜
5のアルキル基(例えはメチル基、エチル基等)、ハご
ケン原子(例えは塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜
4のアルコキン基(例えはメトキン基、エトキノ基等)
あるいはフェノキン基等を有することができる。 スル
ホ基は、2価の有機基を介してアリール基と結合してい
てもよく、例えば4−(4−スルホフェノキ、)フェニ
ル基、 4−(2−スルホエチル)フェニル基、3(ス
ルホメチルアミン)フェニル基、 4−(2−スルホエ
チル/)フェニル基等を挙げることかできる。
R1で表されるアルキル基は、それぞれ直鎖、分岐、環
状の何れでもよく、好ましくは炭素数1〜4であり、例
えばエチル基、β−スルホエチル基等が挙げられる。
状の何れでもよく、好ましくは炭素数1〜4であり、例
えばエチル基、β−スルホエチル基等が挙げられる。
複素環基としては、例えば、2−(6〜スルホ)ベンゾ
チアゾリル基、2−(6−スルホ)ベンゾオキサシリル
基等を挙げることかでき、複素環にはハロゲン原子(例
えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、アルキル
基(例えばメチル基、エチル基等)、アリール基(例え
ばフェニル基等)、カルホキフル基、スルホ基、ヒドロ
キン基、アルコキン基(例えばメトキン基等)、アリー
ルオキシ基(例えはフェノキン基等)の置換基を有して
いてもよい R2は、それぞれヒドロキン基;炭素数1〜4のアルコ
キシ基(例えばメトキシ基、エトキノ基、イソプロポキ
ノ基)、置換アルコキシ基、例えばハロゲン原子又は炭
素数2までのアルコキシ基で置換された炭素数1〜4の
アルコキシ基(例えばβ−クロロエトキシ基、β−メト
キンエトキV基)、ンアノ基、トリフロロメチル基、
C0OR+、−C0NHR,、−NHCOR,(ここで
R3は水素原子、アルキル基、好ましくは炭素数1〜4
のアルコキシ基、又はアリール基(例えばフェニル基、
ナフチル基を表し、該アルキル基及びアリール基は置換
基としてスルホ基又はカルボキシル基を有してもよい。
チアゾリル基、2−(6−スルホ)ベンゾオキサシリル
基等を挙げることかでき、複素環にはハロゲン原子(例
えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、アルキル
基(例えばメチル基、エチル基等)、アリール基(例え
ばフェニル基等)、カルホキフル基、スルホ基、ヒドロ
キン基、アルコキン基(例えばメトキン基等)、アリー
ルオキシ基(例えはフェノキン基等)の置換基を有して
いてもよい R2は、それぞれヒドロキン基;炭素数1〜4のアルコ
キシ基(例えばメトキシ基、エトキノ基、イソプロポキ
ノ基)、置換アルコキシ基、例えばハロゲン原子又は炭
素数2までのアルコキシ基で置換された炭素数1〜4の
アルコキシ基(例えばβ−クロロエトキシ基、β−メト
キンエトキV基)、ンアノ基、トリフロロメチル基、
C0OR+、−C0NHR,、−NHCOR,(ここで
R3は水素原子、アルキル基、好ましくは炭素数1〜4
のアルコキシ基、又はアリール基(例えばフェニル基、
ナフチル基を表し、該アルキル基及びアリール基は置換
基としてスルホ基又はカルボキシル基を有してもよい。
アミン基、炭素数1〜4のアルキル基で置換された置換
アミノ基(例えば、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基
、ジエチルアミン基、ジ−n−ブチルアミノ基)、又は
づ<H:和>x(ここでp及びqは1又は2の整数を表
し、Xは酸素原子、硫黄原子又は−CI(□−基を表す
。)で表される環状アミノ基(例えばモルホリノ基、ピ
ペリジノ基、ピペラジノ基)を表す。
アミノ基(例えば、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基
、ジエチルアミン基、ジ−n−ブチルアミノ基)、又は
づ<H:和>x(ここでp及びqは1又は2の整数を表
し、Xは酸素原子、硫黄原子又は−CI(□−基を表す
。)で表される環状アミノ基(例えばモルホリノ基、ピ
ペリジノ基、ピペラジノ基)を表す。
して表されるメチン基は、炭素数1〜4個のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、インプロピル基、t−ブ
チル基等)又はアリール基(例えばフェニル基、l・リ
ル基等)で置換されてもよい。
(例えばメチル基、エチル基、インプロピル基、t−ブ
チル基等)又はアリール基(例えばフェニル基、l・リ
ル基等)で置換されてもよい。
又、スルホ基、スルホアルキル基及びカルホキフル基の
うち少なくとも1つがアルカリ金属(例えばナトリウム
、カリウム)、アルカリ土類金属(例工If力ルンウム
、マグネシウム)、アンモニウムあるいは有機塩基(例
えばジエチルアミノ基、トリエチルアミノ基、モルホリ
ン基、ピリジン基、ピペリジン基等)と塩を形成しても
よい。
うち少なくとも1つがアルカリ金属(例えばナトリウム
、カリウム)、アルカリ土類金属(例工If力ルンウム
、マグネシウム)、アンモニウムあるいは有機塩基(例
えばジエチルアミノ基、トリエチルアミノ基、モルホリ
ン基、ピリジン基、ピペリジン基等)と塩を形成しても
よい。
nは0.1又は2を表す。m及びm′はO又はlを表す
。
。
前記一般式〔工〕で表される化合物の代表的な具体例を
示すが、本発明がこれらによって限定されるものではな
い。
示すが、本発明がこれらによって限定されるものではな
い。
(D−1
(D−2)
(D
CN−C−C
CH−CH= CH−C−C−CN
(D
CN−(、−C=CH−[−<
CN
(D
(D
(D
HOOC−(、−C=CH+汁−−C−COOHII
II II(D Sυ、h bU、K (D (D (D (D (D (D−14) (D (D (D−17) (D−18) (D (D −20) (D (D (D bす3h bす3h (D (D (D −26) Cυ (D −27) (D −28) (D −29) CH2CH,SO,K CH,C)12sO3
に上記の染料は、例えは米国特許2,274,782号
、特開昭50−91627号、同50−147712号
、同58−1433342号などに記載の方法、又はそ
れに準じた合成法により得ることかできる。
II II(D Sυ、h bU、K (D (D (D (D (D (D−14) (D (D (D−17) (D−18) (D (D −20) (D (D (D bす3h bす3h (D (D (D −26) Cυ (D −27) (D −28) (D −29) CH2CH,SO,K CH,C)12sO3
に上記の染料は、例えは米国特許2,274,782号
、特開昭50−91627号、同50−147712号
、同58−1433342号などに記載の方法、又はそ
れに準じた合成法により得ることかできる。
次に上記染料と共に用いられる塩基性媒染剤としては、
塩基性基として例えば、ピリジン環、イミダゾール環な
との複素環又はアルキルアミ7基、アルキルアミノ(メ
タ)アクリレート基とそれらの四級塩或はアミノグアニ
ジノ基などを含有しt二カチオン性のモノマー又はモノ
マーから誘導されたポリマーが挙げられる。
塩基性基として例えば、ピリジン環、イミダゾール環な
との複素環又はアルキルアミ7基、アルキルアミノ(メ
タ)アクリレート基とそれらの四級塩或はアミノグアニ
ジノ基などを含有しt二カチオン性のモノマー又はモノ
マーから誘導されたポリマーが挙げられる。
ポリマーの平均分子量は5 、000〜500.000
であξ本発明において好ましく用いられる塩基性媒S剤
としては、例えば米国特許2,548,564号、同2
75.316号、同2,882.156号、同3,70
6,563号、特り昭49−15820号、特開昭48
−28225号、特開平1−126645号などの会報
に記載された化合物である。
であξ本発明において好ましく用いられる塩基性媒S剤
としては、例えば米国特許2,548,564号、同2
75.316号、同2,882.156号、同3,70
6,563号、特り昭49−15820号、特開昭48
−28225号、特開平1−126645号などの会報
に記載された化合物である。
このうち本発明において特に好ましく用いられど塩基性
媒染剤としては、米国特許2,548,564号、特公
昭49−15320号及び特開平1−126645号な
どに記載の化合物が挙げられる。
媒染剤としては、米国特許2,548,564号、特公
昭49−15320号及び特開平1−126645号な
どに記載の化合物が挙げられる。
次に本発明に好ましく使用される塩基性媒染剤の代表例
を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない
。
を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない
。
(P−
■
一ガCH2−CH坩−
(P
(P
C[(。
I
NFl−CH3COOt(
(P
NH
H、C−C−CH2
CH。
CH。
NH−C−NH2
8H−CH3COOH
(P
(P
H
(P
(P
■
H
本発明に係る一般式〔■〕の染料は、任意の量を用いる
ことかできるが、例えは画像の鮮鋭性を改良する目的の
場合には、光学濃度として0.02〜30の濃度範囲に
なるよう用いるのが好ましい。
ことかできるが、例えは画像の鮮鋭性を改良する目的の
場合には、光学濃度として0.02〜30の濃度範囲に
なるよう用いるのが好ましい。
染料は予め、水又は親水性溶媒、例えはメタツルなとに
溶解してから本発明に係る塩基性の媒染剤を含む親水性
コロイド(例えばゼラチン水溶液)中に添加することに
より本発明の染料層用塗布液とすることかできる。
溶解してから本発明に係る塩基性の媒染剤を含む親水性
コロイド(例えばゼラチン水溶液)中に添加することに
より本発明の染料層用塗布液とすることかできる。
塩基性媒染剤の使用量は特に制限されないが、組み合わ
せる染料の量、種類によって適宜に用いてよく、静電的
な相互作用を得る好ましい量を用いられる。
せる染料の量、種類によって適宜に用いてよく、静電的
な相互作用を得る好ましい量を用いられる。
このようにして得られた本発明に係る導電性層の上層に
、一般式CI)の酸性染料と塩基性媒染剤とを含む親水
性コロイド層を塗設し、その上層にハロゲン化銀写真感
光材料構成層として例えば感光性乳剤層、中間層、フィ
ルター層、現像調節層、紫外線吸収層、帯電防止層、バ
ッキング層などを塗設することにより本発明の目的であ
るところの塗布膜物性の改良、ならびに画像の鮮鋭性向
上を有した帯電防止性を付与することかできるものであ
る。
、一般式CI)の酸性染料と塩基性媒染剤とを含む親水
性コロイド層を塗設し、その上層にハロゲン化銀写真感
光材料構成層として例えば感光性乳剤層、中間層、フィ
ルター層、現像調節層、紫外線吸収層、帯電防止層、バ
ッキング層などを塗設することにより本発明の目的であ
るところの塗布膜物性の改良、ならびに画像の鮮鋭性向
上を有した帯電防止性を付与することかできるものであ
る。
一般式〔I〕の酸性染料と塩基性媒染剤とを含有する親
水性コロイド層とは、ゼラチンを初めとしたバインダー
成分を含む親水性コロイド層を指し、塗布助剤、硬膜剤
など通常の添加剤を含有してもよい。
水性コロイド層とは、ゼラチンを初めとしたバインダー
成分を含む親水性コロイド層を指し、塗布助剤、硬膜剤
など通常の添加剤を含有してもよい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられる乳剤は
、沃臭化銀、沃塩化銀、沃塩臭化銀なといずれのハロゲ
ン化銀であってもよいが、特に高感度のものが得られる
という点では、沃臭化銀であることが好ましい。
、沃臭化銀、沃塩化銀、沃塩臭化銀なといずれのハロゲ
ン化銀であってもよいが、特に高感度のものが得られる
という点では、沃臭化銀であることが好ましい。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は、立方体、8面体、1
4面体のような全て等方的に成長したもの、或は球形の
ような多面的な結晶型のもの、面欠陥を有した双晶から
成るもの或はそれらの混合型又ま複合型であってもよい
。これらハロゲン化銀粒子の粒径は、0.1μl以下の
微粒子から20μ−に至る大粒子であってもよい。
4面体のような全て等方的に成長したもの、或は球形の
ような多面的な結晶型のもの、面欠陥を有した双晶から
成るもの或はそれらの混合型又ま複合型であってもよい
。これらハロゲン化銀粒子の粒径は、0.1μl以下の
微粒子から20μ−に至る大粒子であってもよい。
ハロゲン化銀写真感光材料に用いられる乳剤は、公知の
方法で製造できる。例えば、リサーチ・ディスクロージ
ャー(RD)No−17643(1978年12月)・
22〜23頁の1−乳剤製造法(Emulsion p
reparationand types)及び同(R
D)No・18716(1979年11月)・648頁
に記載の方法で調製することができる。
方法で製造できる。例えば、リサーチ・ディスクロージ
ャー(RD)No−17643(1978年12月)・
22〜23頁の1−乳剤製造法(Emulsion p
reparationand types)及び同(R
D)No・18716(1979年11月)・648頁
に記載の方法で調製することができる。
係るハロゲン化銀写真感光材料の乳剤は、例えば、T、
H,James著’The theory of th
e pb*tographic”第4版、Macmil
lan社刊(1977年)3g−104頁に記載の方法
、G、F、Dauffin著「写真乳剤化学」“Pho
tographic emulsion Chemis
try”、Focalpress社刊(1966年)、
P、Glakfkides著「写真の物理と化学“Ch
imie et physique photoHra
phiquePaul Ijonte1社刊(1967
年)、VS、Zelikmana著「写真乳剤の製造と
塗布」“−aking and coatingpho
tographic emulsionsFocal
press社刊(1964年)などに記載の方法により
調製される。
H,James著’The theory of th
e pb*tographic”第4版、Macmil
lan社刊(1977年)3g−104頁に記載の方法
、G、F、Dauffin著「写真乳剤化学」“Pho
tographic emulsion Chemis
try”、Focalpress社刊(1966年)、
P、Glakfkides著「写真の物理と化学“Ch
imie et physique photoHra
phiquePaul Ijonte1社刊(1967
年)、VS、Zelikmana著「写真乳剤の製造と
塗布」“−aking and coatingpho
tographic emulsionsFocal
press社刊(1964年)などに記載の方法により
調製される。
即ち、中性法、酸性法、アンモニア法などの溶液条件、
順混合法、逆混合法、ダブルジェット法、コンドロール
ド・ダブルジェット法などの混合条件、コンバー7:コ
ン法、コア//エル法なトノ粒子調製条件及び、これら
の組合せ法を用いて製造することができる。
順混合法、逆混合法、ダブルジェット法、コンドロール
ド・ダブルジェット法などの混合条件、コンバー7:コ
ン法、コア//エル法なトノ粒子調製条件及び、これら
の組合せ法を用いて製造することができる。
乳剤の例としては、例えば沃化銀を粒子内部に局在させ
た単分散乳剤が挙げられる。ここでいう単分散乳剤どけ
、常法により、例えば平均粒子直径を測定したとき、粒
子数又は重量で少なくとも95%の粒子が、平均粒子径
の±40%以内、好ましくは±30%以内にあるハロゲ
ン化銀粒子である。
た単分散乳剤が挙げられる。ここでいう単分散乳剤どけ
、常法により、例えば平均粒子直径を測定したとき、粒
子数又は重量で少なくとも95%の粒子が、平均粒子径
の±40%以内、好ましくは±30%以内にあるハロゲ
ン化銀粒子である。
ハロゲン化銀の粒径分布は、狭い分布を有した単分散乳
剤或は広(・分布の多分散乳剤のいずれであってもよい
。
剤或は広(・分布の多分散乳剤のいずれであってもよい
。
ハロゲン化銀の結晶構造は、内部と外部が異なったハロ
ゲン化銀組成からなっていてもよい。例えば乳剤は、高
沃度のコア部分に低沃度のンエル層からなる明確な二層
構造を有したコア/ンエル型単分散乳剤であってもよい
。
ゲン化銀組成からなっていてもよい。例えば乳剤は、高
沃度のコア部分に低沃度のンエル層からなる明確な二層
構造を有したコア/ンエル型単分散乳剤であってもよい
。
又、本発明の用いられるハロゲン化銀乳剤は、アスペク
ト比が5以上の平板状粒子であってもよい。
ト比が5以上の平板状粒子であってもよい。
係る平板状粒子の利点は、分光増感効率の向上、画像の
粒状性及び鮮鋭性の改良などが得られるとして例えば、
英国特許2.112.157号、米国特許4,439.
520号、同4,433,048号、同4,414,3
10号、同4434.226号などの公報に記載の方法
により調製することができる。
粒状性及び鮮鋭性の改良などが得られるとして例えば、
英国特許2.112.157号、米国特許4,439.
520号、同4,433,048号、同4,414,3
10号、同4434.226号などの公報に記載の方法
により調製することができる。
上述した乳剤は、粒子表面に潜像を形成する表面潜像型
或は粒子内部に潜像を形成する内部潜像型、表面と内部
に潜像を形成する型のいずれの乳剤で有ってもよい。こ
れらの乳剤は、物理熟成或は粒子調製の段階でカドミウ
ム塩、鉛塩、亜鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩(錯塩
を含む)、ロジウム塩(錯塩を含む)、鉄塩(錯塩を含
む)などを用いてもよい。
或は粒子内部に潜像を形成する内部潜像型、表面と内部
に潜像を形成する型のいずれの乳剤で有ってもよい。こ
れらの乳剤は、物理熟成或は粒子調製の段階でカドミウ
ム塩、鉛塩、亜鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩(錯塩
を含む)、ロジウム塩(錯塩を含む)、鉄塩(錯塩を含
む)などを用いてもよい。
乳剤は、物理熟成又は化学熟成前後の工程において、各
種の写真用添加剤を用いることができる。
種の写真用添加剤を用いることができる。
公知の添加剤としては、例えばリサーチ・ディスクロー
ジャー No−17643(1978年12月)及び同
No−18716(1979年II月)に記載された化
合物が挙げられる。
ジャー No−17643(1978年12月)及び同
No−18716(1979年II月)に記載された化
合物が挙げられる。
これら二つのリサーチ・ディスクロージャーに示されて
いる化合物種類と記載箇所を次表Jこ掲載し添加剤 化学増感剤 増感色素 現像促進剤 カブリ防止剤 安定剤 色汚染防止剤 画像安定剤 紫外線吸収剤 フィルター染料 増白剤 硬化剤 塗布助剤 界面活性剤 可塑剤 スベリ剤 スタチック防止剤 マット剤 バインダー RD−17643 頁 分類 23 I[I 23■ 29 XXI 24 Vl 25 ■ 25 ■ 25〜26 ■ 24 V 26 X 26〜27 I[ 26〜27 m 27 n 27 n 28 XVI 26 ff RD−18716 頁 分類 648−右上 648右−649左 648−右上 649−右下 650左〜右 649右 650左 651左 650右 650右 650右 651左 本発明に係るぞ光材料に用いることのできる支持体とし
ては、例えば前述のRD−17643の28頁及び1−
18716の647頁左欄に記載されているものか挙げ
られる。
いる化合物種類と記載箇所を次表Jこ掲載し添加剤 化学増感剤 増感色素 現像促進剤 カブリ防止剤 安定剤 色汚染防止剤 画像安定剤 紫外線吸収剤 フィルター染料 増白剤 硬化剤 塗布助剤 界面活性剤 可塑剤 スベリ剤 スタチック防止剤 マット剤 バインダー RD−17643 頁 分類 23 I[I 23■ 29 XXI 24 Vl 25 ■ 25 ■ 25〜26 ■ 24 V 26 X 26〜27 I[ 26〜27 m 27 n 27 n 28 XVI 26 ff RD−18716 頁 分類 648−右上 648右−649左 648−右上 649−右下 650左〜右 649右 650左 651左 650右 650右 650右 651左 本発明に係るぞ光材料に用いることのできる支持体とし
ては、例えば前述のRD−17643の28頁及び1−
18716の647頁左欄に記載されているものか挙げ
られる。
適当な支持体としては、プラス千ツクフィルムなどでこ
れら支持体の表面は一般に、塗布層の接着をよくするた
めに、下塗層を設けたり、コロナ放電、紫外線照射なと
を施してもよい。そして、このように処理されt;支持
体上の片面に乳剤を塗布することができる。
れら支持体の表面は一般に、塗布層の接着をよくするた
めに、下塗層を設けたり、コロナ放電、紫外線照射なと
を施してもよい。そして、このように処理されt;支持
体上の片面に乳剤を塗布することができる。
医療用X線うソ゛オグラフィーに本発明を適用する場合
、例えば透過性放射線曝射によって近紫外線ないし可視
光を発生する蛍光体を主成分とする蛍光増感紙か用いら
れる。これを上述した乳剤を片面塗布してなる感光材料
両面に密着し露光することか望ましい。
、例えば透過性放射線曝射によって近紫外線ないし可視
光を発生する蛍光体を主成分とする蛍光増感紙か用いら
れる。これを上述した乳剤を片面塗布してなる感光材料
両面に密着し露光することか望ましい。
ここで言う透過性放射線とは、高エネルギーの電磁波で
あって、X線及びγ線を意味する。
あって、X線及びγ線を意味する。
又、蛍光増感紙とは、例えばタングステン酸力ルンウム
を主とした蛍光成分とする増感紙、或はテルビウムで活
性化された稀土類化合物を主成分とする蛍光増感紙なと
をいう。
を主とした蛍光成分とする増感紙、或はテルビウムで活
性化された稀土類化合物を主成分とする蛍光増感紙なと
をいう。
又、蛍光増感紙にも本発明に係るカセツテの凸部弁と実
質的に形状を同しくした凹部を設けたほうか増感紙とフ
ィルムの密着性か良好になるので好ましい。
質的に形状を同しくした凹部を設けたほうか増感紙とフ
ィルムの密着性か良好になるので好ましい。
以下本発明の実施例について説明する。但し当然のこと
ではあるか、本発明は以下述−・る実施例により限定さ
れるものではない。
ではあるか、本発明は以下述−・る実施例により限定さ
れるものではない。
実施例−■
平均粒径02μmの沃化銀を2.0モル%含有する沃臭
化銀の単分散粒子を核とし、沃化銀30モル%を含有す
る沃臭化銀をp)l=9.3. pAg=7.5で成長
させ、その後pH=7.8. pAg=8.9で臭化カ
リウムと硝酸銀を等モル添加し、平均沃化銀含有率か、
2゜3モルの沃臭化銀粒子となるような平均粒径1.1
5μm (A ) 、0.63μm (B ) 、0.
42μm(C)の単分散乳剤粒子を調製した。乳剤は、
通常の凝集法で過剰塩類の脱塩を行った。即ち40℃に
保ち、ナフタレンスルホン酸ナトリウムのホルマリン縮
合物と硫酸マグネ/ラムの水溶液を加え凝集させ上澄液
を除去後、更に40°Cの純水を加え、再び硫酸マグネ
シウム水溶液を加え、凝集させ、上澄液を除去した。
化銀の単分散粒子を核とし、沃化銀30モル%を含有す
る沃臭化銀をp)l=9.3. pAg=7.5で成長
させ、その後pH=7.8. pAg=8.9で臭化カ
リウムと硝酸銀を等モル添加し、平均沃化銀含有率か、
2゜3モルの沃臭化銀粒子となるような平均粒径1.1
5μm (A ) 、0.63μm (B ) 、0.
42μm(C)の単分散乳剤粒子を調製した。乳剤は、
通常の凝集法で過剰塩類の脱塩を行った。即ち40℃に
保ち、ナフタレンスルホン酸ナトリウムのホルマリン縮
合物と硫酸マグネ/ラムの水溶液を加え凝集させ上澄液
を除去後、更に40°Cの純水を加え、再び硫酸マグネ
シウム水溶液を加え、凝集させ、上澄液を除去した。
増感色素■
C2)1゜
2H6
次に、得られた粒子(B)、(C)に化学増感を行った
。つまり、チオシアン酸アンモニウムと塩化金酸とハイ
ポを加え、金−硫黄増感を行った。
。つまり、チオシアン酸アンモニウムと塩化金酸とハイ
ポを加え、金−硫黄増感を行った。
その後、4−ヒドロキソ−6−メチル13.3a、7−
テトラザインデンを加え、次に沃化カリウムと前記の分
光増感色素■と■を、それぞれ30(Jrngと5 m
g/AgX1モルを添加し、分光増感を行った。
テトラザインデンを加え、次に沃化カリウムと前記の分
光増感色素■と■を、それぞれ30(Jrngと5 m
g/AgX1モルを添加し、分光増感を行った。
又、粒子Aに関しては、次の方法で化学増感を行った。
分光増感色素■と■を、それぞれ350mg 。
10mg/Agx 1モルを添加し混合後、チオンアン
酸アンモニウムを塩化金酸とハイポを加え、金〜硫黄増
感を行った。その後、4−ヒドロキン−6−メチル1.
3.3a、7−テトラザインデンを添加し安定化した。
酸アンモニウムを塩化金酸とハイポを加え、金〜硫黄増
感を行った。その後、4−ヒドロキン−6−メチル1.
3.3a、7−テトラザインデンを添加し安定化した。
次に3種類の乳剤粒子(A)、(B)、(C)を、それ
ぞれ10%、65%、25%の比で混合し、後記する添
加剤と石灰処理ゼラチンを加え、乳剤塗布液とした。
ぞれ10%、65%、25%の比で混合し、後記する添
加剤と石灰処理ゼラチンを加え、乳剤塗布液とした。
前記乳剤層には、AgX1モルにつき、下記の添加剤を
加えた。
加えた。
t−ブチルカテコール 400mgポリ
ビニルピロリドン(分子量10000)1.0g トリメチロールプロパン lOgジエチレン
グリコール 5gニトロフェニル・トリフ
ェニル ホスホニウムクロライド 50mg1 、3
− ジヒドロキソベンゼン−4−スルホン酸アンモニウ
ム 4mg2−メルカプトベンツ
イミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム
15mg1 l−ジメチロール−1−7’
ロム−1−二トロメタン0mg スチレン−無水マレイン酸共重合体 2.5g1−7エ
ニルー5−メ トカプトテトラゾールmg 保護層には、ゼラチン1gにつき、下記の化合物を加え
た。
ビニルピロリドン(分子量10000)1.0g トリメチロールプロパン lOgジエチレン
グリコール 5gニトロフェニル・トリフ
ェニル ホスホニウムクロライド 50mg1 、3
− ジヒドロキソベンゼン−4−スルホン酸アンモニウ
ム 4mg2−メルカプトベンツ
イミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム
15mg1 l−ジメチロール−1−7’
ロム−1−二トロメタン0mg スチレン−無水マレイン酸共重合体 2.5g1−7エ
ニルー5−メ トカプトテトラゾールmg 保護層には、ゼラチン1gにつき、下記の化合物を加え
た。
c、F、to÷C)12C1120)l。C8□CH,
O)]mg CsF++SO3に mg 平均粒径5μmのポリ スチレン 夕 ク リ レ ト (マツ ト剤) mg コロイ ダルンリ カ (平均粒径0.013μ車) 70+og 2.4−ジクロロ−6−ヒドロキ/−135−1−リア
ジンナトリウム塩の2%水溶液 IQmflC
H2= C)ISO2CH20CH,So□CH=C)
12の適量支持体の調製 厚さ180μmのポリエチレンテレフタレート支持体の
両面に2軸延伸熱セツト後、コロナ放電処理を施した。
O)]mg CsF++SO3に mg 平均粒径5μmのポリ スチレン 夕 ク リ レ ト (マツ ト剤) mg コロイ ダルンリ カ (平均粒径0.013μ車) 70+og 2.4−ジクロロ−6−ヒドロキ/−135−1−リア
ジンナトリウム塩の2%水溶液 IQmflC
H2= C)ISO2CH20CH,So□CH=C)
12の適量支持体の調製 厚さ180μmのポリエチレンテレフタレート支持体の
両面に2軸延伸熱セツト後、コロナ放電処理を施した。
その上に、特開昭59−18945号、299頁実施例
−1記載の合成例(1)の下引用ラテックス樹脂を塗布
した後、再びコロナ放電処理を行っtこ。
−1記載の合成例(1)の下引用ラテックス樹脂を塗布
した後、再びコロナ放電処理を行っtこ。
更にその上層に、本発明に係る■水溶性導電性ポリマー
■疎水性ポリマー■硬化剤の反応生成物からなる帯電防
止層を後掲の表1に示す塗布量になるよう30m/wi
nの速度でロールフィツトコーティングパン及びエアー
ナイフを使用して塗布した後、再び前記同様にコロナ放
電による活性化処理を行って支持体を得た。
■疎水性ポリマー■硬化剤の反応生成物からなる帯電防
止層を後掲の表1に示す塗布量になるよう30m/wi
nの速度でロールフィツトコーティングパン及びエアー
ナイフを使用して塗布した後、再び前記同様にコロナ放
電による活性化処理を行って支持体を得た。
この支持体の両面に染料層として、本発明に係る塩基性
の媒染剤と一般式CI)の染料を、後掲の表1に示す如
く塗布し、本発明に係る支持体とした。なお染料層は片
面当たりのゼラチン塗布量が84mg/vazになるよ
う塗布した。
の媒染剤と一般式CI)の染料を、後掲の表1に示す如
く塗布し、本発明に係る支持体とした。なお染料層は片
面当たりのゼラチン塗布量が84mg/vazになるよ
う塗布した。
得られた支持体上に前記のハロゲン化銀乳剤と保護層用
塗布液を両面に均一塗布した。なお、塗布量は両面でゼ
ラチンが6.0g/mz、銀量が4.0g/mzになる
よう塗布し、試料No、1〜26を作製した。
塗布液を両面に均一塗布した。なお、塗布量は両面でゼ
ラチンが6.0g/mz、銀量が4.0g/mzになる
よう塗布し、試料No、1〜26を作製した。
*比較染料は下記を用いた。
Ro
得られた試料をX線写真用増感紙K 0−250を介し
てX線照射後、S RX−501自動現像機を用いてX
D−5R現像処理液(いずれもコニカ(株)製)にて4
5秒処理を行った。
てX線照射後、S RX−501自動現像機を用いてX
D−5R現像処理液(いずれもコニカ(株)製)にて4
5秒処理を行った。
上記のようにして現像した各試料について以下の評価を
した。
した。
感&;試料No、11かカブリ+LOの濃度を与えるの
に要した曝射エイ・ルギー量の逆数を100とした相対
値で表した。
に要した曝射エイ・ルギー量の逆数を100とした相対
値で表した。
MTF、矩形波チャートを撮影後、上記と同様に現像、
空間周波数2.0本/ml11の値で示した。
空間周波数2.0本/ml11の値で示した。
処理膜付き性;処理浴中、試料の乳剤面に錐状の鋭利な
先端で、基盤の目状に傷を付け、その面を擦り乳剤膜の
残存率を100分率で示した。この値か80%以上であ
れは実用上支障ない。
先端で、基盤の目状に傷を付け、その面を擦り乳剤膜の
残存率を100分率で示した。この値か80%以上であ
れは実用上支障ない。
表面比抵抗:試料の試験片を電極間隔0.14mm、長
さ10cmの真鍮製電極に挟み、絶縁計TR−8651
(竹田理研製)で1分間測定した。なお試料は25°C
3RH20%中に2時間調湿して測定した。
さ10cmの真鍮製電極に挟み、絶縁計TR−8651
(竹田理研製)で1分間測定した。なお試料は25°C
3RH20%中に2時間調湿して測定した。
残色性:未露光フィルムを上記同様処理してから、下記
の5段階評価を行った。
の5段階評価を行った。
A・・・殆ど残色かない。
C・・残色があることに気付くが、気にならす実技上問
題がない。
題がない。
E・・・はっきり残色かあって実技上問題あり。
とし、B、Dは、その中間的な残色を示す。
本発明により、フィルムを迅速搬送処理しても膜剥かれ
などの膜物性の劣化がなく、かつ帯電防止性能のよいハ
ロゲン化銀写真感光材料を得ることが出来た。
などの膜物性の劣化がなく、かつ帯電防止性能のよいハ
ロゲン化銀写真感光材料を得ることが出来た。
更に本発明によれば鮮鋭性が優れ、かつ残色性のない高
画質を有するハロゲン化銀写真感光材料を得られた。
画質を有するハロゲン化銀写真感光材料を得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体の少なくとも一方の側に、(1)水溶性の導電性
ポリマー(2)疎水性ポリマー及び(3)硬化剤の反応
生成物からなる帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感
光材料において、該帯電防止層の上層に位置する親水性
コロイド層中に、塩基性媒染剤と下記一般式〔 I 〕で
表される酸性染料とを組み合わせて含有する層を有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は、それぞれ水素原子、アルキル基、ア
リール基又は複素環基を表す。 R_2は、それぞれヒドロキシル基、アルコキシ基、置
換アルコキシ基、シアノ基、トリフロロメチル基、−C
OOR_3、−CONHR_3、−NHCOR_3、ア
ミノ基、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたアミノ
基、又は▲数式、化学式、表等があります▼(ここでp
及びqは1又は2を表し、Xは酸素原子、硫黄原子又は
−CH_2−基)で表される環状アミノ基を表し、R_
3は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Lは
メチン基を表し、nは0、1又は2で、m及びm′は0
又は1を表す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2196000A JPH0480744A (ja) | 1990-07-23 | 1990-07-23 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2196000A JPH0480744A (ja) | 1990-07-23 | 1990-07-23 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0480744A true JPH0480744A (ja) | 1992-03-13 |
Family
ID=16350555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2196000A Pending JPH0480744A (ja) | 1990-07-23 | 1990-07-23 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0480744A (ja) |
-
1990
- 1990-07-23 JP JP2196000A patent/JPH0480744A/ja active Pending
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