JPH0481268A - 光ビームはんだ付け装置 - Google Patents
光ビームはんだ付け装置Info
- Publication number
- JPH0481268A JPH0481268A JP19584490A JP19584490A JPH0481268A JP H0481268 A JPH0481268 A JP H0481268A JP 19584490 A JP19584490 A JP 19584490A JP 19584490 A JP19584490 A JP 19584490A JP H0481268 A JPH0481268 A JP H0481268A
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- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
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Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、光ビームの熱を利用してはんだ付けを行う光
ビームはんだ付け装置に関するものである。
ビームはんだ付け装置に関するものである。
(従来の技術)
第2図に示されるように、従来の光ビームはんだ付け装
置は、光源(ハロゲンランプまたはキセノンランプ)1
1と、この光源11の周囲に配置されたランプハウス(
楕円反射鏡)12と、このランプハウス12の開口側に
配置された第1平面ミラー13、第2平面ミラー14お
よび集光レンズ(シリンドリカルレンズ)15からなる
光学系16と、この光学系16と基板17との間に配置
されたマスク(自動マスク)18とによって構成されて
いる。前記基板17上には被はんだ付けワークとしての
電子部品19が搭載されている。
置は、光源(ハロゲンランプまたはキセノンランプ)1
1と、この光源11の周囲に配置されたランプハウス(
楕円反射鏡)12と、このランプハウス12の開口側に
配置された第1平面ミラー13、第2平面ミラー14お
よび集光レンズ(シリンドリカルレンズ)15からなる
光学系16と、この光学系16と基板17との間に配置
されたマスク(自動マスク)18とによって構成されて
いる。前記基板17上には被はんだ付けワークとしての
電子部品19が搭載されている。
そうして、光源11から周囲に発光された光ビームが、
ランプハウス12の内面での反射により下方に方向付け
され、複数の光学系16により複数の光ビームに分岐、
集光され、マスク18で照射範囲を限定されて、電子部
品19の複数の被はんだ付け部に照射され、複数の光ビ
ームの熱により単一部品の複数箇所における局所はんだ
付けが一括して行われる。
ランプハウス12の内面での反射により下方に方向付け
され、複数の光学系16により複数の光ビームに分岐、
集光され、マスク18で照射範囲を限定されて、電子部
品19の複数の被はんだ付け部に照射され、複数の光ビ
ームの熱により単一部品の複数箇所における局所はんだ
付けが一括して行われる。
(発明が解決しようとする課題)
従来は、このような光ビームによるはんだ付けを、予加
熱されていない被はんだ付けワークに対し直接行ってい
たので、ワークに対する高熱光ビームの照射時間が長く
、周囲部への熱影響が大きい。例えば集積回路等にとっ
てヒートショック等の好ましくない問題がある。
熱されていない被はんだ付けワークに対し直接行ってい
たので、ワークに対する高熱光ビームの照射時間が長く
、周囲部への熱影響が大きい。例えば集積回路等にとっ
てヒートショック等の好ましくない問題がある。
本発明は、このような点に鑑みなされたものであり、局
所的に予加熱を行うことにより、光ビームにより本加熱
される被はんだ付け部の周囲部への熱影響を小さくでき
る光ビームはんだ付け装置を提供することを目的とする
ものである。
所的に予加熱を行うことにより、光ビームにより本加熱
される被はんだ付け部の周囲部への熱影響を小さくでき
る光ビームはんだ付け装置を提供することを目的とする
ものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、被はんだ付けワーク32に光ビーム28を照
射し、この光ビーム28による本加熱によって、はんだ
(=Iけを行う光ビームはんだ付け装置において、前記
波はんだ付けワーク32の本加熱位置に対向して、予加
熱用の熱風噴出ダクト33が設けられたものである。
射し、この光ビーム28による本加熱によって、はんだ
(=Iけを行う光ビームはんだ付け装置において、前記
波はんだ付けワーク32の本加熱位置に対向して、予加
熱用の熱風噴出ダクト33が設けられたものである。
(作用)
本発明は、熱風噴出ダクト33からワーク32に向かっ
て噴出される熱風によりワーク32を局所的に予加熱し
、ワーク32が所定の温度まで温度上押したら、光ビー
ム28によりワーク32を本加熱して、はんだ付けを行
う。
て噴出される熱風によりワーク32を局所的に予加熱し
、ワーク32が所定の温度まで温度上押したら、光ビー
ム28によりワーク32を本加熱して、はんだ付けを行
う。
(実施例)
以下、本発明を第1図に示される実施例を参照して詳細
に説明する。
に説明する。
第1図に示されるように、光源21と、この光源21の
周囲に配置されたランプハウス22と、このランプハウ
ス22の開口側に配置された複数の光学系23とによっ
て、光源ユニットが構成されている。
周囲に配置されたランプハウス22と、このランプハウ
ス22の開口側に配置された複数の光学系23とによっ
て、光源ユニットが構成されている。
前記光源21としては、ハロゲンランプ、キセノンラン
プまたはメタルハライドランプ等を使用する。
プまたはメタルハライドランプ等を使用する。
前記ランプハウス22としては、楕円反射鏡を使用する
。
。
前記光学系23は、平面ミラー24、セグメントミラー
25および集光レンズ26によって構成されている。
25および集光レンズ26によって構成されている。
前記セグメントミラー25は、多数の正方形の反射ミラ
ーをブロック配置したものであり、光ビームの形状を均
一な正方形に変換し1.集光面のエネルギー分布を平均
化することができる。
ーをブロック配置したものであり、光ビームの形状を均
一な正方形に変換し1.集光面のエネルギー分布を平均
化することができる。
さらに、前記光学系23にて分岐、集光された光ビーム
の照射範囲は、光学系23の下側に配置されたマスク(
自動マスク)27の透孔によって限定される。このマス
ク27の透孔にはシャッターが設けられており、必要な
時点で必要な時間だけ開口制御され、光ビームが透過さ
れる。
の照射範囲は、光学系23の下側に配置されたマスク(
自動マスク)27の透孔によって限定される。このマス
ク27の透孔にはシャッターが設けられており、必要な
時点で必要な時間だけ開口制御され、光ビームが透過さ
れる。
そうして、光源21から周囲に発光された光ビームが、
ランプハウス22の内面での反射により下方に方向付け
され、複数の光学系23により複数の光ビーム28とな
って、マスク27のシャッターまで照射されている。
ランプハウス22の内面での反射により下方に方向付け
され、複数の光学系23により複数の光ビーム28とな
って、マスク27のシャッターまで照射されている。
このマスク27の下側に、基板31およびこの基板31
に搭載された被はんだ付けワークとしての電子部品32
が図示されないコンベヤにより搬入される。
に搭載された被はんだ付けワークとしての電子部品32
が図示されないコンベヤにより搬入される。
この電子部品32の光ビーム照射による本加熱位置に対
して、前記マスク27に取付けられた予加熱用の熱風噴
出ダクト33の先端噴出孔が対向されている。この熱風
噴出ダクト33は、図示しない熱風供給源に接続されて
いる。この熱風供給源から供給される熱風は、チッ素ガ
ス等の高温不活性ガスを使用する。
して、前記マスク27に取付けられた予加熱用の熱風噴
出ダクト33の先端噴出孔が対向されている。この熱風
噴出ダクト33は、図示しない熱風供給源に接続されて
いる。この熱風供給源から供給される熱風は、チッ素ガ
ス等の高温不活性ガスを使用する。
そうして、基板31および電子部品32が光ビーム照射
位置に搬入されると、光ビームが照射される前に、この
電子部品32の複数の被はんだ付け部に対し、対応する
熱風噴出ダクト33の先端噴出孔から熱風が吹付けられ
、被はんだ付け部は80〜150℃程度まで予加熱され
る。
位置に搬入されると、光ビームが照射される前に、この
電子部品32の複数の被はんだ付け部に対し、対応する
熱風噴出ダクト33の先端噴出孔から熱風が吹付けられ
、被はんだ付け部は80〜150℃程度まで予加熱され
る。
それから、前記マスク27のシャッターが開いて、この
マスク27の透孔を透過した複数の光ビーム28が、対
応する被はんだ付け部に同時に照射され、この光ビーム
28の高温の本加熱によって、単一部品の複数箇所にお
ける局所リフローはんだ付けが一括して行われる。
マスク27の透孔を透過した複数の光ビーム28が、対
応する被はんだ付け部に同時に照射され、この光ビーム
28の高温の本加熱によって、単一部品の複数箇所にお
ける局所リフローはんだ付けが一括して行われる。
なお、この実施例のようにマスク27に取付けられた熱
風噴出ダクト33は、電子部品32の複数の被はんだイ
1け部を、限られた基板上面スペースにて局所的に効率
良く予加熱する上で効果的な手段ではあるが、本発明は
これに限定されるものではなく、マスク27とは独立に
熱風噴出ダクト33を設けるようにしてもよい。
風噴出ダクト33は、電子部品32の複数の被はんだイ
1け部を、限られた基板上面スペースにて局所的に効率
良く予加熱する上で効果的な手段ではあるが、本発明は
これに限定されるものではなく、マスク27とは独立に
熱風噴出ダクト33を設けるようにしてもよい。
本発明によれば、被はんだ(=Iけワークの本加熱位置
に対向して、予加熱用の熱風噴出ダクトが設けられたか
ら、光ビームにより本加熱される被はんだ付け部を局所
的に予加熱でき、光ビームの本加熱による周囲部への熱
影響(ヒートショック等)を小さくすることができる。
に対向して、予加熱用の熱風噴出ダクトが設けられたか
ら、光ビームにより本加熱される被はんだ付け部を局所
的に予加熱でき、光ビームの本加熱による周囲部への熱
影響(ヒートショック等)を小さくすることができる。
第1図は本発明の光ビームはんだ(=fけ装置の一実施
例を示す概略図、第2図は従来の光ビームはんだ付け装
置を示す概略図である。 28・・光ビーム、32・・被はんだイ〜jけワーク、
33・・熱風噴出ダクト。
例を示す概略図、第2図は従来の光ビームはんだ付け装
置を示す概略図である。 28・・光ビーム、32・・被はんだイ〜jけワーク、
33・・熱風噴出ダクト。
Claims (1)
- (1)被はんだ付けワークに光ビームを照射し、この光
ビームによる本加熱によって、はんだ付けを行う光ビー
ムはんだ付け装置において、前記被はんだ付けワークの
本加熱位置に対向して、予加熱用の熱風噴出ダクトが設
けられたことを特徴とする光ビームはんだ付け装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19584490A JPH0481268A (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 | 光ビームはんだ付け装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19584490A JPH0481268A (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 | 光ビームはんだ付け装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0481268A true JPH0481268A (ja) | 1992-03-13 |
Family
ID=16347952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19584490A Pending JPH0481268A (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 | 光ビームはんだ付け装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0481268A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09232747A (ja) * | 1996-02-27 | 1997-09-05 | Kofu Nippon Denki Kk | はんだ付け方法および装置 |
-
1990
- 1990-07-24 JP JP19584490A patent/JPH0481268A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09232747A (ja) * | 1996-02-27 | 1997-09-05 | Kofu Nippon Denki Kk | はんだ付け方法および装置 |
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